JPH02169534A - 直鎖状高純度ジグリセリンの製造法 - Google Patents
直鎖状高純度ジグリセリンの製造法Info
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- JPH02169534A JPH02169534A JP63325643A JP32564388A JPH02169534A JP H02169534 A JPH02169534 A JP H02169534A JP 63325643 A JP63325643 A JP 63325643A JP 32564388 A JP32564388 A JP 32564388A JP H02169534 A JPH02169534 A JP H02169534A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は直鎖状高純度ジグリセリンの製造法に関するも
のである。
のである。
ジグリセリンは、多価アルコールのひとつとして化粧品
の保湿剤、増粘剤などに、また、各種の誘導体、なかで
も界面活性剤の原料として多く使われている。
の保湿剤、増粘剤などに、また、各種の誘導体、なかで
も界面活性剤の原料として多く使われている。
C#:来の技術と問題点コ
従来、ジグリセリンはグリセリンの蒸留残査。
アルカリ触媒下に高温でグリセリンを縮合させた反応物
、エピハロヒドリンを水酸化ナトリウムで重合させた反
応物などのジグリセリンの含有率が20〜30%の組成
物を蒸留することによって純度約80%のものを得てい
た。
、エピハロヒドリンを水酸化ナトリウムで重合させた反
応物などのジグリセリンの含有率が20〜30%の組成
物を蒸留することによって純度約80%のものを得てい
た。
しかし、上記のいずれの組成物中のジグリセリンも、そ
の組成物ができる過程における熱重合。
の組成物ができる過程における熱重合。
エピハロヒドリンの反応性の強さなどの理由から環状物
または分岐状のジグリセリンを多く含んだものであり、
直航状のジグリセリンの含有率はせいぜい40〜50%
程度であった。
または分岐状のジグリセリンを多く含んだものであり、
直航状のジグリセリンの含有率はせいぜい40〜50%
程度であった。
例えば、ジグリセリンを脂肪酸エステルなどの界面活性
剤の原料として使用する場合には、M、鎖状ジグリセリ
ンの含有率が高いほど界面活性能が強いことが知られて
おり、環状物またはポリグリセリンのより少ないものが
求められている。
剤の原料として使用する場合には、M、鎖状ジグリセリ
ンの含有率が高いほど界面活性能が強いことが知られて
おり、環状物またはポリグリセリンのより少ないものが
求められている。
[問題点の解決手段]
上記問題点をa意検討した結果、グリセリンの1.2位
の水酸基を適当な保護基により保護されたグリセリンの
アセタール化物(夏)(以下保護グリセリンと略す)と
エピハロヒドリンの反応によりエポキシ化合物(■)に
する、続いてエポキシ化合物(■)とカルボニル化合物
を付加反応により、ジグリセリンのジアセタール化物(
II+)となし、これを加水分解することにより、直鎖
状ジグリセリンが高純度かつ高収率で得られることを見
いだし本発明を完成するに至った。
の水酸基を適当な保護基により保護されたグリセリンの
アセタール化物(夏)(以下保護グリセリンと略す)と
エピハロヒドリンの反応によりエポキシ化合物(■)に
する、続いてエポキシ化合物(■)とカルボニル化合物
を付加反応により、ジグリセリンのジアセタール化物(
II+)となし、これを加水分解することにより、直鎖
状ジグリセリンが高純度かつ高収率で得られることを見
いだし本発明を完成するに至った。
以下に本発明の詳細な説明する6本発明の製造法におけ
る出発原料として使用される保護グリセリンは公知の方
法により酸性触媒下で、グリセリンとカルボニル化合物
の脱水縮合反応により合成される。
る出発原料として使用される保護グリセリンは公知の方
法により酸性触媒下で、グリセリンとカルボニル化合物
の脱水縮合反応により合成される。
保護基として用いられるカルボニル化合物は。
アルデヒド類としては5ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、シクロヘキシルアルデヒド、ベンズアルデヒド
、ナフチルアルデヒドなどが挙げられ、ケトン類として
はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノンなどが挙げられる。
デヒド、シクロヘキシルアルデヒド、ベンズアルデヒド
、ナフチルアルデヒドなどが挙げられ、ケトン類として
はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノンなどが挙げられる。
まず、保護グリセリン(I)とエピハロヒドリンを第4
級オニウム塩を触媒とし、アルカリ金属水酸化物で処理
してエポキシ化合物(II)を得る。
級オニウム塩を触媒とし、アルカリ金属水酸化物で処理
してエポキシ化合物(II)を得る。
ここで用いられる第4級オニウム塩としては。
テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアン
モニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムク
ロリドなどの第4級アンモニウム塩、およびイオン交換
楕脂などがある。
モニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムク
ロリドなどの第4級アンモニウム塩、およびイオン交換
楕脂などがある。
エピハロヒドリンとしては、エビブロモヒドリン、エピ
クロルヒドリンがあるが、工業的にはエピクロルヒドリ
ンの使用が望ましい。
クロルヒドリンがあるが、工業的にはエピクロルヒドリ
ンの使用が望ましい。
アルカリ金属水着化物としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウムなどが挙げられる。
酸化カリウム、水酸化カルシウムなどが挙げられる。
反応は保護グリセリン1モルに対して、1〜10モル、
好ましくは2〜5モルのエピハロヒドリンを用い、0.
001〜0.1モル、 !IPましくは0.01〜0.
05モルの触媒の存在下、1.0〜5.0モル好ましく
は1.0〜3.0モルのアルカリ全翼水酸化物で反応温
度10〜70℃、好ましくは20〜60℃でエポキシ化
反応を行わしめる。
好ましくは2〜5モルのエピハロヒドリンを用い、0.
001〜0.1モル、 !IPましくは0.01〜0.
05モルの触媒の存在下、1.0〜5.0モル好ましく
は1.0〜3.0モルのアルカリ全翼水酸化物で反応温
度10〜70℃、好ましくは20〜60℃でエポキシ化
反応を行わしめる。
ここで用いられるアルカリ金属水酸化物は無水状態で用
いられるのが好ましく、水溶液の使用は目的とするエポ
キシ化合物(■)の反応以外の副反応が顕著となるため
好ましくない、また、この反応は発熱反応であり1反応
温度が70℃を越えた場合に副反応が顕著になるため1
反応温度を70℃以下、好ましくは20〜60℃に制御
するのが効果的である。従って、反応温度を制御するた
めに冷却などの操作を行ってもよいし、また保護グリセ
リンを滴下操作により反応してもよい、あるいは、不活
性な溶媒、例えばヘキサン、トルエン、シクロヘキサン
などを使用してもなんらさしつかえない。
いられるのが好ましく、水溶液の使用は目的とするエポ
キシ化合物(■)の反応以外の副反応が顕著となるため
好ましくない、また、この反応は発熱反応であり1反応
温度が70℃を越えた場合に副反応が顕著になるため1
反応温度を70℃以下、好ましくは20〜60℃に制御
するのが効果的である。従って、反応温度を制御するた
めに冷却などの操作を行ってもよいし、また保護グリセ
リンを滴下操作により反応してもよい、あるいは、不活
性な溶媒、例えばヘキサン、トルエン、シクロヘキサン
などを使用してもなんらさしつかえない。
上記の方法によれば、エポキシ化合物(Im)は90%
以上の収率で得ら九る。
以上の収率で得ら九る。
次に、エポキシ化合物(■)とアルデヒド類あるいはケ
トン類などのカルボニル化合物をルイス酸触媒下反応さ
せてジグリセリンのジアセタール化物([11)となし
、これを酸性触媒下、加水分解することにより直鎖状ジ
グリセリンが高純度かつ高収率で得られる。
トン類などのカルボニル化合物をルイス酸触媒下反応さ
せてジグリセリンのジアセタール化物([11)となし
、これを酸性触媒下、加水分解することにより直鎖状ジ
グリセリンが高純度かつ高収率で得られる。
この[ffで得られるエポキシ化合物([1)を酸性の
触媒の存在下、加水分解しても11!鎖状のジグリセリ
ンを得ることは可能であるが、アセタール基に比ベエポ
キシ基の加水分解が遅いため、副反応が生じ、ii!I
ll状のジグリセリンの純分が80〜90%程度の混合
物しか得られない、しかし1本発明のようにエポキシ基
をアセタール基に変換後加水分薄することより副反応は
押さえられる。
触媒の存在下、加水分解しても11!鎖状のジグリセリ
ンを得ることは可能であるが、アセタール基に比ベエポ
キシ基の加水分解が遅いため、副反応が生じ、ii!I
ll状のジグリセリンの純分が80〜90%程度の混合
物しか得られない、しかし1本発明のようにエポキシ基
をアセタール基に変換後加水分薄することより副反応は
押さえられる。
使用されるカルボニル化合物は、アルデヒド類としては
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、シクロヘキシ
ルアルデヒド、ベンズアルデヒド。
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、シクロヘキシ
ルアルデヒド、ベンズアルデヒド。
ナフチルアルデヒドなどが挙げられ、ケトン類としては
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ンなどが挙げられる。
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ンなどが挙げられる。
また、触媒として使用されるルイス酸は、三フッ化ホウ
素エチルエーテル幻体、四塩化スズ、塩化アルミニウム
、塩化第二鉄が挙げられる。
素エチルエーテル幻体、四塩化スズ、塩化アルミニウム
、塩化第二鉄が挙げられる。
エポキシ化合物(IN)とカルボニル化合物の反応はエ
ポキシ化合物1モルに対して、1〜20モル、好ましく
は2〜10モルのカルボニル化合物を0.001〜0−
1モル好ましくは0.005〜0.05モルのルイス
酸触媒下、反応温110〜80℃、好ましくは20〜6
0℃で行わせしめる。
ポキシ化合物1モルに対して、1〜20モル、好ましく
は2〜10モルのカルボニル化合物を0.001〜0−
1モル好ましくは0.005〜0.05モルのルイス
酸触媒下、反応温110〜80℃、好ましくは20〜6
0℃で行わせしめる。
ここで1反応は無水状態ではほぼ定量的に進行するが、
水分の存在下では副反応が生じるため。
水分の存在下では副反応が生じるため。
エポキシ化合物(■)、カルボニル化合物、触媒は充分
に乾燥したものを用いるのが好ましい。
に乾燥したものを用いるのが好ましい。
こうして得られたジグリセリンのジアセタール化物(I
II)は充分に高純度であるので、そのまま水を加えて
加水分解してもよいし、蒸留などによりさらに積装した
後に、硫酸、塩酸、硝酸などの酸触媒下あるいはイオン
交a梼脂で加水分Mを行ってもさしつかえない。
II)は充分に高純度であるので、そのまま水を加えて
加水分解してもよいし、蒸留などによりさらに積装した
後に、硫酸、塩酸、硝酸などの酸触媒下あるいはイオン
交a梼脂で加水分Mを行ってもさしつかえない。
加水分解は通常50〜100℃の反応UIJ1でほぼ定
量的に進行する。
量的に進行する。
反応混合物から分液あるいは蒸留によりカルボニル化合
物を分別し、イオン交換樹脂などで触媒を除去した後、
脱水することにより高収率で高純度の直鎖状ジグリセリ
ンが得られる。
物を分別し、イオン交換樹脂などで触媒を除去した後、
脱水することにより高収率で高純度の直鎖状ジグリセリ
ンが得られる。
本発明により製造されたジグリセリンは直鎖状ジグリセ
リンからなり、環状ジグワセリン5分岐状ジグリセリン
、ポリグリセリンはほとんど含まれていない。
リンからなり、環状ジグワセリン5分岐状ジグリセリン
、ポリグリセリンはほとんど含まれていない。
以下実施例をもって具体的に説明するが本発明はこの実
施例に限定されるものではない。
施例に限定されるものではない。
なお、以下の記述において「部」と記すのは特に限定し
ないかぎり重渣部のことを示す。
ないかぎり重渣部のことを示す。
[実施例]
実施例 1
攪はん機、温度計、滴下ロート、還流冷却管を備えた反
応容器に、エピクロルヒドリン740部、トリエチルベ
ンジルアンモニウムクロリド4.4部、水着化ナトリウ
ム104部を仕込み1反応温度を30〜40℃に保ちな
がらメチルイソブチルケトングリセリン348部を1.
5時間で滴下した。8I下終了後、そのままの温度で4
,5時間反応を継続した。生成塩は濾過により除去した
。過剰のエピクロルヒドリンを留去した後、123〜1
28℃、6mmHgで減圧熱留して、433部のエポキ
シ化合物を得た。
応容器に、エピクロルヒドリン740部、トリエチルベ
ンジルアンモニウムクロリド4.4部、水着化ナトリウ
ム104部を仕込み1反応温度を30〜40℃に保ちな
がらメチルイソブチルケトングリセリン348部を1.
5時間で滴下した。8I下終了後、そのままの温度で4
,5時間反応を継続した。生成塩は濾過により除去した
。過剰のエピクロルヒドリンを留去した後、123〜1
28℃、6mmHgで減圧熱留して、433部のエポキ
シ化合物を得た。
次に、魔はん機、温度計、滴下ロート、還流冷却管を備
えた反応容器に、メチルイソブチルケトン753部、三
フッ化ホウ素エチルエーテル鉛体2.1?Sを仕込み、
上記エポキシ化合物433部を室温(23℃)で2時間
かけて滴下した。W下時ゆるやかに発熱し、W下終了後
反応温度は30℃に達した。さらに30℃を保ったまま
1時間反応した。続いて、水339部を加えて80〜9
0℃に加温し4時間反応した6反応終了後10%水酸化
ナトリウムにて中和し、分液によりメチルイソブチルケ
トンを分別した後、イオン交eI#脂にて脱塩した。減
圧蒸留により水を留去してジグリヤ92311部を得た
。
えた反応容器に、メチルイソブチルケトン753部、三
フッ化ホウ素エチルエーテル鉛体2.1?Sを仕込み、
上記エポキシ化合物433部を室温(23℃)で2時間
かけて滴下した。W下時ゆるやかに発熱し、W下終了後
反応温度は30℃に達した。さらに30℃を保ったまま
1時間反応した。続いて、水339部を加えて80〜9
0℃に加温し4時間反応した6反応終了後10%水酸化
ナトリウムにて中和し、分液によりメチルイソブチルケ
トンを分別した後、イオン交eI#脂にて脱塩した。減
圧蒸留により水を留去してジグリヤ92311部を得た
。
常法により、トリメチルシリル化して、ガスクロマトグ
ラフィーにて分析した結果、 直航状ジグリセリン 99.2% 分岐状ジグリセリン 0.1% ポリグリセリン 0.7% の組成であり、環状ジグリセリンは検知されなかった・ 実施例 2 攪はん機、温度計、n下ロート、還流冷却管を備えた反
応容器にエピクロルヒドリン740部。
ラフィーにて分析した結果、 直航状ジグリセリン 99.2% 分岐状ジグリセリン 0.1% ポリグリセリン 0.7% の組成であり、環状ジグリセリンは検知されなかった・ 実施例 2 攪はん機、温度計、n下ロート、還流冷却管を備えた反
応容器にエピクロルヒドリン740部。
テトラブチルアンモニウムクロリド5部、水酸化ナトリ
ウム104部を仕込み、反応温度を30〜40℃に保ち
ながら、アセトングリセリン264部を1時間で滴下し
た。?1f下終了後そのままの温度で4.5時間反応を
II!した。生成塩を濾過により除去し、過剰のエピク
ロルヒドリンを留去した後、98〜102℃、6mmH
gにて減圧蒸留して、358部のエポキシ化合物を得た
。
ウム104部を仕込み、反応温度を30〜40℃に保ち
ながら、アセトングリセリン264部を1時間で滴下し
た。?1f下終了後そのままの温度で4.5時間反応を
II!した。生成塩を濾過により除去し、過剰のエピク
ロルヒドリンを留去した後、98〜102℃、6mmH
gにて減圧蒸留して、358部のエポキシ化合物を得た
。
次に、攪はん機、温度計1滴下ロート、還流冷却管を備
えた反応容器に、アセトン552部、四塩化スズ2.1
部を仕込み、上記エポキシ化合物358部を室温(23
℃)で2時間かけて滴下した。a工時ゆるやかに発熱し
1滴下終了後反応湿度は30℃に達した。さらに30℃
を保ったままで1時+m反応を続けた0反応終了後、炭
酸水素ナトリウムにて中和し、アセトンを留去し、続い
て115〜120℃、6mmHHの条件で減圧蒸留によ
りジグリセリンのジアセタール化物443部を得た。
えた反応容器に、アセトン552部、四塩化スズ2.1
部を仕込み、上記エポキシ化合物358部を室温(23
℃)で2時間かけて滴下した。a工時ゆるやかに発熱し
1滴下終了後反応湿度は30℃に達した。さらに30℃
を保ったままで1時+m反応を続けた0反応終了後、炭
酸水素ナトリウムにて中和し、アセトンを留去し、続い
て115〜120℃、6mmHHの条件で減圧蒸留によ
りジグリセリンのジアセタール化物443部を得た。
次に、攪はん機、温度計1滴下ロート、還流冷却管を備
えた反応容器に、上記ジグリセリンのジアセタール化物
443部、水323部−+tiイオン交ma脂23部を
加えて55〜65℃に加温して4時間反応した6反応後
、濾過によりイオン交換樹脂を除去した後、減圧蒸留に
よりアセトンおよび水を留去してジグクセ92292部
を得た。
えた反応容器に、上記ジグリセリンのジアセタール化物
443部、水323部−+tiイオン交ma脂23部を
加えて55〜65℃に加温して4時間反応した6反応後
、濾過によりイオン交換樹脂を除去した後、減圧蒸留に
よりアセトンおよび水を留去してジグクセ92292部
を得た。
常法により、トリメチルシリル化して、ガスクロマトグ
ラフィーにて分析した結果。
ラフィーにて分析した結果。
直航状ジグリセリン 99.8%
分岐状ジグリセリン 0.1%
ポリグリセリン 0.1%
の組成であり、環状ジグリセリンは検知されなかった。
比較例
攪はん機、IL度計重滴下ロート、還流冷却管を備えた
反応容器に、実施例1と同様に合成したエポキシ化合物
180部と0.1%硫酸216部を仕込み、80〜90
℃に加温して4時間反応を続けた。
反応容器に、実施例1と同様に合成したエポキシ化合物
180部と0.1%硫酸216部を仕込み、80〜90
℃に加温して4時間反応を続けた。
反応終了後、10%水酸化ナトリウムで中和し。
分液によりメチルイソブチルケトンを分別した後。
イオン交換樹脂にて脱塩した。減圧蒸留により水を留去
してジグリ士リン132部を得た。
してジグリ士リン132部を得た。
常法により、トリメチルシリル化して、ガスクロマトグ
ラフィーにて分析した結果。
ラフィーにて分析した結果。
直航状ジグリセリン 85.2%
分岐状ジグリセリン 0.1%
環状ジグリセリン 3.6%
ポリグリセリン 11.2%
の組成となり、実施例に咬べて直航状ジグリセリンの純
分は低く、gA産物として環状ジグリセリンやポリグリ
セリンが多く生成していた。
分は低く、gA産物として環状ジグリセリンやポリグリ
セリンが多く生成していた。
以上述べたように1本発明の直鎖状高純度ジグリセリン
の製造法は、高純度、高品質な直鎖状ジグリセリンを得
ることができ、その特性は化粧品原料および界面活性剤
原料として発揮される。
の製造法は、高純度、高品質な直鎖状ジグリセリンを得
ることができ、その特性は化粧品原料および界面活性剤
原料として発揮される。
特許出願人 阪本薬品工業株式会社
代 理 人 増1)亮
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I )で表されるグリセリンのアセタール化物
とエピハロヒドリンを第4級オニウム塩を触媒として、
アルカリ金属水酸化物の存在下反応させて、一般式(I
I)で表されるエポキシ化合物となし、さらにルイス酸
触媒下で、カルボニル化合物と反応させて一般式(III
)で表されるジグリセリンのジアセタール化物とし、続
いて加水分解することを特徴とする直鎖状高純度ジグリ
セリンの製造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1、R_2は水素または炭素数1〜12のアルキ
ル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。) 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1、R_2は水素または炭素数1〜12のアルキ
ル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。) 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1、R_2、R_3、R_4は水素または炭素数
1〜12のアルキル基、アリール基、またはアラルキル
基を示す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63325643A JPH02169534A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 直鎖状高純度ジグリセリンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63325643A JPH02169534A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 直鎖状高純度ジグリセリンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02169534A true JPH02169534A (ja) | 1990-06-29 |
Family
ID=18179122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63325643A Pending JPH02169534A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 直鎖状高純度ジグリセリンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02169534A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006839A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-07 | Kao Corporation | Synthetic lubricating oil |
| JP2007297329A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Nof Corp | ウレタン結合含有ジオール(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
| JP2020196897A (ja) * | 2016-06-30 | 2020-12-10 | 東ソー株式会社 | オニウム塩、ルイス酸化合物、及び活性水素含有化合物を含有する組成物 |
-
1988
- 1988-12-22 JP JP63325643A patent/JPH02169534A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006839A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-07 | Kao Corporation | Synthetic lubricating oil |
| EP0779289A4 (en) * | 1994-08-29 | 1999-06-02 | Kao Corp | SYNTHETIC LUBRICANTS |
| JP2007297329A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Nof Corp | ウレタン結合含有ジオール(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
| JP2020196897A (ja) * | 2016-06-30 | 2020-12-10 | 東ソー株式会社 | オニウム塩、ルイス酸化合物、及び活性水素含有化合物を含有する組成物 |
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