JPS60135568A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、真空蒸着装置の蒸着鍋内のメッキ材に浮遊す
る酸化物等の異物を除去するための装置に関する。

従来、銅帯の片面にＡｔ−？Ｚｎ　等をメッキする一方
法として、真空蒸着によるメッキ方法が採られており、
第１図はその方法を実施するための通常の真空蒸着装置
の１例を示す概略図である。

第１図において、１は真空槽、２は吸上管、５は大気中
に開放されている溶解炉、４は蒸着銅で、その底部に前
記吸上管２の上端が結合されている。５はヒータ、６は
水冷板、７はＡｌ。

Ｚｎ　等の溶解メッキ材、８は銅帯である。

この装置の操作手順は、次の通りである。

大気中に開放した溶解炉３にてメッキ材７を溶解した後
、吸上管２を該溶解炉３の溶解メッキ材７浴中に浸漬さ
せる。次いで、真空槽１を図示しない真空ポンプにて真
空引して、溶融メッキ材７を溶解炉３から蒸着銅４に外
液し、しかる後、蒸発を開始して上記蒸着銅４の上方を
走行する銅帯８０片面に連続的にメッキ材７を蒸着させ
るのである。なお、溶融メッキ材７の外液高さｈは、浴
融メッキ材７の比重量と大気圧に見合った高さでバラン
スし、真空槽１内の真空度が変化しなければ、常時一定
に保持することができる。従って、蒸着銅４内の溶融メ
ッ膜材７の液位も一定にコントロールすることができる
。また、必要に応じて、溶解炉５自体を上昇あるいは下
降させること、またはダミーを該炉３に浸漬あるいは除
去して該炉３の内容積を増減させて溶融メッキ材７の液
位を上げ下げすることにより、該炉５と吸上管２で連通
する蒸着銅４内の溶融メッキ材７の液位を任意に上昇あ
るいは下降はせることも、さらに横溢させることも勿論
可能である。

さて、このような装置においては、蒸着銅４内の溶融メ
ッキ材７０表面にメッキ材の酸化物等の膜材あるいは粉
末状の異物が浮遊し、以下のような障害を生ずる問題が
あった。

（１）　上記異物がメッキ材蒸気と共に鋼帯８に蒸着さ
れ、メッキ品質を劣化させる。

（２）　蒸着面積（異物の浮遊していない所謂きれいな
表面）が必ずしも一定にならないために、蒸発量の制御
が困難である。

これらの問題の原因として以下のことが考えられる。

（１）　真空槽１内を大気開放する場合、蒸着銅４およ
び吸上管２には若干のメッキ材が残存し、これが酸化さ
れ、再スタート時（上昇液時）に剥離して蒸着銅４内の
溶融メッキ材７液面に浮遊する。

（１１）点検修理等で各種のゴミなど異物が残存する場
合がある。

（１１ｖ　真空槽１内は絶対真空ではない（１０′−２
〜１０　トール程度）ため、残酸素により溶融メッキ材
表面が酸化し、その酸化物が浮遊する。

これらの対策として、真空槽１の大気圧への昇圧時に不
活性ガスの置換を行ったが、真空槽１内のメンテナンス
上大気圧開放の必要があることから、完全な結果は得ら
れなかった。

本発明者らは、以上の諸点に鑑み、蒸発量の制御（蒸発
面積の把握）および蒸発面積の低下対策につき、検討を
重ねた結果、蒸着銅４内のメッキ材表面に浮遊する異物
の除去が最も合目的であるとの結果に達し、先に上記蒸
着銅４内の浮遊異物を銅で掬うとか、棒で掻寄せる等の
機械的手段での異物除去技術を提案した。そして、本発
明者らは、斯かる機械的な手段に依らない上記浮遊異物
の効果的な除去手段を特願昭５８−６２２９０号明細書
に提案した。即ち、その要旨とするところは、蒸発鍋内
の溶融メッキ材の液位を高めてオーバーフローさせるこ
とにより、該液面に浮遊している異物を横溢するメッキ
材と共に蒸発鍋外に排除することを特徴とするものであ
り、極めて効果的に異物の除去を達成することができた
が、蒸着調性の収容槽内に横溢させたメッキ材の回収は
、真空槽の大気開放時でないと実施できないという難点
があった。

本発明は、上述の如き問題点を解消することを目的とし
て成されたもので、蒸着鍋内の異物の除去をオーバーフ
ローによって容易に行い、かつ、オーバーフローしたメ
ッキ材および異物の回収を真空を破ることな〈実施可能
とする手段を提供するものである。

すなわち、本発明は、真空槽と大気との圧力差によシ、
真空槽内の蒸着銅に、メッキ材である溶融金属を吸上げ
て蒸着を行う真空蒸着装置において、２本以上の吸上げ
管を有し、該吸上管の内、少なく共１本は、他の吸上管
より上方で蒸着銅に城付けられており、該吸上管は、他
の吸上管が浸漬されている大気中溶解炉とは別の溶解炉
に浸漬され、少なくとも該溶解炉以外の他の溶解炉は、
上下動することができるようにしたことを特徴とする、
真空蒸着装置を提供するものである。

以下、本発明を、図面に基づき詳細に説明する。

第２図は、本発明の実施態様を示す図である。

図中、１は真空槽、２．２′は吸上管、６．６′は大気
中溶解炉、４は蒸着銅、５はヒータ、７はメッキ材であ
る溶融金属、８は銅帯、９は蒸気出口、１０は断熱材、
１１．１１′はりフタ−５１２，１２′は吸上管の取付
部、１３は浮遊異物である。

本発明の特徴とするところは、吸上管を２本以上有し、
かつ、その内の少くとも一本を他の吸上管よりも上方に
取付け、液面高さをコントロールすることにより、上方
の吸上管の取付部１２より、蒸着鍋内のメッキ材表面に
浮遊して、異物をオーバーフローさせて除去し、オーバ
ーフローされた異物は、溶解炉５′内のメッキ材表面に
浮かべて回収する点にある。

すなわち、本発明装置における回転要領は、次の通りで
ある。

まず、溶解炉５は、メッキ材吸上げ時は、液面レベルが
Ｌ２　になる位置に設定し、溶解炉３′はメッキ材吸上
げ時、液面レベルがＬ３　になる位置に設定した後、真
空に排気して、メッキ材を吸上げる。しかる後、蒸着銅
４内のメッキ材表面に浮遊している異物１６を除去する
ため、リフター１１を上げて液面ｆ　Ｌｌ　の位置に上
げて、１２よりメッキ材と異物をオーバーフローさせて
吸上管の取付口１２′内に流れ込まず。この時、吸上管
２′は、溶解炉６′に浸漬されており、しかも吸上管２
に比べて溶解炉の開口面積が十分太きければ、吸上管２
′内の液面レベルは大きく変化することはない。この操
作によって、異物１５は、吸上管２′内に流れ込み、蒸
着銅４内のメッキ材表面は清浄となる。しかる後、リフ
ター１１を下げて元のレベルにもどす。長時間運転して
再び異物が浮遊した場合には、本操作を繰返せば良い。

何回も本操作を繰返すと、溶解炉５′内のメッキ拐が増
えてぐるので、その場合には、適宜メッキ材をくみ出し
て、溶解炉６に注入すれば良く、オーバーフローしたメ
ッキ材の回収利用が容易に行える。又、吸上管２内に流
れ込んだ異物は、大気開放時に溶解炉３′内のメッキ材
表面に浮遊するため、異物のみを容易に回収することが
可能である。

以上、説明したように、本発明装置によれば、メッキ材
表面に浮遊した異物を容易に除去することが可能で、か
つ、メッキ材の回収も容易に行えるため、前述のごとき
従来装置の欠陥を解決することができるので、この種産
業上極めて有益である。

尚、本発明の装置においては、上記操作全うまく行い、
着実にレベルＬ３　を設定できるようにすれば、溶解炉
３′ヲ必ずしも上下動可能にする必要はない。但し、上
下動可能にした方がレベルＬ３　を所望の高さに設定し
やすく、また、溶解炉３′に溶融金属が多く溜ってきた
時に、溶解炉３′を上下動させることにより、レベルＬ
３を一定に保持することが容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来の真空蒸着装置を示す概略図であり、第
２図は、本発明装置の実施態様を示す説明図である。 復代理人　内　１）　明 復代理人　萩　原　亮　−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空槽と大気との圧力差により、真空槽内の蒸着銅に、
   メッキ材である溶融金属を吸上げて蒸Ｎを行う真空蒸着
   装置において、２本以上の吸上げ管を有し、該吸上管の
   内、少くとも１本は、他の吸上管より上方で蒸着銅に取
   付けられており、該吸上管は、他の吸上管が浸漬されて
   いる大気中溶解炉とは別の溶解炉に浸漬され、少なくと
   も該溶解炉以外の他の溶解炉は、上下動できることを特
   徴とする真空蒸着装置。