JPH0216382B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0216382B2 JPH0216382B2 JP57106218A JP10621882A JPH0216382B2 JP H0216382 B2 JPH0216382 B2 JP H0216382B2 JP 57106218 A JP57106218 A JP 57106218A JP 10621882 A JP10621882 A JP 10621882A JP H0216382 B2 JPH0216382 B2 JP H0216382B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- plating material
- pot
- scraping rod
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空蒸発装置の蒸発鍋内のメツキ材
に浮遊する酸化物等の異物を除去する手段を備え
た連続真空蒸着装置に関する。
に浮遊する酸化物等の異物を除去する手段を備え
た連続真空蒸着装置に関する。
ストリツプ片側表面にAlやZn等をメツキする
一方法として真空蒸着による方法が採られてお
り、第１図はその方法に適用される通常の真空蒸
着装置を示す概略図である。
一方法として真空蒸着による方法が採られてお
り、第１図はその方法に適用される通常の真空蒸
着装置を示す概略図である。
第１図において、１は真空槽、２はスノーケル
管、３は大気中溶解炉、４は蒸発鍋、５はヒー
タ、６は水冷板、７はメツキ材、８はストリツプ
である。
管、３は大気中溶解炉、４は蒸発鍋、５はヒー
タ、６は水冷板、７はメツキ材、８はストリツプ
である。
この装置の操作手順は、次の通りである。
大気中の溶解炉３にてメツキ材７を溶解した
後、スノーケル管２を該溶解炉３のメツキ材７浴
中に浸漬させる。次いで真空槽１を真空引してメ
ツキ材７を溶解炉３から蒸発鍋４に昇液し、しか
る後蒸発を開始させてストリツプ８に蒸着させ
る。ストリツプ８は走行することにより連続的に
メツキ材を蒸着することになる。なお、メツキ材
７の昇液高さｈは、溶融メツキ材７の比重量と大
気圧に見合つた高さでバランスし、常時一定とな
る。
後、スノーケル管２を該溶解炉３のメツキ材７浴
中に浸漬させる。次いで真空槽１を真空引してメ
ツキ材７を溶解炉３から蒸発鍋４に昇液し、しか
る後蒸発を開始させてストリツプ８に蒸着させ
る。ストリツプ８は走行することにより連続的に
メツキ材を蒸着することになる。なお、メツキ材
７の昇液高さｈは、溶融メツキ材７の比重量と大
気圧に見合つた高さでバランスし、常時一定とな
る。
ところで、この装置においては、蒸発鍋４内の
溶融メツキ材７表面に酸化膜等の異物が浮遊し、
以下のような問題が生じている。
溶融メツキ材７表面に酸化膜等の異物が浮遊し、
以下のような問題が生じている。
(1) 異物片が亜鉛蒸気と共にストリツプ８に蒸着
され、製品に悪影響を与える。
され、製品に悪影響を与える。
(2) 蒸発面積が量的に把握できず（監視窓等はメ
ツキ材蒸気が付着し計測不能となる）、また一
定でない（昇液操作をする毎にスノーケル管や
蒸発鍋から剥離してくる異物量が変化するた
め、蒸発面積もこれに従つて変化する）ことか
ら、蒸発量の制御が困難となる。
ツキ材蒸気が付着し計測不能となる）、また一
定でない（昇液操作をする毎にスノーケル管や
蒸発鍋から剥離してくる異物量が変化するた
め、蒸発面積もこれに従つて変化する）ことか
ら、蒸発量の制御が困難となる。
これらの問題の原因として以下のことが考えら
れる。
れる。
(i) 真空槽１内を大気開放する場合、蒸発鍋４お
よびスノケール管２には若干のメツキ材が残存
し、これが酸化され、再スタート時（昇液時）
に剥離して蒸発鍋４に浮遊する。
よびスノケール管２には若干のメツキ材が残存
し、これが酸化され、再スタート時（昇液時）
に剥離して蒸発鍋４に浮遊する。
(ii) 点検修理等で各種のゴミが残存する場合があ
る。
る。
(iii) 真空槽１内は絶対真空でない（10-2〜100ト
ール程度）ため、残酸素により溶融メツキ材表
面が酸化し、該酸化物が浮遊する。
ール程度）ため、残酸素により溶融メツキ材表
面が酸化し、該酸化物が浮遊する。
これらの対策として、真空槽１の大気圧への昇
圧時に不活性ガスでの置換を行つたが、真空槽１
内のメンテナンス上大気開放の必要があることか
ら、完全な結果は得られなかつた。
圧時に不活性ガスでの置換を行つたが、真空槽１
内のメンテナンス上大気開放の必要があることか
ら、完全な結果は得られなかつた。
本発明者らは、以上の諸点に鑑み、蒸発量の制
御（蒸発面積の把握）および蒸発面積の低下対策
につき、検討を重ねた結果、蒸発鍋内のメツキ材
表面に浮遊する異物の除去が最も合目的であると
の結論に到達し、本発明に到達したものである。
御（蒸発面積の把握）および蒸発面積の低下対策
につき、検討を重ねた結果、蒸発鍋内のメツキ材
表面に浮遊する異物の除去が最も合目的であると
の結論に到達し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は鋼帯等の長尺材に連続的に
金属被膜を真空蒸着し、かつ蒸発用金属を大気圧
下の溶解炉から真空槽内の蒸発鍋にスノケール管
により供給する連続真空蒸着装置において、蒸発
鍋を横切り該蒸発鍋内のメツキ材の表面に浮遊又
は接触するように支持された掻取棒と、該掻取棒
をメツキ材の表面に沿つて蒸発鍋の一端から他端
まで移動させる手段を設けたことを特徴とする連
続真空蒸着装置である。この本発明装置により連
続して品質のよいメツキ製品が得られる。
金属被膜を真空蒸着し、かつ蒸発用金属を大気圧
下の溶解炉から真空槽内の蒸発鍋にスノケール管
により供給する連続真空蒸着装置において、蒸発
鍋を横切り該蒸発鍋内のメツキ材の表面に浮遊又
は接触するように支持された掻取棒と、該掻取棒
をメツキ材の表面に沿つて蒸発鍋の一端から他端
まで移動させる手段を設けたことを特徴とする連
続真空蒸着装置である。この本発明装置により連
続して品質のよいメツキ製品が得られる。
本発明における掻取棒としては、メツキ材に冒
されず、かつメツキ材との離脱性の良い、例えば
カーボン、セラミツク、モリブデン、タングステ
ン、タンタル等で製作されたもの、あるいはこれ
らの材料でコーテイングされたものが使用され
る。
されず、かつメツキ材との離脱性の良い、例えば
カーボン、セラミツク、モリブデン、タングステ
ン、タンタル等で製作されたもの、あるいはこれ
らの材料でコーテイングされたものが使用され
る。
以下、添付図面を参照して本発明装置を詳細に
説明する。
説明する。
第２図Ａ，Ｂは本発明装置の一実施態様例を示
す概略図で、第２図Ａは上面図、第２図Ｂは第２
図ＡのＡ−Ａ線矢視断面図である。
す概略図で、第２図Ａは上面図、第２図Ｂは第２
図ＡのＡ−Ａ線矢視断面図である。
第２図Ａ，Ｂにおいて、第１図と同一符号は第
１図と同一機能部品を示し、１２は異物、１３は
掻取棒、１４は該掻取棒１３の駆動装置であり、
掻取棒１３は図示するようにメツキ材７の表面に
浮遊又は接触して支持され、かつ蒸発鍋４を横切
つて設置される。そして、この掻取棒１３が駆動
装置１４によりメツキ材７の表面に沿つて蒸発鍋
４の一端から他端へ〔第２図Ａ，Ｂにおいては、
右側へ〕移動する間に、異物１２が掻取られるの
である。
１図と同一機能部品を示し、１２は異物、１３は
掻取棒、１４は該掻取棒１３の駆動装置であり、
掻取棒１３は図示するようにメツキ材７の表面に
浮遊又は接触して支持され、かつ蒸発鍋４を横切
つて設置される。そして、この掻取棒１３が駆動
装置１４によりメツキ材７の表面に沿つて蒸発鍋
４の一端から他端へ〔第２図Ａ，Ｂにおいては、
右側へ〕移動する間に、異物１２が掻取られるの
である。
第３図および第４図は本発明装置の他の実施態
様例を示す図で、両側とも異物溜め１５を設けた
場合である。なお、第３図の場合は、異物溜め１
５内の異物が掻取棒１３から蒸発鍋４へ流出する
のを防ぐために、掻取操作時にはメツキ材７の液
深さを図示する高さで行い、掻取操作完了後には
若干液面を下げて蒸着を開始する。
様例を示す図で、両側とも異物溜め１５を設けた
場合である。なお、第３図の場合は、異物溜め１
５内の異物が掻取棒１３から蒸発鍋４へ流出する
のを防ぐために、掻取操作時にはメツキ材７の液
深さを図示する高さで行い、掻取操作完了後には
若干液面を下げて蒸着を開始する。
以上説明した本発明装置によれば、次のような
効果を奏することができる。
効果を奏することができる。
(1) 異物の製品への付着がないため、製品品質が
向上する。
向上する。
(2) 蒸発面積が常に一定で、蒸発量の制御が良好
に行える。
に行える。
(3) 第３，４図のような異物溜めを設けておけ
ば、異物の量や異物溜めの容量にもよるが、異
物掻取後の異物の装置外への排出を異物掻取の
毎に行うことなく、複数回の掻取操作を行うこ
とができる。
ば、異物の量や異物溜めの容量にもよるが、異
物掻取後の異物の装置外への排出を異物掻取の
毎に行うことなく、複数回の掻取操作を行うこ
とができる。
次に本発明の実施例をあげる。
実施例
第１図に相当するモデル装置を製作し、これに
第２図Ａ，Ｂに示す態様の本発明装置を適応させ
た。
第２図Ａ，Ｂに示す態様の本発明装置を適応させ
た。
蒸発鍋寸法は、縦200mm、横400mmとし、掻取棒
は径12mmφ、長さ200mmのカーボン丸棒を使用し
た。
は径12mmφ、長さ200mmのカーボン丸棒を使用し
た。
メツキ材は約450℃の亜鉛を用い、これに人為
的に酸化膜を浮遊させ、掻取棒の駆動装置を作動
させた。
的に酸化膜を浮遊させ、掻取棒の駆動装置を作動
させた。
この結果、掻取棒は亜鉛浴上をスムースに移動
し、完全に酸化膜を除去することができた。
し、完全に酸化膜を除去することができた。
第１図は通常の連続真空蒸着装置を示す概略
図、第２〜４図は本発明装置の実施態様例を示す
説明図である。
図、第２〜４図は本発明装置の実施態様例を示す
説明図である。
Claims (1)
- １ 鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜を真空蒸
着し、かつ蒸発用金属を大気圧下の溶解炉から真
空槽内の蒸発鍋にスノケール管により供給する連
続真空蒸着装置において、蒸発鍋を横切り該蒸発
鍋内のメツキ材の表面に浮遊又は接触するように
支持された掻取棒と、該掻取棒をメツキ材の表面
に沿つて蒸発鍋の一端から他端まで移動させる手
段を設けたことを特徴とする連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621882A JPS58224166A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621882A JPS58224166A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224166A JPS58224166A (ja) | 1983-12-26 |
| JPH0216382B2 true JPH0216382B2 (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=14428006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10621882A Granted JPS58224166A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224166A (ja) |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP10621882A patent/JPS58224166A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58224166A (ja) | 1983-12-26 |
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