JPH02179941A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば光ディスクや光カードのような大量の
情仰が記録又は再生される光情報記録媒体及びその製造
方法に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、大容量情報記録媒体として、光ディスクや光カー
ドが提唱され、種々の用途への適用が検討されている。

これらの光情報記録媒体はその情報記録面に数ミクロン
ないしサブミクロン程度の微小な信号パターンを形成す
ることにより情報を記録し、その記録された情報を、レ
ーザービーム等の光ビームを照射して、その反射光量の
変化を読取ることにより再生するものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

このような光情報記録媒体の表面には、例えば、その名
称や使用目的、種類等の情報がラベル等に印刷されて表
示されている。ところが、これらの表示は、記録再生装
置の光ヘッドによる記録再生の際支障をきたさないよう
に、上記光情報記録媒体表面の記録再生領域を避けてご
く限られた領域に行われているので、表示内容は量的に
もごく限られたものでしかなかった。

ところで、上記光情報記録媒体は、その情報記録面に上
述したように微小なパターンが形成されており、このパ
ターンの回折効果などにより外観的に美麗なものが多く
、この面上に外観目視により判読可能な文字やイメージ
情報などの模様を描いて、付加価値を高めたいという要
望があった。

本発明は、上記記録再生領域内に、記録再生装置の光ヘ
ッドによる記録再生に支障をきたさず、しかも外観目視
により判読可能な文字やイメージなどの模様を具備した
光情報記録媒体及びその製造方法を提供することを目的
としたものである。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために本発明による光情報記録媒体
は、光ビームによって読み取られる微小な信号パターン
を表面に有する光情報記録媒体において、所定の模様に
対応した巨視的な領域に存在する前記信号パターンが、
他の部分の信号パターンと比較して、その形状及び大き
さの少なくともいずれかが異なっていることにより、前
記模様が前記表面上で視認し得るような構成とされてい
る。

前記信号パターンが凸状又は凹状である場合には、前記
巨視的な領域における凸状の高さ又は凹状の深さが、他
の部分の凸状の高さ又は凹状の深さに対して、１〜３０
０％の範囲でそれぞれ異なっているのが好ましく、ある
いは、前記凸状又は凹状の幅が、他の部分の凸状又は凹
状の幅に対して、１〜５００％の範囲で異なっているこ
とが好ましい。凸状又は凹状の高さの変化又は幅の変化
がそれぞれ１％より小さいと、所定の模様が視認し難＜
、一方、３００％又は５００％よりそれぞれ大きいと、
光ビームによる信号読取りに支障を来すおそれがある。

また、前記凸状又は凹状はトランク直角方向に略三角形
断面あるいは略台形状断面を有するものでよい。

また、前記信号パターンが平面状反射率変化部である場
合には、前記巨視的な領域における前記平面状反射率変
化部の幅が、他の部分の幅に対して、１〜５００％の範
囲で異なっているのが好ましい。この平面状反射率変化
部の幅の変化が１％より小さいと、所定の模様が視認し
難く、一方、５００％より大きいと、光ビームによる信
号読取に支障を来すおそれがある。

また、前記凸状又は凹状を信号パターンとして有する前
記光情報記録媒体を製造するための製造方法は、基板の
一方の面上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光
性樹脂層が形成された基板の面に前記信号パターンに対
応して露光強度を変化させた第１の露光と、前記所定の
模様に対応して露光強度を変化させた第２の露光とを同
時に又はいずれか一方から行う工程と、前記基板を現像
する工程と、現像された前記基板を用いてスタンパを作
成する工程と、前記スタンパを用いて前記光情報記録媒
体のレプリカを作成する工程とをそれぞれ具備する構成
とすることが好ましい。

前記第１の露光及び前記第２の露光は、それぞれの所定
のパターンが形成されている第１のマスク及び第２のマ
スクを用いて行なわれてよい、このとき、第２のマスク
は複数としてもよい。

また、露光用光源と前記基板との間に前記模様に対応し
たパターンの減光手段を設けることによって、あるいは
、前記基板が光透過材料から構成されて前記基板に関し
て露光用光源と反対側に前記模様に対応したパターンの
反射手段を設けることによって、前記第１の露光と前記
第２の露光とを同時に行なうことができる。

上述した製造方法の中で用いることのできるスタンパは
凸状部又は凹状部を有し、前記巨視的な領域に存在する
信号バクーンに対応した前記凸状部又は前記凹状部が、
他の部分の信号パターンに対応した前記凸状部又は前記
凹状部とそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少な
くともいずれかが異なっている。

また、同じく上述の製造方法の中で用いることのできる
フォトマスクは開口部及び／又は暗部を有し、前記巨視
的な領域に存在する信号パターンに対応した前記開口部
又は前記暗部が、他の部分の信号パターンに対応した前
記開口部又は前記暗部とそれぞれ比較して、その形状及
び大きさの少なくともいずれかが異なっている。このよ
うなフォトマスクを用いても前記第１の露光と前記第２
の露光とを同時に行うことができる。

また、前記平面状反射率変化部を信号パターンとして有
する前記光情報記録媒体の製造方法において、基板の一
方の面上に感光性被膜を形成する工程と、前記巨視的な
領域に存在する信号パターンに対応した開口部又は暗部
が、他の部分の信号パターンに対応した開口部又は暗部
にそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少なくとも
いずれかが異なっているフォトマスクを用いて、前記感
光性被膜を露光することにより平面状反射率変化部を形
成する工程とを具備する構成とすることが望ましい。

〔作用〕

所定の模様に対応した巨視的な領域に存在する微小な信
号パターンが、他の部分の信号パターンと比較して、そ
の形状及び大きさのいずれかが異なっていると、前記巨
視的な領域と他の部分との回折効果に差が生じてその巨
視的な領域における反射回折光の強度や色相が他の領域
と異なるようになるので、前記模様が表面上において視
認される。

また、基板に感光性樹脂層を設け、これに凸状又は凹状
を形成するための第１の露光と前記模様を形成するため
の第２の露光とを行なうと、前記模様に対応する巨視的
な領域において存在する前記凸状又は凹状の形状あるい
は大きさが、他の部分と比べて異なるようにできる。ま
た、基板に感光性被膜を形成してから、請求項Ｉ６にお
けるフォトマスクを用いて露光すると、前記巨視的な領
域に形成される平面上反射率変化部の幅が、他の部分の
幅と比べて異なるようにできる。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した光情報記録媒体及びその製造方
法の実施例を図面を参照して説明する。

最初に、第１図に示すような光情報記録媒体として大量
の情報が記録され再生される光カードｌに模様２（本例
では文字「Ｋ」）が形成された例について説明する。

光カード１は一般的に、追加記録のできる追記可能光カ
ードと読み出しだけが行なわれる再生専用カードとに分
類される。前者の追記可能光カードの場合には事前記録
される情報と追加記録される情報とに分けられて記録さ
れ、事前記録としては、例えばトラッキング、クロッキ
ング及びアドレスなどの情報がある。

本実施例は追記可能光カートの場合であって、第１図に
示すような光カード１の平面長手方向に多数のトラッキ
ングトランク３が一定の間隔で直線的に設けられている
。そして、第２図に示すように、このトラッキングトラ
ック３間に存在する領域の中央長手方向にクロックトラ
ック８が直線的に設けられ、このクロックトラック８と
上記トラッキングトラック３との間に１対の記録領域４
が設けられている。更に、上記記録領Ｍ４は事前記録領
域４ａと追加記録領域４ｂとに分けられている。上記事
前記録領域４ａには、例えばアドレス情報などが記録さ
れる。

上述したトラッキングトラック３、クロックトラック８
及び事前記録領域４ａに夫々形成される微小な信号パタ
ーン５は、本実施例ではトラック直角方向に略三角形断
面を有する凸状に形成されている。そして、トラッキン
グトランク３における上記凸状は直線に形成され、クロ
ッキングトランク８と事前記録領域４ａとにおける上記
凸状は、それぞれ所定の長さに断続的に形成されている
。

また、上記追加記録領域４ｂは必要な情報が使用中に書
込めるように平坦となっており、ここに例えばレーザ光
を用いてビットを形成させることができる。この場合、
これらの情報記録を読取る際に凸状のものとピットのよ
うな凹状のものとが混在していても、読取りのだめの光
ビームは同じように散乱するので読取りに支障はない。

第３Ａ図に上記信号パターン５としての上記凸状を断面
的に示すが、凸状１１は上記模様２に対応する領域７に
存在するものであって、例えば幅Ｗ、が３．８μｍ、高
さり、が０，７μｍである。また凸状１２は上記模様２
に対応しない領域６に存在するものであって、例えば幅
Ｗｔが４．０μｍ、高さｈ２が０．８μｍである。なお
、３１は光ビームを反射するための反射被膜である。

上述のように、例えば凸状１１は凸状１２と比較してそ
の幅が５．０％、その高さが１２．５％それぞれ減って
異なるが、上記凸状１１が上記模様２と対応する領域７
に集合的に存在し、また上記凸状１２が上記模様２と対
応しない領域６に集合的に存在する。従って、上記領域
７における反射回折光の強度または色相が上記領域６の
場合と異なり、第１図に示すように模様２例えばｒＫＪ
の文字を視認することができる。

ところで、光カード１の同一の事前記録領域４ａ、同一
のトラッキングトラック３及び同一のクロックトランク
８のそれぞれにおいて、上述のように凸状１１と凸状１
２との三角形断面の高さ及び幅が異なるように存在する
と、上記光カード１を再生した場合にノイズ等の支障が
生じる恐れがあるが、上述の例の場合には事前記録の読
取り、トラッキング及び追加記録とその読取りのいずれ
の場合においても支障なく行うことができた。

更に、本発明者らが検討したところによると、本実施例
の凸状１１の場合、その幅は５００％まで、また、その
高さは３００％までそれぞれ模様２に対応しない領域に
存在する突条１２の幅又は高さに対して異なっても上述
のような読取り、トラッキング等は問題なく行うことが
できた。

また、模様２を視認するために上述の凸状１１の幅と高
さは、それぞれ１％程度異なればよいが、模様２が例え
ば絵画のようなものであれば、これらほど変化しない凸
状が領域７の中に存在したとしても模様２の全体を視認
し得る場合がある。

第３Ｂ図に上記信号パターン５の形状の変形例を示す。

この場合の形状は略台形状断面を有する凹状であり、凹
状１３は上記模様２に対応する領域７に存在するもので
あって、例えば反射被膜３１形成面に開口する幅Ｗ、が
３．２μｍ、深さｄ。

が０，７μｍである。また凹状１４は上記模様２に対応
しない領域６に存在するものであって、例えば幅Ｗ４が
３．５．ｃｒｍ、深さｄ２が０．８μｍである。

この場合も模様２例えばｌ”ＫＪの文字を視認すること
ができ、トラッキング、追加記録及び記録読取りのいず
れも支障なく行うことができた。なお、上記信号パター
ン５が本例の略台形状のような凹状である場合、その断
面形状の幅は１〜５００％まで、その深さは１〜３００
％までそれぞれ変化させることができる。

なお、上述した各形状の変化の程度は、トラッキングト
ラック３の間隔や記録再生装置の光ヘッドから発する光
ビームのスポット径なども考慮に入れる必要がある。

次に、上記模様２が形成された光情報記録媒体、例えば
光カード１を製造する方法を実施例１〜実施例７につい
て説明する。

天ｍ上 第４Ａ図〜第４Ｊ図に本実施例の製造工程Ａ〜Ｊを示し
、この順に製造工程を説明する。なお、工程Ａ−Ｊの各
符号と図面番号の各アルファベントとは対応する。

Ａ、直径１２７龍、厚さ１．４ｍｍのガラス基板２１を
フレオン洗浄して乾燥させた後、フォトレジスト（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製、ＷＡＹＣＯ
ＡＴ［Ｆ］ＨＰＲ２０４）をスピンコード法により乾燥
時の厚みが０．９μｍになるように塗布してから、対流
オープン中で１１０℃、３０分のプリベーキングを行っ
てフォトレジスト層２２を形成した。

Ｂ、　　ｌ−ラフキングトラック３を形成するための幅
３μｍのラインパターンの開口部とアドレス情報記録及
びクロックトランク８のための幅３μｍ、長さ任意のピ
ントパターンの開口部とから成る第１のフォトマスク２
３を用いて、第１の露光を行った。この場合の露光条件
は次の通りであった。

露光機：キヤノン製、ＰＬＡ５０１　Ｆ露光エネルギー
：２６ｍＪ／ｃＪ プリントギャップ＝１０μｍ Ｃ１模様２として、例えばアルファベット「Ｋ」　（第
５図参照）をゴシック体で線幅３Ｉ、大きさ２０鳳自角
に黒く描いた暗部３４を有する第２のフォトマスク２４
を用いて、第５図に示すようにマスク側に露光用光源３
５を配置して第２の露光を行った。その際、ｒＫＪの文
字が所定の位置になるように上記第２のフォトマスク２
４を位置決めした。この場合の露光条件は次の通りであ
った。

露光機：キヤノン製、ＰＬＡ５０１Ｆ 露光エネルギー：　５　ｍ　Ｊ　／　ｃシブリントギャ
ップ＝５０μｍ 上述のように第２の露光を行うことによって、ｒＫＪの
文字に対応する領域７は他の領域６と比べて露光強度が
減ぜられるから、領域７における露光量は領域６の場合
より少なかった。

Ｄ、上記第２の露光を行った上記ガラス基板２１を現像
液に浸漬し、露光された部分のフォトレジストを溶解し
て除去することによって、フォトレジスト層２２上に上
記パターンに対応した凹部１５を形成した。

上記現像後、上記ガラス基板２１について対流オーブン
中で１４０℃、６０分の熱処理を行った。

Ｅ、上記凹部１５が形成された面にスパッタリングによ
って７５０人の厚さのニッケル膜２５を形成して電鋳用
導電膜とし、次にこの面にニッケル層を電着によって形
成してこれを剥離する電鋳を行って、０．６鰭厚のスタ
ンパマスター２６を得た。

Ｆ、このスタンパマスター２６に再びニッケル電鋳を行
ってスタンバマザー２７を得た。

Ｇ、上記スタンパマザー２７に更にニッケル電鋳を行っ
て、凸状部１９を有する０、３ｍｍ厚の成形用スタンバ
２８を得た。

Ｈ１上記成形用スタンパ２８を用いて、レプリカ２９の
基材として０．４ｍｍ厚のポリカーボネートシート（奇
人化成製、パンライト■ＭＲシート）に熱プレス成形し
てレプリカ２９を作成し、上記凹部１５に対応した凹部
５ａが上記レプリカ２９の面上に形成された。なお、こ
のポリカーボネートシートの熱プレス成形面の反対の面
にはシリコン系表面硬化剤によって表面硬化層３０が形
成されている。

上記レプリカ２９の面に形成された上記凹部５ａを触針
式表面粗さ計（ランクテーラーズホブソン製、クリステ
ツブ）を用いて検査したところ、上記ｒＫＪの文字に対
応する領域７に存在する上記凹部５ａの形状は、前述し
た高さり、に対応する深さが０．７μｍ１幅Ｗ！が３．
８μｍの滑らかな三角形断面の凹状であった。そして、
上記ｒＫＪの文字に対応しない領域６に存在する上記凹
部５ａの形状は、深さ（ｈ２）が０．８μｍ、幅Ｗ２が
４．０μｍの同様の三角形断面の凹状であった。また、
レプリカ２９の、全体の反りは長手方向で最大３　ｍｍ
程度であった。また、上記表面硬化層３０には全く損傷
は見られなかった。

■、上記レプリカ２９の上記凹部５ａが形成された面に
、白金、テルル、セレンが原子数比で５ニア５：２０で
ある合金から成る反射被膜３１を、スパッタリングによ
って３６０人の厚さに形成した。

Ｊ、上記レプリカ２９に形成された記録膜３１の面上に
ポリウレタン系接着剤を用いて接着剤層３２を形成し、
これを介して裏打ち基材３３としてＴｉＯ□の含有した
０　、３ｍ園厚さの白色ポリカーボネートシート（奇人
化成製、パンライト■シート）を裏打ち接着した。この
後、このレプリカ２９を５４＋＋ｎＸ８５．５１１−に
打抜き加工することによって光カード１を得た。

なお、第４Ｊ図に示す図面において上方から光が入射す
るように上記光カードｌは使用されるので、上記凹部５
ａはこの場合は三角形断面を有する凸状となった。

また、上記成形用スタンパ２８は、凸状部１９を有して
いるが、上記領域７に対応した部分の上記凸状部１９の
高さ及び幅は、上記領域６に対応した部分の上記凸状部
１９の高さ及び幅にそれぞれ比較して小さく形成されて
おり、それらの１法は上記凸状部１９と対応する上記レ
プリカ２９上の凹部５ａの寸法とほぼ一致していた。

ス對Ｕ壓１ 本実施例では上述の実施例１における工程りの熱処理条
件を１２０℃、３０分に変えた以外は同様の工程Ａ−Ｈ
を経て、レプリカ２９を得た。

このレプリカ２９の面に形成された凹部５ａを実施例１
と同様に検査したところ、ｒＫＪの文字に対応した領域
７に存在する上記凹部５ａの形状は、深さｄ、が０．７
μｍ、上記レプリカ２９面に開口する下辺幅Ｗ、が３．
２μｍ、上辺幅が１，２μｍの台形状の凹状であり、ｒ
ＫＪの文字に対応しない領域６に存在する上記凹部５ａ
の形状は、深さｄ２が０．８＃ｍ、下辺幅Ｗ４が３．５
．ｃａｍ、上辺幅が１．５μｍの台形状の凹状であった
。また、レプリカ２９の反りや表面硬化層３０の状態も
実施例１と同様であった。

上記レプリカ２９を用いて上述の実施例１における工程
１．Ｊと同様の工程を経て光カード１を得た。

ス１」レ− 本実施例では、まずフォトマスク３７を次のようにして
得た。即ち、上述の実施例１の工程Ｂで用いた第１のフ
ォトマスク２３自体をゴシック体で線幅３龍、大きさ２
０龍角にアルファベット「Ｋ」をくり抜いたマスクで覆
った。次に、このような面上にスパッタリングでクロム
膜を光の透過率が９０％に低下するように形成すること
によって、上記第１のフォトマスク２３上にｒＫＪの文
字をした減光ｆｉ３６を設けた。この後、上記「Ｋ」を
くり抜いたマスクを取り去って、フォトマスク３７を得
た。このような減光層３６を減光手段として有するフォ
トマスク３７を用い、第６図に示すようにフォトマスク
側に露光用光源３５を配置して第１の露光を次の条件で
行った。

露光機：キヤノン製、ＰＬＡ５０１Ｆ 露光エネルギー：３０ｍＪ／ｃＩＡ プリントギャップ：１０８ｍ 上記フォトマスク３７を用いて第１の露光と同時に第２
の露光も行なった。この際、上記フォトマスク３７上の
ｒＫＪの文字をした減光層３６によってｒＫＪの文字に
対応した領域７の露光強度が他の領域６に比べて減ぜら
れるから、領域７における露光量は領域６の場合より少
なかった。

以上の点を除けば、上述の実施例１における工程Ａ、Ｂ
、Ｄ−Ｈと同様の工程を経てレプリカ２９を得た。この
レプリカ２９の面に形成された四部５ａを実施例１と同
様に検査したところ、「Ｋ」の文字に対応した領域７に
存在する上記凹部５ａの形状は、深さ（ｈｌ）が０．７
．Ｅｌ　ｍ、幅Ｗ、が３．８μｍの滑らかな三角形断面
の凹状であり、「Ｋ」の文字に対応しない領域６に存在
する上記凹部５ａの形状は、深さ（ｈ２）が０．８ｕｍ
、幅Ｗ＝が４．０μｍの同様の三角形断面の凹状であっ
た。

また、レプリカ２９の反りや表面硬化層３０の状態も実
施例１と同様であった。

上記レプリカ２９を用いて上述の実施例１における工程
■、Ｊと同様の工程を経て光カードｌを得た。

ス１１生± 本実施例では上述の実施例１におけるＡ及びＢの工程が
次のように異なるが、他は同様である工程（ただし、工
程Ｃは省略）を経てレプリカ２９を得た。

即ち、上記工程Ａにおいて用いたガラス基板２１上をゴ
シック体で線幅３層−５大きさ２０ａｍ角のアルファベ
ット「Ｋ」をくり抜いたマスクで覆った。次に、この面
上にスパッタリングでクロム膜を、第７Ａ図に示すよう
にガラス基板２１を通して入射する光の反射率が２０％
となるように形成することによって、上記ガラス基板２
１上に「Ｋ」の文字をした反射膜３９を設けた。次に、
上記ｒＫＪをくり抜いたマスクを取り去ってから、上述
の実施例１の工程Ａと同様にして、上記ガラス基板２１
の上記クロム反射膜３９が形成されていない面上にフォ
トレジスト層２２を形成した。

次に、第７Ｂ図に示すように上記フォトレジスト層２２
が形成されている側に第１のフォトマスク及び露光用光
１ｌＩ３５を配置し、第１の露光を上述の実施例１の工
程Ｂと同様の条件で行った。

上述のようにｒＫＪの文字に対応した反射手段、即ちク
ロム反射膜３９を上記ガラス基板２１の面上に設け、こ
の反対面側から第１の露光を行なって同時に第２の露光
も行なった。この際、第７Ｃ図に示すように上述のｒＫ
Ｊの文字をした反射膜３９によって、第１の露光による
光が反射して「Ｋ」の文字に対応した領域７の露光強度
が他の領域６に比べて増大されるから、領域７における
露光量は領域６の場合より多かった。

以上のようにして得られたレプリカ２９の面に形成され
た凹部５ａを実施例１と同様に検査したところ、ｒＫＪ
の文字に対応した領域７に存在する上記凹部５ａの形状
は、深さ（ｈｌ）が０．８μｍ、幅ｗ１が４．０μｍの
滑らかな三角形断面の凹状であり、ｒＫＪの文字に対応
しない領域６に存在する上記凹部５ａの形状は、深さ（
ｈ２）が０．７μｍ、幅ｗｚ３．８μｍの同様の三角形
断面の凹状であった。また、レプリカ２９の反りや表面
硬化層３０の状態も実施例１と同様であった。

上記レプリカ２９を用いて上述の実施例１における工程
１．Ｊと同様の工程を経て光カードｌを得た。

スｍ 本実施例では上述の実施例１におけるＢの工程が次のよ
うに異なるが、他は同様である工程を経て（ただし、工
程Ｃは省略）レプリカ２９を得た。

即ち、直径１２７龍、厚さ１００μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルムをゴシック体で線幅３鶴、大きさ
２０龍角のアルファベット「Ｋ」をくり抜いたマスクで
覆った。次に、この面上にスパツタリングでクロム膜を
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムを通して入射
する光の反射率が２０％となるように形成することによ
って、上述のフィルム上にｒＫＪの文字をした反射膜４
１を設けた。次に、上記ｒＫＪをくり抜いたマスクを取
り去ってから、これを下敷きフィルム４２とした。

第８図に示すように上記下敷きフィルム４２を上記ガラ
ス基板２１に関して露光用光源３５と反対側に位置させ
、第１の露光を上記第１のマスク２３を用いて上記実施
例１と同様の条件で行った。

上述のようにｒＫＪの文字に対応した反射膜４１を有す
る上記下敷きフィルム４２をガラス基板２１の一方の面
に配置し、その他方の面から第１の露光を行って同時に
第２の露光を行なった。この際、上記実施例４の第７Ｃ
図と同様にして「Ｋ」の文字に対応した領域７における
露光量は領域６の場合より多かった。

以上のようにして得られたレプリカ２９０面に形成され
た凹部５ａを実施例Ｉと同様に検査したところ、ｒＫＪ
の文字に対応した領域７に存在する上記凹部５ａの形状
は、深さ（ｈｌ）が０．８μｍ１幅ｗ１が４．０μｍの
滑らかな三角形断面の凹状であり、ｒＫＪの文字に対応
しない領域６に存在する上記凹部５ａの形状は、深さ（
ｈ２）が０．７μｍ、幅ｗ２が３．８μｍの同様の三角
形断面の凹状であった。また、レプリカ２９の反りゃ表
面硬化Ｎ３０の状態も実施例１と同様であった。

上記レプリカ２９を用いて上述の実施例１における工程
１．Ｊと同様の工程を経て光カード１を得た。

スｌ九ｌ 第９Ａ図〜第９Ｇ図に本実施例の製造工程Ａ′〜Ｇ′を
示しこの順に説明する。

Ａ′、上述したガラス基板２１の一方の面にフォトレジ
ストを塗布し乾燥後、この面に電鋳用導電膜をスパッタ
リングによって形成してから、ニッケルを０．３鰭の厚
さに電鋳した。これによって表面が平滑なスタンパマザ
ー用ニッケル基板４４を得て、これを１０５＋ｎｘ　ｌ
　０５ｍｓに加工した。

Ｂ′、上記ニッケル基板４４をフレオン洗浄し乾燥した
後、フォトレジスト（実施例１と同様のもの）をスピン
コード法により乾燥時の厚みが１．９μｍになるように
塗布してから、実施例１と同様のプリベーキングを行っ
てフォトレジスト層２２を形成した。

Ｇ′、実施例１と同様の第１のフォトマスク２３を用い
て第１の露光を次のような条件で行った。

露光機：ミカサ製マスクアライナーＭＡ−２０露光エネ
ルギー：１８ｍＪ／ｃＪ プリントギャップ：なしくハードコンタクト露光） Ｄ’、実施例１と同様の第２のフォトマスク２４を用い
て第２の露光を次のような条件で行った。

露光機：ミカサ製マスクアライナーＭＡ−２０露光エネ
ルギー：　２　ｍ　Ｊ　／ｃｄプリントギャップ：なし
くハードコンタクト露光） Ｅ′、上記露光の終了したニッケル基板４４を現像液に
浸漬し、実施例１と同様にフォトレジスト層２２上に凹
部１５を形成した。

現像後、対流オーブン中で１４０″Ｃ１６０分の熱処理
を行った。

Ｆ′、上記現像の終了した上記ニッケル基板４４のフォ
トレジストＪｉ５２２が形成された面上で（第９Ｆ図参
照）、次のような条件でアルゴンプラズマエツチングを
行って、フォトレジストとニッケルとを同時にエツチン
グした。

使用機器：他国製作所製ＣＦＳ−８ＥＰ−５５アルゴン
ガス圧＝　５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ印加電圧＝１５０
Ｗ エツチング時間：４時間４５分 上記エツチングによりフォトレジスト層２２の大部分は
除去され、同時にフォトレジスト層２２上に形成された
上記凹部１５と対応して、上記ニッケル基板４４上に凹
部１６が形成された。上述のような凹部１６を有するニ
ッケル基板４４をスタンパマザー４４とした。

Ｇ′、上記マザー４４を用いて、電鋳によって凸状部１
９を有する成形用スタンパ２８を得た。

Ｈ′、上記成形用スタンパ２８によって、実施例１と同
様にしてレプリカ２９を得た。

以上のレプリカ２９の面に形成された凹部５ａを実施例
１と同様に検査したところ、ｒＫＪの文字に対応した領
域７に存在する上記凹部５ａの形状は、深さ（ｈｌ）が
０．７０μｍ、幅Ｗ２が３．８μｍの三角形断面の凹状
であり、ｒＫＪの文字に対応しない領域６に存在する上
記凹部５ａの形状は、深さ（ｈ２）が０．７５．ｕｍ、
幅Ｗ２が４．０　ｐｍの同様の三角形断面の凹状であっ
た。また、レプリカ２９の反りや表面硬化層３０の状態
も実施例１と同様であった。

上記レプリカ２９を用いて上述の実施例１における工程
１．Ｊと同様の工程を経て光カードｌを得た。

ス１１１１ 本実施例は、信号パターン５が平面状反射率変化である
光カードの製造方法であり、第１０Ａ図〜第１０Ｄ図に
製造工程Ａ“〜Ｄ″を示しこの順に説明する。

Ａ“、トラッキングトランク３を形成するための幅３゜
５μｍのラインパターンの開口部とアドレス情報記録及
びクロックトラック８のための幅３．５μｍ、長さ任意
のピットパターンの開口部とを有し、さらにゴシック体
で線幅３ｍ■、大きさ２（Ｉｎ角のアルファベット「Ｋ
」に対応する部分は上記ラインパターンの開口部の幅が
４．０μｍであるフォトマスク４６をＩＣ用フォトマス
ク技術を用いて作製した。

上述のようなフォトマスク４６を感光性被膜４７上にほ
ぼ密着して露光した。

Ｂ″、上記感光性被膜４７を現像して、この感光性被膜
４７上に上述したフォトマスク４６の開口部に対応した
黒化部１８を形成した。この黒化部１８を顕微鏡で観察
すると、上記ｒＫＪの文字に対応した領域７に存在する
黒化部１８の幅Ｗ。

は４μｍであり、上記ｒＫＪの文字に対応しない領域６
に存在する黒化部１８の幅ｗｈは３．５μｍであった。

Ｃ″、上記感光性被膜４７の黒化部１８が形成された面
に白金−テルルーセレン合金膜４９（原子数比５ニア５
：２０）を厚さ３６０人に蒸着した。

Ｄ″、上記感光性被膜４７の両面に透明な接着剤層３２
を形成し、これを介して透明な一対のポリカーボネート
シート４８ａ、４８ｂを接着した。

なお、この場合ポリカーボネートシート４８ｂ及びこれ
に接する接着は透明である必要はない。

以上のような工程を経て光カード１を得た。なお、上記
黒化部１８とそれ以外の非黒化部（第２図における信号
パターン５以外の部分）とは、上記白金−テルル−セレ
ン合金膜４９によって一様に覆われているが、この合金
膜４９はその反射率が１００％ではないので、上記黒化
部１８においては光を吸収する程度が大であり、上記非
黒化部においては光を反射する程度が大である。従って
、上記黒化部１８と上記非黒化部とで光カード１の信号
パターン５である平面状反射率変化部を構成することが
できた。

以上の実施例１〜実施例７において得られた各々の光カ
ードｌについて、追記記録の書き込み及び読取り試験を
次のような条件で実施した。

波長：８３０ｎｍ ビーム径＝４．０μｍ（半値幅） 書込みパワー：１０ｍＷ 書込み時間：２０μｓ 読取りパワー：０．４ｍＷ その結果、追加記録、記録読取り及びトラッキングは全
て支障なく行われ、またｒＫＪの文字に対応する領域７
及び対応しない領域６において上述の試験の結果に差が
生じることはなかった。

また、上記光カード１のラインパターンはいずれの領域
６及び７においても良好なコントラストを形成していた
。そして、領域７における反射回折光の色相が領域６と
異なっているため、上記光カード１の表面上においてｒ
ＫＪの文字を明瞭に視認することができた。

上述のように実施例１では第１の露光及び第２の露光を
行うことによって、所定の事前記録のための信号パター
ン５としての凸状を形成し、更に所定の模様２を光カー
ドｌに形成することができた。そして、上述の成形用ス
タンパ２８を用いて上記光カード１を簡単に複製加工で
きた。また、実施例２では実施例１の場合の現像後の熱
処理条件を変えることによって、上記凸状の形状が変化
しているが、上記試験の結果に差はなかった。また、実
施例３〜実施例５では、第２の露光を第１の露光と同時
に行うことができた。また、実施例６ではエツチングに
よってスタンバマザーをニッケル基板のような金属基板
から直接作ることができた。また、実施例７では信号パ
ターン５として平面状反射率変化部を上述のフォトマス
ク４６を用いて簡単に形成することができた。

なお、例えば、上述の第２の露光を第２のフォトマスク
２４を用いて行う場合、この第２のフォトマスク２４は
１枚に限る必要はなく、複数の元手透過フォトマスクを
用いて多段階に露光することができ、これによって例え
ば複雑な模様２を形成することが可能である。第２の露
光をホログラムにより行うことも可能であり、これによ
ってホログラムイメージの模様２が得られる。また、第
１および第２の露光はレーザー描画装置を用いて行って
もよい。第１の露光はレーザーカッティソング装置で行
ってもよい。

さらに第１の露光は上述した実施例７で用いたフォトマ
スク４６を用いてもよく、この場合第２の露光も同時に
行うことができる。

また、成形用スタンパ２８を用いてレプリカ２９を作成
する方法は、射出成型法や２Ｐ法などによってもよい。

また、本実施例は光カードであったが、他の光情報記録
媒体、例えば光ディスク、レーザービジョンディスクな
どについても適用できる。

また、本発明は本実施例のみに限定されるものではなく
、本発明の技術的思想に基づいて他の変形も可能である
。

〔発明の効果〕

本発明は上述のような構成としているので次に記載する
効果を奏する。

光情報記録媒体の表面上において、所定の模様に対応す
る領域における反射回折光の強度や色相が他の領域と異
なるようになるので、前記模様が表面において視認され
、しかもこの模様を形成したことによる記録再生への影
響はない。

また、上述のような光情報記録媒体は、上記所定の模様
に対応した露光を行うことによって極めて容易に得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３Ｂ図は本実施例の光カードに関するもので
、第１図は光カードの平面図、第２図は第１図に示す光
カードの一部拡大平面図、第３Ａ図は光カードの信号パ
ターンとして形成された三角形断面を有する凸状を拡大
して断面を合せて示した斜視図、第３Ｂ図は同じく信号
パターンの変形例である台形状断面を有する凹状を拡大
して断面を合わせて示した斜視図である。 第４Ａ図〜第１ＯＤ図は、光カードの製造方法の実施例
１〜実施例７に関するもので、第４Ａ図〜第４Ｊ図は実
施例１の工程を示した模式的な側断面図、第５図は実施
例１の工程Ｃにおける第２の露光の状態を示した斜視図
、第６図は実施例３の露光の状態を示した斜視図、第７
Ａ図は実施例４のガラス基板に模様を形成した状態を示
した斜視図、第７Ｂ図は同じく露光の状態を示した斜視
図、第７Ｃ図は第７Ｂ図の■Ｃ−■Ｃ矢視図、第８図は
実施例５の露光の状態を示した斜視図、第９Ａ図〜第９
Ｈ図は実施例６の工程を示した模式的な側断面図、第１
０Ａ図〜第１０Ｄ図は実施例７の工程を示した模式的な
側断面図である。 なお図面に用いた符号において、 １　・・・・−・−・−・−・−・−・−光カード２−
・−・・・−・−・−・・−−一−−模様５−・・・・
・・−・−・・−・−・−・・・−信号パターン７　・
−−−−−一・・−・−・−・−・・−・−模様２に対
応する領域１１．１２・−・−・・・凸状 １３、　１４−−−−・−・凹状 １８−・・−・・・−・・−・・・−１−１黒化部Ｉ９
−・−・−・・・・−・・・・・−・・成形用スタンパ
の凸状部２２　・・・・・・・−・・・−・・−・・−
・フォトレジスト層２３　・−・・・・−・・・・・−
・・・・−・・第１のフォトマスク２４−・・−−−−
−−−・−・−・・・・第２のフォトマスク３７　・・
−・・−・−・・・−・・・・−・減光手段を有するフ
ォトマスク３９−・−・、・・・・・・・・・・・・反
射膜４２−・−・−・・・・−・−・反射膜を有する下
敷きフィルム４６−・・・−・−・−−−−−一・−一
−−−・−フォトマスク４７−・−一−−−−−−・−
・・−−−−−−−一感光性被膜である。 フォトしりスト層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光ビームによって読み取られる微小な信号パターン
   を表面に有する光情報記録媒体において、所定の模様に
   対応した巨視的な領域に存在する前記信号パターンが、
   他の部分の信号パターンと比較して、その形状及び大き
   さの少なくともいずれかが異なっていることにより、前
   記模様が前記表面上で視認し得ることを特徴とする光情
   報記録媒体。 ２、前記信号パターンが凹状又は凸状で構成されること
   を特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。 ３、前記信号パターンが略三角形断面を有する凹状又は
   凸状で構成されることを特徴とする請求項２記載の光情
   報記録媒体。 ４、前記信号パターンが略台形状断面を有する凹状又は
   凸状で構成されることを特徴とする請求項２記載の光情
   報記録媒体。 ５、前記巨視的な領域における凹状の深さ又は凸状の高
   さが、他の部分の凹状の深さ又は凸状の高さに対して、
   １〜３００％の範囲でそれぞれ異なっていることを特徴
   とする請求項２記載の光情報記録媒体。 ６、前記巨視的な領域における凹状又は凸状の幅が、他
   の部分の凹状又は凸状の幅に対して、１〜５００％の範
   囲でそれぞれ異なっていることを特徴とする請求項２記
   載の光情報記録媒体。 ７、前記信号パターンが平面状反射率変化部で構成され
   ることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。 ８、前記巨視的な領域における平面状反射率変化部の幅
   が、他の部分の平面状反射率変化部の幅に対して、１〜
   ５００％の範囲で異なっていることを特徴とする請求項
   ７記載の光情報記録媒体。 ９、請求項２記載の光情報記録媒体の製造に用いられる
   凸状部又は凹状部を有するスタンパにおいて、 前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した前
   記凸状部又は前記凹状部が、他の部分の信号パターンに
   対応した前記凸状部又は前記凹状部とそれぞれ比較して
   、その形状及び大きさの少なくともいずれかが異なって
   いることを特徴とするスタンパ。 １０、請求項２又は７記載の光情報記録媒体の製造に用
   いられる開口部及び／又は暗部を有するフォトマスクに
   おいて、 前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した前
   記開口部又は前記暗部が、他の部分の信号パターンに対
   応した前記開口部又は前記暗部とそれぞれ比較して、そ
   の形状及び大きさの少なくともいずれかが異なっている
   ことを特徴とするフォトマスク。 １１、請求項２記載の光情報記録媒体の製造方法におい
   て、 基板の一方の面上に感光性樹脂層を形成する工程と、 前記感光性樹脂層が形成された基板の面に前記信号パタ
   ーンに対応して露光強度を変化させた第１の露光と、前
   記所定の模様に対応して露光強度を変化させた第２の露
   光とを同時に又はいずれか一方から行う工程と、 前記基板を現像する工程と、 現像された前記基板を用いてスタンパを作成する工程と
   、 前記スタンパを用いて前記光情報記録媒体のレプリカを
   作成する工程とをそれぞれ具備する光情報記録媒体の製
   造方法。 １２、前記信号パターンに対応した開口部又は暗部が形
   成された第１のマスクを用いて前記第１の露光を行ない
   、前記模様に対応したパターンの開口部又は暗部が形成
   された１枚又はそれ以上の第２のマスクを用いて第２の
   露光を行なうことを特徴とする請求項１１記載の製造方
   法。 １３、露光用光源と前記基板との間に前記模様に対応し
   たパターンの減光手段を設けて前記第１の露光と前記第
   ２の露光とを同時に行うことを特徴とする請求項１１記
   載の製造方法。 １４、前記基板が光透過材料から構成され、前記基板に
   関して露光用光源と反対側に前記模様に対応したパター
   ンの反射手段を設けて前記第１の露光と前記第２の露光
   とを同時に行うことを特徴とする請求項１１記載の製造
   方法。 １５、前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応
   した開口部又は暗部が、他の部分の信号パターンに対応
   した開口部又は暗部にそれぞれ比較して、その形状及び
   大きさの少なくともいずれかが異なっているフォトマス
   クを用いて、前記第１の露光と前記第２の露光とを同時
   に行うことを特徴とする請求項１１記載の製造方法。 １６、請求項７記載の光情報記録媒体の製造方法におい
   て、 基板の一方の面上に感光性被膜を形成する工程と、前記
   巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した開口部
   又は暗部が、他の部分の信号パターンに対応した開口部
   又は暗部にそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少
   なくともいずれかが異なっているフォトマスクを用いて
   、前記感光性被膜を露光することにより平面状反射率変
   化部を形成する工程とを具備する光情報記録媒体の製造
   方法。