JPH02168593A - Large screen multicolor display device - Google Patents

Large screen multicolor display device

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JPH02168593A
JPH02168593A JP892002A JP200289A JPH02168593A JP H02168593 A JPH02168593 A JP H02168593A JP 892002 A JP892002 A JP 892002A JP 200289 A JP200289 A JP 200289A JP H02168593 A JPH02168593 A JP H02168593A
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JP
Japan
Prior art keywords
light
thin film
emitting layer
display device
scattering material
Prior art date
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Pending
Application number
JP892002A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Takahashi
高橋 正悦
Seiichi Oseto
大瀬戸 誠一
Yoshiyuki Kageyama
喜之 影山
Koji Deguchi
浩司 出口
Kenji Kameyama
健司 亀山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP892002A priority Critical patent/JPH02168593A/en
Publication of JPH02168593A publication Critical patent/JPH02168593A/en
Priority to US07/751,567 priority patent/US5142192A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、大画面多色表示装置およびそれを構成する多
色薄膜EL素子に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a large screen multicolor display device and a multicolor thin film EL element constituting the same.

[従来の技術] 薄膜EL索子は、螢光体に強い電界を印加した時に生じ
る発光現象を利用するもので、視認性に優れた大画面の
フラットパネルデイスプレィとして応用されつつある。
[Prior Art] Thin film EL devices utilize the light emission phenomenon that occurs when a strong electric field is applied to a phosphor, and are being applied as large-screen flat panel displays with excellent visibility.

薄膜EL索子の代表的な構造は、例えば、第3図に示す
とおり、透明ガラス基板27上に透明電極28、絶縁層
29、発光層30、絶縁層31、金属電極32を積層し
たようなものである。
A typical structure of a thin film EL cable is, for example, as shown in FIG. It is something.

従来の積層型多色薄膜EL素子は、第4図のように、発
光波長特性の異なる複数の発光層、及びそれらをはさむ
絶縁層と電極とを積層した構造からなり、各発光層から
の光が三次元的に混合されて多色発光する。
As shown in Figure 4, a conventional stacked multicolor thin film EL device has a structure in which multiple light emitting layers with different emission wavelength characteristics, an insulating layer and an electrode sandwiching the layers are stacked, and the light emitted from each light emitting layer is are mixed three-dimensionally to emit multicolor light.

透明電極の材料としては、酸化スズと酸化インジウムの
混合物であるI T O(Indiu膳T1n 0xi
de)が一般的に用いられている。しかし、ITOは耐
熱性が悪く、発光層としてアルカリ土類カルコゲン化物
を用いる場合は、基板を高温に加熱する必要があるため
、ITOが高抵抗化あるいは分解してしまうことがある
。このためITOより耐熱性がよいとされている酸化亜
鉛を用いる試みもなされているが、長期にわたる信頼性
に優れたものは得られていない。透明電極の高抵抗化の
問題は電極が長いほど顕著となり、特に大画面デイスプ
レィでは大きな問題となる。
The material for the transparent electrode is ITO (Indium Oxide), which is a mixture of tin oxide and indium oxide.
de) is commonly used. However, ITO has poor heat resistance, and when an alkaline earth chalcogenide is used as a light emitting layer, it is necessary to heat the substrate to a high temperature, which may result in increased resistance or decomposition of ITO. For this reason, attempts have been made to use zinc oxide, which is said to have better heat resistance than ITO, but nothing with excellent long-term reliability has been obtained. The problem of high resistance of transparent electrodes becomes more pronounced as the electrodes become longer, and becomes a particularly serious problem in large-screen displays.

積層型多色薄膜ELでは、透明電極が複数層必要となり
、また発光層、絶縁層を積層する毎に熱的な履歴を重ね
ることになるため、透明電極には高い熱的安定性が要求
される。
Laminated multicolor thin film EL requires multiple layers of transparent electrodes, and the thermal history increases each time a light-emitting layer and an insulating layer are laminated, so the transparent electrodes are required to have high thermal stability. Ru.

大画面表示装置としては、従来から発光ダイオード(L
ED)を画素として用いたもの等が実用化されている。
Conventionally, light-emitting diodes (L
ED) as pixels have been put into practical use.

しかし、LEDを画素に用いた表示装置は素子が比較的
高価であること、素子の位置決めが難しいことなどの理
由で製造コストが高価になるという欠点がある。また青
色発光が実用化していないため、フルカラー化は困難で
ある。その他、プラズマデイスプレィや液晶表示素子等
を画素として大画面多色表示装置を構成する場合にもコ
ストの点で問題がある。一方、大画面多色表示装置の画
素として薄膜エレクトロルミネッセンス素子(以下、薄
膜EL素子と略記する)を用いる可能性もあるが、この
ような目的に適した構造の素子は従来考えられていなか
った。
However, display devices using LEDs as pixels have the disadvantage that manufacturing costs are high because the elements are relatively expensive and positioning of the elements is difficult. Furthermore, since blue light emission has not been put to practical use, it is difficult to achieve full color. In addition, there is also a problem in terms of cost when constructing a large-screen multicolor display device using a plasma display, a liquid crystal display element, or the like as a pixel. On the other hand, it is possible to use thin-film electroluminescent elements (hereinafter abbreviated as thin-film EL elements) as pixels in large-screen multicolor display devices, but an element with a structure suitable for such a purpose had not been considered in the past. .

[発明が解決しようとする課題] 本発明は大画面多色表示装置、およびそれを構成する多
色薄膜EL索子における上記問題点を解決し、高精細で
フルカラー表示が可能な大画面多色表示装置及び、低コ
ストで簡単に精度良く大画面多色表示装置を構成しうる
信頼性にすぐれた多色薄膜EL素子を提供することを目
的としている。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention solves the above-mentioned problems in a large-screen multicolor display device and a multicolor thin film EL string constituting it, and provides a large-screen multicolor display device capable of high-definition, full-color display. It is an object of the present invention to provide a display device and a highly reliable multicolor thin film EL element that can easily and accurately constitute a large screen multicolor display device at low cost.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するための本発明の構成は、(1)薄膜
エレクトロルミネッセンス素子の端面発光部に設けた光
散乱材により画素を形成したことを特徴とする大画面多
色表示装置。
[Means for Solving the Problems] The structure of the present invention to achieve the above object is as follows: (1) A large pixel characterized in that a pixel is formed by a light scattering material provided in an edge emitting part of a thin film electroluminescent element. Screen multicolor display device.

(2)ガラス基板上に金属電極、絶縁層、発光層を順次
積層した薄膜エレクトロルミネッセンス素子を長尺にス
クライプし、端面に光散乱材を設け、さらに上記光散乱
材を設けた長尺の薄膜エレクトロルミネッセンス素子を
多数枚組み合わせたことを特徴とする大画面多色表示装
置。
(2) A long thin film obtained by scribing a thin film electroluminescent device in which a metal electrode, an insulating layer, and a light-emitting layer are sequentially laminated on a glass substrate into a long length, providing a light scattering material on the end face, and further providing the above-mentioned light scattering material. A large-screen multicolor display device characterized by a combination of multiple electroluminescent elements.

(3)発光波長特性の異なる複数の発光層を積層すると
ともに、各発光層をはさんで絶縁層及び金属電極を設け
、さらに散乱により各発光層から光を混合させる光散乱
材を発光層の端面に設けたことを特徴とする請求項(1
)または請求項(2)に記載の大画面多色表示装置用多
色薄膜エレクトロルミネッセンス素子である。
(3) Layering multiple light-emitting layers with different emission wavelength characteristics, providing an insulating layer and a metal electrode between each light-emitting layer, and adding a light scattering material to the light-emitting layer to mix light from each light-emitting layer by scattering. Claim (1) characterized in that it is provided on the end face.
) or a multicolor thin film electroluminescent element for a large screen multicolor display device according to claim (2).

本発明の薄膜EL素子の構成の一例を図面によって説明
する。第1図において1はガラス基板、2.6および1
0は金属電極、3.5.7、および9は絶縁層、4およ
び8は発光層である。11は光を散乱する物質からなる
散乱材であり、発光層4および8、絶縁層5.7および
9、金属電極6および10の一部をエツチングにより除
去した後の部分に設けたものである。金属電極2−6問
および610間に高電圧を印加すると、発光層内で強電
界によりエレクトロルミネッセンス発光が起こる。光は
金属電極で反射され上下方向に漏れずに発光層4および
8の端面だけから矢印のように放出される。散乱材11
に放出された光は乱反射するが、下方に向かう光は下面
の金属電極2により反射されるため、散乱材−1−面に
のみ光が放出される。すなわち、発光層4および8で生
じた光を散乱材11により混合し、基板に対して垂直上
方に4効に取り出すことが可能となる。
An example of the structure of the thin film EL element of the present invention will be explained with reference to the drawings. In Figure 1, 1 is a glass substrate, 2.6 and 1
0 is a metal electrode, 3, 5, 7, and 9 are insulating layers, and 4 and 8 are light emitting layers. Reference numeral 11 denotes a scattering material made of a substance that scatters light, and is provided in a portion after parts of the light emitting layers 4 and 8, the insulating layers 5, 7 and 9, and the metal electrodes 6 and 10 are removed by etching. . When a high voltage is applied between metal electrodes 2-6 and 610, electroluminescence light emission occurs due to a strong electric field within the light emitting layer. The light is reflected by the metal electrode and is emitted only from the end surfaces of the light emitting layers 4 and 8 as shown by the arrows without leaking upward or downward. Scatter material 11
The light emitted to the surface is diffusely reflected, but since the light directed downward is reflected by the metal electrode 2 on the lower surface, the light is emitted only to the scattering material -1- surface. That is, the light generated in the light emitting layers 4 and 8 can be mixed by the scattering material 11 and extracted in four directions perpendicularly upward to the substrate.

上記の構成に於いては、基板上方に光を取り出すため、
基板が必ずしも透明である必要がなく、ガラス基板のか
わりにセラミックス基板等の透明な基板を用いることが
できる。
In the above configuration, in order to extract light above the substrate,
The substrate does not necessarily have to be transparent, and a transparent substrate such as a ceramic substrate can be used instead of a glass substrate.

金属電極2.6および10としてはアルミニウムや銀な
どを用いることができる。また、絶縁層3.5.7およ
び9の材料としてはS io2、Ta205、Y203
等の酸化物、BN、AIN、Si3N4等の窒化物及び
それらの■金膜、CaF2、MgF2等の弗化物、ある
いは5rTi03、PbTi0a等のペロブスカイト型
強誘電体材料を用いることができる。発光層としては、
MnやTbを添加したZnSあるいはCe、、Eu等の
希土類元素を添加したアルカリ土類元素のカルコゲン化
物を用いる。以上のような材料を用いて積層した薄膜E
L素子に光取り出しの散乱材11を形成するために、フ
ォトリソグラフィーにより素子の一部を除去する。次に
エポキシ樹脂などの光散乱材を形成し表示装置が完成す
る。
As the metal electrodes 2.6 and 10, aluminum, silver, etc. can be used. In addition, the materials for the insulating layers 3.5.7 and 9 include S io2, Ta205, Y203
oxides such as, nitrides such as BN, AIN, Si3N4, etc., gold films thereof, fluorides such as CaF2, MgF2, or perovskite type ferroelectric materials such as 5rTi03 and PbTi0a can be used. As a light emitting layer,
ZnS to which Mn or Tb is added or a chalcogenide of an alkaline earth element to which a rare earth element such as Ce or Eu is added is used. Thin film E laminated using the above materials
In order to form the scattering material 11 for light extraction in the L element, a part of the element is removed by photolithography. Next, a light scattering material such as epoxy resin is formed to complete the display device.

次に、上記とは別の構造をもつ薄膜EL素子から構成さ
れる本発明大画面多色表示装置を図面によって説明する
Next, a large-screen multicolor display device of the present invention constructed from thin film EL elements having a structure different from that described above will be explained with reference to the drawings.

第5図は大画面多色表示装置の画素を構成する多数の多
色薄膜EL素子をガラス基板上に形成した様子を示して
いる。51はガラス基板、52は金属電極、絶縁層、発
光波長特性の異なる発光層を順次積層した積層型多色薄
膜EL素子、53.54、及び55は金属電極である。
FIG. 5 shows how a large number of multicolor thin film EL elements constituting pixels of a large screen multicolor display device are formed on a glass substrate. 51 is a glass substrate, 52 is a stacked multicolor thin film EL device in which a metal electrode, an insulating layer, and a light emitting layer having different emission wavelength characteristics are sequentially stacked, and 53, 54, and 55 are metal electrodes.

次に、多色薄膜EL索子を形成したガラス基板を矢印A
およびBで示す点線部分でスクライプし、長尺の端面発
光型多色薄膜EL素子を得る。第6図はスクライプして
得られた薄膜EL索子を上方から見た様子を示している
。取り出し電極を設けるため金属電極は図のようにバタ
ーニングされている。
Next, move the glass substrate on which the multicolored thin film EL cords are formed to the arrow A
and the dotted line portions indicated by B to obtain a long edge-emitting multicolor thin film EL device. FIG. 6 shows a thin film EL cord obtained by scribing, viewed from above. In order to provide an extraction electrode, the metal electrode is patterned as shown in the figure.

第7図はスクライプして得られた薄膜EL索子を矢印A
で示された端面方向から見た素子の断面図を示している
。56.58.59および61は絶縁層、57は第1発
光層、60は第2発光層である。この薄膜EL素子にお
いて金属電極53−54間あるいは54−55間に電圧
を印加すると発光層57あるいは60の端面から強い光
が放出される。端面からの発光輝度は面発光の場合の約
100倍の強度を示す。光は幅約1μmの狭い領域から
放出され、かつ強度も非常に強いため、このままでは表
示装置の画素としての応用には適していない。すなわち
、大画面表示装置の画素として適当な大きさと明るさを
持つ素子を構成するために、光をある程度分散させる必
要がある。第8図はこの目的で画素として素子の端面部
分に光散乱材76を形成した様子を示す。第1及び第2
発光層の端面からそれぞれ放出された発光波長特性の異
なる光は光散乱材内で混合され、混合された光が光散乱
材の表面から放出される。光散乱材は画素内での輝度を
均一化すると共に薄膜EL索子の保護材としての効果も
合わせ持っている。
Figure 7 shows the thin film EL cords obtained by scribing with arrow A.
2 is a cross-sectional view of the element viewed from the end face direction shown in FIG. 56, 58, 59 and 61 are insulating layers, 57 is a first light emitting layer, and 60 is a second light emitting layer. In this thin film EL element, when a voltage is applied between the metal electrodes 53 and 54 or between the metal electrodes 54 and 55, strong light is emitted from the end face of the light emitting layer 57 or 60. The luminance of light emitted from the end face is approximately 100 times higher than that of surface light emission. The light is emitted from a narrow region with a width of about 1 μm, and the intensity is very strong, so it is not suitable for application as a pixel in a display device as it is. That is, in order to construct an element having an appropriate size and brightness as a pixel of a large screen display device, it is necessary to disperse light to some extent. FIG. 8 shows how a light scattering material 76 is formed on the end face portion of the element as a pixel for this purpose. 1st and 2nd
Light having different emission wavelength characteristics emitted from the end faces of the light-emitting layer is mixed within the light scattering material, and the mixed light is emitted from the surface of the light scattering material. The light scattering material not only makes the brightness within the pixel uniform, but also has the effect of protecting the thin film EL string.

以上にようにして作製されたアレイ状の端面発光型層薄
膜EL索子を多数枚組み合わせることで大画面多色表示
装置が完成する。組立の際の素子の位置決めは、多数の
画素がすでに直線状に並んでいるために比較的容易に精
度良く行われる。
A large screen multicolor display device is completed by combining a large number of arrayed edge-emitting layer thin film EL elements produced as described above. Positioning of the elements during assembly is relatively easy and accurate since many pixels are already lined up in a straight line.

上記の構成に於いては、素子の端面から光を取り出す構
成になっているため、基板が必ずしも透明である必要が
なくガラス基板の代わりにセラミックス基板等の不透明
な基板を用いることも可能である。金属電極としては、
AIを用いる。絶縁層としてはSiO2、Ta205、
Y2O3等の酸化物、BN。
In the above configuration, since light is extracted from the end face of the element, the substrate does not necessarily have to be transparent, and an opaque substrate such as a ceramic substrate can be used instead of a glass substrate. . As a metal electrode,
Use AI. As the insulating layer, SiO2, Ta205,
Oxides such as Y2O3, BN.

AIN  S  5i3NiOコ 、 PbTi0  
コ 等のペロブスカイト型強誘電体材料を用いることが
できる。発光層としては、MnやTbを添加したZ n
 S sあるいはCe、Eu等の希土類元素を添加した
アルカリ土類元素のカルコゲン化物を用いる。以上によ
うな材料を用いて積層した多色薄膜EL索子をダイヤモ
ンドスクライバ等によりスクライプし、発光層端面部分
にエポキシ樹脂などからなる光散乱材をモールドにより
形成する。
AIN S 5i3NiO, PbTi0
A perovskite-type ferroelectric material such as Ko can be used. The light-emitting layer is made of Zn doped with Mn or Tb.
A chalcogenide of an alkaline earth element to which S s or a rare earth element such as Ce or Eu is added is used. The multicolored thin film EL cord laminated using the above-mentioned materials is scribed with a diamond scriber or the like, and a light scattering material made of epoxy resin or the like is formed on the end face of the light emitting layer by molding.

[実施例] 以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

実施例1 第1図の構成の素子において、ガラス基板1としてアル
ミノンリケードガラスを用いた。
Example 1 In the device having the configuration shown in FIG. 1, aluminium-non-licade glass was used as the glass substrate 1.

金属電極2.6および10はアルミニウム、絶縁層3お
よび7はAIN、絶縁層5および9はAINと5i02
の積層膜、発光層4はEuを添加したCaS、発光層8
はCeを添加したSrSによりそれぞれ形成した。エポ
キシ樹脂としてはLED封止用樹脂として用いられるア
ラルダイト(主材:XN1233−4A1硬化材:XN
1233−4B、日本チバガイギー社製)に光散乱材(
XN 1234、同社製)を分散させたものを用いた。
Metal electrodes 2.6 and 10 are aluminum, insulating layers 3 and 7 are AIN, insulating layers 5 and 9 are AIN and 5i02
, the light-emitting layer 4 is CaS doped with Eu, and the light-emitting layer 8 is
were formed from Ce-doped SrS. Araldite (main material: XN1233-4A1 hardening material: XN
1233-4B, made by Ciba Geigy Japan) with light scattering material (
A dispersion of XN 1234 (manufactured by the same company) was used.

光取り出し部の金属電極2により光を反射させるため、
また、隣接する素子に光が漏れないように発光層を素子
ごとに分離する必要があるために、リソグラフィー工程
にはリフトオフ法を用いた。このようにして光取り出し
部として直径約ll1lfflの円形開口部を設け、さ
らにこの円形開口部に散乱材として白色のエポキシ樹脂
を形成した。このときエポキシ樹脂は素子の保護材とし
ての役目も果たしている。本実施例の素子によると、各
発光層の端面から放出された光がエポキシ樹脂散乱材に
より散乱され、混合した光が基板の上面に現れた。また
透明電極を用いた素子でみられたような、素子形成後の
電極の高抵抗化は本実施例ではまったく見られなかった
。なお本実施例ではガラス基板を通して光を放出する構
成ではないため、透明なガラス基板の代わりに不透明な
セラミックス基板を用いてもよいことは明らかである。
In order to reflect the light by the metal electrode 2 of the light extraction part,
Furthermore, since it is necessary to separate the light-emitting layer for each element to prevent light from leaking to adjacent elements, a lift-off method was used in the lithography process. In this way, a circular opening having a diameter of about 111ffl was provided as a light extraction section, and a white epoxy resin was further formed as a scattering material in this circular opening. At this time, the epoxy resin also serves as a protective material for the element. According to the device of this example, the light emitted from the end face of each light emitting layer was scattered by the epoxy resin scattering material, and mixed light appeared on the upper surface of the substrate. Further, in this example, no increase in the resistance of the electrode after the device was formed, which was observed in devices using transparent electrodes, was observed. Note that this embodiment does not have a configuration in which light is emitted through the glass substrate, so it is clear that an opaque ceramic substrate may be used instead of the transparent glass substrate.

実施例2 第2図は本発明の他の実施例を示し、上記実施例と11
目7″Qに、ガラス基板12上にアルミニウム金属電極
13.17.21および25、AIN絶縁層14.18
および22、AINとSiO2の積層膜からなる絶縁層
16.20および24、Euを添加したCaSからなる
発光層14、Tbを添加したZ n Sからなる発光層
19、Ceを添加したSrSからなる発光層23を形成
した。隣接した素子に光か漏れるのを防ぐために発光層
を素子ごとに分離した。光取り出し部として直径約la
mの円形開口部を設け、実施例1で用いたものと同じ白
色エポキシ樹脂を用いて散乱材26を形成した。
Embodiment 2 FIG. 2 shows another embodiment of the present invention, which is similar to the above embodiment and 11.
At 7″Q, aluminum metal electrodes 13.17.21 and 25, AIN insulation layer 14.18 are placed on the glass substrate 12.
and 22, insulating layers 16 made of a laminated film of AIN and SiO2, 20 and 24, a light emitting layer 14 made of CaS doped with Eu, a light emitting layer 19 made of ZnS doped with Tb, and a light emitting layer 19 made of SrS doped with Ce. A light emitting layer 23 was formed. The light-emitting layer was separated for each element to prevent light from leaking to adjacent elements. The diameter of the light extraction part is approximately 1.
A circular opening of m was provided, and the scattering material 26 was formed using the same white epoxy resin as that used in Example 1.

実施例3 第7図の形成の素子において、ガラス基板51としてア
ルミノシリケートガラスを用いた。金属電極53.54
および55はアルミニウム、絶縁層56および59はA
IN、絶縁層58および61はAINと5i02の積層
膜、発光層57はEuを添加したC a S s発光層
60はCeを添加したSrSによりそれぞれ形成した。
Example 3 In the device formed as shown in FIG. 7, aluminosilicate glass was used as the glass substrate 51. Metal electrode 53.54
and 55 is aluminum, and insulating layers 56 and 59 are A
The IN and insulating layers 58 and 61 were formed of laminated films of AIN and 5i02, the light emitting layer 57 was formed of Eu-doped CaSs, and the light-emitting layer 60 was formed of Ce-doped SrS.

エポキシ樹脂としては実施例1で用いたものと同じもの
を用いた。また、画素間のクロスト−りを防ぐために、
薄膜EL索子をフォトリソグラフィー工程を用いて画素
毎に分離した。
The same epoxy resin used in Example 1 was used. In addition, to prevent crosstalk between pixels,
The thin film EL cell was separated into pixels using a photolithography process.

本実施例では、ガラス基板の片側だけに薄膜EL素子を
形成しているが、基板の裏側に表側とまったく同様に薄
膜EL素子を形成することも可能であり、これにより画
素の発光輝度が倍加することが考えられる。
In this example, the thin film EL element is formed only on one side of the glass substrate, but it is also possible to form the thin film EL element on the back side of the substrate in exactly the same way as on the front side, thereby doubling the luminance of the pixel. It is possible to do so.

実施例4 第9図は本発明の他の実施例を示し、上記実施例と同様
に、ガラス基板83の表及び裏側にアルミニウム金属電
極84.88.92.93および97、AIN絶縁層8
5.89および94、AINと5iOzの積層膜からな
る絶縁層87.91および96、Euを添加したCaS
からなる発光層86、Tbを添加したZnSからなる発
光層90、Ceを添加したSrSからなる発光層95を
形成した。
Embodiment 4 FIG. 9 shows another embodiment of the present invention. Similar to the above embodiment, aluminum metal electrodes 84, 88, 92, 93 and 97 and an AIN insulating layer 8 are provided on the front and back sides of a glass substrate 83.
5.89 and 94, insulating layers made of laminated films of AIN and 5iOz87.91 and 96, CaS doped with Eu
A light emitting layer 86 made of the above-mentioned material, a light emitting layer 90 made of ZnS doped with Tb, and a light emitting layer 95 made of SrS doped with Ce were formed.

クロストークを防ぐために素子を画素毎に分離した。次
に、実施例3と同様にスクライプし、発光層の端面に散
乱材としてエポキシ樹脂を形成した。
The device was separated into individual pixels to prevent crosstalk. Next, scribing was performed in the same manner as in Example 3 to form an epoxy resin as a scattering material on the end face of the light emitting layer.

[発明の効果] 以上の通り本発明によれば、透明電極を用いていないた
め、電極の高抵抗化のない、長期信頼性に優れた多色薄
膜EL索子が得られる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, since a transparent electrode is not used, a multicolor thin film EL cord having excellent long-term reliability without increasing the resistance of the electrode can be obtained.

また、このEL水素子用いることにより低コストで簡単
に、高精細でフルカラー表示がFl能な大画面多色表示
装置を提供することができる。
Further, by using the EL hydrogen elements, it is possible to easily provide a large-screen multicolor display device capable of high-definition, full-color display at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例の断面図、第2図は本発明の他
の実施例の断面図、第3図は従来の薄膜EL索子、第4
図は従来の多色薄膜EL索子の断面図を示す。 第5図はガラス基板上に形成された多色薄膜EL素子の
斜視図、第6図は多色薄膜EL素子の上面を示した図、
第7図は多色薄膜EL素子の断面図、第8図は多色薄膜
EL素子の端面に光散乱層を形成し、大画面多色表示装
置として組み立てた際の一部を示す図、第9図は実施例
2で用いられた多色薄膜EL素子の断面図を示す図。 1.12,27,33,51,71.83・・・ガラス
基板、52・・・積層型多色薄膜EL素子、 2、口、to、13,17,21,25,32.42,
53.54゜55.73,74,75,84,88,9
2,93.97・・・金属電極、3.5,7,9,14
.1G、18,20,22,24,29゜31.35,
37,39.41,56,58,59,81,85゜1
17.119,9L94.98・・・絶縁層、4.8,
15,19,23,30.3B、40.57.60.8
G。 90.95・・・発光層、 11.26.76・・・光散乱材、 28.34.38・・・透明電極。 第1図 第3図 2′4図 第2図
FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a conventional thin film EL cord.
The figure shows a cross-sectional view of a conventional multicolored thin film EL cord. FIG. 5 is a perspective view of a multicolor thin film EL device formed on a glass substrate, FIG. 6 is a top view of the multicolor thin film EL device,
FIG. 7 is a cross-sectional view of a multicolor thin film EL device, and FIG. 8 is a diagram showing a part of the multicolor thin film EL device when a light scattering layer is formed on the end face and assembled as a large screen multicolor display device. FIG. 9 is a diagram showing a cross-sectional view of the multicolor thin film EL element used in Example 2. 1.12,27,33,51,71.83...Glass substrate, 52...Laminated multicolor thin film EL element, 2, mouth, to, 13,17,21,25,32.42,
53.54゜55.73,74,75,84,88,9
2,93.97...Metal electrode, 3.5,7,9,14
.. 1G, 18, 20, 22, 24, 29°31.35,
37, 39.41, 56, 58, 59, 81, 85゜1
17.119,9L94.98...Insulating layer, 4.8,
15, 19, 23, 30.3B, 40.57.60.8
G. 90.95...Light emitting layer, 11.26.76...Light scattering material, 28.34.38...Transparent electrode. Figure 1 Figure 3 Figure 2'4 Figure 2

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) 薄膜エレクトロルミネッセンス素子の端面発光
部に設けた光散乱材により画素を形成したことを特徴と
する大画面多色表示装置。
(1) A large-screen multicolor display device characterized in that pixels are formed from a light scattering material provided in the edge-emitting portion of a thin-film electroluminescent element.
(2) ガラス基板上に金属電極、絶縁層、発光層を順
次積層した薄膜エレクトロルミネッセンス素子を長尺に
スクライプし、端面に光散乱材を設け、さらに上記光散
乱材を設けた長尺の薄膜エレクトロルミネッセンス素子
を多数枚組み合わせたことを特徴とする大画面多色表示
装置。
(2) A long thin film obtained by scribing a thin film electroluminescent element in which a metal electrode, an insulating layer, and a light-emitting layer are sequentially laminated on a glass substrate into a long length, providing a light scattering material on the end face, and further providing the above-mentioned light scattering material. A large-screen multicolor display device characterized by a combination of multiple electroluminescent elements.
(3) 発光波長特性の異なる複数の発光層を積層する
とともに、各発光層をはさんで絶縁層及び金属電極を設
け、さらに散乱により各発光層から光を混合させる光散
乱材を発光層の端面に設けたことを特徴とする請求項(
1)または請求項(2)に記載の大画面多色表示装置用
多色薄膜エレクトロルミネッセンス素子。
(3) Layering multiple light-emitting layers with different emission wavelength characteristics, providing an insulating layer and metal electrodes between each light-emitting layer, and adding a light-scattering material to the light-emitting layer to mix light from each light-emitting layer by scattering. A claim characterized in that it is provided on an end face (
1) or a multicolor thin film electroluminescent element for a large screen multicolor display device according to claim 1).
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