JPH0216567A - 回転デベロッパー - Google Patents
回転デベロッパーInfo
- Publication number
- JPH0216567A JPH0216567A JP1019942A JP1994289A JPH0216567A JP H0216567 A JPH0216567 A JP H0216567A JP 1019942 A JP1019942 A JP 1019942A JP 1994289 A JP1994289 A JP 1994289A JP H0216567 A JPH0216567 A JP H0216567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- layer
- axis
- rotor
- developer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、ハイブリッド電子部品用に、光硬化ポリマ
ーからなる誘電レイヤに、穴(vlas)を形成するの
に使用される回転デベロッパー、特にレイヤ及び穴の均
一なデベロップができるようにしたデベロッパーに関す
るものである。
ーからなる誘電レイヤに、穴(vlas)を形成するの
に使用される回転デベロッパー、特にレイヤ及び穴の均
一なデベロップができるようにしたデベロッパーに関す
るものである。
[従来の技術]
ハイブリッド電子部品用に、光硬化ポリマーを用いて誘
電レイヤを形成することは困難であった。
電レイヤを形成することは困難であった。
これら電子部品は、セラミック基盤の1側に例えば銅等
の導電物質レイヤを設け、その上に光硬化レイヤを設け
て構成することができる。光硬化レイヤは、光硬化ポリ
マーレイヤで構成される。このポリマーは、化学線に照
射されると架橋を形成するものか、高分子量でレオロジ
カル特性を変化させるものである。好ましいレイヤは、
熱可塑性のレイヤである。光硬化レイヤは、ブロックマ
スクの光透過部を通して化学線にさらされる。マスクの
ブロック部では、レイヤの表面から導電物質に達する穴
状の未硬化部が残る。ポリマーレイヤは、穴を形成する
適当な液により未硬化部を除去、洗い流すことによりデ
ベロップされる。光硬化ポリマーがホーデル(Fode
l )の場合、溶剤は例えば1.1.1−トリクロルエ
タンで、未硬化部は溶かされ、洗い流される。それから
、その壁に穴が形成されたレイヤは乾燥される。穴には
、例えば銅又は金等の導電物質が充填される。かくして
、導電物質レイヤと誘電レイヤの上に取付けられるIC
チップとの間に導電パスが形成される。
の導電物質レイヤを設け、その上に光硬化レイヤを設け
て構成することができる。光硬化レイヤは、光硬化ポリ
マーレイヤで構成される。このポリマーは、化学線に照
射されると架橋を形成するものか、高分子量でレオロジ
カル特性を変化させるものである。好ましいレイヤは、
熱可塑性のレイヤである。光硬化レイヤは、ブロックマ
スクの光透過部を通して化学線にさらされる。マスクの
ブロック部では、レイヤの表面から導電物質に達する穴
状の未硬化部が残る。ポリマーレイヤは、穴を形成する
適当な液により未硬化部を除去、洗い流すことによりデ
ベロップされる。光硬化ポリマーがホーデル(Fode
l )の場合、溶剤は例えば1.1.1−トリクロルエ
タンで、未硬化部は溶かされ、洗い流される。それから
、その壁に穴が形成されたレイヤは乾燥される。穴には
、例えば銅又は金等の導電物質が充填される。かくして
、導電物質レイヤと誘電レイヤの上に取付けられるIC
チップとの間に導電パスが形成される。
υSP3.772.104には、従来のスピンデベロッ
パーが開示されている。デベロッパーはモータにより回
転されるディスクで構成されている。電子部品がディス
クに取り付けられる。部品がロータによりスピンされて
いる間に、エッチ溶液が部品にスプレィされる。フォト
レジスト上への溶液の衝撃、及び溶解されたフオ]・レ
ジストを含む溶液の遠心力等により、フォトレジストの
溶融部が除去される。
パーが開示されている。デベロッパーはモータにより回
転されるディスクで構成されている。電子部品がディス
クに取り付けられる。部品がロータによりスピンされて
いる間に、エッチ溶液が部品にスプレィされる。フォト
レジスト上への溶液の衝撃、及び溶解されたフオ]・レ
ジストを含む溶液の遠心力等により、フォトレジストの
溶融部が除去される。
このデベロッパーでは、部品に溶液をスプレィするノズ
ルは、部品の回転中心から離れた、部品に垂直な線上に
位置している。第1図で、部品10は、矢印Aで示す半
時針方向に回転しいている。ノズルは点Pに向く線上に
位置している。ノズルは通常のファンスプレィノズルで
、アトマイズミストを線りに沿った面でスプレィする。
ルは、部品の回転中心から離れた、部品に垂直な線上に
位置している。第1図で、部品10は、矢印Aで示す半
時針方向に回転しいている。ノズルは点Pに向く線上に
位置している。ノズルは通常のファンスプレィノズルで
、アトマイズミストを線りに沿った面でスプレィする。
このデベロッパーでは、−度に只19の部品の処理がな
されるだけであり、生産性の低いものである。必要なス
ピンレイトは、約3.000rpmである。また、スピ
ン中に、部品を装置から飛び出させる力を無くすために
、部品をスピン軸に対して対称に配設しなければならな
いという問題がある。更に、部品、特に大きい面積の部
品を均等にデベロップする面で問題がある。何故なら、
部品はスピン軸から離れるに従って異なった処理がなさ
れるからである。
されるだけであり、生産性の低いものである。必要なス
ピンレイトは、約3.000rpmである。また、スピ
ン中に、部品を装置から飛び出させる力を無くすために
、部品をスピン軸に対して対称に配設しなければならな
いという問題がある。更に、部品、特に大きい面積の部
品を均等にデベロップする面で問題がある。何故なら、
部品はスピン軸から離れるに従って異なった処理がなさ
れるからである。
この発明の目的は、同時に1以上の電子部品の処理がで
きる回転デベロッパーを提供することである。
きる回転デベロッパーを提供することである。
他の目的は、大きい面積及び非対称の部品に、均一にデ
ベロップできる回転デベロッパーを提供することである
。
ベロップできる回転デベロッパーを提供することである
。
[発明の概要]
この発明の回転デベロッパーは、
電子部品のレイヤーの1部を除去して該部品に穴を形成
する回転デベロッパーで、 サポートと、 軸を有するロータで、このロータが軸の周りに回転可能
に上記サポートに取り付けられているものと、 軸ををする部品ホルダで、このホルダが軸の周りに回転
可能に上記ロータに取り付けられているものと、 上記ロータを軸の周りに第1の方向に回転させると共に
、上記ホルダを第2の方向に回転させる手段と、 穴を形成するために1部を除去すると共に、上記レイヤ
及び穴を乾燥させるために、上記レイヤに液及びガスを
スプレィする手段と、 とから構成されている。
する回転デベロッパーで、 サポートと、 軸を有するロータで、このロータが軸の周りに回転可能
に上記サポートに取り付けられているものと、 軸ををする部品ホルダで、このホルダが軸の周りに回転
可能に上記ロータに取り付けられているものと、 上記ロータを軸の周りに第1の方向に回転させると共に
、上記ホルダを第2の方向に回転させる手段と、 穴を形成するために1部を除去すると共に、上記レイヤ
及び穴を乾燥させるために、上記レイヤに液及びガスを
スプレィする手段と、 とから構成されている。
また、この発明のデベロップ方法は、
電子部品の硬化部と未硬化部からなるレイヤに穴を形成
するレイヤのデベロップ方法で、電子部品をロータに回
転可能に取りつけられたろホルダに装着する工程と、 ロータをその軸の周りに第1の方向にスピンさせる工程
と、 ホルダをロータ軸の周りにオービットさせる工程と、 ホルダをホルダ軸の周りに回転する工程と、穴を形成す
べく未硬化部を洗い流すために、レイヤ上に液をスプレ
ィする工程と、 レイヤ及び穴を乾燥する工程と、 部品を取り外す工程と、 とからなるものである。
するレイヤのデベロップ方法で、電子部品をロータに回
転可能に取りつけられたろホルダに装着する工程と、 ロータをその軸の周りに第1の方向にスピンさせる工程
と、 ホルダをロータ軸の周りにオービットさせる工程と、 ホルダをホルダ軸の周りに回転する工程と、穴を形成す
べく未硬化部を洗い流すために、レイヤ上に液をスプレ
ィする工程と、 レイヤ及び穴を乾燥する工程と、 部品を取り外す工程と、 とからなるものである。
[実施例]
前述のように、第1図には、聞届のある従来のスピンデ
ベロッパーが示されている。問題点は認識されているが
、現在までその原因は理解されていない。これら原因を
理解することが、本発明を理解するのに役立つ。
ベロッパーが示されている。問題点は認識されているが
、現在までその原因は理解されていない。これら原因を
理解することが、本発明を理解するのに役立つ。
第2図に、第1図に示すデベロッパーからのスプレィの
衝撃速度が示すされている。これは、部品の回転軸から
の半径方向距離に関係している。
衝撃速度が示すされている。これは、部品の回転軸から
の半径方向距離に関係している。
レイヤ20が回転軸の周りに矢印Aで示す半時針方向に
3.000 r pmで回転している。回転軸はレイヤ
に垂直で、点R1を通っている。スプレィはベクトルB
で示す均一の速度でレイヤに垂直で下向き向いている。
3.000 r pmで回転している。回転軸はレイヤ
に垂直で、点R1を通っている。スプレィはベクトルB
で示す均一の速度でレイヤに垂直で下向き向いている。
この速度vbは、毎秒400インチ(ips)である。
レイヤの回転軸上のR1、回転軸から半径方向に0.5
インチ離れたR2及び回転軸から半径方向に1インチ離
れたR3における瞬間水平方向速度成分vhは、それぞ
れ次にようになる。
インチ離れたR2及び回転軸から半径方向に1インチ離
れたR3における瞬間水平方向速度成分vhは、それぞ
れ次にようになる。
R1でのvh
−角速度(rpm)X半径
=2πr/60
一〇
R2でのvh
−(2π’)(0,5)(3000)(60)=157
ips R3でのvh =(2π)(1)(3000)(60)=314ips これら瞬間速度vhと、速度vbとのベクトル和がR1
、R2及びR3点における有効速度Veとなる。
ips R3でのvh =(2π)(1)(3000)(60)=314ips これら瞬間速度vhと、速度vbとのベクトル和がR1
、R2及びR3点における有効速度Veとなる。
R1でのV e = 40011) S %回転軸から
0度でレイヤに向き R2での’Je−430ips、レイヤに対する垂直軸
から21度でレイヤに向き R3でのVe−509L I) S、レイヤに対する垂
直軸から38度でレイヤに向き 従って、回転軸から離れるに従って、スプレィ衝撃の有
効速度は大きくなり、またレイヤに垂直な線に対する衝
撃角も大きくなる。
0度でレイヤに向き R2での’Je−430ips、レイヤに対する垂直軸
から21度でレイヤに向き R3でのVe−509L I) S、レイヤに対する垂
直軸から38度でレイヤに向き 従って、回転軸から離れるに従って、スプレィ衝撃の有
効速度は大きくなり、またレイヤに垂直な線に対する衝
撃角も大きくなる。
第3図に、レイヤの回転軸から離れた位置に形成された
穴(via)32の断面斜視図が示されている。液りは
、矢印して示されるように、レイヤに垂直にスプレィさ
れる。しかし、レイヤ30の回転軸周りの矢印Aで示す
回転により、液の有効な方向は矢印Leで示すようにな
る。液は、レイヤ30の未硬化部を部分的に洗い流して
穴32を形成する。図に示すように、未硬化部は穴32
の前側より後側34の方が多く除去される。穴32がよ
り深くなり、また回転軸からより離れると、そのままの
部35が残り、穴32をブロックする。
穴(via)32の断面斜視図が示されている。液りは
、矢印して示されるように、レイヤに垂直にスプレィさ
れる。しかし、レイヤ30の回転軸周りの矢印Aで示す
回転により、液の有効な方向は矢印Leで示すようにな
る。液は、レイヤ30の未硬化部を部分的に洗い流して
穴32を形成する。図に示すように、未硬化部は穴32
の前側より後側34の方が多く除去される。穴32がよ
り深くなり、また回転軸からより離れると、そのままの
部35が残り、穴32をブロックする。
第1図に示すデベロッパーの他の問題が第4〜6図に示
されている。
されている。
第4図に、レイヤ40に向い液を線46に沿ってスプレ
ィするファンノズル44が示されている。
ィするファンノズル44が示されている。
レイヤ40は、矢印Aで示す方向に移動している。
液の線40はレイヤ40をレーン48に沿ってのみデベ
ロップする。第5図は、第1図に示すデベロッパーで、
第4図に示すノズルを用いた場合に、レイヤ50上にデ
ベロップされたレーン58のパターンを示す。第6図に
、19のノズルが作動しなかった場合の、第5図のパタ
ーンを示す。レーン68の19が無くなっている。デベ
ロップされない面積は回転軸の周りに環状になっている
。
ロップする。第5図は、第1図に示すデベロッパーで、
第4図に示すノズルを用いた場合に、レイヤ50上にデ
ベロップされたレーン58のパターンを示す。第6図に
、19のノズルが作動しなかった場合の、第5図のパタ
ーンを示す。レーン68の19が無くなっている。デベ
ロップされない面積は回転軸の周りに環状になっている
。
第7図にこの発明の原理図を示す。回転軸からの距離に
関する液の衝撃速度は、第2図に示すものに比べ改善さ
れている。第7図で、13/4インチ平方のレイヤ70
が、21点で図面に垂直な回転軸の周りに矢印Xで示す
時計方向に1100rpで回転、オーとツトしている。
関する液の衝撃速度は、第2図に示すものに比べ改善さ
れている。第7図で、13/4インチ平方のレイヤ70
が、21点で図面に垂直な回転軸の周りに矢印Xで示す
時計方向に1100rpで回転、オーとツトしている。
更に、レイヤ70が、22点で図面に垂直な回転軸の周
りに矢印Wで示す反時計方向に10Or pmで回転、
スピンしている。点P1とR2との距離即ち半径rは、
6インチである。点A即ち半径rがレイヤ70の左縁に
交差する位置、点B即ち半径「に直゛交する線がレイヤ
70の前縁を通る位置、及び点C即ち半径の延長線がレ
イヤの右縁に交わる位置に於ける瞬間接線速度Vtyは
、 Aでのvty −(2)(π)(5,125)(100/60)+(2
)(π)(7/8)(100/60)=62.8ips Bでのvty −(2)(π)(6)(100/60)=62.8ip
s Cでのvty −(2)(π)(6,875)(100/60)(2)
(π)(7/8)(100/60)=62.8ips 従って、点P1を通る回転軸からの異なった半径位置に
おけるy方向の瞬間速度を同じにすることができる。こ
うして、レイヤ70の全ての点での波衝撃力が均一にな
る。更に、若しレイヤ70が、点P1を通る中心軸の周
りをオービットしている間に、点P2の周りを回転する
と、未硬化レイヤ部の方向を、1又はそれ以上のノズル
のスプレィを通過するたびに変えることができる。かく
して、第3図に示す問題を無くすことができる。
りに矢印Wで示す反時計方向に10Or pmで回転、
スピンしている。点P1とR2との距離即ち半径rは、
6インチである。点A即ち半径rがレイヤ70の左縁に
交差する位置、点B即ち半径「に直゛交する線がレイヤ
70の前縁を通る位置、及び点C即ち半径の延長線がレ
イヤの右縁に交わる位置に於ける瞬間接線速度Vtyは
、 Aでのvty −(2)(π)(5,125)(100/60)+(2
)(π)(7/8)(100/60)=62.8ips Bでのvty −(2)(π)(6)(100/60)=62.8ip
s Cでのvty −(2)(π)(6,875)(100/60)(2)
(π)(7/8)(100/60)=62.8ips 従って、点P1を通る回転軸からの異なった半径位置に
おけるy方向の瞬間速度を同じにすることができる。こ
うして、レイヤ70の全ての点での波衝撃力が均一にな
る。更に、若しレイヤ70が、点P1を通る中心軸の周
りをオービットしている間に、点P2の周りを回転する
と、未硬化レイヤ部の方向を、1又はそれ以上のノズル
のスプレィを通過するたびに変えることができる。かく
して、第3図に示す問題を無くすことができる。
ロータの回転とレイヤ70の反対方向回転とにより、穴
はロータの回転速度に応じて形成される。
はロータの回転速度に応じて形成される。
この回転速度は従来のデベロッパーでの部品の回転速度
より可なり遅い。これにより、非対称部品のデベロップ
が可能になる。
より可なり遅い。これにより、非対称部品のデベロップ
が可能になる。
第8図に、本発明の1実施例が示されている。
この回転デベロッパー100は、電子部品の複数のレイ
ヤ102の1部を除去して部品に穴を形成するものであ
る。レイヤ102は、硬化及び未硬化(硬化可能)のホ
トポリマーにより構成されている。
ヤ102の1部を除去して部品に穴を形成するものであ
る。レイヤ102は、硬化及び未硬化(硬化可能)のホ
トポリマーにより構成されている。
デベロッパー100は、上下端部108及び110をそ
れぞれ存するレグ106を備えたテ−プル状のフレーム
104を含む。レグの下端110は、例えばボルト部材
114により、基礎112に固定されている。レグの下
端110には、レベラー及び基礎に接する吸振材が設け
られてている。レグの上端には、突出頂部118が設け
られている。支持部材120がレグに接続され、剛性を
高めると共に支持面となっている。
れぞれ存するレグ106を備えたテ−プル状のフレーム
104を含む。レグの下端110は、例えばボルト部材
114により、基礎112に固定されている。レグの下
端110には、レベラー及び基礎に接する吸振材が設け
られてている。レグの上端には、突出頂部118が設け
られている。支持部材120がレグに接続され、剛性を
高めると共に支持面となっている。
リップ124により円形開口を形成しているタンク即ち
容器122が、突出頂部118により支持されている。
容器122が、突出頂部118により支持されている。
タンク122の開口は、突出頂部118近くの水平面に
位置している。タンク122は、フレーム104の内側
で下方に延び、支持部材120により支持されている。
位置している。タンク122は、フレーム104の内側
で下方に延び、支持部材120により支持されている。
フレーム104は蓋即ちサポート126を含む。これは
、突出頂部118及び/又は支持部材120に、ヒンジ
部128を介して回動可能に接続されている。
、突出頂部118及び/又は支持部材120に、ヒンジ
部128を介して回動可能に接続されている。
ヒンジ部128は、タンク122から延びる腕130を
有している。この腕130は、空圧シリンダ134のロ
ッド132に接続されている。シリンダ134は、ブラ
ケット136を介して支持部材120に接続されている
。空気圧がロッド132をシリンダ134内に引き込む
と、蓋126は第2即ち開位置に動く。ロッド132が
シリンダ134から延びると、蓋126は第1位置に戻
り、タンク122を閉じ、シールする。
有している。この腕130は、空圧シリンダ134のロ
ッド132に接続されている。シリンダ134は、ブラ
ケット136を介して支持部材120に接続されている
。空気圧がロッド132をシリンダ134内に引き込む
と、蓋126は第2即ち開位置に動く。ロッド132が
シリンダ134から延びると、蓋126は第1位置に戻
り、タンク122を閉じ、シールする。
蓋126は、ヒンジ部128に接続されたディスク部1
38を有している。これが、蓋126が第8図に示す第
1位置にあるとき、タンク開口を閉じ、シールする。シ
ール部材がディスク138及び/又はタンクリップ12
4に取付けられている。
38を有している。これが、蓋126が第8図に示す第
1位置にあるとき、タンク開口を閉じ、シールする。シ
ール部材がディスク138及び/又はタンクリップ12
4に取付けられている。
ロータ140が、ディスク部138に回転可能に支持さ
れている。蓋126が第1即ち閉位置にあるとき、ロー
タ140はタンク122内に延出している。ディスク部
138には、ロータ140に接続される可変速モータ1
42が取り付けられている。そして、ロータ140を第
1の方向、即ちタンク122内からロータ140を見た
場合に時計方向に、回転即ちスピンさせる。モータ14
2は、約20〜20Or pmの範囲で変速できること
が望ましい。
れている。蓋126が第1即ち閉位置にあるとき、ロー
タ140はタンク122内に延出している。ディスク部
138には、ロータ140に接続される可変速モータ1
42が取り付けられている。そして、ロータ140を第
1の方向、即ちタンク122内からロータ140を見た
場合に時計方向に、回転即ちスピンさせる。モータ14
2は、約20〜20Or pmの範囲で変速できること
が望ましい。
少なくとも19の部品ホルダ144が、ホルダ軸の周り
に回転可能にロータ140に接続されている。ホルダ1
44は、ロータ軸から同じ半径上に等間隔で配設されて
いる。この例では、ホルダ軸はロータ軸から6インチの
位置にある。ホルダ144は、電子部品をレイヤ102
を下向きにして、着脱可能に保持できるようになってい
る。ホルダ144は、レイヤ102を無視できない程覆
うことなく把持する。ホルダを、上記の第1の方向と逆
な、第2の方向に回転させる手段が設けられている。
に回転可能にロータ140に接続されている。ホルダ1
44は、ロータ軸から同じ半径上に等間隔で配設されて
いる。この例では、ホルダ軸はロータ軸から6インチの
位置にある。ホルダ144は、電子部品をレイヤ102
を下向きにして、着脱可能に保持できるようになってい
る。ホルダ144は、レイヤ102を無視できない程覆
うことなく把持する。ホルダを、上記の第1の方向と逆
な、第2の方向に回転させる手段が設けられている。
タンク122の内側には、レイヤ102上に液及びガス
をスプレィする手段146が設けられている。この手段
は、液に溶ける未硬化部を除去して穴を形成し、またレ
イヤ及び穴を乾燥させる。
をスプレィする手段146が設けられている。この手段
は、液に溶ける未硬化部を除去して穴を形成し、またレ
イヤ及び穴を乾燥させる。
この手段146は、1以上のファンスプレィノズル15
0を備えたスプレィ手段148により構成されている。
0を備えたスプレィ手段148により構成されている。
このノズル150は、液及びガスのアトマイズミスト又
は液スプレィが出来るものから選ばれている。各ノズル
150は、ロータ140の第1位置(蓋126が閉じら
れた位置)において、ホルダ軸上に位置している。
は液スプレィが出来るものから選ばれている。各ノズル
150は、ロータ140の第1位置(蓋126が閉じら
れた位置)において、ホルダ軸上に位置している。
レイヤのホルダ軸周りの回転の、レイヤのロータ軸周り
の回転に対する割合いは、レイヤが各ノズルで、前のノ
ズルで受けたと角度とは異なる角度を受けるようにすべ
きである。これにより、第3図で説明した、前縁と後縁
との効果の差を除くことができる。
の回転に対する割合いは、レイヤが各ノズルで、前のノ
ズルで受けたと角度とは異なる角度を受けるようにすべ
きである。これにより、第3図で説明した、前縁と後縁
との効果の差を除くことができる。
液及びガスのスプレィ手段146は、ガスをブローして
部品から余剰の液を取り除き、またレイヤの1部を洗い
流すブロー手段152を更に備えている。ブロー手段1
52は、例えば窒素又は乾燥空気等の乾燥ガスを面状に
ブローする1又はそれ以上の空気即ちガスナイフ154
で構成されている。各空気ナイフは、ホルダ144がノ
ズル150に向いていない位置で、ホルダ軸上に位置し
ている。空気ナイフ154は、ノズル150よりもホル
ダ144に近く設けられている。
部品から余剰の液を取り除き、またレイヤの1部を洗い
流すブロー手段152を更に備えている。ブロー手段1
52は、例えば窒素又は乾燥空気等の乾燥ガスを面状に
ブローする1又はそれ以上の空気即ちガスナイフ154
で構成されている。各空気ナイフは、ホルダ144がノ
ズル150に向いていない位置で、ホルダ軸上に位置し
ている。空気ナイフ154は、ノズル150よりもホル
ダ144に近く設けられている。
ノズル150及び空気ナイフ154を、レイヤに垂直で
無く角度を持って配設し、回転しているレイヤ上に前向
き、中立及び逆向きの衝撃速度を生じさせるようにして
もよい。
無く角度を持って配設し、回転しているレイヤ上に前向
き、中立及び逆向きの衝撃速度を生じさせるようにして
もよい。
マニホルド部156が乾燥ガス及び液の供給源に接続さ
れている。第1リザーバ158は流路160を介してノ
ズル150に液を供給する。第2リザーバ162は、必
要により、アトマイズミストを得るために、流路164
を介して乾燥ガスをノズル150に送る。第3リザーバ
166は、流路168を介して乾燥ガスを空気ナイフ1
54に供給する。
れている。第1リザーバ158は流路160を介してノ
ズル150に液を供給する。第2リザーバ162は、必
要により、アトマイズミストを得るために、流路164
を介して乾燥ガスをノズル150に送る。第3リザーバ
166は、流路168を介して乾燥ガスを空気ナイフ1
54に供給する。
排液システム135が、タンク122の底に接続されて
いる。このシステムには、タンク122からのドレンを
管を介して自動的又は選択的に受入れる排液受けが設け
られている。排液は、タンク122内に設けられた例え
ばフロート作動スイッチにより制御されるポンプを介し
てタンク122から排出される。液回収、循環システム
に排液を清浄にする1又はそれ以上のフィルタが設けら
れている。
いる。このシステムには、タンク122からのドレンを
管を介して自動的又は選択的に受入れる排液受けが設け
られている。排液は、タンク122内に設けられた例え
ばフロート作動スイッチにより制御されるポンプを介し
てタンク122から排出される。液回収、循環システム
に排液を清浄にする1又はそれ以上のフィルタが設けら
れている。
ガスベントがタンク122の開口部に設けられている。
ベントに排ガスブロアを接続し、定期的又は連続的にガ
スを抜き出し、タンク122内を大気圧より僅かに低く
する。
スを抜き出し、タンク122内を大気圧より僅かに低く
する。
第9図は、第8図に示すロータ140の9−9矢視断面
図である。第10図は第9図の10−10矢視断面図で
ある。これらの図は、ロータ140をその軸の周りにサ
ポートに対して回転させ、またホルダをその軸の周りに
ロータ140に対し異なった方向に回転させる手段に関
するものである。
図である。第10図は第9図の10−10矢視断面図で
ある。これらの図は、ロータ140をその軸の周りにサ
ポートに対して回転させ、またホルダをその軸の周りに
ロータ140に対し異なった方向に回転させる手段に関
するものである。
第9図は、ボルト172を含む中間部170を介してデ
ィスク138に取り付けられたモータ142を示してい
る。モータ142は軸145を有している。ロータ14
0は接続部材を介してモタ軸145に接続され、その軸
の周りを回転するようになっている。接続手段は、軸1
45及びシャフト151の両端部の周りのスリーブ14
9を含む。シャフト151の他端部は、ボルト159に
よりロータ140に接続されたカプラー153に固定さ
れている。
ィスク138に取り付けられたモータ142を示してい
る。モータ142は軸145を有している。ロータ14
0は接続部材を介してモタ軸145に接続され、その軸
の周りを回転するようになっている。接続手段は、軸1
45及びシャフト151の両端部の周りのスリーブ14
9を含む。シャフト151の他端部は、ボルト159に
よりロータ140に接続されたカプラー153に固定さ
れている。
スペース157が、ディスク138とロータ140との
間に形成されている。
間に形成されている。
固定プリー161がスペース157内に位置して、ピン
又はねじ147を介してディスク138に固定されてい
る。固定プリー161は、環状で、中心穴及び外周面を
有している。シャフト151が中心穴を貫通している。
又はねじ147を介してディスク138に固定されてい
る。固定プリー161は、環状で、中心穴及び外周面を
有している。シャフト151が中心穴を貫通している。
軸受165が、シャフト151を囲んで、固定プリー1
61の上、下に設けられている。
61の上、下に設けられている。
外周面を有する回転可能なプリー163が、スペース1
57内に位置して、シャフト167を介してホルダ14
4に固定されている。そして、プリー163がスピンし
たときに、ホルダ144がスピンするようになっている
。プリーの溝に噛合する歯を有する又は有しないタイミ
ングローブ又はベルトが、固定及び回転プリーの外周面
に巻回されている。そして、モータ142が起動される
と、軸145が例えば矢印A方向(第10図)に回転す
る。こうして、ロータ140を固定点に対して同じ方向
に回転させる。タイミングベルト169は回転プリー1
63及びホルダ144の回転を制御する。ロータ140
に対する回転プリー163の回転速度及び方向は、固定
及び回転ブリの外周面を選択することにより制御される
。回転プリー163の速度は、回転プリー163の外周
を固定プリー161の外周より小さくすることにより、
上げられる。プリーの外周は、回転ブリ163がロータ
軸の周りを1周してスタート位置に戻ったときに、回転
プリー163がスタート位置から360度±40度(好
ましくは±18度)ホルダ軸の周りを回転するように選
ぶ。換言すれば、回転プリー163のホルダ軸周りの回
転速度は、ロータ140のロータ軸周りの回転速度に実
質的に等しい。しかし、異なることが望ましい。
57内に位置して、シャフト167を介してホルダ14
4に固定されている。そして、プリー163がスピンし
たときに、ホルダ144がスピンするようになっている
。プリーの溝に噛合する歯を有する又は有しないタイミ
ングローブ又はベルトが、固定及び回転プリーの外周面
に巻回されている。そして、モータ142が起動される
と、軸145が例えば矢印A方向(第10図)に回転す
る。こうして、ロータ140を固定点に対して同じ方向
に回転させる。タイミングベルト169は回転プリー1
63及びホルダ144の回転を制御する。ロータ140
に対する回転プリー163の回転速度及び方向は、固定
及び回転ブリの外周面を選択することにより制御される
。回転プリー163の速度は、回転プリー163の外周
を固定プリー161の外周より小さくすることにより、
上げられる。プリーの外周は、回転ブリ163がロータ
軸の周りを1周してスタート位置に戻ったときに、回転
プリー163がスタート位置から360度±40度(好
ましくは±18度)ホルダ軸の周りを回転するように選
ぶ。換言すれば、回転プリー163のホルダ軸周りの回
転速度は、ロータ140のロータ軸周りの回転速度に実
質的に等しい。しかし、異なることが望ましい。
1以上のホルダ144を設ける場合には、シャフト16
7の中間部に、回転プリー163と一緒に回転するホル
ダプリー171を設ける。ホルダプリー171は、外周
面を有する。少なくとも19の付加ホルダ144が、ロ
ータ軸から第1のホルダ144と同じ距離で、ロータ1
40に回転可能に取り付けられる。これら付加ホルダ1
44は、ロータ140を貫通する回転シャフト175に
接続される。シャフト175は、スリーブ軸受174内
で回転する。ホルダプリー176は外周面を有し、各ホ
ルダシャフト175に取り付けられる。
7の中間部に、回転プリー163と一緒に回転するホル
ダプリー171を設ける。ホルダプリー171は、外周
面を有する。少なくとも19の付加ホルダ144が、ロ
ータ軸から第1のホルダ144と同じ距離で、ロータ1
40に回転可能に取り付けられる。これら付加ホルダ1
44は、ロータ140を貫通する回転シャフト175に
接続される。シャフト175は、スリーブ軸受174内
で回転する。ホルダプリー176は外周面を有し、各ホ
ルダシャフト175に取り付けられる。
各ホルダプリー176は、ホルダプリー171と同じで
ある。ホルダプリー176とシャフト175との間にス
リーブ178が設けられている。例えば、タイミングベ
ルト169と同様な駆動ローブ又はベルト180が全て
のホルダプリー176の外周面に巻回されている。そし
て、第1のホルダプリー171がタイミングベルト16
9により、第9図に示すように、反時計方向に回転する
と、他の全てのホルダプリー176は駆動ベルト180
により反時計方向に回転する。
ある。ホルダプリー176とシャフト175との間にス
リーブ178が設けられている。例えば、タイミングベ
ルト169と同様な駆動ローブ又はベルト180が全て
のホルダプリー176の外周面に巻回されている。そし
て、第1のホルダプリー171がタイミングベルト16
9により、第9図に示すように、反時計方向に回転する
と、他の全てのホルダプリー176は駆動ベルト180
により反時計方向に回転する。
ロータ140は、中央部にカプラー153を受入れる四
部を有するディスク状部材で構成されている。ロータ1
40は更に周縁近くに環状スペースを有している。この
環状スペスは、プレート155により蓋をされている。
部を有するディスク状部材で構成されている。ロータ1
40は更に周縁近くに環状スペースを有している。この
環状スペスは、プレート155により蓋をされている。
ホルダプリー171及び176は、この環状スペース内
に位置している。ホルダシャフト167及び175は、
その1端はプレート155により、他端は環状スペース
の壁により支持されている。
に位置している。ホルダシャフト167及び175は、
その1端はプレート155により、他端は環状スペース
の壁により支持されている。
全てのプリーは歯車に、またベルトはチェーンに置き変
えられる。ホルダシャフト167及び175は、遊星歯
車装置の遊星歯車軸にすることができる。固定プリー、
回転プリー及びタイミングベルトに代えて、第1ホルダ
シヤフトを別個のモータにより回転させてもよい。また
、全てのプリー及びベルトに代えて、各ホルダシャフト
を別個のモータにより回転させてもよい。
えられる。ホルダシャフト167及び175は、遊星歯
車装置の遊星歯車軸にすることができる。固定プリー、
回転プリー及びタイミングベルトに代えて、第1ホルダ
シヤフトを別個のモータにより回転させてもよい。また
、全てのプリー及びベルトに代えて、各ホルダシャフト
を別個のモータにより回転させてもよい。
第11図で、駆動ベルト180のテンションを増すため
に、駆動ベルトバイアス車190がシャフト192を介
してロータ140に回転可能に取り付けられている。バ
イアス車190がシャフト192に沿って移動するのを
防止するために、バイアス車の上下にストップ194が
設けられている。ヘッド196がシャフトの両端に設け
られ、ロータ140と協同して、バイアス車の位置を保
つようになっている。
に、駆動ベルトバイアス車190がシャフト192を介
してロータ140に回転可能に取り付けられている。バ
イアス車190がシャフト192に沿って移動するのを
防止するために、バイアス車の上下にストップ194が
設けられている。ヘッド196がシャフトの両端に設け
られ、ロータ140と協同して、バイアス車の位置を保
つようになっている。
第12図で、タイミングベルトバイアス車182が、シ
ャフト184を介してロータ140に回転可能に取り付
けられている。シャフト184の1端にヘッド186が
、また他端にストップ188が設けられている。ストッ
プ188は、車182の1方向の動きを止めている。シ
ャフト184はプレート155の穴を貫通し、プレート
155の1側に車182が、他側にヘッド186が位置
している。ヘッド186はプレート155に当接し、車
182をロータ140に接続している。タイミングベル
トバイアス車182は、タイミングベルト169のテン
ションを増す。
ャフト184を介してロータ140に回転可能に取り付
けられている。シャフト184の1端にヘッド186が
、また他端にストップ188が設けられている。ストッ
プ188は、車182の1方向の動きを止めている。シ
ャフト184はプレート155の穴を貫通し、プレート
155の1側に車182が、他側にヘッド186が位置
している。ヘッド186はプレート155に当接し、車
182をロータ140に接続している。タイミングベル
トバイアス車182は、タイミングベルト169のテン
ションを増す。
第13図に、他の液及びガススプレィ手段246の例が
示されている。液スプレィ手段248は、ロータ軸から
の同円周上に離間して設けられた12のファンスプレィ
ノズル250で構成されている。ロータ140は、各ノ
ズル150が、それぞれのホルダ144の軸上に来るよ
うに回転される。この例では、12個のホルダ144が
ロータ140の上に設けられている。ガスブロー手段2
52は、ロータ軸から等距離で、且つ等間隔に設けらた
12個のガスナイフ254により構成されている。
示されている。液スプレィ手段248は、ロータ軸から
の同円周上に離間して設けられた12のファンスプレィ
ノズル250で構成されている。ロータ140は、各ノ
ズル150が、それぞれのホルダ144の軸上に来るよ
うに回転される。この例では、12個のホルダ144が
ロータ140の上に設けられている。ガスブロー手段2
52は、ロータ軸から等距離で、且つ等間隔に設けらた
12個のガスナイフ254により構成されている。
他の例では、ホルダは12個設けられているが、ノズル
及び空気ナイフはそれぞれ6個ずつ設けられている。
及び空気ナイフはそれぞれ6個ずつ設けられている。
ノズル250及びガスナイフ254はそれぞれ液及びガ
スを面状にスプレィするようになっている。そして、そ
れぞれのスプレィ面は、各ノズル250、ナイフ264
及びロータ軸上に位置している。
スを面状にスプレィするようになっている。そして、そ
れぞれのスプレィ面は、各ノズル250、ナイフ264
及びロータ軸上に位置している。
第14図は、第13図の14−14線矢曵の断面図であ
る。マニホルド部256は、第2デイスクプレート30
2の上に第1デイスクブレート300を配して構成され
ている。第1プレート300の底面と第2プレート30
2の上面とで第1リザーバ258が画されている。入口
流路304が第2プレート302を通って第1リザーバ
258に達しており、液を第1リザーバ258に供給す
るようになっている。出口流路260が第1リザーバ2
58から半径方向に第2プレート302を通り、液を各
ノズル250に送給するようになっている。パイプ等の
手段306が、出口流路260をノズル250に接続し
ている。
る。マニホルド部256は、第2デイスクプレート30
2の上に第1デイスクブレート300を配して構成され
ている。第1プレート300の底面と第2プレート30
2の上面とで第1リザーバ258が画されている。入口
流路304が第2プレート302を通って第1リザーバ
258に達しており、液を第1リザーバ258に供給す
るようになっている。出口流路260が第1リザーバ2
58から半径方向に第2プレート302を通り、液を各
ノズル250に送給するようになっている。パイプ等の
手段306が、出口流路260をノズル250に接続し
ている。
第2プレート302は第3デイスクプレート308の上
にある。第2プレートの底面と第3プレート308の上
面とで、第2リザーバ262を画している。入口流路3
10が第3プレート308を通り第2リザーバ262に
達しており、必要によりガスを第2リザーバ262に供
給するようになっている。出口流路264が第2リザー
バ262から半径方向に第3プレート302を通り、ア
トマイズミストを形成するために各ノズルに乾燥ガスを
送給するようになっている。パイプ等の手段312が、
ガス出口流路264とノズル250とを接続している。
にある。第2プレートの底面と第3プレート308の上
面とで、第2リザーバ262を画している。入口流路3
10が第3プレート308を通り第2リザーバ262に
達しており、必要によりガスを第2リザーバ262に供
給するようになっている。出口流路264が第2リザー
バ262から半径方向に第3プレート302を通り、ア
トマイズミストを形成するために各ノズルに乾燥ガスを
送給するようになっている。パイプ等の手段312が、
ガス出口流路264とノズル250とを接続している。
第3プレート308は、他のプレートより大きい第4デ
イスクプレート314の上にある。第3プレート30・
8の底面と第4プレート314の上面とで第3リザーバ
266を画している。入口流路316が第4プレートを
通り、第3リザーバ266に達しており、ガスを第3リ
ザーバ266に供給するようになっている。出口流路2
68が第3リザーバ266から半径方向にに第4プレー
ト314を通り、ガスを各ガスナイフ254に送給する
ようになっている。パイプ等の手段318が、ガス出口
268とガスナイフ254とを接続している。
イスクプレート314の上にある。第3プレート30・
8の底面と第4プレート314の上面とで第3リザーバ
266を画している。入口流路316が第4プレートを
通り、第3リザーバ266に達しており、ガスを第3リ
ザーバ266に供給するようになっている。出口流路2
68が第3リザーバ266から半径方向にに第4プレー
ト314を通り、ガスを各ガスナイフ254に送給する
ようになっている。パイプ等の手段318が、ガス出口
268とガスナイフ254とを接続している。
第4プレート314の底は、ねじ319によりガイドプ
レート317に接続されている。ディスクプレート相互
は、ボルト、ナツト320により接続されている。リフ
トパー322が、第1プレート300の上面にブラケッ
ト324及びねじ326を介して取り付けられている。
レート317に接続されている。ディスクプレート相互
は、ボルト、ナツト320により接続されている。リフ
トパー322が、第1プレート300の上面にブラケッ
ト324及びねじ326を介して取り付けられている。
円筒型のスペーサ328が、ガイドブレート317とタ
ンク122との間に設けられている。シール、0リング
255が各プレート間に介装されている。
ンク122との間に設けられている。シール、0リング
255が各プレート間に介装されている。
[作 用]
先ず、サポート126を第2の開位置に動かす。
部品はレイヤ102を下に向けてホルダ144に把持さ
れる。それから、サポート126は第1の閉位置に回動
される。モータ142を起動して、ロータ140はその
軸の周りにタンク122の中から見て時計方向にスピン
される。ロータ140のスピン運動により、ホルダはロ
ータ軸の周りにオービットする。ロータのスピン運動に
より、タイミングベルト169及び駆動ベルト180を
介して、ホルダ144はその軸の周りにタンク122の
中から見て半時針方向に回転される。ロータ140のス
ピン中に、ノズル150から液がレイヤ102上にスプ
レィされる。レイヤ102の未硬化部は、液により除去
、洗い流されて穴を形成する。ノズル150から液をス
プレィしている間に、ガスナイフ154から乾燥ガスが
ブローされ、余剰の液を除去するすると共に、洗い流さ
れた未硬化部をブローする。液スプレィ停止後も、ガス
ナイフ154は乾燥ガスのブローを継続し、ロータ14
0のスピン中にレイヤ102を乾燥する。ガスナイフ1
54のブロー停止後、サポート即ち蓋126は開位置に
回動される。そして、部品が外される。以後、上記サイ
クルを繰返す。
れる。それから、サポート126は第1の閉位置に回動
される。モータ142を起動して、ロータ140はその
軸の周りにタンク122の中から見て時計方向にスピン
される。ロータ140のスピン運動により、ホルダはロ
ータ軸の周りにオービットする。ロータのスピン運動に
より、タイミングベルト169及び駆動ベルト180を
介して、ホルダ144はその軸の周りにタンク122の
中から見て半時針方向に回転される。ロータ140のス
ピン中に、ノズル150から液がレイヤ102上にスプ
レィされる。レイヤ102の未硬化部は、液により除去
、洗い流されて穴を形成する。ノズル150から液をス
プレィしている間に、ガスナイフ154から乾燥ガスが
ブローされ、余剰の液を除去するすると共に、洗い流さ
れた未硬化部をブローする。液スプレィ停止後も、ガス
ナイフ154は乾燥ガスのブローを継続し、ロータ14
0のスピン中にレイヤ102を乾燥する。ガスナイフ1
54のブロー停止後、サポート即ち蓋126は開位置に
回動される。そして、部品が外される。以後、上記サイ
クルを繰返す。
第15図及び第16図は、第4〜6図に示されたものの
単純化した説明図である。第15図は、本発明による回
転デベロッパーに保持されたレイヤが、第4図に示すラ
インスプレィを備えた6個のノズル上を通って、レイヤ
」二にデベロップされたレーンのパターンを示す。簡略
化のために、レーンは曲線でなく直線で示されている。
単純化した説明図である。第15図は、本発明による回
転デベロッパーに保持されたレイヤが、第4図に示すラ
インスプレィを備えた6個のノズル上を通って、レイヤ
」二にデベロップされたレーンのパターンを示す。簡略
化のために、レーンは曲線でなく直線で示されている。
第16図は、第15図に示すレーンパターンで、6個の
ノズルの内の1個が作動しなかった場合のレーンパター
ンである。矢印は、無くなったレーンを示している。第
15及び16図は、本発明によりてデベロップされたレ
イヤ表面が、従来のデベロッパーを用いた場合に比べよ
り均一になっていることを示している。
ノズルの内の1個が作動しなかった場合のレーンパター
ンである。矢印は、無くなったレーンを示している。第
15及び16図は、本発明によりてデベロップされたレ
イヤ表面が、従来のデベロッパーを用いた場合に比べよ
り均一になっていることを示している。
第1図は、従来のスピンデベロッパーの説明図、第2図
は、部品の回転中心からの距離に対する、部品レイヤへ
のスプレィのを効衝撃角度と速度との関係を示す説明図
、 第3図は、レイヤにスプレィが衝突して穴を形成してい
る状態を示す説明図、 第4図は、ファンスプレィノズルを用い、レイヤに対し
分離した液腺をスプレィし、レイヤ上に分離したレーン
をデベロップしている状態の説明図、 第5図は、第1図のノズルに、第4図に示すノズルを用
いて形成されるレーンを示す説明図、第6図は、第5図
の場合で、19のスプレィラインが作動しなかった場合
のレーンの説明図、第7図は、第1〜6図に示す問題点
を解消するために用いられる本発明の原理を示す説明図
、第8図は、本発明の回転デベロッパーを1部を切断し
て示す説明図、 第9図は、第8図の9−9矢視断面図、第10図は、第
9図の10−10矢視断面図、第11図は、第10図の
11−11矢視断面図、第12図は、第10図の12−
12矢視断面図、第13図は、液及びガススプレィ手段
の平面図、第14図は、第13図の14−14矢視断面
図、第15図は、第2図に示すファンスプレィノズルを
用い、本発明により6個のノズル上を通るレイヤに液を
分離線状にスプレィした場合のパターンを示す説明図、 第16図は、第15図に示すパターンで、19のノズル
の19のラインが作動せず、結果として19のレーンが
無くなった場合のパターンの説明図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 Fig、 3 Fig、8 Fig、 // Fig、 12 Fig、/3
は、部品の回転中心からの距離に対する、部品レイヤへ
のスプレィのを効衝撃角度と速度との関係を示す説明図
、 第3図は、レイヤにスプレィが衝突して穴を形成してい
る状態を示す説明図、 第4図は、ファンスプレィノズルを用い、レイヤに対し
分離した液腺をスプレィし、レイヤ上に分離したレーン
をデベロップしている状態の説明図、 第5図は、第1図のノズルに、第4図に示すノズルを用
いて形成されるレーンを示す説明図、第6図は、第5図
の場合で、19のスプレィラインが作動しなかった場合
のレーンの説明図、第7図は、第1〜6図に示す問題点
を解消するために用いられる本発明の原理を示す説明図
、第8図は、本発明の回転デベロッパーを1部を切断し
て示す説明図、 第9図は、第8図の9−9矢視断面図、第10図は、第
9図の10−10矢視断面図、第11図は、第10図の
11−11矢視断面図、第12図は、第10図の12−
12矢視断面図、第13図は、液及びガススプレィ手段
の平面図、第14図は、第13図の14−14矢視断面
図、第15図は、第2図に示すファンスプレィノズルを
用い、本発明により6個のノズル上を通るレイヤに液を
分離線状にスプレィした場合のパターンを示す説明図、 第16図は、第15図に示すパターンで、19のノズル
の19のラインが作動せず、結果として19のレーンが
無くなった場合のパターンの説明図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 Fig、 3 Fig、8 Fig、 // Fig、 12 Fig、/3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電子部品のレイヤーの1部を除去して該部品に穴を
形成する回転デベロッパーで、 サポートと、 軸を有するロータで、このロータが軸の周りに回転可能
に上記サポートに取り付けられているものと、 軸を有する部品ホルダで、このホルダが軸の周りに回転
可能に上記ロータに取り付けられているものと、 上記ロータを軸の周りに第1の方向に回転させると共に
、上記ホルダを第2の方向に回転させる手段と、 穴を形成するために1部を除去すると共に、上記レイヤ
及び穴を乾燥させるために、上記レイヤに液及びガスを
スプレイする手段と、 とから構成されている回転デベロッパー。 2)ホルダの軸は離れており、且つロータ軸に実質的に
平行になっている請求項1記載のデベロッパー。 3)第1の方向と第2の方向が逆になっている請求項1
記載のデベロッパー。 4)回転手段は、ホルダをサポートに対し回転させるも
のである請求項1記載のデベロッパー。 5)回転手段が、 サポートに取付けられた可変速モータで、このモータは
軸線の周りに回転する軸を有しているものと、 上記軸をロータに、その軸線をロータ軸線に一致させて
接続する手段と、 上記軸の周りで、サポートに固定された固定プリーで、
円周面を有するものと、 ホルダに固定され、該ホルダ軸の周りに回転できる回転
プリーで、このホルダプリーが円周面を有するものと、 上記固定プリー及びホルダプリーの円周面に接して、そ
の周りを動くタイミング手段と、から構成され、 かくて、モータが駆動されると、モータはその軸を1方
向に回転し、ロータを第1の方向に回転させると共に、
タイミング手段がホルダを第2の方向に回転させるよう
になっている請求項1記載のデベロッパー。 6)固定プリーの外周面と回転プリーの外周面との外周
が異なっている請求項5記載のデベロッパー。 7)複数の部品ホルダを有し、このホルダはホルダー軸
を有して、その軸の周りに回転可能にロータに取り付け
られており、 回転手段は上記ホルダを第2の方向に回転させるように
なっており、 スプレー及び乾燥手段が、部品がホルダにより保持され
、ロータ及びホルダが回転している時に、レイヤーの露
出されてないホトポリマー部を除去して穴を形成させる
べく、液をレイヤ上にスプレイする手段から構成され、 スプレイ及び乾燥手段は、部品がホルダにより保持され
、ロータ及びホルダが回転している時に、レイヤからそ
の1部及び液の1部を除去し、その後レイヤ及び穴を乾
燥するガスブロー手段を更に備えている、 請求項1記載のデベロッパー。 8)回転手段が、 サポートに取付けられた可変速モータで、このモータは
軸線の周りに回転する軸を有しているものと、 上記軸をロータに、その軸線をロータ軸線に一致させて
接続する手段と、 上記軸の周りで、サポートに固定された固定プリーで、
円周面を有するものと、 ホルダに固定され、該ホルダ軸の周りに回転できる回転
プリーで、このホルダプリーが円周面を有するものと、 上記固定プリー及びホルダプリーの円周面に接して、そ
の周りを動くタイミング手段と、 各ホルダに固定されたホルダプリーで円周面を有するも
のと、 各ホルダプリーの外周面に接してその周りを動く駆動手
段と、から構成され、 かくて、モータが駆動されると、モータはその軸を1方
向に回転し、ロータを第1の方向に回転させると共に、
タイミング手段が回転プリーを第2の方向に回転させ、
且つ駆動手段がホルダを第2の方向に回転させるように
なっている請求項7記載のデベロッパー。 9)合計で、12のホルダがある請求項7記載のデベロ
ッパー。 10)スプレイ及び乾燥手段が、 液スプレイ手段で、ファンスプレイノズルが離間して固
定され、部品がホルダに保持されているときに、レイヤ
に向き、また上記ノズルがホルダの第1位置において実
質的にホルダー軸上にある請求項1記載のデベロッパー
。 11)スプレイ及び乾燥手段は、 スプレイ手段が、液をロータ軸に実質的に一致する実質
的な面内に扇状に液をスプレイする固定ファンスプレイ
ノズルであり、かくてホルダが部品を保持し、ロータが
回転してホメダがノズルを過ぎる時に、ノズルがスプレ
イして、実質的に全てのレイヤがスプレイされるように
なっている請求項1記載のデベロッパー。 12)上記面が、ロータ軸を通る面に鋭角をなし、且つ
ホルダ軸がホルダの第1位置にある請求項11記載のデ
ベロッパー。 13)上記面がロータ軸に交差し、ホルダ軸がホルダの
第1位置にある請求項11記載のデベロッパー。 14)スプレイ及び乾燥手段は、 スプレイ手段が、部品がホルダに保持され、且つホルダ
が第1位置にあるとき、液及びガスの混合物をレイヤに
向ってスプレイできるアトマイズファンスプレイノズル
である請求項1記載のデベロッパー。 15)スプレイ及び乾燥手段は、 液スプレイ手段が、複数のファンスプレイノズルからな
り、各ノズルは同円周上に離間して固定されると共に、
部品がホルダに保持されているときレイヤに向き、且つ
ノズルはホルダの異なった位置で実質的にホルダ軸の上
にある請求項1記載のデベロツパー。 16)合計で6個のノズルが、円周上に約60度の間隔
で配設されている請求項15記載のデベロッパー。 17)スプレイ及び乾燥手段は、 レイヤからその1部及び液を除去して、その後乾燥させ
るガスブロー手段で、 ブロー手段は、離間して固定されたガスナイフで、部品
がホルダに保持されているときにガスをレイヤに向って
ブローするもので、このガスナイフはホルダの第2位置
で実質的にホルダ軸上にある請求項1記載のデベロッパ
ー。 18)スプレイ及び乾燥手段は、 レイヤからその1部及び液を除去して、その後乾燥させ
るガスブロー手段で、 ブロー手段は、実質的にロータ軸上にある実質的な面内
のナイフエッジ状に乾燥ガスをブローできる固定ガスナ
イフで、ホルダ軸がホルダの第2位置にあり、かくてホ
ルダが部品を保持しており、ホルダが回転してホルダが
ガスナイフを過るときに、ナイフがブローされ、全ての
レイヤがガスによりブローされるようになっている請求
項1記載のデベロッパー。 19)スプレイ及び乾燥手段は、 レイヤからその1部及び液を除去して、その後乾燥させ
るガスブロー手段で、 ブロー手段は、複数のガスナイフからなり、各ナイフは
実質的に第2円上に離間して設けられる共に、部品がホ
ルダに保持されているときにレイヤに向き、且つナイフ
はホルダの異なった位置における軸上に実質的にある請
求項1記載のデベロッパー。 20)合計6個のガスナイフが、第2円上に約60度間
隔で設けられている請求項19記載のデベロッパー。 21)スプレイ及び乾燥手段は、 レイヤからその1部及び液を除去して、その後乾燥させ
るガスブロー手段で、 ブロー手段は、6個のガスナイフからなり、各ナイフは
実質的に第2円上に離間して固定されると共に、部品が
ホルダに保持されているときにレイヤに向き、且つナイ
フはホルダの異なる位置において実質的にホルダ軸上に
あり、更にナイフは隣接するノズルの間にある請求項1
6記載のデベロッパー。 22)更に、フレームと、 開口を有し上記フレームに支持されるタンクで、その中
にスプレイ及び乾燥手段を有するものとを備え、 前記サポートが上記フレームに、第1位置と第2位置と
の間を揺動できるように取り付けられ、第1位置におい
てサポートが、ロータ及びホルダが入ったタンクの開口
を閉じ、また第2位置において、サポートはタンクから
離れるように傾斜され、電子部品を交換するためにホル
ダに近付けるようになっており、 また、サポートを第1及び第2位置との間を揺動させる
手段とを備えている 請求項1記載のデベロッパー。 23)レイヤが硬化部と硬化可能な部とから構成され、
液及びガスが硬化可能な部を除去するようになっている
請求項1記載のデベロッパー。 24)レイヤがホトポリマーである請求項23記載のデ
ベロッパー。 25)部分が液に溶解されるものである請求項23記載
のデベロッパー。 26)部分が液に溶解されるものである請求項24記載
のデベロッパー。 27)電子部品の硬化部と未硬化部からなるレイヤに穴
を形成するレイヤのデベロップ方法で、電子部品をロー
タに回転可能に取りつけられたろホルダに装着する工程
と、 ロータをその軸の周りに第1の方向にスピンさせる工程
と、 ホルダをロータ軸の周りにオービットさせる工程と、 ホルダをホルダ軸の周りに回転する工程と、穴を形成す
べく未硬化部を洗い流すために、レイヤ上に液をスプレ
イする工程と、 レイヤ及び穴を乾燥する工程と、 部品を取り外す工程と、 とからなるデベロップ方法。 28)スピン、オービット、回転及びスプレイ工程が同
時になされる請求項27記載の方法。 29)回転工程中に、ホルダがその軸の周りに第1方向
と逆の第2方向に回転する請求項28記載の方法。 30)ホルダがロータと実質的に同じ速度で回転する請
求項29記載の方法。 31)ホルダがロータとは異なった速度で回転する請求
項29記載の方法。 32)装着工程後に、更に、 ロータ及びホルダを支持するカバーによりタンクを閉じ
る工程と、 乾燥工程後に、カバーを動かしてタンクを開ける工程と
を含む 請求項27記載の方法。 33)複数の部品ホルダがあり、このホルダに未硬化部
を有する複数の電子部品が装着され、ホルダがその軸の
周りを回転する間に、ホルダがロータ軸の周りにオービ
ットされ、穴を形成すべく液がスプレイされ、レイヤ及
び穴が乾燥され、その後取り外される請求項27記載の
方法。 34)レイヤがホトポリマーである請求項27記載の方
法。 35)未硬化部は液に溶解するものである請求項27記
載の方法。 36)更に、液がスプレイされている間に、余分の液を
除去すると共に、洗い流された未硬化部をブローアウト
するために、ガスをレイヤ上にブローする工程を含む請
求項27記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/192,474 US4799993A (en) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | Rotary developer and method for its use |
| US192,474 | 1988-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0216567A true JPH0216567A (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=22709821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1019942A Pending JPH0216567A (ja) | 1988-05-10 | 1989-01-31 | 回転デベロッパー |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4799993A (ja) |
| EP (1) | EP0341374A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0216567A (ja) |
| KR (1) | KR890017796A (ja) |
| CA (1) | CA1286797C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05173336A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-07-13 | Canon Inc | レジストの除去方法及び除去装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5486234A (en) * | 1993-07-16 | 1996-01-23 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Removal of field and embedded metal by spin spray etching |
| JP3415670B2 (ja) * | 1994-03-03 | 2003-06-09 | 三菱電機株式会社 | ウエハ洗浄装置 |
| US6231676B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-05-15 | Seagate Technology Llc | Cleaning process for disc drive components |
| US6086773A (en) * | 1998-05-22 | 2000-07-11 | Bmc Industries, Inc. | Method and apparatus for etching-manufacture of cylindrical elements |
| US6514576B1 (en) * | 1999-03-11 | 2003-02-04 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method of manufacturing a diffraction grating |
| US6635412B2 (en) * | 2000-07-11 | 2003-10-21 | Martin A. Afromowitz | Method for fabricating 3-D structures with smoothly-varying topographic features in photo-sensitized epoxy resists |
| KR100773422B1 (ko) * | 2006-10-18 | 2007-11-06 | 한일과학산업 주식회사 | 이중 회전축을 구비한 원심분리기 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3072133A (en) * | 1959-04-13 | 1963-01-08 | Tasope Company | Etching apparatus and method of etching |
| US3348557A (en) * | 1965-07-01 | 1967-10-24 | Kenneth W Adamson | Apparatus for etching metal |
| US3772104A (en) * | 1972-03-30 | 1973-11-13 | Bell Telephone Labor Inc | Fabrication of thin film devices |
| US3888674A (en) * | 1972-08-14 | 1975-06-10 | Texas Instruments Inc | Automatic slice processing |
| US3953265A (en) * | 1975-04-28 | 1976-04-27 | International Business Machines Corporation | Meniscus-contained method of handling fluids in the manufacture of semiconductor wafers |
| US4300581A (en) * | 1980-03-06 | 1981-11-17 | Thompson Raymon F | Centrifugal wafer processor |
| FR2516408B1 (fr) * | 1981-11-19 | 1985-07-26 | Dassault Electronique | Machine a laver les circuits electroniques |
| US4564280A (en) * | 1982-10-28 | 1986-01-14 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for developing resist film including a movable nozzle arm |
-
1988
- 1988-05-10 US US07/192,474 patent/US4799993A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-26 CA CA000589254A patent/CA1286797C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-30 KR KR1019890001010A patent/KR890017796A/ko not_active Withdrawn
- 1989-01-31 EP EP19890101611 patent/EP0341374A3/en not_active Withdrawn
- 1989-01-31 JP JP1019942A patent/JPH0216567A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05173336A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-07-13 | Canon Inc | レジストの除去方法及び除去装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4799993A (en) | 1989-01-24 |
| EP0341374A3 (en) | 1990-12-12 |
| EP0341374A2 (en) | 1989-11-15 |
| CA1286797C (en) | 1991-07-23 |
| KR890017796A (ko) | 1989-12-18 |
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