JPH02166685A - 記録ディスクの製造方法 - Google Patents
記録ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH02166685A JPH02166685A JP32237488A JP32237488A JPH02166685A JP H02166685 A JPH02166685 A JP H02166685A JP 32237488 A JP32237488 A JP 32237488A JP 32237488 A JP32237488 A JP 32237488A JP H02166685 A JPH02166685 A JP H02166685A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- magnetic
- identification mark
- medium identification
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
脆性なディスク基板を用いた記録ディスクの製造工程に
おいて、該ディスク基板に媒体識別マークを形成する方
法に関し、 脆性なガラス等からなるディスク基板を用いた記録ディ
スクの製造方法において、該脆性なディスク基板に機械
的なダメージやその後に形成する磁性膜に悪影響を及ぼ
すことなく工程管理用の媒体識別マークを設けることを
目的とし、ガラス、若しくはセラミックなどの脆性を有
するディスク基板上に記録層を形成するに際し、前記基
板表面の少なくとも記録層形成領域以外の表面を物理的
処理により着色する発色ガラスにより被覆する工程と、
その発色ガラス表面に選択的な光照射と熱処理する工程
を行い、該選択光照射部分に媒体識別マークを着色形成
するように構成する。
おいて、該ディスク基板に媒体識別マークを形成する方
法に関し、 脆性なガラス等からなるディスク基板を用いた記録ディ
スクの製造方法において、該脆性なディスク基板に機械
的なダメージやその後に形成する磁性膜に悪影響を及ぼ
すことなく工程管理用の媒体識別マークを設けることを
目的とし、ガラス、若しくはセラミックなどの脆性を有
するディスク基板上に記録層を形成するに際し、前記基
板表面の少なくとも記録層形成領域以外の表面を物理的
処理により着色する発色ガラスにより被覆する工程と、
その発色ガラス表面に選択的な光照射と熱処理する工程
を行い、該選択光照射部分に媒体識別マークを着色形成
するように構成する。
本発明は脆性なディスク基板を用いた記録ディスクの製
造方法に係り、特に該ディスク基板に、その機械的強度
を損なうことなく工程管理用の媒体識別マークを形成す
る方法に関するものである。
造方法に係り、特に該ディスク基板に、その機械的強度
を損なうことなく工程管理用の媒体識別マークを形成す
る方法に関するものである。
近来、コンピュータシステムにおける情報処理の高速化
、大容量化に伴い、その外部記憶装置として用いられて
いる磁気ディスク装置に対しても益々高速化、高密度記
録化及び大容量化が要求されている。このため、磁気デ
ィスク装置に用いられるディスク媒体においても一般的
な塗布型の磁気ディスクに比べて高密度記録化に有利な
薄膜磁気ディスクが提案され、実用化されている。
、大容量化に伴い、その外部記憶装置として用いられて
いる磁気ディスク装置に対しても益々高速化、高密度記
録化及び大容量化が要求されている。このため、磁気デ
ィスク装置に用いられるディスク媒体においても一般的
な塗布型の磁気ディスクに比べて高密度記録化に有利な
薄膜磁気ディスクが提案され、実用化されている。
一方、高密度記録化に伴って記録再生時におけるこのよ
うな薄膜磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隙（ヘッド浮
上間隔）も益々微小となるため、磁気ディスクに用いら
れるディスク基板としては、基板表面の平滑性が比較的
容易に得られ、また磁気ディスクと磁気ヘッドの接触、
衝突によるへ・ノドクラッシュの発生確率の増大に対処
するため、金属製磁気ディスク基板よりも材質的に表面
硬度が硬く、熱膨脹率小さい強化ガラス、或いはセラミ
ックス等の基板が適用されつつある。
うな薄膜磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隙（ヘッド浮
上間隔）も益々微小となるため、磁気ディスクに用いら
れるディスク基板としては、基板表面の平滑性が比較的
容易に得られ、また磁気ディスクと磁気ヘッドの接触、
衝突によるへ・ノドクラッシュの発生確率の増大に対処
するため、金属製磁気ディスク基板よりも材質的に表面
硬度が硬く、熱膨脹率小さい強化ガラス、或いはセラミ
ックス等の基板が適用されつつある。
ところで磁気ディスク、或いは光磁気ディスク、光ディ
スク等の製造においては、それらのディスク基板に工程
管理用の例えば基板番号、媒体番号及びロフト番号等の
媒体識別マークを設けているが、これらのディスク基板
として上記のようなガラス、若しくはセラミック等の脆
性なディスク基板を適用した場合、そのディスク基板に
機械的なダメージを与えないように前記工程管理用の媒
体識別マークを設けることが要求される。
スク等の製造においては、それらのディスク基板に工程
管理用の例えば基板番号、媒体番号及びロフト番号等の
媒体識別マークを設けているが、これらのディスク基板
として上記のようなガラス、若しくはセラミック等の脆
性なディスク基板を適用した場合、そのディスク基板に
機械的なダメージを与えないように前記工程管理用の媒
体識別マークを設けることが要求される。
従来、例えばアルミニウム（Ａ ｆｆｉ ）板を母材と
し、その表面にＮｉＰ表面処理、或いはアルマイト表面
処理を施した金属製のディスク基板を用いて磁気ディス
クを製造する場合、第５図に示すように該金属製ディス
ク基板１１の磁気記録層形成領域１２以外の、所謂非磁
気記録領域１３に、例えばダイヤモンド罫書きペン、或
いはレーザ光照射等による刻印法等により、例えばＭＧ
−１２３”等の工程管理用の媒体識別マーク１４を直接
記入し、この媒体識別マーク１４によって磁気ディスク
の製造工程での工程管理を行っている。
し、その表面にＮｉＰ表面処理、或いはアルマイト表面
処理を施した金属製のディスク基板を用いて磁気ディス
クを製造する場合、第５図に示すように該金属製ディス
ク基板１１の磁気記録層形成領域１２以外の、所謂非磁
気記録領域１３に、例えばダイヤモンド罫書きペン、或
いはレーザ光照射等による刻印法等により、例えばＭＧ
−１２３”等の工程管理用の媒体識別マーク１４を直接
記入し、この媒体識別マーク１４によって磁気ディスク
の製造工程での工程管理を行っている。
ところで上記したような従来の媒体識別マーク１４の記
入方法は、金属製のディスク基板１１に採用する場合に
は問題とならないが、磁気ディスクの高密度記録化に伴
って磁気ヘッドの磁気ディスクに対する位置決め精度の
高精度化と、薄膜磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隙（
ヘッド浮上間隔）の微小化により、磁気ディスクと磁気
へ・ノドの接触、衝突によるヘッドクラッシュの発生確
率の増大に等に対処するために、前記金属製ディスク基
板１１よりも材質的に表面硬度が硬く、良好な平滑面が
比較的容易に得られ、かつ熱膨脹率小さい強化ガラス、
或いはセラミック等の脆性な基板の非磁気記録領域に、
上記したような罫書き記入方法により工程管理用の媒体
識別マークを直接記入すると、該基板面に罫書き傷や歪
が付加されるので、それに起因して該ディスク基板の強
度が著しく低下し、破損し易くなる不都合があった。
入方法は、金属製のディスク基板１１に採用する場合に
は問題とならないが、磁気ディスクの高密度記録化に伴
って磁気ヘッドの磁気ディスクに対する位置決め精度の
高精度化と、薄膜磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隙（
ヘッド浮上間隔）の微小化により、磁気ディスクと磁気
へ・ノドの接触、衝突によるヘッドクラッシュの発生確
率の増大に等に対処するために、前記金属製ディスク基
板１１よりも材質的に表面硬度が硬く、良好な平滑面が
比較的容易に得られ、かつ熱膨脹率小さい強化ガラス、
或いはセラミック等の脆性な基板の非磁気記録領域に、
上記したような罫書き記入方法により工程管理用の媒体
識別マークを直接記入すると、該基板面に罫書き傷や歪
が付加されるので、それに起因して該ディスク基板の強
度が著しく低下し、破損し易くなる不都合があった。
このため、インク等を用いて前記媒体識別マークを記入
する方法も考えされるが、このような記入方法により記
入された媒体識別マークは、その後の化学処理や熱処理
等の工程中に消失したり、また形成される磁性膜に不純
物として悪影響を与えたりするといった問題があった。
する方法も考えされるが、このような記入方法により記
入された媒体識別マークは、その後の化学処理や熱処理
等の工程中に消失したり、また形成される磁性膜に不純
物として悪影響を与えたりするといった問題があった。
本発明は上記した従来の実状に鑑み、脆性なガラス等か
らなるディスク基板上に記録媒体層を形成する際に、該
脆性なディスク基板に機械的なダメージやその後に形成
する磁性膜に悪影響を及ぼすことなく工程管理用の媒体
識別マークを設けることを可能とした新規な記録ディス
クの製造方法を提供することを目的とするものである。
らなるディスク基板上に記録媒体層を形成する際に、該
脆性なディスク基板に機械的なダメージやその後に形成
する磁性膜に悪影響を及ぼすことなく工程管理用の媒体
識別マークを設けることを可能とした新規な記録ディス
クの製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、ガラス、若しく
はセラミックなどの脆性を有するディスク基板上に記録
層を形成するに際し、前記基板表面の少なくとも記録層
形成領域以外の表面を物理的処理により着色する発色ガ
ラスにより被覆する工程と、その発色ガラス表面に選択
的な光照射と熱処理する工程を行い、該選択光照射部分
に媒体識別マークを着色形成するように構成する。
はセラミックなどの脆性を有するディスク基板上に記録
層を形成するに際し、前記基板表面の少なくとも記録層
形成領域以外の表面を物理的処理により着色する発色ガ
ラスにより被覆する工程と、その発色ガラス表面に選択
的な光照射と熱処理する工程を行い、該選択光照射部分
に媒体識別マークを着色形成するように構成する。
本発明の記録ディスクの製造方法における工程管理用の
媒体識別マークの形成においては、物理的処理により着
色する発色ガラス、例えばポリクロマティクガラス等が
紫外線照射と熱処理によって発色させることができるこ
とを利用して、この発色ガラスをガラス、またはセラミ
ックなどの脆性なディスク基板面の少なくとも工程管理
用の媒体識別マークを設けるべき領域に被覆し、該発色
ガラス表面に選択的に紫外線を照射して前記媒体識別マ
ークパターンの潜像を形成し、更にこの潜像を熱処理に
より発色させることにより、前記脆性なディスク基板の
機械的強度を傷や歪応力等の付加による低下させること
なく、前記媒体識別マークを着色形成することができる
。
媒体識別マークの形成においては、物理的処理により着
色する発色ガラス、例えばポリクロマティクガラス等が
紫外線照射と熱処理によって発色させることができるこ
とを利用して、この発色ガラスをガラス、またはセラミ
ックなどの脆性なディスク基板面の少なくとも工程管理
用の媒体識別マークを設けるべき領域に被覆し、該発色
ガラス表面に選択的に紫外線を照射して前記媒体識別マ
ークパターンの潜像を形成し、更にこの潜像を熱処理に
より発色させることにより、前記脆性なディスク基板の
機械的強度を傷や歪応力等の付加による低下させること
なく、前記媒体識別マークを着色形成することができる
。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図〜第４図は本発明に係る記録ディスクの製造方法
の一実施例を磁気記録ディスクを製造する場合の例で工
程順に示す斜視図及び部分拡大平面図である。
の一実施例を磁気記録ディスクを製造する場合の例で工
程順に示す斜視図及び部分拡大平面図である。
本実施例では第１図に示すように脆性なディスク基板２
１として、例えばＮａ２０−Ｚｎ０−Ａ ｌ ｚｏｚ−
５ｉＯｚを主成分とし、これに１”、Ｂｒ−などの析出
結晶成分と、Ａｇ”、Ｃｏｏ□などの感光・着色増感機
能成分及び５ｂｚＯｚ＋ ＳｎＯなどの熱的増感機能と
還元剤として機能する成分が添加された発色性のポリク
ロマティックガラスを用い、このディスク基板２１上の
磁気記録層形成領域２２以外の非記録層形成領域２３の
所定位置に、集光レンズ３２により集光された紫外線ビ
ーム３１を選択的な走査により照射して、第２図に示す
ように工程管理用の媒体識別マーク“ＧＭ−１２３”の
潜像パターン２４を形成する。前記紫外線の波長は例え
ば３００ｎｍであり、またその照射時間は数秒〜数分間
行う。
１として、例えばＮａ２０−Ｚｎ０−Ａ ｌ ｚｏｚ−
５ｉＯｚを主成分とし、これに１”、Ｂｒ−などの析出
結晶成分と、Ａｇ”、Ｃｏｏ□などの感光・着色増感機
能成分及び５ｂｚＯｚ＋ ＳｎＯなどの熱的増感機能と
還元剤として機能する成分が添加された発色性のポリク
ロマティックガラスを用い、このディスク基板２１上の
磁気記録層形成領域２２以外の非記録層形成領域２３の
所定位置に、集光レンズ３２により集光された紫外線ビ
ーム３１を選択的な走査により照射して、第２図に示す
ように工程管理用の媒体識別マーク“ＧＭ−１２３”の
潜像パターン２４を形成する。前記紫外線の波長は例え
ば３００ｎｍであり、またその照射時間は数秒〜数分間
行う。
次にそのマーク潜像パターン２４を例えば４５０〜５０
０°Ｃで熱処理して微細な銀（八ｇ）の結晶核を形成し
、更にその結晶核形成パターン領域を５００〜５５０°
Ｃで熱処理して銀（Ａｇ）を核とした先端にＡｇＢｒな
どのハロゲン化銀の結晶を有するＮａＢｒ等からなる針
状結晶を形成する。
０°Ｃで熱処理して微細な銀（八ｇ）の結晶核を形成し
、更にその結晶核形成パターン領域を５００〜５５０°
Ｃで熱処理して銀（Ａｇ）を核とした先端にＡｇＢｒな
どのハロゲン化銀の結晶を有するＮａＢｒ等からなる針
状結晶を形成する。
次にその領域に再び３００ｎｍの波長の紫外線ビームを
数分〜数十分間照射して析出針状結晶の頂点にＡｇの潜
像を形成する。その後、再度３５０〜４００°Ｃで熱処
理することにより前記針状結晶の先端に金属銀が発色し
た状態に析出され、第３図に示すように前記ディスク基
＋Ｊｉ２１に機械的なダメージを与えることなく着色さ
れた工程管理用の媒体識別マーク″ＧＭ−１２３”を形
成することができる。
数分〜数十分間照射して析出針状結晶の頂点にＡｇの潜
像を形成する。その後、再度３５０〜４００°Ｃで熱処
理することにより前記針状結晶の先端に金属銀が発色し
た状態に析出され、第３図に示すように前記ディスク基
＋Ｊｉ２１に機械的なダメージを与えることなく着色さ
れた工程管理用の媒体識別マーク″ＧＭ−１２３”を形
成することができる。
従って、第４図に示すように前記工程管理用の媒体識別
マーク“ＧＭ−１２３”が形成されたディスク基板２１
面の非記録層形成領域２３を例えばカバーホルダ等によ
りマスクしてその他の磁気記録層形成領域２２にスパッ
タリング法等により磁気記録層２５を被着形成すること
により、媒体識別マーク“ＧＭ−１２３”付きの磁気デ
ィスクを容易に製造することが可能となる。
マーク“ＧＭ−１２３”が形成されたディスク基板２１
面の非記録層形成領域２３を例えばカバーホルダ等によ
りマスクしてその他の磁気記録層形成領域２２にスパッ
タリング法等により磁気記録層２５を被着形成すること
により、媒体識別マーク“ＧＭ−１２３”付きの磁気デ
ィスクを容易に製造することが可能となる。
なお、以上の実施例では光照射と熱処理により着色した
工程管理用の媒体識別マークを形成するために、発色性
のポリクロマティクガラスからなるディスク基板を用い
た場合の例について説明したが、本発明はこのような例
に限定されるものではなく、例えば通常のガラス、或い
はセラミック等の脆性なディスク基板面上の磁気記録層
形成領域以外の非記録層形成領域のみに、前記発色性の
ポリクロマティクガラスを被覆したディスク基板を用い
た場合にも同様な効果が得られる。
工程管理用の媒体識別マークを形成するために、発色性
のポリクロマティクガラスからなるディスク基板を用い
た場合の例について説明したが、本発明はこのような例
に限定されるものではなく、例えば通常のガラス、或い
はセラミック等の脆性なディスク基板面上の磁気記録層
形成領域以外の非記録層形成領域のみに、前記発色性の
ポリクロマティクガラスを被覆したディスク基板を用い
た場合にも同様な効果が得られる。
また本実施例ではガラス、或いはセラミック等の脆性な
ディスク基板を用いた磁気記録ディスクの製造の例につ
いて説明したが、同様にガラス、或いはセラミック等の
脆性なディスク基板を用いた光ディスク、光磁気ディス
ク等の製造にも適用可能であり、同様の効果が得られる
。
ディスク基板を用いた磁気記録ディスクの製造の例につ
いて説明したが、同様にガラス、或いはセラミック等の
脆性なディスク基板を用いた光ディスク、光磁気ディス
ク等の製造にも適用可能であり、同様の効果が得られる
。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る記録ディ
スクの製造方法によれば、ガラス、或いはセラミック等
の脆性なディスク基板の所定領域に、該基板に機械的な
ダメージを与えて基板強度を低下させることなく、また
記録層に悪影響を及ぼすことなく、工程管理用の媒体識
別マークを容易に形成することが可能となり、記録ディ
スク製造Ｆの工程管理及び記録ディスクのイふ軸性が著
しく向上する等、実用上優れた効果を奏する。
スクの製造方法によれば、ガラス、或いはセラミック等
の脆性なディスク基板の所定領域に、該基板に機械的な
ダメージを与えて基板強度を低下させることなく、また
記録層に悪影響を及ぼすことなく、工程管理用の媒体識
別マークを容易に形成することが可能となり、記録ディ
スク製造Ｆの工程管理及び記録ディスクのイふ軸性が著
しく向上する等、実用上優れた効果を奏する。
は集光レンズ、ＧＭ−１２３は媒体識別マークをそれぞ
れ示す。
れ示す。
第１図〜第４図は本発明に係る記録ディスクの製造方法
の一実施例を磁気記録ディス クを製造する場合の例で工程順に示す 斜視図及び部分拡大平面図、 第５図は従来の磁気記録ディスクに工程管理用の媒体識
別マークを形成する方法を説 明するための斜視図である。 第１図〜第４図において、 ２１はディスク基板、２２は磁気記録層形成領域、２３
は非記録層形成領域、２４はマーク潜像パターン、３Ｉ
は紫外線ビーム、３２．２１・￥δ日月ｄ某をトｌ惨Ｓ
’１Ｊｒ−７褐３管イレ７−きガラＡ゛を１ｊどら可１
）軒ネ曳４タゴ第１図 ４何芒ｖ１も畷■本ｎＬ別７−７４牙が又Ｔバｊ鶴ｅ耳
すｊ青凶齋水大平面図第３図 今 ノド４６０月、７１ｔｒｉわ乙６会−７゜ノｔう矢ハ・
ハを釘音戸所ｉ宅ζ大づト１ｂ６り第２図
の一実施例を磁気記録ディス クを製造する場合の例で工程順に示す 斜視図及び部分拡大平面図、 第５図は従来の磁気記録ディスクに工程管理用の媒体識
別マークを形成する方法を説 明するための斜視図である。 第１図〜第４図において、 ２１はディスク基板、２２は磁気記録層形成領域、２３
は非記録層形成領域、２４はマーク潜像パターン、３Ｉ
は紫外線ビーム、３２．２１・￥δ日月ｄ某をトｌ惨Ｓ
’１Ｊｒ−７褐３管イレ７−きガラＡ゛を１ｊどら可１
）軒ネ曳４タゴ第１図 ４何芒ｖ１も畷■本ｎＬ別７−７４牙が又Ｔバｊ鶴ｅ耳
すｊ青凶齋水大平面図第３図 今 ノド４６０月、７１ｔｒｉわ乙６会−７゜ノｔう矢ハ・
ハを釘音戸所ｉ宅ζ大づト１ｂ６り第２図
Claims (1)
- ガラス、若しくはセラミックなどの脆性を有するディス
ク基板（２１）上に記録層を形成するに際し、前記基板
（２１）表面の少なくとも記録層形成領域（２２）以外
の表面を物理的処理により着色する発色ガラスにより被
覆する工程と、その発色ガラス表面に選択的な光照射と
熱処理する工程を行い、該選択光照射部分に媒体識別マ
ークを着色形成することを特徴とする記録ディスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32237488A JPH02166685A (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 記録ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32237488A JPH02166685A (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 記録ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02166685A true JPH02166685A (ja) | 1990-06-27 |
Family
ID=18142933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32237488A Pending JPH02166685A (ja) | 1988-12-20 | 1988-12-20 | 記録ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02166685A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310859A (en) * | 1990-04-06 | 1994-05-10 | Mitsubishi Kasei Corporation | Liquid crystalline polyesters and methods for their production |
-
1988
- 1988-12-20 JP JP32237488A patent/JPH02166685A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310859A (en) * | 1990-04-06 | 1994-05-10 | Mitsubishi Kasei Corporation | Liquid crystalline polyesters and methods for their production |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5474873A (en) | Optical recording material and method for producing same | |
| US6309802B1 (en) | Disk medium | |
| US6816330B2 (en) | Method for forming a magnetic pattern in a magnetic recording medium, magnetic recording medium magnetic recording device and photomask | |
| US4925776A (en) | Optical memory element and manufacturing method thereof | |
| JP2000343820A (ja) | 情報記録媒体及び情報記録装置 | |
| JPH02179941A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH01199344A (ja) | 光磁気記録再生方式 | |
| JPH0997482A (ja) | 情報記録再生装置及び露光装置 | |
| CN217606558U (zh) | 光信息存储元件 | |
| JPS59210547A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JP4085300B2 (ja) | 相変化型光ディスク媒体および該媒体の初期化方法 | |
| EP0404951B1 (en) | Optical recording medium and a method of producing the same | |
| JP3156698B2 (ja) | 情報記録媒体の記録再生装置 | |
| JPS62277642A (ja) | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH01159842A (ja) | 光ディスク | |
| JPH05159357A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH06139567A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2002083412A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 | |
| JPS6299932A (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
| JP2002251719A (ja) | 磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、磁気記録媒体及び磁気記録装置、並びにフォトマスク | |
| JP2001052375A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0254450A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH07230632A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPS61292239A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH06176354A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 |