JPH02169561A - ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 - Google Patents
３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法Info
- Publication number
- JPH02169561A JPH02169561A JP32344988A JP32344988A JPH02169561A JP H02169561 A JPH02169561 A JP H02169561A JP 32344988 A JP32344988 A JP 32344988A JP 32344988 A JP32344988 A JP 32344988A JP H02169561 A JPH02169561 A JP H02169561A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- reaction
- acid
- chloride
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｃ産業上の利用分野〕
本発明は式（ｎ）
〔式（ｎ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す、〕 〔式（ｎ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す、〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法に関する。
ロゲン原子を表す、〕 〔式（ｎ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す、〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法に関する。
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類
は、農薬、医薬あるいは染料等の中間原料として有用な
化合物である。
は、農薬、医薬あるいは染料等の中間原料として有用な
化合物である。
従来、ペンゾトリフルオリド類のような、ベンゼン環に
トリフルオロメチル基を有する化合物のクロルスルホン
酸でのクロルスルホニル化反応では、トリフルオロメチ
ル基が分解し、式（Ｉ）（式（ｎ［）中、ＸおよびＹは
それぞれ水素原子またはハロゲン原子を表す、］ で示される副生成物が生成し、収率が低くなることが知
られている。
トリフルオロメチル基を有する化合物のクロルスルホン
酸でのクロルスルホニル化反応では、トリフルオロメチ
ル基が分解し、式（Ｉ）（式（ｎ［）中、ＸおよびＹは
それぞれ水素原子またはハロゲン原子を表す、］ で示される副生成物が生成し、収率が低くなることが知
られている。
そのため、ベンゼン環にトリフルオロメチル基を有する
ペンゾトリフルオリド類のクロルスルホニル化反応にお
いては、発煙硫酸下、クロルスルホン酸を用いて反応を
行い、反応終了後反応液を氷水中に注加することにより
、得られた有機層を有機溶媒で抽出し、実施されている
。
ペンゾトリフルオリド類のクロルスルホニル化反応にお
いては、発煙硫酸下、クロルスルホン酸を用いて反応を
行い、反応終了後反応液を氷水中に注加することにより
、得られた有機層を有機溶媒で抽出し、実施されている
。
例えば、英国特許１２５８５５７号公報では、発煙硫酸
及びクロルスルホン酸との混合液中に、−５０〜８０°
Ｃで原料のペンゾトリフルオリド類を滴下しながら反応
させた後、大量の氷水中に反応液を注加し、過剰の発煙
硫酸およびクロルスルホン酸を分解した後に有機溶媒で
抽出を行う方法が開示されている。
及びクロルスルホン酸との混合液中に、−５０〜８０°
Ｃで原料のペンゾトリフルオリド類を滴下しながら反応
させた後、大量の氷水中に反応液を注加し、過剰の発煙
硫酸およびクロルスルホン酸を分解した後に有機溶媒で
抽出を行う方法が開示されている。
しかしながら、該英国特許の方法では、目的生成物の３
−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類が
、６０〜７０％の低収率でしか得られず、また、例えば
式（ｒＶ） で示されるジフェニルスルホン類の副生成物が約１０％
も副生じてくることがわかった。
−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類が
、６０〜７０％の低収率でしか得られず、また、例えば
式（ｒＶ） で示されるジフェニルスルホン類の副生成物が約１０％
も副生じてくることがわかった。
本発明者らは、前記英国特許の改良方法として、特開昭
６３−１０４９５２号公報には、ペンゾトリフルオリド
類のスルホン化では発煙硫酸を用いて、特定温度範囲で
反応を行い、引続きクロルスルホン酸を特定の温度範囲
で添加し、クロルスルホニルイヒ反応を行い、反応終了
後、反応液を氷水中に注加し目的化合物を得ている。該
公報の方法によりジフェニルスルホン類の副生は、１％
未満となり、また収率も向上した。
６３−１０４９５２号公報には、ペンゾトリフルオリド
類のスルホン化では発煙硫酸を用いて、特定温度範囲で
反応を行い、引続きクロルスルホン酸を特定の温度範囲
で添加し、クロルスルホニルイヒ反応を行い、反応終了
後、反応液を氷水中に注加し目的化合物を得ている。該
公報の方法によりジフェニルスルホン類の副生は、１％
未満となり、また収率も向上した。
しかしながら、該反応は例えば反応式（Ｖ）、で示され
るような平衡反応であることが知られており、反応系中
に硫酸分が少ない方が平衡は右側へ傾き、目的生成物が
収率よく得られていることがわかった。
るような平衡反応であることが知られており、反応系中
に硫酸分が少ない方が平衡は右側へ傾き、目的生成物が
収率よく得られていることがわかった。
該特開昭方法では、８０〜８５％と収率は向上している
ものの、ペンゾトリフルオリド類をまず、発煙硫酸でス
ルホン化を行っているため、クロルスルホン酸を添加し
た時点ですでに硫酸分が存在することになり、反応式（
Ｖ）で示される平衡反応は右側へ傾き難くなっている。
ものの、ペンゾトリフルオリド類をまず、発煙硫酸でス
ルホン化を行っているため、クロルスルホン酸を添加し
た時点ですでに硫酸分が存在することになり、反応式（
Ｖ）で示される平衡反応は右側へ傾き難くなっている。
また、この際、用いる発煙硫酸の使用量は、導入するヘ
ンヅトリフルオリド類に対し、三酸イオウ換算で１．０
〜２．０倍モルを用い、これ以下の使用量では、トリフ
ルオロメチル基の安定化のために好ましくないため、硫
酸分の削減は考え難い。
ンヅトリフルオリド類に対し、三酸イオウ換算で１．０
〜２．０倍モルを用い、これ以下の使用量では、トリフ
ルオロメチル基の安定化のために好ましくないため、硫
酸分の削減は考え難い。
本発明者らは、前記特開昭６３−１０４９５２号公報記
載の方法のような、発煙硫酸でまずスルホン化を行った
後、引続きクロルスルホン酸を用いて、クロルスルホニ
ル化反応を行う方法ではなく、ペンゾトリフルオリド類
を二酸化イオウでスルホン化し、単層した後、得られる
３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類またはスルホン
酸塩類に、塩素化剤を用いてクロルスルホニル化する、
特にハロゲンで核置換されたハロゲノベンシトリフルオ
ロスルホニルクロリド類の工業的製造方法を鋭意検討し
た。
載の方法のような、発煙硫酸でまずスルホン化を行った
後、引続きクロルスルホン酸を用いて、クロルスルホニ
ル化反応を行う方法ではなく、ペンゾトリフルオリド類
を二酸化イオウでスルホン化し、単層した後、得られる
３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類またはスルホン
酸塩類に、塩素化剤を用いてクロルスルホニル化する、
特にハロゲンで核置換されたハロゲノベンシトリフルオ
ロスルホニルクロリド類の工業的製造方法を鋭意検討し
た。
その結果、式（ＩＩＩ）
〔式（Ｉ［Ｉ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子また
はハロゲン原子を表す。〕で示される、トリフルオロメ
チル基が分解してできるクロルカルボニルベンゼン類は
、使用するペンゾトリフルリイド類がスルホン化を受け
、ひとたび３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類にな
ると、通常、スルホン酸類のクロルスルホニル化剤とし
て用いられる、いかなる塩素化剤を用いても、ある特定
温度の範囲では生成せず、その他の副生成物も抑制でき
、目的化合物である３トリフルオロメチルベンゼンスル
ホニルクロリドが収率良く得られることがわかった。
はハロゲン原子を表す。〕で示される、トリフルオロメ
チル基が分解してできるクロルカルボニルベンゼン類は
、使用するペンゾトリフルリイド類がスルホン化を受け
、ひとたび３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類にな
ると、通常、スルホン酸類のクロルスルホニル化剤とし
て用いられる、いかなる塩素化剤を用いても、ある特定
温度の範囲では生成せず、その他の副生成物も抑制でき
、目的化合物である３トリフルオロメチルベンゼンスル
ホニルクロリドが収率良く得られることがわかった。
、さらに、通常、芳香族化合物を三酸化イオウでスルホ
ン化を行う場合には、多量のジフェニルスルホンが副生
ずるため、スルホン抑制剤、例えばピリジン、脂肪酸、
有機過酸化物、酸無水物等、を加え、反応性を緩和し反
応させているが、ペンゾトフルオリド類の場合、ある特
定温度の範囲においてジフェニルスルホンの副生、およ
び過反応によって生じる、ジスルホン化物の副生を抑制
できることがわかった。
ン化を行う場合には、多量のジフェニルスルホンが副生
ずるため、スルホン抑制剤、例えばピリジン、脂肪酸、
有機過酸化物、酸無水物等、を加え、反応性を緩和し反
応させているが、ペンゾトフルオリド類の場合、ある特
定温度の範囲においてジフェニルスルホンの副生、およ
び過反応によって生じる、ジスルホン化物の副生を抑制
できることがわかった。
本発明はこれらの知見に基づき完成されたものである。
本発明は式（Ｉ）
〔式（Ｉ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。〕 で示されるペンゾトリフルオリド類を二酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルヘンゼンスルホン
酸またはスルホン酸塩として単離した後に塩素化剤を反
応させることを特徴とする、式（ｎ） 〔式（ｎ）中、Ｘ、Ｙはそれぞれ水素原子またはハロゲ
ン原子を表す〕で示される３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド類の製造方法である。
ロゲン原子を表す。〕 で示されるペンゾトリフルオリド類を二酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルヘンゼンスルホン
酸またはスルホン酸塩として単離した後に塩素化剤を反
応させることを特徴とする、式（ｎ） 〔式（ｎ）中、Ｘ、Ｙはそれぞれ水素原子またはハロゲ
ン原子を表す〕で示される３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド類の製造方法である。
本発明方法において、二酸化イオウとしては発煙硫酸を
用いても構わない。
用いても構わない。
また、クロルスルホニル化するスルホン酸類の形態は、
スルホン酸塩またはスルホン酸でも構わないが、金属塩
として塩析で得られるスルホン酸塩の方が収率上好まし
い。
スルホン酸塩またはスルホン酸でも構わないが、金属塩
として塩析で得られるスルホン酸塩の方が収率上好まし
い。
本発明の一般的実施態様を示すと以下の通りである。
発煙硫酸をベンゾトリフルオリド類に対し、二酸化イオ
ウ換算で等モル以上、好ましくは１．２〜３．０モル倍
となるように装入し、２０〜８０゛Ｃに温度を維持しな
がら、ペンゾトリフルオリド類を０．５〜３時間かけて
滴下装入し、滴下終了後、同温度にて攪拌を行いスルホ
ン化反応を終了する。
ウ換算で等モル以上、好ましくは１．２〜３．０モル倍
となるように装入し、２０〜８０゛Ｃに温度を維持しな
がら、ペンゾトリフルオリド類を０．５〜３時間かけて
滴下装入し、滴下終了後、同温度にて攪拌を行いスルホ
ン化反応を終了する。
二酸化イオウの使用量は、等モル以下では未反応のペン
ゾトリフルオリド類が残ること、また、３．０モル倍以
上使用した場合には、該スルホン酸または該スルホン酸
塩の結晶が析出し難く、収率が低下するので好ましくな
い。
ゾトリフルオリド類が残ること、また、３．０モル倍以
上使用した場合には、該スルホン酸または該スルホン酸
塩の結晶が析出し難く、収率が低下するので好ましくな
い。
また、使用する発煙硫酸の濃度は、２０％以上が好まし
く、それ未満の場合には硫酸分が多くなり該スルホン酸
類の収率が低下する。
く、それ未満の場合には硫酸分が多くなり該スルホン酸
類の収率が低下する。
さらに、ペンゾトリフルオリド類の滴下装入時、および
滴下終了後の熟成時の反応温度は２０°Ｃ以上８０°Ｃ
以下が好ましい、２０°Ｃ以下ではジフェニルスルホン
類が副生し易くなり、また８０°Ｃ以上では、ペンシト
リフルオライド類のジスルホン化物などの副生が認めら
れ好ましくない。
滴下終了後の熟成時の反応温度は２０°Ｃ以上８０°Ｃ
以下が好ましい、２０°Ｃ以下ではジフェニルスルホン
類が副生し易くなり、また８０°Ｃ以上では、ペンシト
リフルオライド類のジスルホン化物などの副生が認めら
れ好ましくない。
このようにして所定時間保温攪拌することによって得ら
れたスルホン化反応液を、アルカ′、Ｉ土類金属塩また
はアルカリ金属塩の飽和水溶液、好ましくは、塩化ナト
リウム、塩化カリウム、酢酸カリウム、または塩化カル
シウム、などの飽和水溶液に、使用した原料のペンシト
リフルオライド類に対し、金属イオンとして等モル以上
含む飽和水溶？ｆ１．量に江別する。
れたスルホン化反応液を、アルカ′、Ｉ土類金属塩また
はアルカリ金属塩の飽和水溶液、好ましくは、塩化ナト
リウム、塩化カリウム、酢酸カリウム、または塩化カル
シウム、などの飽和水溶液に、使用した原料のペンシト
リフルオライド類に対し、金属イオンとして等モル以上
含む飽和水溶？ｆ１．量に江別する。
塩析してきた３−トリフルオロメチルスルホン酸塩を濾
過器などを用いて濾別し、得られた結晶を乾燥させたの
ち、塩素化剤として、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩
化チオニルまたはクロルスルホン酸を、３−トリフルオ
ロメチルスルホン酸塩に対し、１．０〜３．０モル倍、
好ましくは、１．１〜２．０モル倍用い、１０〜８０℃
、好ましくは２０〜６０°Ｃで混合し、クロルスルホニ
ル化反応を行う。
過器などを用いて濾別し、得られた結晶を乾燥させたの
ち、塩素化剤として、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩
化チオニルまたはクロルスルホン酸を、３−トリフルオ
ロメチルスルホン酸塩に対し、１．０〜３．０モル倍、
好ましくは、１．１〜２．０モル倍用い、１０〜８０℃
、好ましくは２０〜６０°Ｃで混合し、クロルスルホニ
ル化反応を行う。
さらに同温度にて１〜５時間保温攪拌しクロルスルホニ
ル化反応を完結する。
ル化反応を完結する。
反応温度が１０’Ｃ以下では反応速度が遅く、また８０
°Ｃ以上では副反応が発生し易くなり、ジスルホン酸類
等の副生を伴うので好ましくない。
°Ｃ以上では副反応が発生し易くなり、ジスルホン酸類
等の副生を伴うので好ましくない。
また、クロルスルホニル化反応の際、３−トリフルオロ
メチルスルホン＃Ｉ類または、スルホン酸塩類を不活性
溶媒中に装入し、塩素化剤を滴下添加しても構わない。
メチルスルホン＃Ｉ類または、スルホン酸塩類を不活性
溶媒中に装入し、塩素化剤を滴下添加しても構わない。
反応終了後は、反応液を水中に注加し、過剰の塩素化剤
を分解し、水層から分離した有機層を有機溶媒等で抽出
した後、少量の水で水洗し乾燥剤等で乾燥させ、減圧上
有機溶媒を留去して目的生成物の３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド類を得る。
を分解し、水層から分離した有機層を有機溶媒等で抽出
した後、少量の水で水洗し乾燥剤等で乾燥させ、減圧上
有機溶媒を留去して目的生成物の３−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホニルクロリド類を得る。
本発明はこのようにして、４ｏクロル−３−トリフルオ
ロメチルベンゼンスルホニルクロリド、４−ブロモ−３
−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、２
−クロル−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド、２−ブロモ−５−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用できるが、
特に３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド、４−クロル３−トリフルオロメチルベンゼンスルホ
ニルクロリド、２−クロル−５−トリフルオロメチルベ
ンゼンスルホニルクロリドの製造方法として好ましい方
法である。
ロメチルベンゼンスルホニルクロリド、４−ブロモ−３
−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、２
−クロル−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド、２−ブロモ−５−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用できるが、
特に３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド、４−クロル３−トリフルオロメチルベンゼンスルホ
ニルクロリド、２−クロル−５−トリフルオロメチルベ
ンゼンスルホニルクロリドの製造方法として好ましい方
法である。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
実施例１
３０％発煙硫酸５４ｄ （三酸化イオウとしての量０．
４モル）を２００ ｄ四ツロフラスコに装入し、４０°
Ｃに保ちながら、ペンゾトリフルオリド４３．８ｇ（０
，３モル）を１時間を要し滴下した。同温度で２時間保
温攪拌を行った。この反応液を塩化ナトリウム飽和水溶
液２００ ｍに注加し、塩析してきた３−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホン酸ナトリウムをガラスフィルタ
ーを用いて濾別した。
４モル）を２００ ｄ四ツロフラスコに装入し、４０°
Ｃに保ちながら、ペンゾトリフルオリド４３．８ｇ（０
，３モル）を１時間を要し滴下した。同温度で２時間保
温攪拌を行った。この反応液を塩化ナトリウム飽和水溶
液２００ ｍに注加し、塩析してきた３−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホン酸ナトリウムをガラスフィルタ
ーを用いて濾別した。
得られた結晶を減圧上乾燥を行い、この結晶を２００
ｄの四ツロフフラスコにまえもって装入しである６１．
３ｇ（０，４モル）のオキシ塩化リン中に２０°Ｃで添
加し、４０°Ｃでさらに２時間保温攪拌を行った。
ｄの四ツロフフラスコにまえもって装入しである６１．
３ｇ（０，４モル）のオキシ塩化リン中に２０°Ｃで添
加し、４０°Ｃでさらに２時間保温攪拌を行った。
反応終了後、２００Ｉｄの冷水中に反応液を滴下添加し
、得られた有機層をクロロホルム１００ ｄで３回抽出
を行い、さらにクロロホルム層を水２００ ｔｅｌで水
洗した後、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧上溶媒を留
去した後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド４５．４ｇ（純度９９．７ｚ、収率９２．６χ
）を得た。
、得られた有機層をクロロホルム１００ ｄで３回抽出
を行い、さらにクロロホルム層を水２００ ｔｅｌで水
洗した後、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧上溶媒を留
去した後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド４５．４ｇ（純度９９．７ｚ、収率９２．６χ
）を得た。
実施例２
二酸化イオウ３２ｇ（０，４モル）を、２００ ｄの四
ツロフラスコに装入し、液温を２０’Ｃに保ちながら、
２−クロルベンゾトリフルオリド３６．１ｇ（０，２モ
ル）を１時間をかけ滴下したのち、４０゛Ｃで保温攪拌
を行った０反応終了後、ガラスフィルターで濾過し、４
−クロル−３−トリフルオロメチルスルホン酸を得、こ
れを四塩化炭素２００ ｍに溶解し、５００ｄの四つロ
フラスコに装入する。この溶液に８０°Ｃを超えないよ
うに塩化チオニル３５．７ｇ（０，３モル）を加え、滴
下終了後６０°Ｃで２時間保温攪拌を行い、反応を終了
させた。
ツロフラスコに装入し、液温を２０’Ｃに保ちながら、
２−クロルベンゾトリフルオリド３６．１ｇ（０，２モ
ル）を１時間をかけ滴下したのち、４０゛Ｃで保温攪拌
を行った０反応終了後、ガラスフィルターで濾過し、４
−クロル−３−トリフルオロメチルスルホン酸を得、こ
れを四塩化炭素２００ ｍに溶解し、５００ｄの四つロ
フラスコに装入する。この溶液に８０°Ｃを超えないよ
うに塩化チオニル３５．７ｇ（０，３モル）を加え、滴
下終了後６０°Ｃで２時間保温攪拌を行い、反応を終了
させた。
反応液を５００ ｔｓｌの冷水中に注加し、過剰の塩化
チオニルを分解した後、分離した有機層を四塩化炭素１
００ ｄで２回抽出操作を行い、得られた四塩化炭素層
を、水３００ ｄで３回水洗を行った。
チオニルを分解した後、分離した有機層を四塩化炭素１
００ ｄで２回抽出操作を行い、得られた四塩化炭素層
を、水３００ ｄで３回水洗を行った。
塩化カルシウムで四塩化炭素層を乾燥後、減圧下、溶媒
を留去し、４−クロル−３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド５０．６ｇ（純度９９．７Ｘ 。
を留去し、４−クロル−３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド５０．６ｇ（純度９９．７Ｘ 。
収率９０．２χ）を得た。
比較例１
６０１発煙硫酸４０１１１（三酸化イオウとしての量０
．６モル）を３００ 、ｄ四ツロフラスコに装入し６．
４０゛Ｃを保ちなから２−クロルベンゾトリフルオリド
７２．２ｇ（０，４モル）を１時間を要し滴下添加し、
さらに６０°Ｃにて１時間保温攪拌を行った。
．６モル）を３００ 、ｄ四ツロフラスコに装入し６．
４０゛Ｃを保ちなから２−クロルベンゾトリフルオリド
７２．２ｇ（０，４モル）を１時間を要し滴下添加し、
さらに６０°Ｃにて１時間保温攪拌を行った。
次に、クロルスルホン酸１３４ｍ１（２，０モル）を６
０℃を保ちながら添加を行い、同温度にて２時間保温攪
拌を行った。
０℃を保ちながら添加を行い、同温度にて２時間保温攪
拌を行った。
反応終了後、５００．の氷中に反応液を滴下添加し、得
られた有機層をクロロホルム２００ ｄで３回抽出を行
い、さらにこのクロロホルム抽出層を水５００ｄで２回
洗浄した後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を
留去して４−クロル−３−トリフルオロメチルベンゼン
スルホニルクロリド９０．９ｇ（Ｋ度９９．４Ｎ 、収
率８１．ＯＸ）を得た。
られた有機層をクロロホルム２００ ｄで３回抽出を行
い、さらにこのクロロホルム抽出層を水５００ｄで２回
洗浄した後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を
留去して４−クロル−３−トリフルオロメチルベンゼン
スルホニルクロリド９０．９ｇ（Ｋ度９９．４Ｎ 、収
率８１．ＯＸ）を得た。
副成分であるジフェニルスルホンの含有量は０゜４χで
あった。
あった。
比較例２
６０℃発埋硫酸２０ｄ （二酸化イオウとしての量０．
３モル）を２００ ｄ四ツロフラスコに装入し、さらに
クロルスルホン酸６７ｄ（Ｉ，０モル）を１５°Ｃ以下
に保持し１時間を要し滴下添加を行った。ざらに０℃ま
で冷却後、ペンゾトリフルオリド２９．２ｇ（０，２モ
ル）を２時間を要し滴下添加した後、５〜１０“Ｃの温
度を保ちながら２時間攪拌を行った。
３モル）を２００ ｄ四ツロフラスコに装入し、さらに
クロルスルホン酸６７ｄ（Ｉ，０モル）を１５°Ｃ以下
に保持し１時間を要し滴下添加を行った。ざらに０℃ま
で冷却後、ペンゾトリフルオリド２９．２ｇ（０，２モ
ル）を２時間を要し滴下添加した後、５〜１０“Ｃの温
度を保ちながら２時間攪拌を行った。
反応終了後、反応液を５００ｇの水中に１時間をかけ滴
下添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン２００
ｍで４回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水５００
ｄで洗浄し、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶
媒を留去し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド３５．１ｇ（純度９０．３χ、収率６５．１
χ）を得た。また副生成物のジフェニルスルホンの含有
量は９，２χであった。
下添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン２００
ｍで４回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水５００
ｄで洗浄し、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶
媒を留去し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド３５．１ｇ（純度９０．３χ、収率６５．１
χ）を得た。また副生成物のジフェニルスルホンの含有
量は９，２χであった。
本発明を実施することにより、副生物のジフェニルスル
ホン類、ジスルホン化物類等の生成の抑制により、高純
度且つ、高収率で目的化合物を得ることができる。
ホン類、ジスルホン化物類等の生成の抑制により、高純
度且つ、高収率で目的化合物を得ることができる。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式（ I ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または
ハロゲン原子を表す。〕 で示されるベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン
酸またはスルホン酸塩として単離した後に塩素化剤と反
応させることを特徴とする、式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式（II）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法 ２、スルホン化反応を２０〜８０℃で行う請求項１記載
の製造方法。 ３、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸をアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩として単離した後、塩
素化剤と反応させる請求項１記載の製造方法。 ４、塩素化剤が、塩化チオニル、オキシ塩化リン、クロ
ルスルホン酸、五塩化リンである請求項１記載の製造方
法。 ５、クロルスルホニル化反応を、１０〜８０℃で行う請
求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32344988A JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32344988A JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02169561A true JPH02169561A (ja) | 1990-06-29 |
| JP2590246B2 JP2590246B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=18154794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32344988A Expired - Fee Related JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590246B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003064380A1 (en) * | 2002-01-29 | 2003-08-07 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Process for production of trifluoromethylbenzenesulfonyl chlorides |
| DE10340830A1 (de) * | 2003-09-04 | 2005-04-07 | Schülke & Mayr GmbH | Verbesserte mikrobizide Zusammensetzung auf Basis von Formaldehyd-Depotverbindungen und Antioxidantien |
| CN102336689A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-02-01 | 天津市筠凯化工科技有限公司 | 4-氯-3-(三氟甲基)苯磺酰氯的制备及其精制方法 |
| CN104341326A (zh) * | 2013-08-08 | 2015-02-11 | 天津诺维康生物技术有限公司 | 2-取代基-6-三氟甲基苯磺酰氯的制备方法 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP32344988A patent/JP2590246B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003064380A1 (en) * | 2002-01-29 | 2003-08-07 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Process for production of trifluoromethylbenzenesulfonyl chlorides |
| DE10340830A1 (de) * | 2003-09-04 | 2005-04-07 | Schülke & Mayr GmbH | Verbesserte mikrobizide Zusammensetzung auf Basis von Formaldehyd-Depotverbindungen und Antioxidantien |
| CN102336689A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-02-01 | 天津市筠凯化工科技有限公司 | 4-氯-3-(三氟甲基)苯磺酰氯的制备及其精制方法 |
| CN104341326A (zh) * | 2013-08-08 | 2015-02-11 | 天津诺维康生物技术有限公司 | 2-取代基-6-三氟甲基苯磺酰氯的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2590246B2 (ja) | 1997-03-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3814696B2 (ja) | 芳香族またはヘテロ芳香族スルホニルハライド類の製造方法 | |
| GB2135666A (en) | Preparation of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride and 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone | |
| JP2590246B2 (ja) | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 | |
| CA2019071A1 (en) | Process for the preparation of aromatic sulfonyl chlorides | |
| JPH02108661A (ja) | 芳香族スルホニルクロライド類の製造方法 | |
| JP4263783B2 (ja) | 酸化による２−カルボキシ−５−ニトロベンゼンスルホン酸およびその塩の製造方法 | |
| EP0094821A1 (en) | Process for the nucleophilic substitution of unactivated aromatic and heteroaromatic substrates | |
| JPH0244303B2 (ja) | ||
| JP3704166B2 (ja) | ４−アルキル−３−クロロアルキルスルホニルベンゼンの製造方法 | |
| JPH04257558A (ja) | ４，４’−チオビスベンゼンチオールを製造する方法 | |
| JP2637202B2 (ja) | ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 | |
| CA2301194C (en) | Method for the production of 3-isopropyl-1h-2,1,3-benzothiadiazine-4(3h)-one-2,2-dioxide | |
| JPS6317058B2 (ja) | ||
| JPS60156662A (ja) | Ｐ，ｐ′−オキシビス（ベンゼンスルホニルクロライド）の製造方法 | |
| EP0151835B1 (en) | Process for producing pentachloronitrobenzene from hexachlorobenzene | |
| RU2158257C1 (ru) | Способ получения 4,4'-дихлордифенилсульфоксида | |
| JPS63104952A (ja) | ３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 | |
| JP2648346B2 (ja) | ハロゲノイサト酸無水物の製法 | |
| JP3837761B2 (ja) | ハロベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 | |
| JP2588580B2 (ja) | ２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホニルクロライド及び４−クロロ−３−ニトロベンゼンスルホニルクロライドの製造方法 | |
| CA1205491A (en) | Process for the preparation of 4- chlorobenzenesulfonyl chloride | |
| JPS6029703B2 (ja) | ４，４′−ジクロロジフエニルスルホンの製造方法 | |
| JPH03227974A (ja) | キノリン―８―スルホン酸の製造方法 | |
| JPH0269454A (ja) | ４−（フェニルチオ）ベンゼンスルホン酸の製法 | |
| CS219703B1 (cs) | Způsob výroby aromatických sulfonylchloridů |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |