JPH021716A - 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 - Google Patents
不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物Info
- Publication number
- JPH021716A JPH021716A JP63335702A JP33570288A JPH021716A JP H021716 A JPH021716 A JP H021716A JP 63335702 A JP63335702 A JP 63335702A JP 33570288 A JP33570288 A JP 33570288A JP H021716 A JPH021716 A JP H021716A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unsaturated polyester
- component
- vinyl ether
- unsaturated
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 title claims abstract description 74
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 55
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 12
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 11
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 claims description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 abstract description 21
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 abstract description 13
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 abstract description 13
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 abstract description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- FOWNZLLMQHBVQT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-[2-(2-ethenoxypropoxy)propoxy]propane Chemical compound C=COCC(C)OCC(C)OCC(C)OC=C FOWNZLLMQHBVQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000005510 radiation hardening Methods 0.000 abstract 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 17
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 16
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 13
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 vinyl ether compound Chemical class 0.000 description 8
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 5
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)CO SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYONOYYDEFODAJ-UHFFFAOYSA-N 2-(1-Aziridinyl)ethanol Chemical compound OCCN1CC1 VYONOYYDEFODAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOOBDAVNHSOIDB-UHFFFAOYSA-N (2,3-dichlorobenzoyl) 2,3-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC=CC(C(=O)OOC(=O)C=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl BOOBDAVNHSOIDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDLGGYYBMQTCLG-UHFFFAOYSA-N (4-bromobenzoyl) 4-bromobenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 NDLGGYYBMQTCLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- LUYHWJKHJNFYGV-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanato-3-phenylbenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1N=C=O LUYHWJKHJNFYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxy)butane Chemical compound C=COCCCCOC=C MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-[2-(2-ethenoxyethoxy)ethoxy]ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOCCOC=C UEIPWOFSKAZYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHOUKKVJOPQVJM-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO KHOUKKVJOPQVJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTUDGPVTCYNYLK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylglutaric acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)CCC(O)=O BTUDGPVTCYNYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCC)OCC1CO1 HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUHQIGLHYXLKAE-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylglutaric acid Chemical compound OC(=O)CC(C)(C)CC(O)=O DUHQIGLHYXLKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNRKUCSCGGPAQC-UHFFFAOYSA-N 4-(2-aminoacetyl)oxybutyl 2-aminoacetate Chemical compound NCC(=O)OCCCCOC(=O)CN DNRKUCSCGGPAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010428 baryte Substances 0.000 description 1
- 229910052601 baryte Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960002799 stannous fluoride Drugs 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/025—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
- C08F299/0478—Copolymers from unsaturated polyesters and low molecular monomers characterised by the monomers used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、液状の放射線硬化性組成物、詳しくは、不飽
和ポリエステル成分を、少なくとも、二個のビニルエー
テル基を含有る、化合物と組合わせて含有させた塗料組
成物に関る、。
和ポリエステル成分を、少なくとも、二個のビニルエー
テル基を含有る、化合物と組合わせて含有させた塗料組
成物に関る、。
(従来の技術)
不飽和ポリエステルを含有る、放射線硬化性塗料組成物
の用途は、不飽和ポリエステルを含有る、公知の組成物
の、空気中における。放射線による硬化の速度と、放射
線による硬化度とによって制限されている。例えば、ス
チレンを用いて硬化させる公知の不飽和ポリエステルの
液状フィルムは、硬化させる為には、一般に10〜20
メガラドの線量の電離放射線(電子ビーム)を必要とし
、または化学線(紫外光)を用いて硬化る、際には。
の用途は、不飽和ポリエステルを含有る、公知の組成物
の、空気中における。放射線による硬化の速度と、放射
線による硬化度とによって制限されている。例えば、ス
チレンを用いて硬化させる公知の不飽和ポリエステルの
液状フィルムは、硬化させる為には、一般に10〜20
メガラドの線量の電離放射線(電子ビーム)を必要とし
、または化学線(紫外光)を用いて硬化る、際には。
湿潤フィルム表面から約4インチの距離に位置る、。2
00ワット/インチで作動る、中圧水銀ランプの紫外光
(UV)にさらした場合、一般に、5〜10フィート/
分/ランプの速度で硬化る、。また。
00ワット/インチで作動る、中圧水銀ランプの紫外光
(UV)にさらした場合、一般に、5〜10フィート/
分/ランプの速度で硬化る、。また。
かような公知の組成物は1表面の硬化特性に欠陥が見ら
れる傾向がある。
れる傾向がある。
本発明の主な目的は、不飽和のポリエステルポリマーと
不飽和のポリエステルオリゴマーに基づく液状組成物の
放射線硬化性を改良る、ことである。本発明の他の目的
は以下の説明で明らかになるであろう。
不飽和のポリエステルオリゴマーに基づく液状組成物の
放射線硬化性を改良る、ことである。本発明の他の目的
は以下の説明で明らかになるであろう。
(発明の要旨)
本発明は、(A)不飽和ポリエステルポリマー不飽和ポ
リエステルオリゴマーまたはそれらの混合物を包含る、
不飽和ポリエステル成分と、(B)上記不飽和ポリエス
テル成分とは独立して存在る、か、または該不飽和ポリ
エステル成分の構造に組込まれて存在る、非重合で共硬
化性のビニルエーテル成分とを含有し、該ビニルエーテ
ル成分が。
リエステルオリゴマーまたはそれらの混合物を包含る、
不飽和ポリエステル成分と、(B)上記不飽和ポリエス
テル成分とは独立して存在る、か、または該不飽和ポリ
エステル成分の構造に組込まれて存在る、非重合で共硬
化性のビニルエーテル成分とを含有し、該ビニルエーテ
ル成分が。
1分子当り平均して少な(とも2個のビニルエーテル基
を有る、。液状放射線硬化性組成物に関る、。
を有る、。液状放射線硬化性組成物に関る、。
また本発明は8本発明の液状放射線硬化性組成物のフィ
ルムを基材に塗布し、このフィルムを。
ルムを基材に塗布し、このフィルムを。
電離放射線および/または紫外光にさらすことよって、
該組成物を硬化させて、フィルムの厚み全体に渡って不
粘着状態にる、ことを包含る、塗装方法に関る、。
該組成物を硬化させて、フィルムの厚み全体に渡って不
粘着状態にる、ことを包含る、塗装方法に関る、。
(発明の構成)
本発明の組成物は、液体状であり、電子ビーム放射線の
ような電離放射線または紫外光(UV)のような化学線
を加えることによって硬化させることができる。該組成
物は、ロール塗布法、カーテン塗布法、ドクターブレー
ド塗布法および/または吹付は塗布法のような通常の塗
料塗布技術を利用して、基材に塗布る、ことができる。
ような電離放射線または紫外光(UV)のような化学線
を加えることによって硬化させることができる。該組成
物は、ロール塗布法、カーテン塗布法、ドクターブレー
ド塗布法および/または吹付は塗布法のような通常の塗
料塗布技術を利用して、基材に塗布る、ことができる。
一般に。
本発明の組成物は、25°Cにおいて、200〜20,
000センチポイズ(cp) 、 好ましくは200
〜4,000 cpの粘度を有る、。さらに4本発明の
液状組成物中に、不飽和ポリエステル成分と共に存在る
、ビニルエーテル成分の不飽和基は、不飽和ポリエステ
ル成分の主鎖のエチレン性不飽和基による硬化反応(架
橋反応)に利用できる。液状放射線硬化性組成物の不飽
和ポリエステル成分は、不飽和のポリエステル樹脂を包
含している。不飽和(エチレン性不飽和基を有る、)ポ
リエステル樹脂は、不飽和のポリエステルポリマー、不
飽和のポリエステルオリゴマーまたはこれらの混合物で
あってもよい。例えば、不飽和のポリカルボン酸もしく
は酸無水物と多価アルコールとの反応による不飽和ポリ
エステルの調製法は、当該技術分野ではよく知られてい
る。不飽和ポリエステルの調製法には。
000センチポイズ(cp) 、 好ましくは200
〜4,000 cpの粘度を有る、。さらに4本発明の
液状組成物中に、不飽和ポリエステル成分と共に存在る
、ビニルエーテル成分の不飽和基は、不飽和ポリエステ
ル成分の主鎖のエチレン性不飽和基による硬化反応(架
橋反応)に利用できる。液状放射線硬化性組成物の不飽
和ポリエステル成分は、不飽和のポリエステル樹脂を包
含している。不飽和(エチレン性不飽和基を有る、)ポ
リエステル樹脂は、不飽和のポリエステルポリマー、不
飽和のポリエステルオリゴマーまたはこれらの混合物で
あってもよい。例えば、不飽和のポリカルボン酸もしく
は酸無水物と多価アルコールとの反応による不飽和ポリ
エステルの調製法は、当該技術分野ではよく知られてい
る。不飽和ポリエステルの調製法には。
バッチ法と連続法がある。本願明細書で用いる“不飽和
ポリエステル″という用語は、乾性油変性アルキドのよ
うな不飽和アルキド樹脂とは区別る、。
ポリエステル″という用語は、乾性油変性アルキドのよ
うな不飽和アルキド樹脂とは区別る、。
本発明の組成物に用いられる不飽和ポリエステルは7通
常、エチレン性不飽和のカルボン酸と有機多価アルコー
ル(有機ポリオール)とのエステル化反応による生成物
である。通常、少なくとも酸官能基が2の不飽和カルボ
ン酸、詳しくはジカルボン酸もしくはその酸無水物が出
発反応物として利用、される。不飽和ジカルボン酸およ
び酸無水物の例には、マレイン酸、無水マレイン酸、フ
マル酸およびイタコン酸が含まれる。無水マレイン酸は
、比較的安価であるので、不飽和ポリエステル樹脂の調
製に望ましいジカルボン酸成分である。
常、エチレン性不飽和のカルボン酸と有機多価アルコー
ル(有機ポリオール)とのエステル化反応による生成物
である。通常、少なくとも酸官能基が2の不飽和カルボ
ン酸、詳しくはジカルボン酸もしくはその酸無水物が出
発反応物として利用、される。不飽和ジカルボン酸およ
び酸無水物の例には、マレイン酸、無水マレイン酸、フ
マル酸およびイタコン酸が含まれる。無水マレイン酸は
、比較的安価であるので、不飽和ポリエステル樹脂の調
製に望ましいジカルボン酸成分である。
しかし、マレイン酸エステルは、フマル酸エステル(す
なわち、マレイン酸のトランス異性体であるフマル酸由
来のエステル)程容易には、ビニルエーテルなどの単量
体と、共に重合しない、したがって、フマル酸エステル
は9本発明の組成物用の不飽和ポリエステルの調製に好
ましいものである。
なわち、マレイン酸のトランス異性体であるフマル酸由
来のエステル)程容易には、ビニルエーテルなどの単量
体と、共に重合しない、したがって、フマル酸エステル
は9本発明の組成物用の不飽和ポリエステルの調製に好
ましいものである。
本発明の組成物の不飽和ポリエステルは、必要に応じて
、ポリカルボキシル成分の一部分として飽和のポリカル
ボン酸を利用して調製る、こともできる。しかし9本発
明に用いる好ましい不飽和ポリエステル樹脂は、典型的
には、不飽和ポリカルボン酸もしくはその酸無水物と多
価アルコール成分のみを用いて調製される。任意に使用
できる不飽和ポリカルボン酸の例には、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、トリメルト酸、テトラヒドロ
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラクロルフタル
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、コハク酸
、グルタル酸、マロン酸、ピメリン酸、スペリン酸、2
.2−ジメチルコハク酸。
、ポリカルボキシル成分の一部分として飽和のポリカル
ボン酸を利用して調製る、こともできる。しかし9本発
明に用いる好ましい不飽和ポリエステル樹脂は、典型的
には、不飽和ポリカルボン酸もしくはその酸無水物と多
価アルコール成分のみを用いて調製される。任意に使用
できる不飽和ポリカルボン酸の例には、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、トリメルト酸、テトラヒドロ
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラクロルフタル
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、コハク酸
、グルタル酸、マロン酸、ピメリン酸、スペリン酸、2
.2−ジメチルコハク酸。
3.3−ジメチルグルタル酸および2.2−ジメチルグ
ルタル酸が含まれる。勿論、上記酸類の酸無水物もまた
。存在る、場合、利用る、ことができる。
ルタル酸が含まれる。勿論、上記酸類の酸無水物もまた
。存在る、場合、利用る、ことができる。
不飽和ポリエステル樹脂の調製に適切な有機ポリオール
の例には、ジエチレングリコール、エチレングリコール
、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリトリトール、ソリビトール、1.6−ヘ
キサンジオール。
の例には、ジエチレングリコール、エチレングリコール
、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリトリトール、ソリビトール、1.6−ヘ
キサンジオール。
1.4−シクロヘキサンジオール、1.4−シクロヘキ
サンジメタツール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)
シクロヘキサンおよび2.2−ジメチル−3−ヒドロキ
シプロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピ
オネートが含まれる。有機ポリオールとしては。
サンジメタツール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)
シクロヘキサンおよび2.2−ジメチル−3−ヒドロキ
シプロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピ
オネートが含まれる。有機ポリオールとしては。
ジオールが好ましい。ジエチレングリコールは。
容易に入手可能で比較的安価であるため特に好ましい。
ヒドロキシル官能基が2より大きい有機ポリオールが不
飽和ポリエステル樹脂の調製に用いられ得るが、不飽和
ポリエステル樹脂全体ではなくとも、主要部分は線状の
不飽和ポリエステル分子で構成されていることが好まし
く、シたがってジオールが好ましい。
飽和ポリエステル樹脂の調製に用いられ得るが、不飽和
ポリエステル樹脂全体ではなくとも、主要部分は線状の
不飽和ポリエステル分子で構成されていることが好まし
く、シたがってジオールが好ましい。
本発明の組成物に適切な不飽和ポリエステル樹脂の分子
量は、広範囲に変えることができる。しかし一般に、不
飽和ポリエステル樹脂は、ポリスチレン標準を用いるゲ
ル透過クロマトグラフィーで測定して、800〜50,
000.好ましくは、 1.200〜5,000のピー
ク分子量を有る、。不飽和ポリエステル樹脂は、ポリカ
ルボン酸成分と有機ポリオール成分とを、約1〜10時
間、約165°C〜約250゛Cに加熱る、ことによっ
て調製されることができ。
量は、広範囲に変えることができる。しかし一般に、不
飽和ポリエステル樹脂は、ポリスチレン標準を用いるゲ
ル透過クロマトグラフィーで測定して、800〜50,
000.好ましくは、 1.200〜5,000のピー
ク分子量を有る、。不飽和ポリエステル樹脂は、ポリカ
ルボン酸成分と有機ポリオール成分とを、約1〜10時
間、約165°C〜約250゛Cに加熱る、ことによっ
て調製されることができ。
このエステル化反応中に生じた水は、窒素のような不活
性ガスのスパージャ−を用いて蒸留して除去される。反
応速度を高めるためにエステル化触媒も用いることがで
きる。この目的に対して有用な公知の触媒には、パラト
ルエンスルホン酸、ブチル錫酸、ジブチル錫オキシドお
よびフッ化第−錫が含まれる。
性ガスのスパージャ−を用いて蒸留して除去される。反
応速度を高めるためにエステル化触媒も用いることがで
きる。この目的に対して有用な公知の触媒には、パラト
ルエンスルホン酸、ブチル錫酸、ジブチル錫オキシドお
よびフッ化第−錫が含まれる。
本発明の放射線硬化性組成物は、ビニルエーテル成分1
分子当り平均少なくとも二個のビニルエーテル基を有る
、ビニルエーテル成分を用いる。
分子当り平均少なくとも二個のビニルエーテル基を有る
、ビニルエーテル成分を用いる。
該ビニルエーテル成分は、不飽和成分からは分離して存
在し得るか、または不飽和成分に組入れられ得る(例え
ば後記実施例8に例示されている)。
在し得るか、または不飽和成分に組入れられ得る(例え
ば後記実施例8に例示されている)。
ビニルエーテル成分のビニルエーテル5ハ、TJI和ポ
リエステルの主鎖中のエチレン性不飽和部分(例えば不
飽和ポリエステルの調製に用いられる不飽和カルボン酸
の残基によりもたらされる)とは別個のものであり、該
エチレン性不飽和部分と。
リエステルの主鎖中のエチレン性不飽和部分(例えば不
飽和ポリエステルの調製に用いられる不飽和カルボン酸
の残基によりもたらされる)とは別個のものであり、該
エチレン性不飽和部分と。
共に硬化可能である。「共に硬化可能」とは、ビニルエ
ーテル基が9本発明の組成物を電離放射線(電子ビーム
放射線)および/または紫外光にさらした際に、その不
飽和ポリエステル由来のエチレン性不飽和基との反応性
を有る、ということを意味る、。本発明の組成物を、紫
外光を用いて硬化させる場合、光開始剤および/または
光増感剤を、紫外光による硬化の前もしくは同時に本発
明の組成物と組合わせることは理解されるであろう。
ーテル基が9本発明の組成物を電離放射線(電子ビーム
放射線)および/または紫外光にさらした際に、その不
飽和ポリエステル由来のエチレン性不飽和基との反応性
を有る、ということを意味る、。本発明の組成物を、紫
外光を用いて硬化させる場合、光開始剤および/または
光増感剤を、紫外光による硬化の前もしくは同時に本発
明の組成物と組合わせることは理解されるであろう。
ビニルエーテル成分及び不飽和ポリエステル成分は1本
発明の液状組成物中において、該液状組成物を2例えば
電子ビーム放射線もしくは紫外光にさらした場合のよう
なM離基による硬化の際に。
発明の液状組成物中において、該液状組成物を2例えば
電子ビーム放射線もしくは紫外光にさらした場合のよう
なM離基による硬化の際に。
不飽和ポリエステル成分由来のエチレン性不飽和基と、
ビニルエーテル成分由来のビニル不飽和基との反応によ
って架橋反応を行なう壇で用いられる。一般に本発明の
組成物において、ビニルエーテル成分由来の炭素−炭素
二重結合の当世と、不飽和ポリエステル成分由来の炭素
−炭素二重結合の当量との比率は、 0.1 :1.
0〜1.5 :x、oであり、好ましくは0.25
: 1.0〜1.1 :1.Oである。
ビニルエーテル成分由来のビニル不飽和基との反応によ
って架橋反応を行なう壇で用いられる。一般に本発明の
組成物において、ビニルエーテル成分由来の炭素−炭素
二重結合の当世と、不飽和ポリエステル成分由来の炭素
−炭素二重結合の当量との比率は、 0.1 :1.
0〜1.5 :x、oであり、好ましくは0.25
: 1.0〜1.1 :1.Oである。
はとんどの塗装の場合、上記の、炭素−炭素二重結合の
当量の比率は、1;1の比率よりあまり大きくならない
方が望ましい。なぜならば、低分子量のビニルエーテル
が過剰に存在る、と、得られたフィルムを可塑化る、傾
向があり望ましくないからである。
当量の比率は、1;1の比率よりあまり大きくならない
方が望ましい。なぜならば、低分子量のビニルエーテル
が過剰に存在る、と、得られたフィルムを可塑化る、傾
向があり望ましくないからである。
本発明の一実施例において、ポリエステル構造にビニル
エーテル基が組込まれていない不飽和ポリエステル樹脂
が、−分子中に少なくとも二個のビニルエーテル基を有
る、一種以上のビニルエーテル化合物と組み合わせて用
いられる。ビニルエーテル化合物が少なくとも二個の反
応性ビニルエーテル基を含有しているかぎり1本発明の
実施例に1種々のビニルエーテル化合物を利用る、こと
ができる。
エーテル基が組込まれていない不飽和ポリエステル樹脂
が、−分子中に少なくとも二個のビニルエーテル基を有
る、一種以上のビニルエーテル化合物と組み合わせて用
いられる。ビニルエーテル化合物が少なくとも二個の反
応性ビニルエーテル基を含有しているかぎり1本発明の
実施例に1種々のビニルエーテル化合物を利用る、こと
ができる。
ビニルエーテル化合物の例には、ジー、トリーもしくは
テトラ−官能性の有機ポリオール、アセチレンおよび塩
基触媒から、高圧下で公知の方法で調製されるビニルエ
ーテルが含まれる。具体例としては、トリプロピレング
リコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビ
ニルエーテル。
テトラ−官能性の有機ポリオール、アセチレンおよび塩
基触媒から、高圧下で公知の方法で調製されるビニルエ
ーテルが含まれる。具体例としては、トリプロピレング
リコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビ
ニルエーテル。
1.4−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラエチ
レングリコールジビニルエーテルなどがある。
レングリコールジビニルエーテルなどがある。
本発明の他の実施例においては、ビニルエーテル成分の
ビニルエーテル基が不飽和ポリエステル成分の構造に組
込まれている。例えばヒドロキシブチルビニルエーテル
のようなヒドロキシ官能性ビニルエーテルは、イソホロ
ジイソシアネートのような有機のジイソシアネートと、
化学量論的比率(例えば約1=2のmol 011/m
olNco比)で反応る、ことが可能で、半キャップ化
イソシアネート付加物を生成る、。その後、半キャップ
化ジイソシアネートの残りのイソシアネート官能基が、
不飽和ポリエステルポリオール(例えば不飽和カルボン
酸もしくは酸無水物と過剰のポリオールとの反応によっ
て調製される)によって与えられるヒドロキシ基と反応
し、平均して少なくとも二個のビニルエーテル基を不飽
和ポリエステル成分の構造に組込むことができる。ヒド
ロキシ官能性不飽和ポリエステル樹脂の調製に適切な、
不飽和カルボン酸と不飽和カルボン酸無水物および有機
ポリオールの例には、先に述べたものが含まれる。有機
ジイソシアネートの例には、トルエン−2,4−ジイソ
シアネート、トルエン−2,6−ジイソシアネートおよ
びそれらの混合物;ジフェニルメタン−4,4゜ジイソ
シアネート、ジフエニメタンー2,4゛−ジイソシアネ
ートおよびそれらの混合物;パラ−フェニレンジイソシ
アネート;ビフェニルジイソシアネーF;3+3’−ジ
メチル−4,4′−ジフェニレンジイソシアネート;テ
トラメチレン−1,4−ジイソシアネート;ヘキサメチ
レン−1,6= ジイソシアネート;2.2.4−1−
ツメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート;リシン
メチルエステルジイソシアネート;ビス(イソシアネー
トエチル)フマラート;イソホロンジイソシアネート;
エチレンジイソシアネート;ドデカン−1,12−ジイ
ソシアネート;シクロブタン−1,3−ジイソシアネー
ト;シクロヘキサン−1,3゜−ジイソシアネート、シ
クロフキサン−1,4−ジイソシアネートおよびそれら
の混合物;メチルシクロへキシルジイソシアネート;ヘ
キサヒドロトルエン−2,4,−ジイソシアネート、ヘ
キサヒドロトルエン−2,6−ジイソシアネートおよび
それらの混合物;ヘキサヒドロフェニレン−1,3−ジ
イソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン−1,4−ジ
イソシアネートおよびそれらの混合物;ペルヒドロジフ
ェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート、ベルヒド
ロジフェニルメタン−4,4”−ジイソシアネートおよ
びそれらの混合物が含まれる。得られた不飽和ポリエス
テル成分(ウレタン部分も含有しかつ平均して少なくと
も二個のビニルエーテル基を有る、)は1通常、未反応
のNGO基を含有していない。
ビニルエーテル基が不飽和ポリエステル成分の構造に組
込まれている。例えばヒドロキシブチルビニルエーテル
のようなヒドロキシ官能性ビニルエーテルは、イソホロ
ジイソシアネートのような有機のジイソシアネートと、
化学量論的比率(例えば約1=2のmol 011/m
olNco比)で反応る、ことが可能で、半キャップ化
イソシアネート付加物を生成る、。その後、半キャップ
化ジイソシアネートの残りのイソシアネート官能基が、
不飽和ポリエステルポリオール(例えば不飽和カルボン
酸もしくは酸無水物と過剰のポリオールとの反応によっ
て調製される)によって与えられるヒドロキシ基と反応
し、平均して少なくとも二個のビニルエーテル基を不飽
和ポリエステル成分の構造に組込むことができる。ヒド
ロキシ官能性不飽和ポリエステル樹脂の調製に適切な、
不飽和カルボン酸と不飽和カルボン酸無水物および有機
ポリオールの例には、先に述べたものが含まれる。有機
ジイソシアネートの例には、トルエン−2,4−ジイソ
シアネート、トルエン−2,6−ジイソシアネートおよ
びそれらの混合物;ジフェニルメタン−4,4゜ジイソ
シアネート、ジフエニメタンー2,4゛−ジイソシアネ
ートおよびそれらの混合物;パラ−フェニレンジイソシ
アネート;ビフェニルジイソシアネーF;3+3’−ジ
メチル−4,4′−ジフェニレンジイソシアネート;テ
トラメチレン−1,4−ジイソシアネート;ヘキサメチ
レン−1,6= ジイソシアネート;2.2.4−1−
ツメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート;リシン
メチルエステルジイソシアネート;ビス(イソシアネー
トエチル)フマラート;イソホロンジイソシアネート;
エチレンジイソシアネート;ドデカン−1,12−ジイ
ソシアネート;シクロブタン−1,3−ジイソシアネー
ト;シクロヘキサン−1,3゜−ジイソシアネート、シ
クロフキサン−1,4−ジイソシアネートおよびそれら
の混合物;メチルシクロへキシルジイソシアネート;ヘ
キサヒドロトルエン−2,4,−ジイソシアネート、ヘ
キサヒドロトルエン−2,6−ジイソシアネートおよび
それらの混合物;ヘキサヒドロフェニレン−1,3−ジ
イソシアネート、ヘキサヒドロフェニレン−1,4−ジ
イソシアネートおよびそれらの混合物;ペルヒドロジフ
ェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート、ベルヒド
ロジフェニルメタン−4,4”−ジイソシアネートおよ
びそれらの混合物が含まれる。得られた不飽和ポリエス
テル成分(ウレタン部分も含有しかつ平均して少なくと
も二個のビニルエーテル基を有る、)は1通常、未反応
のNGO基を含有していない。
任意に9本発明の液状放射線硬化性組成物は。
さらに、他のエチレン性不飽和単量体もしくはオリボマ
ーを含有していてもよい。これらの例には。
ーを含有していてもよい。これらの例には。
次のようなものが含まれる。酢酸ビニル、スチレン、ビ
ニルトルエン、ジビニルベンゼン、メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテルおよびブチルビニルエーテル
のような他のビニル単量体;メチル(メタ)アクリレー
トエチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)
アクリレート。
ニルトルエン、ジビニルベンゼン、メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテルおよびブチルビニルエーテル
のような他のビニル単量体;メチル(メタ)アクリレー
トエチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)
アクリレート。
n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートグリシジ
ル(メタ)アクリレート エチレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レートグリシジルジ(メタ)アクリレート、グリセロー
ルトリ(メタ)アクリレート1.3−プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート ジブロビレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(
メタ)アクリレート、 1,2.4−ブタントリオール
トリ (メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオー
ルジ(メタ)アクリレート、 1.4−シクロヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート1.4−ベンゼンジオ
ールジ(メタ)アクリレートペンタエリトリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、l、5−ペンタンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ
)アクリレート、2.2−ジメチル−3−ヒドロキシプ
ロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネ
ート。
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートグリシジ
ル(メタ)アクリレート エチレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レートグリシジルジ(メタ)アクリレート、グリセロー
ルトリ(メタ)アクリレート1.3−プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート ジブロビレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(
メタ)アクリレート、 1,2.4−ブタントリオール
トリ (メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオー
ルジ(メタ)アクリレート、 1.4−シクロヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート1.4−ベンゼンジオ
ールジ(メタ)アクリレートペンタエリトリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、l、5−ペンタンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ
)アクリレート、2.2−ジメチル−3−ヒドロキシプ
ロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネ
ート。
イソボロニル(メタ)アクリレートならびにテトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレートなどのアクリルエス
テルとメタクリルエステル;ビスフェノ−、ルール−ジ
グリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル
およびブタンジオールジグリシジルエーテルのような脂
肪族グリシジルエーテル由来の(メタ)アクリレート具
体的には5例えば1.4−ブタンジオールジグリシルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−八−
ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレートおよびネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)
アクリレート;ならびに(メタ)アクリルアミド、ジア
セトン(メタ)アクリルアミド。
ロフルフリル(メタ)アクリレートなどのアクリルエス
テルとメタクリルエステル;ビスフェノ−、ルール−ジ
グリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル
およびブタンジオールジグリシジルエーテルのような脂
肪族グリシジルエーテル由来の(メタ)アクリレート具
体的には5例えば1.4−ブタンジオールジグリシルエ
ーテルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−八−
ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレートおよびネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)
アクリレート;ならびに(メタ)アクリルアミド、ジア
セトン(メタ)アクリルアミド。
N(β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、
N、N−ビス(β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル
アミド、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、 1.
’6.−へキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、
ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、
ビス(γ−(メタ)アクリルアミド・プロポキシ)エタ
ン、およびβ−(メタ)アクリルアミドエチルアクリレ
ートのようなアクリルもしくはメタクリルアミド。
N、N−ビス(β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル
アミド、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、 1.
’6.−へキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、
ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、
ビス(γ−(メタ)アクリルアミド・プロポキシ)エタ
ン、およびβ−(メタ)アクリルアミドエチルアクリレ
ートのようなアクリルもしくはメタクリルアミド。
本発明の液状組成物は、特に電離放射線および/または
紫外光にさらすことによって硬化させるのに適切なもの
である。
紫外光にさらすことによって硬化させるのに適切なもの
である。
電離放射線は、空気もしくは水のような通常の物質で構
成されている媒体において、直接的もしくは間接的にイ
オンを生成る、為に少なくとも十分なエネルギーを有し
、かつ1例えば公知の電子ビーム装置によって生成され
るような加速された電子を有る、放射線である。本発明
の組成物の硬化に電子ビーム装置を用いる場合、加速さ
れた電子のエネルギーは、一般に、約100.000電
子ボルト〜約300.000電子ボルトの範囲にある。
成されている媒体において、直接的もしくは間接的にイ
オンを生成る、為に少なくとも十分なエネルギーを有し
、かつ1例えば公知の電子ビーム装置によって生成され
るような加速された電子を有る、放射線である。本発明
の組成物の硬化に電子ビーム装置を用いる場合、加速さ
れた電子のエネルギーは、一般に、約100.000電
子ボルト〜約300.000電子ボルトの範囲にある。
本発明の組成物を硬化させるための電画放射線のラド量
は、放射線硬化性組成物の個々の配合、基材上の塗膜組
成物の塗布層の厚さ1組成物の温度などの要因によって
変化る、。しかし2本発明の組成物の利点は、低線量の
電子ビーム放射線によって優れた硬化度が得られるとい
うことである。一般に。
は、放射線硬化性組成物の個々の配合、基材上の塗膜組
成物の塗布層の厚さ1組成物の温度などの要因によって
変化る、。しかし2本発明の組成物の利点は、低線量の
電子ビーム放射線によって優れた硬化度が得られるとい
うことである。一般に。
本発明の組成物lミル厚の湿潤フィルムは、065〜5
メガラドの電離放射線にさらすことによって。
メガラドの電離放射線にさらすことによって。
全厚みに渡って空気中で硬化させ、不粘着状態にる、こ
とができる。
とができる。
約180〜約400nmの波長範囲の紫外光を発る、適
切ないずれの光源からの紫外光放射線でも1本発明の組
成物を硬化る、為に用いることができる。
切ないずれの光源からの紫外光放射線でも1本発明の組
成物を硬化る、為に用いることができる。
かような紫外光は、空気もしくは水のような通常の物質
からなる媒体中でイオンを生成る、為には不充分なエネ
ルギーしか有していないので1紫外光は、非電離放射線
と考えられる。紫外光の適切な光源には、一般に知られ
ているように2例えば水銀アーク、カーボンアーク、低
圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、過流プラズマアー
クおよび紫外線発光ダイオードが含まれる。好ま・シ<
は。
からなる媒体中でイオンを生成る、為には不充分なエネ
ルギーしか有していないので1紫外光は、非電離放射線
と考えられる。紫外光の適切な光源には、一般に知られ
ているように2例えば水銀アーク、カーボンアーク、低
圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、過流プラズマアー
クおよび紫外線発光ダイオードが含まれる。好ま・シ<
は。
中圧水銀蒸気式の紫外線発光ランプである。この様なラ
ンプは2通常、融解石英の容器を有し3通常2両端に電
極を備えたチューブ形状を備えている。本発明の組成物
を硬化る、為に通常用いられる好ましい中圧水銀灯は、
典型的には、前記チューブの長さの1インチ当り約20
0ワットの出力を有る、。本発明の組成物の他の利点は
、紫外光の比較的低いエネルギーにさらすことにより、
空気中で優れた硬化度が得られるということである。
ンプは2通常、融解石英の容器を有し3通常2両端に電
極を備えたチューブ形状を備えている。本発明の組成物
を硬化る、為に通常用いられる好ましい中圧水銀灯は、
典型的には、前記チューブの長さの1インチ当り約20
0ワットの出力を有る、。本発明の組成物の他の利点は
、紫外光の比較的低いエネルギーにさらすことにより、
空気中で優れた硬化度が得られるということである。
一般に1本発明の組成物の1 ミル厚の湿潤フィルムは
、さらに光開始剤および/または光増感剤のような光硬
化促進剤を含有している場合2湿潤フイルムの表面から
4インチの距離に位置し、 200ワット/インチで作
動る、4箇所以下の中圧水銀灯下を、20フィート/分
の速度で通過させることによって、紫外光にさらすど2
その厚み全体に渡って、空気中で硬化させ、不粘着状態
にる、ことができる。紫外光硬化性組成物に使用る、光
開始剤と光増感剤は、紫外光硬化性組成物の技術分野で
は−I’IQに知られている。光増感剤の例には、ベン
ゾフェノン、アントラキノンおよび/またはチオキサン
I・ンが含まれる。光開始剤の例には、イソブチルヘン
ゾインエーテル、ブチルベンゾインエーテルのブチル異
性体の混合物、α、α−ジェトキシアセトフェノンおよ
びα、α−ジメトキシα−フェニルアセトフェノンが含
まれる。光開始剤と光増感剤の他の例は、米国特許第4
,017,652号に記載されている。
、さらに光開始剤および/または光増感剤のような光硬
化促進剤を含有している場合2湿潤フイルムの表面から
4インチの距離に位置し、 200ワット/インチで作
動る、4箇所以下の中圧水銀灯下を、20フィート/分
の速度で通過させることによって、紫外光にさらすど2
その厚み全体に渡って、空気中で硬化させ、不粘着状態
にる、ことができる。紫外光硬化性組成物に使用る、光
開始剤と光増感剤は、紫外光硬化性組成物の技術分野で
は−I’IQに知られている。光増感剤の例には、ベン
ゾフェノン、アントラキノンおよび/またはチオキサン
I・ンが含まれる。光開始剤の例には、イソブチルヘン
ゾインエーテル、ブチルベンゾインエーテルのブチル異
性体の混合物、α、α−ジェトキシアセトフェノンおよ
びα、α−ジメトキシα−フェニルアセトフェノンが含
まれる。光開始剤と光増感剤の他の例は、米国特許第4
,017,652号に記載されている。
本発明の組成物は、紫外光および/または電離放射線に
よる硬化が特に好ましいが、必要に応じて、熱ラジカル
開始剤の存在下で、熱によって硬化させることができる
。この開始剤の例としては。
よる硬化が特に好ましいが、必要に応じて、熱ラジカル
開始剤の存在下で、熱によって硬化させることができる
。この開始剤の例としては。
不飽和ポリエステル硬化用の一般に知られている熱開始
剤があげられ、いくつかの具体例には、過酸化ベンゾイ
ル、メチルエチルゲトンペルオキシド、クメンヒドロペ
ルオキシド、シクロヘキザノンペルオキシド、 2,4
.−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ビス(p−ブロ
モベンゾイル)ペルオキシドおよびアセチルペルオキシ
ドのような過酸化物が含まれる。
剤があげられ、いくつかの具体例には、過酸化ベンゾイ
ル、メチルエチルゲトンペルオキシド、クメンヒドロペ
ルオキシド、シクロヘキザノンペルオキシド、 2,4
.−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ビス(p−ブロ
モベンゾイル)ペルオキシドおよびアセチルペルオキシ
ドのような過酸化物が含まれる。
必要に応じて、熱重合抑制剤を本発明の組成物に利用し
てもよい。熱重合抑制剤の例には、ジーtブチルパラク
レゾールのようなフェノール化合物および第二級もしく
は第三級の窒素原子を有る、化合物が含まれる。
てもよい。熱重合抑制剤の例には、ジーtブチルパラク
レゾールのようなフェノール化合物および第二級もしく
は第三級の窒素原子を有る、化合物が含まれる。
また本発明の組成物は、当該分野で知られている通常の
脂肪族と芳香族の溶媒もしくは希釈剤のような溶媒を含
有していてもよい。
脂肪族と芳香族の溶媒もしくは希釈剤のような溶媒を含
有していてもよい。
必要に応じて3本発明の組成物は、顔料を含有していて
もよい。本発明の組成物を紫外光で硬化したい場合は、
使用される顔料は、一般に紫外光透過性顔料である。「
紫外光透過性」という用語は、その顔料が組成物の紫外
光による硬化を実質的に妨害しないという意味で用いら
れる。紫外光透過性顔料の例には、タルク、炭酸カルシ
ウム。
もよい。本発明の組成物を紫外光で硬化したい場合は、
使用される顔料は、一般に紫外光透過性顔料である。「
紫外光透過性」という用語は、その顔料が組成物の紫外
光による硬化を実質的に妨害しないという意味で用いら
れる。紫外光透過性顔料の例には、タルク、炭酸カルシ
ウム。
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、重晶石およ
びシリカ(SiOz)が含まれる。紫外光以外で硬化さ
れる塗料組成物の着色に一般に用いられる着色顔料は1
通常、紫外光を吸収もしくは遮断し、その結果9Mi成
物禁物紫外光る硬化を妨害る、。したがって組成物をあ
る程度着色したい場合。
びシリカ(SiOz)が含まれる。紫外光以外で硬化さ
れる塗料組成物の着色に一般に用いられる着色顔料は1
通常、紫外光を吸収もしくは遮断し、その結果9Mi成
物禁物紫外光る硬化を妨害る、。したがって組成物をあ
る程度着色したい場合。
硬化が紫外光で行われる時には、このような通常の着色
顔料は、一般に、限られた量しか使用されない。
顔料は、一般に、限られた量しか使用されない。
本発明の液状放射線硬化性組成物は、放射線硬化性塗料
組成物として特に有用である。この組成物は2種々のa
+4に用いることができ2例えば。
組成物として特に有用である。この組成物は2種々のa
+4に用いることができ2例えば。
木材1紙、パーティクルボード、ランプボード金属9表
面にプライマーを有る、金属、ガラス。
面にプライマーを有る、金属、ガラス。
プラスチックおよびメツキをしたプラスチックに用いる
ことができる。放射線硬化性組成物はいずれの公知の方
法でも塗布る、ことができ2例えばはけ塗布法、浸漬法
、ロール塗布法、ドクターブレード塗布法、吹付法、カ
ーテン塗布法などがある。本発明の組成物は、必要に応
じて、先に乾燥して溶媒を除去しておいて1次いで、放
射線によって硬化させてもよい。
ことができる。放射線硬化性組成物はいずれの公知の方
法でも塗布る、ことができ2例えばはけ塗布法、浸漬法
、ロール塗布法、ドクターブレード塗布法、吹付法、カ
ーテン塗布法などがある。本発明の組成物は、必要に応
じて、先に乾燥して溶媒を除去しておいて1次いで、放
射線によって硬化させてもよい。
(以下余白)
(実施例)
以下の実施例は3本発明の特質をその好ましい態様で例
証る、ために提示る、ものである。
証る、ために提示る、ものである。
明細書の本文、実施例および特許請求の範囲の本文に用
いられている。百分率、比率、および置部は、特に指示
がない限りすべて重量基準である。
いられている。百分率、比率、および置部は、特に指示
がない限りすべて重量基準である。
また本願で用いられるrpbw Jは「重量部」を意味
る、。
る、。
尖施貫上
本実施例は3本発明の塗料組成物に用いられる不飽和ポ
リエステル樹脂の調製例を示す。水蒸気蒸留手段と窒素
ガススパージャ−を備えた反応容器に、 1710.9
gのフマル酸、 1107.5gのプロピレンクリコー
ル、 463.5 gのジエチレングリコール。
リエステル樹脂の調製例を示す。水蒸気蒸留手段と窒素
ガススパージャ−を備えた反応容器に、 1710.9
gのフマル酸、 1107.5gのプロピレンクリコー
ル、 463.5 gのジエチレングリコール。
0.65gのメチルp−ベンゾキノン、 3.2 gの
ジブチルスズオキシドおよび3.0gのトリフェニルホ
スフィツトを入れた。投入物を徐々に212°Cに加熱
し、 100 ’Cを越えない頂部温度で、水を含有る
、留出物を合計362 ml除去した。得られた生成物
は、酸価が8.1で、エチレングリコール、モノエチル
エーテル中60重量%固形分で、ガードナー・ホルト・
バブル・チューブ粘度がE−の不飽和ポリエステル樹脂
であった。この不飽和ポリエステルを80°Cまで冷却
し、その温度で、 30.0gのN−ヒドロキシエチル
エチレンイミンを上記不飽和樹脂に添加した。N−ヒド
ロキシエチルエチレンイミンは不飽和ポリエステルと反
応して、生成物の酸化が3.4まで低下した。
ジブチルスズオキシドおよび3.0gのトリフェニルホ
スフィツトを入れた。投入物を徐々に212°Cに加熱
し、 100 ’Cを越えない頂部温度で、水を含有る
、留出物を合計362 ml除去した。得られた生成物
は、酸価が8.1で、エチレングリコール、モノエチル
エーテル中60重量%固形分で、ガードナー・ホルト・
バブル・チューブ粘度がE−の不飽和ポリエステル樹脂
であった。この不飽和ポリエステルを80°Cまで冷却
し、その温度で、 30.0gのN−ヒドロキシエチル
エチレンイミンを上記不飽和樹脂に添加した。N−ヒド
ロキシエチルエチレンイミンは不飽和ポリエステルと反
応して、生成物の酸化が3.4まで低下した。
12および〜 13
これらの実施例は1本発明の二つの塗料組成物の調製例
と放射線による硬化の例を示す。
と放射線による硬化の例を示す。
本発明の二つの塗料組成物を、以下の表1に示す成分を
混合して調製した。
混合して調製した。
表1
実施例2の組成物の4試料(2a、2b、2cおよび2
d試料と称る、)および実施例3の2試料(3dおよび
3b試料と称る、)を、それぞれ5ミルのバーで、フィ
ルドパーティクルボード上に塗布して、厚さ2.5 ミ
ル(0,064印)の湿潤フィルムを作製した。このフ
ィルムを以下の表2に示すように硬化させた。
d試料と称る、)および実施例3の2試料(3dおよび
3b試料と称る、)を、それぞれ5ミルのバーで、フィ
ルドパーティクルボード上に塗布して、厚さ2.5 ミ
ル(0,064印)の湿潤フィルムを作製した。このフ
ィルムを以下の表2に示すように硬化させた。
表2
拭且 旦m住
2 a 窒素中83メガラド (?II?)の電子ビ
ーム(EB)ビ硬化1) 所−見 硬質1強靭および高光沢度 の幾分らろいフィルムを得た。
ーム(EB)ビ硬化1) 所−見 硬質1強靭および高光沢度 の幾分らろいフィルムを得た。
a
b
空気中UV?’硬化
(4灯 : 40フイート/ 分) 。 3)空気中U
Vf硬化 (4灯 二 60フイート/ 分)、″硬質1彊靭およ
び高光沢度 t 斑点のないフィルムを得た。
Vf硬化 (4灯 二 60フイート/ 分)、″硬質1彊靭およ
び高光沢度 t 斑点のないフィルムを得た。
硬質9強靭オヨヒ高光沢度
ピ斑点のないフィルムを得た。
6′尤瑠13が1
1)フィルムは、窒素雰囲気中で1合計3メガラドの線
量の電子ビームの照射を受けた。
量の電子ビームの照射を受けた。
2)フィルムは、最初に、空気中で合計3メガラドの電
子ビーム放射線にさらされ3次いでフィルム表面から4
インチの距離にありそれぞれ200ワット/インチで作
動る、4個の中圧水銀灯下を40フィート/分の速度で
通過させて紫外光にさらされた。
子ビーム放射線にさらされ3次いでフィルム表面から4
インチの距離にありそれぞれ200ワット/インチで作
動る、4個の中圧水銀灯下を40フィート/分の速度で
通過させて紫外光にさらされた。
3)フィルムは、フィルム表面から4インチの距離にあ
り、それぞれ200ワット/インチで作動る、4箇の中
圧水銀灯下を40フィート/分の速度で通過して紫外光
の照射を受けた。
り、それぞれ200ワット/インチで作動る、4箇の中
圧水銀灯下を40フィート/分の速度で通過して紫外光
の照射を受けた。
4)60フィート/分の速度を用いた以外は、3)に同
じ。
じ。
2a+ 2b、2c、2d、3aおよび3bの試料の
フィルムはすべて、さらに空気中で後硬化処理がなされ
、さらに硬質のフィルムが得られたことに留意すべきで
ある。
フィルムはすべて、さらに空気中で後硬化処理がなされ
、さらに硬質のフィルムが得られたことに留意すべきで
ある。
災旌拠土
この実施例は2本発明の塗料組成物および比較対称の塗
料組成物に用いる不飽和ポリエステル樹脂の調製例を示
す。
料組成物に用いる不飽和ポリエステル樹脂の調製例を示
す。
水蒸気蒸留手段と窒素ガスパーシャーを備えた反応容器
に、 1160g (10モル)のフマル酸、 148
4g(14モル)のジエチレングリコールおよび0.6
gのブチル錫酸を入れた。投入物を徐々に209°Cに
加熱し、水を含有る、合計361 mlの留出物を。
に、 1160g (10モル)のフマル酸、 148
4g(14モル)のジエチレングリコールおよび0.6
gのブチル錫酸を入れた。投入物を徐々に209°Cに
加熱し、水を含有る、合計361 mlの留出物を。
102°Cを越えない頂部温度で除去した。得られた生
成物は、酸価が3.6;ガードナー・ホルト・バブル・
チューブ粘度がz−;ポリスチレン標準を用いるゲル透
過クロマドグフィー(GPC)で測定した重量平均分子
量が4813および多分散性指数が3.18の不飽和ポ
リエステル樹脂であった。
成物は、酸価が3.6;ガードナー・ホルト・バブル・
チューブ粘度がz−;ポリスチレン標準を用いるゲル透
過クロマドグフィー(GPC)で測定した重量平均分子
量が4813および多分散性指数が3.18の不飽和ポ
リエステル樹脂であった。
−156および7
これらの実施例は2本発明の二つの塗料組成物と比較対
象の組成物の調製例と放射線硬化を例示る、ものである
。
象の組成物の調製例と放射線硬化を例示る、ものである
。
本発明の二つの塗料組成物(実施例5と6)および比較
対象の塗料組成物(実施例7)を、以下の表3に示す成
分を混合して調製した。
対象の塗料組成物(実施例7)を、以下の表3に示す成
分を混合して調製した。
表3
表4
実施例5〜7の各組成物のそれぞれ2つの試料(それぞ
れ5a、5b、6a、6b、7aおよび7bと称る、)
を、フィールドパーティクルボード上に5ミルのバーを
用いて塗布して、厚さ2,5ミル(0,064M)の湿
潤フィルムを形成した。得られたフィルムを以下の表4
に示すようにして硬化させた。
れ5a、5b、6a、6b、7aおよび7bと称る、)
を、フィールドパーティクルボード上に5ミルのバーを
用いて塗布して、厚さ2,5ミル(0,064M)の湿
潤フィルムを形成した。得られたフィルムを以下の表4
に示すようにして硬化させた。
(以下余白)
1)フィルムには5窒素雰囲気中で1合計3メガラドの
線量の電子ビーム放射線が照射された。
線量の電子ビーム放射線が照射された。
2)2メガラドであること以外5aと同様。
3)フィルムは、フィルム表面から4インチの距離にあ
りそれぞれ200ワット/インチで作動る、4箇の中圧
水銀灯を40フィート/分の速度で通過して紫外光の照
射を受けた。
りそれぞれ200ワット/インチで作動る、4箇の中圧
水銀灯を40フィート/分の速度で通過して紫外光の照
射を受けた。
4)速度が80フィート/分である以外6aと同様。
5)5aと同様。
6)速度が20フィート/分である以外6aと同様。
裏庭1
本実施例は、(a)不飽和ポリエステル樹脂の調製。
(b)半キャンプ化イソシアネートの調製、−(C)1
分子当り平均二個のビニルエーテル基を有る、本発明の
ポリエステルウレタン組成物の調製と放射線硬化を例示
る、。
分子当り平均二個のビニルエーテル基を有る、本発明の
ポリエステルウレタン組成物の調製と放射線硬化を例示
る、。
(a)水蒸気蒸留手段と窒素スパージャ−とを備えた反
応容器に、 392.0 g (4,0モル)の無水マ
レイン酸、 636.0 g (6,0モル)のジエチ
レングリコール、 1.0 gのブチル錫酸および0.
1 gのメチルヒドロキノンを入れた。投入物を209
’Cまで徐々に加熱し、105°Cを越えない頂部温
度で、水を含有る、合計66m lの留出物を除去した
。得られた生成物は、酸価が1.4.ガードナー・ホル
ト・バブル・チューブ粘度がz4+、およびヒドロキシ
ル価が158.5の不飽和ポリエステルポリオールであ
った。
応容器に、 392.0 g (4,0モル)の無水マ
レイン酸、 636.0 g (6,0モル)のジエチ
レングリコール、 1.0 gのブチル錫酸および0.
1 gのメチルヒドロキノンを入れた。投入物を209
’Cまで徐々に加熱し、105°Cを越えない頂部温
度で、水を含有る、合計66m lの留出物を除去した
。得られた生成物は、酸価が1.4.ガードナー・ホル
ト・バブル・チューブ粘度がz4+、およびヒドロキシ
ル価が158.5の不飽和ポリエステルポリオールであ
った。
(b)窒素雰囲気を保持る、手段を備えた反応容器に、
常温で、440.0g (2,0モル)のイソホロジイ
ソシアネートおよび0.7 gの2,6−ジーt−ブチ
ル−4メチルフエノールを入れた。投入物を41 ”C
に加熱し、その温度で、4−ヒドロキシブチルビニルエ
ーテルを滴下し始めた。この滴下添加を41’Cで2時
間5分にわたって行い9合計232.0 gの4−ヒド
ロキシブチルビニルエーテルを添加した。得られた生成
物は、上記ビニルエーテルで半キャップ化されたジイソ
シアネートであり、これを室温まで冷却させた。
常温で、440.0g (2,0モル)のイソホロジイ
ソシアネートおよび0.7 gの2,6−ジーt−ブチ
ル−4メチルフエノールを入れた。投入物を41 ”C
に加熱し、その温度で、4−ヒドロキシブチルビニルエ
ーテルを滴下し始めた。この滴下添加を41’Cで2時
間5分にわたって行い9合計232.0 gの4−ヒド
ロキシブチルビニルエーテルを添加した。得られた生成
物は、上記ビニルエーテルで半キャップ化されたジイソ
シアネートであり、これを室温まで冷却させた。
(C)上記(b)で得た「半キャップ化された」ジイソ
シアネート338.0 g(1,0モル)を反応容器に
入れた。投入物を56°Cに加熱し、その温度で上記(
a)で得た不飽和ポリエステルポリオールを徐々に添加
し始めた。この添加を、温度を66〜74°Cに保持し
ながら2時間にわたって続け、前記不飽和ポリエステル
ポリオールを合計519.4 g (2,0当量)添加
した。その反応生成物は9本発明の組成物であり、これ
を室温まで冷却させた。該生成物の赤外線分析によれば
、残留イソシアネート官能基は全く見られなかった。生
成物は、ガードナー・ホルト粘度がZ6−、 ピーク
分子量が1796および重量平均分子量(ポリスチレン
標準を使用る、GPC法)が2924 であった。
シアネート338.0 g(1,0モル)を反応容器に
入れた。投入物を56°Cに加熱し、その温度で上記(
a)で得た不飽和ポリエステルポリオールを徐々に添加
し始めた。この添加を、温度を66〜74°Cに保持し
ながら2時間にわたって続け、前記不飽和ポリエステル
ポリオールを合計519.4 g (2,0当量)添加
した。その反応生成物は9本発明の組成物であり、これ
を室温まで冷却させた。該生成物の赤外線分析によれば
、残留イソシアネート官能基は全く見られなかった。生
成物は、ガードナー・ホルト粘度がZ6−、 ピーク
分子量が1796および重量平均分子量(ポリスチレン
標準を使用る、GPC法)が2924 であった。
上記生成物に2重量%のα、α−ジェトキシアセトフェ
ノンを添加し、試料を、0.012号のワイヤを巻いた
バーを用いてアルミニウムパネル上に塗布し、得られた
フィルムに、7分間、150°F(65,6’C)でフ
ラッシュ処理を行った。次にフィルム表面から4インチ
の距離に位置る、9インチ当り200ワットで作動る、
4箇の中圧水銀灯下に、空気中で、以下の表5に示す速
度でフィルムを通過させて、紫外光に該フィルムをさら
した。得られた硬化フィルムの性質を表5に示す。
ノンを添加し、試料を、0.012号のワイヤを巻いた
バーを用いてアルミニウムパネル上に塗布し、得られた
フィルムに、7分間、150°F(65,6’C)でフ
ラッシュ処理を行った。次にフィルム表面から4インチ
の距離に位置る、9インチ当り200ワットで作動る、
4箇の中圧水銀灯下に、空気中で、以下の表5に示す速
度でフィルムを通過させて、紫外光に該フィルムをさら
した。得られた硬化フィルムの性質を表5に示す。
(以下余白)
表5
7.゛・rr(フィート ハ)
■40 フィート 7分 硬化フ
ィルムに 傷はなかった。
■40 フィート 7分 硬化フ
ィルムに 傷はなかった。
60 フィート 7分 硬化フィルムに
傷はなhlっだ。
傷はなhlっだ。
80 フィート 7分 硬化フィルムに
わtttに傷があった。
わtttに傷があった。
100 フィート 7分 硬化フィルム
に))ttfに傷ttふった。
に))ttfに傷ttふった。
組成物の試料が、 120’ F (48,9°C)に
保持された「加熱質」に2週間放置した後でも、放射線
硬化る、ことに、留意すべきである。
保持された「加熱質」に2週間放置した後でも、放射線
硬化る、ことに、留意すべきである。
(発明の要約)
(A)不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリエステ
ルオリゴマー、またはそれらの混合物を包含る、不飽和
ポリエステル成分と、(B)該不飽和ポリエステル成分
から独立して存在し得るか。
ルオリゴマー、またはそれらの混合物を包含る、不飽和
ポリエステル成分と、(B)該不飽和ポリエステル成分
から独立して存在し得るか。
または該不飽和ポリエステル成分の構造に組み込まれ得
る。非重合で、共硬化性のビニルエーテル成分とを含有
し、該ビニルエーテル成分が、1分子当り平均して少な
くとも2個のビニルエーテル基を有る、。液状放射線硬
化性組成物が開示されている。
る。非重合で、共硬化性のビニルエーテル成分とを含有
し、該ビニルエーテル成分が、1分子当り平均して少な
くとも2個のビニルエーテル基を有る、。液状放射線硬
化性組成物が開示されている。
本発明の液状放射線硬化性組成物のフィルムを基材に塗
布る、こと2および、該フィルムを電離放射線および/
または紫外光にさらすこ、とによってその厚み全体に渡
って該組成物を硬化させて不粘着状態にる、ことを包含
る、塗装方法もまた開示されている。
布る、こと2および、該フィルムを電離放射線および/
または紫外光にさらすこ、とによってその厚み全体に渡
って該組成物を硬化させて不粘着状態にる、ことを包含
る、塗装方法もまた開示されている。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリエステル
オリゴマー、またはそれらの混合物を包含する不飽和ポ
リエステル成分と、該不飽和ポリエステル成分とは独立
して存在するか、または該不飽和ポリエステル成分の構
造に組込まれて存在する非重合で共硬化性のビニルエー
テル成分とを含有し、該ビニルエーテル成分が、1分子
当り平均して少なくとも2個のビニルエーテル基を有す
る、液状放射線硬化性組成物。 2、前記組成物の1ミル厚の湿潤フィルムが、0.5〜
5メガラドの電離放射線にさらした場合に、あるいは前
記組成物がさらに光開始剤を含有している場合には該光
開始剤含有組成物の1ミル厚の湿潤フィルムを、その表
面から4インチの距離に位置する1インチ当り200ワ
ットで作動する4個またはそれより少ない中圧水銀灯下
で、20フィート/分またはそれ以上の速度で通過させ
ることによって紫外光にさらした場合に、空気中で、そ
の厚み全体にわたって架橋し、不粘着状態となる、請求
項1に記載の組成物。 3、前記ビニルエーテル基の炭素−炭素二重結合の当量
の、前記ポリエステルの炭素−炭素二重結合の当量に対
する比率が、0.1:1.0〜1.5:1.0の範囲に
ある、請求項1に記載の組成物。 4、光開始剤を含有する、請求項3に記載の組成物。 5、熱重合抑制剤を含有する、請求項3に記載の組成物
。 6、前記不飽和ポリエステル成分が、ポリスチレン標準
を用いるゲル透過クロマトグラフィで測定した場合に、
800〜50,000の範囲のピーク分子量を有する不
飽和ポリエステルポリマーを包含する、請求項3に記載
の組成物。 7、前記ビニルエーテル基の炭素−炭素二重結合の当量
の、前記ポリエステルの炭素−炭素二重結合の当量に対
する比率が、0.25:1.0〜1.1:1.0の範囲
にある、請求項6に記載の組成物。 8、前記不飽和ポリエステル成分が、ポリスチレン標準
を用いるゲル透過クロマトグラフィで測定した場合に、
1,200〜5,000の範囲のピーク分子量を有する
不飽和ポリエステルポリマーを包含する、請求項6に記
載の組成物。 9、前記不飽和成分が、不飽和ポリエステル−ウレタン
ポリマー、不飽和ポリエステル−ウレタンオリゴマー、
またはそれらの混合物からなる、請求項1に記載の組成
物。 10、不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリエステ
ルオリゴマー、またはそれらの混合物を包含する前記不
飽和成分が、前記ビニルエーテル成分と分離して存在す
る、請求項1に記載の組成物。 11、(A)不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリ
エステルオリゴマー、またはそれらの混合物からなる不
飽和成分と、該不飽和成分とは独立して存在しているか
、またはその構造に組込まれているビニルエーテル成分
とを含有し、該ビニルエーテル成分が、1分子当り平均
して少なくとも2個のビニルエーテル基を有する、液状
放射線硬化性組成物のフィルムを基材に塗布すること、
および (B)該フィルムを電離放射線および/または紫外光に
さらすことによって、フィルムの厚み全体にわたって該
組成物を硬化させて不粘着状態にすること。 を包含する、塗装方法。 12、前記ビニルエーテル基の炭素−炭素二重結合の当
量の、前記ポリエステルの炭素−炭素二重結合の当量に
対する比率が、0.1:1.0〜1.5:1.0の範囲
にある、請求項11に記載の方法。 13、前記組成物が光開始剤を含有する、請求項12に
記載の方法。 14、前記組成物が熱重合抑制剤を含有する、請求項1
2に記載の方法。 15、前記不飽和ポリエステル成分が、ポリスチレン標
準を用いるゲル透過クロマトグラフィで測定した場合、
800〜50,000の範囲のピーク分子量を有する不
飽和ポリエステルポリマーを包含する、請求項12に記
載の方法。 16、前記ビニルエーテル基の炭素−炭素二重結合の当
量の、前記ポリエステルの炭素−炭素二重結合の当量に
対する比率が、0.25:1.0〜1.1:1.0の範
囲にある、請求項15に記載の方法。 17、前記不飽和ポリエステル成分が、ポリスチレン標
準を用いるゲル透過クロマトグラフィで測定した場合に
、1,200〜5,000の範囲のピーク分子量を有す
る不飽和ポリエステルポリマーを包含する、請求項15
に記載の方法。 18、前記不飽和成分が、不飽和ポリエステル−ウレタ
ンポリマー、不飽和ポリエステル−ウレタンオリゴマー
、またはそれらの混合物からなる、請求項11に記載の
方法。 19、不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリエステ
ルオリゴマ−、またはそれらの混合物を包含する前記不
飽和成分が、前記ビニルエーテル成分とは独立して存在
している、請求項11に記載の方法。 20、不飽和ポリエステルポリマー、不飽和ポリエステ
ルオリゴマー、またはそれらの混合物からなる、不飽和
ポリエステル成分を含有する硬化フィルムを有する基材
であって、該不飽和ポリエステル成分が、そのエチレン
性不飽和基と、前記ビニルエーテル成分のビニル不飽和
基との反応により架橋し、該ビニルエーテル成分が、架
橋反応の前には、該不飽和ポリエステル成分とは独立し
て存在するか、または該不飽和ポリエステル成分の構造
に組込まれて存在し、1分子当り平均して少なくとも2
個のビニルエーテル基を有する、基材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13840687A | 1987-12-28 | 1987-12-28 | |
| US138,406 | 1987-12-28 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7080617A Division JP2705916B2 (ja) | 1987-12-28 | 1995-04-05 | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021716A true JPH021716A (ja) | 1990-01-08 |
| JP2505559B2 JP2505559B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=22481854
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63335702A Expired - Fee Related JP2505559B2 (ja) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエ―テル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
| JP7080617A Expired - Fee Related JP2705916B2 (ja) | 1987-12-28 | 1995-04-05 | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7080617A Expired - Fee Related JP2705916B2 (ja) | 1987-12-28 | 1995-04-05 | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5536760A (ja) |
| EP (1) | EP0322808B1 (ja) |
| JP (2) | JP2505559B2 (ja) |
| KR (1) | KR930001944B1 (ja) |
| CA (1) | CA1340057C (ja) |
| DE (1) | DE3850377T2 (ja) |
| DK (1) | DK173911B1 (ja) |
| ES (1) | ES2058229T3 (ja) |
| MX (1) | MX169697B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0841141A (ja) * | 1987-12-28 | 1996-02-13 | Ppg Ind Inc | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
| JP2003503515A (ja) * | 1999-06-23 | 2003-01-28 | ディーエスエム エヌ.ブイ. | 構造適用のための、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル及びビニルエステルウレタン中のビニルエーテル |
| JP2013503218A (ja) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 不飽和ポリエステル樹脂およびビニルエーテルを含有する被覆剤 |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5334455A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| US5340653A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-23 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions comprising vinyl ether and urethane malenate compounds |
| US5334456A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| CA2047698A1 (en) * | 1989-03-07 | 1990-09-08 | John T. Vandeberg | Free-radical curable compositions |
| ATE167207T1 (de) * | 1989-03-07 | 1998-06-15 | Dsm Nv | Frei radikal vernetzbare zusammensetzungen |
| JPH04505028A (ja) * | 1989-03-07 | 1992-09-03 | デーエスエム ナムローゼ フェンノートシャップ | フリーラジカル硬化性組成物 |
| US5252682A (en) * | 1992-12-17 | 1993-10-12 | Zircon Corporation | Cationically initiated curable resin system |
| DE4309408A1 (de) * | 1993-03-19 | 1994-09-22 | Prolux Maschinenbau Gmbh | Suspension für die Innenbeschichtung von Glasgefäßen, insbesondere von Lampenentladungsgefäßen komplizierter geometrischer Form und Verfahren zum Innenbeschichten der Glasgefäße |
| US5446073A (en) * | 1993-03-31 | 1995-08-29 | Fusion Systems Corporation | Photopolymerization process employing a charge transfer complex without a photoinitiator |
| DE4420062A1 (de) * | 1994-06-08 | 1995-12-14 | Wacker Chemie Gmbh | Radikalisch vernetzbare Alkenylethersiloxanmassen |
| DE69504355T2 (de) * | 1994-07-05 | 1999-04-01 | Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. | Strahlungshärtbare zusammensetzungen aus polyester und vinylether mit reaktivverdünner |
| US6025409A (en) * | 1996-02-29 | 2000-02-15 | Dsm N.V. | Radiation curable coating composition |
| WO1997031981A1 (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-04 | Dsm N.V. | Radiation curable coating composition |
| US6375786B1 (en) | 1996-03-04 | 2002-04-23 | Awi Licensing Company | Surface covering having a precoated, E-beam cured wearlayer coated film and process of making the same |
| WO1997044399A1 (en) * | 1996-05-17 | 1997-11-27 | Dsm N.V. | Radiation curable binder composition |
| SE506958C2 (sv) * | 1996-06-20 | 1998-03-09 | Mcwhorter Technologies Ab | Fotopolymeriserbar polyesterkomposition samt lack eller färgformulering |
| US5942556A (en) * | 1996-11-27 | 1999-08-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Stabilized radiation curable compositions based on unsaturated ester and vinyl ether compounds |
| AU7410498A (en) * | 1996-11-27 | 1998-06-22 | Ppg Industries, Inc. | Radiation curable compositions based on unsaturated polyester vinyl et her and urethane vinyl ether compounds |
| DE19711410A1 (de) | 1997-03-19 | 1998-09-24 | Beck & Co Ag Dr | Tränk-, Verguß- und Überzugsmassen für elektrotechnische und/oder elektronische Bauteile sowie für Trägermaterialien für flächige Isolierstoffe |
| US6538044B2 (en) * | 1997-06-11 | 2003-03-25 | Ledniczky Maria Palfi Nee | Fragranced lacquer coating and process for preparation thereof to be screen printed |
| HUP9701033A3 (en) * | 1997-06-11 | 1999-04-28 | Palfine Ledniczky Maria | Printable odor-composition |
| US6030703A (en) * | 1997-08-13 | 2000-02-29 | Sartomer Company, Inc. | Radiation curable compositions comprising an unsaturated polyester and a compound having two to six-propenyl ether groups |
| EP1002018A2 (en) * | 1997-08-04 | 2000-05-24 | Sartomer Company Inc. | Radiation curable compositions |
| US6063864A (en) * | 1998-04-22 | 2000-05-16 | Isp Investments Inc. | Curable, unsaturated polyester compositions |
| US6387504B1 (en) * | 1998-06-09 | 2002-05-14 | Margrace Enterprises Inc | Polymer surfaced composites for floor tiles and other building structures |
| US6709717B2 (en) | 1998-06-09 | 2004-03-23 | Margrace Enterprises, Inc. | Method for making polymer surfaced composites |
| ES2164625T1 (es) * | 1998-07-31 | 2002-03-01 | Fusion Uv Sys Inc | Proceso de fotopolimerizacion y composicion empleando un complejo de transferencia de carga y un fotoiniciador cationico. |
| DE19835849A1 (de) | 1998-08-07 | 2000-02-10 | Basf Coatings Ag | Mit energiereicher Strahlung und/oder thermisch härtbare Pulverlacke mit funktionalisierter Grundstruktur |
| DE19835913A1 (de) * | 1998-08-07 | 2000-02-10 | Basf Ag | Durch energiereiche Strahlung und/oder thermisch härtbare Stoffe und Zubereitungen |
| FI990189L (fi) * | 1999-02-02 | 2000-08-03 | Neste Oyj | Tyydyttymättömät polyesterihartsikoostumukset |
| WO2001025288A1 (en) | 1999-10-01 | 2001-04-12 | Ballina Pty Ltd | Radiation polymerisable compositions |
| DE10032695A1 (de) * | 2000-07-05 | 2002-01-17 | Remmers Bauchemie Gmbh | Lösemittelhaltige UV-strahlenhärtende Beschichtungsstoffe |
| CN1181040C (zh) * | 2000-07-19 | 2004-12-22 | 昭和电工株式会社 | 富马酸酯衍生物和它的制造方法 |
| WO2002012400A2 (en) | 2000-08-07 | 2002-02-14 | Eastman Chemical Company | Thermally stable, anthraquinone colorants containing copolymerizable vinyl groups |
| US6727372B2 (en) | 2000-08-07 | 2004-04-27 | Eastman Chemical Company | Colorant compounds containing copolymerizable vinyl groups |
| US6620858B2 (en) | 2000-08-07 | 2003-09-16 | Eastman Chemical Company | Colorants containing copolymerizable vinyl groups and sulfonamide linkages |
| ATE338792T1 (de) | 2000-08-07 | 2006-09-15 | Eastman Chem Co | Thermisch stabile anthrachinonfarbstoffe mit copolymerisierbaren vinylgruppen |
| US6908663B1 (en) | 2000-11-15 | 2005-06-21 | Awi Licensing Company | Pigmented radiation cured wear layer |
| EP1217017A1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-06-26 | Dsm N.V. | Resin mortars for chemical fastening |
| EP1221449A1 (en) | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Dsm N.V. | Peroxide compositions with reactive diluents |
| EP1225189A1 (en) | 2000-12-22 | 2002-07-24 | Dsm N.V. | Two-component chemical fastening systems |
| US6713641B2 (en) | 2001-10-19 | 2004-03-30 | Eastman Chemical Company | Reactive anthraquinone colorant compounds and polymeric materials reacted therewith |
| US6630521B2 (en) | 2001-11-13 | 2003-10-07 | Eastman Chemical Company | Anthraquinone colorants containing copolymerizable vinyl groups |
| JP3952149B2 (ja) * | 2002-02-06 | 2007-08-01 | 信越化学工業株式会社 | 光導波路形成用材料及び光導波路の製造方法 |
| US7283715B2 (en) * | 2002-02-06 | 2007-10-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Optical waveguide forming material and method |
| US6784248B2 (en) * | 2002-02-15 | 2004-08-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Thermosetting compositions containing alternating copolymers of isobutylene type monomers |
| US6731051B2 (en) * | 2002-04-22 | 2004-05-04 | Osram Sylvania Inc. | Blue incandescent appliance lamp |
| GB0225913D0 (en) * | 2002-11-06 | 2002-12-11 | 3M Innovative Properties Co | Abrasive articles |
| US7105688B2 (en) | 2003-08-25 | 2006-09-12 | Eastman Chemical Company | Ethylenically-unsaturated red anthraquinone dyes |
| US7172634B2 (en) | 2003-08-25 | 2007-02-06 | Eastman Chemical Company | Ethylenically-unsaturated blue anthraquinone dyes |
| US20050228121A1 (en) * | 2004-04-01 | 2005-10-13 | Ziegler Michael J | Oligomer suitable for coating compositions for wood substrates |
| US7411033B2 (en) * | 2006-06-16 | 2008-08-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Vinyl ethers and compositions containing them |
| WO2009105625A2 (en) * | 2008-02-21 | 2009-08-27 | Webster Dean C | Uv-curable low surface energy coatings |
| BRPI1011702B1 (pt) * | 2009-03-25 | 2020-10-20 | Dsm Ip Assets B.V. | processo para preparação de uma resina, composição de resina, objeto curado ou peça estrutural e uso dos mesmos e composição de revestimento em pó |
| US20110160341A1 (en) * | 2009-12-30 | 2011-06-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Composition for fixing wound items |
| US20150197667A1 (en) | 2014-01-15 | 2015-07-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyester polymers comprising lignin |
| US10927273B2 (en) | 2017-03-14 | 2021-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Composition including polyester resin and method of using the same |
Family Cites Families (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2407479A (en) * | 1939-10-31 | 1946-09-10 | Gen Electric | Interpolymerization products |
| US2288315A (en) * | 1939-12-01 | 1942-06-30 | Gen Electric | Interpolymerization product of a diallyl ether and an unsaturated alkyd resin |
| US2403113A (en) * | 1942-03-07 | 1946-07-02 | Pittsburgh Plate Glass Co | Unsaturated carbonate ester and polymer thereof |
| US2387934A (en) * | 1942-06-08 | 1945-10-30 | Pittsburgh Plate Glass Co | Composition of matter and polymerization products thereof |
| US2407446A (en) * | 1942-06-12 | 1946-09-10 | Pittsburgh Plate Glass Co | Unsaturated esters of carbonic acid and polymers thereof |
| US2407466A (en) * | 1944-04-15 | 1946-09-10 | Leon N Alberts | Clasp |
| US2437508A (en) * | 1944-06-28 | 1948-03-09 | Gen Electric | Copolymers of mixtures comprising allyl and methallyl ether esters |
| GB894154A (en) * | 1958-01-20 | 1962-04-18 | American Cyanamid Co | Ortho-hydroxybenzophenones with unsaturated ether substituents |
| US2962533A (en) * | 1958-01-20 | 1960-11-29 | American Cyanamid Co | Ortho-hydroxybenzophenones with unsaturated ether substituents |
| NL120556C (ja) * | 1959-05-01 | |||
| US3176050A (en) * | 1960-05-27 | 1965-03-30 | California Research Corp | Fully curable unsaturated polyesters treated with allyl alcohol |
| NL291947A (ja) * | 1962-04-25 | |||
| US3770602A (en) * | 1968-11-25 | 1973-11-06 | Ppg Industries Inc | Radiation crosslinkable polymers prepared by reacting a polyepoxy compound with an acrylic anhydride of a monocarboxylic acid |
| US3721722A (en) * | 1970-07-16 | 1973-03-20 | Koppers Co Inc | Thickenable unsaturated polyester resin system |
| US4288571A (en) * | 1971-01-18 | 1981-09-08 | Union Carbide Corporation | Polyester compositions |
| US3898144A (en) * | 1971-03-23 | 1975-08-05 | Bayer Ag | Air-drying, light-curing, unsaturated polyester resins |
| US4018940A (en) * | 1973-02-08 | 1977-04-19 | W. R. Grace & Co. | Process for forming solder resistant photoresist coatings |
| US3877971A (en) * | 1973-10-25 | 1975-04-15 | Grace W R & Co | Photocurable polyene-polythiol compositions containing the adduct of diallylmalate and toluene diisocyanate |
| US4205139A (en) * | 1974-08-28 | 1980-05-27 | Basf Aktiengesellschaft | Curable coating composition |
| US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
| US4012353A (en) * | 1975-02-03 | 1977-03-15 | Ici United States Inc. | Copolymer having quaternary ammonium, n-alkoxyalkyl amido, and carboxy groups, optionally epoxy resin, and aqueous dispersions |
| US4172859A (en) * | 1975-05-23 | 1979-10-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tough thermoplastic polyester compositions |
| US4200762A (en) * | 1976-10-29 | 1980-04-29 | Thiokol Corporation | Actinic radiation curable polymers |
| DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| DE2909994A1 (de) * | 1979-03-14 | 1980-10-02 | Basf Ag | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre herstellung und verwendung |
| US4265723A (en) * | 1979-07-06 | 1981-05-05 | Basf Aktiengesellschaft | Photocurable molding, impregnating and coating compositions |
| US4374215A (en) * | 1979-11-13 | 1983-02-15 | Union Carbide Corporation | Polyester moldings |
| DE3010148A1 (de) * | 1980-03-15 | 1981-09-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische |
| DE3133419A1 (de) * | 1981-08-24 | 1983-03-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendung |
| JPS5971048A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
| DE3328285A1 (de) * | 1983-08-05 | 1985-02-21 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von lichtgehaerteten schichten mit definierter haerte |
| US4920156A (en) * | 1984-03-23 | 1990-04-24 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Blends of cyclic vinyl ether containing compounds and urethane acrylates |
| JPH0676467B2 (ja) * | 1984-12-18 | 1994-09-28 | 日本ペイント株式会社 | 複合樹脂粒子ならびに塗料用樹脂組成物 |
| DE3514283A1 (de) * | 1985-04-19 | 1986-10-23 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Verfahren zum aufbringen von retentionskoerpern auf gussmodelle von dentalen, prothetischen metallkonstruktionen |
| JPH0692445B2 (ja) * | 1985-11-19 | 1994-11-16 | 日本ペイント株式会社 | 塩基性複合樹脂粒子、その製法ならびに塗料用樹脂組成物 |
| DE3612442A1 (de) * | 1986-04-12 | 1987-10-22 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von uv-gehaerteten deckend pigmentierten beschichtungen |
| US4751273A (en) * | 1986-08-19 | 1988-06-14 | Allied-Signal, Inc. | Vinyl ether terminated urethane resins |
| US4761435A (en) * | 1986-10-03 | 1988-08-02 | Desoto, Inc. | Polyamine-polyene ultraviolet coatings |
| US4749807A (en) * | 1987-02-17 | 1988-06-07 | Allied-Signal Inc. | Vinyl ether terminated ester oligomers |
| DE3720984A1 (de) * | 1987-06-25 | 1989-01-05 | Hoechst Ag | Haertbare mischungen und deren verwendung |
| MX169697B (es) * | 1987-12-28 | 1993-07-19 | Ppg Industries Inc | Mejoras a composiciones fraguables por radiacion basadas sobre poliesteres insaturados y compuestos teniendo por lo menos dos grupos de vinil eter |
| AU4191089A (en) * | 1988-08-12 | 1990-03-05 | Desoto Inc. | Photo-curable vinyl ether compositions |
| US5334456A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| US4999216A (en) * | 1989-08-21 | 1991-03-12 | Desoto, Inc. | Method of coating concrete floors with photocurable coatings |
-
1988
- 1988-09-29 MX MX013979A patent/MX169697B/es unknown
- 1988-11-28 CA CA000584344A patent/CA1340057C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-23 DE DE3850377T patent/DE3850377T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-23 ES ES88121612T patent/ES2058229T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-23 EP EP88121612A patent/EP0322808B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-27 KR KR1019880017568A patent/KR930001944B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-27 DK DK198807239A patent/DK173911B1/da not_active IP Right Cessation
- 1988-12-28 JP JP63335702A patent/JP2505559B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-12-10 US US08/166,665 patent/US5536760A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-04-05 JP JP7080617A patent/JP2705916B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-23 US US09/046,390 patent/US6054502A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0841141A (ja) * | 1987-12-28 | 1996-02-13 | Ppg Ind Inc | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 |
| JP2003503515A (ja) * | 1999-06-23 | 2003-01-28 | ディーエスエム エヌ.ブイ. | 構造適用のための、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル及びビニルエステルウレタン中のビニルエーテル |
| JP2013503218A (ja) * | 2009-08-26 | 2013-01-31 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 不飽和ポリエステル樹脂およびビニルエーテルを含有する被覆剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK723988D0 (da) | 1988-12-27 |
| DK723988A (da) | 1989-06-29 |
| DE3850377T2 (de) | 1995-01-05 |
| EP0322808A3 (en) | 1991-07-17 |
| KR930001944B1 (ko) | 1993-03-20 |
| DK173911B1 (da) | 2002-02-11 |
| CA1340057C (en) | 1998-09-22 |
| JP2705916B2 (ja) | 1998-01-28 |
| JP2505559B2 (ja) | 1996-06-12 |
| MX169697B (es) | 1993-07-19 |
| EP0322808A2 (en) | 1989-07-05 |
| JPH0841141A (ja) | 1996-02-13 |
| DE3850377D1 (de) | 1994-07-28 |
| ES2058229T3 (es) | 1994-11-01 |
| US5536760A (en) | 1996-07-16 |
| EP0322808B1 (en) | 1994-06-22 |
| KR890010616A (ko) | 1989-08-09 |
| US6054502A (en) | 2000-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2705916B2 (ja) | 不飽和ポリエステルおよび少なくとも2個のビニルエーテル基を有する化合物に基づく放射線硬化性組成物 | |
| EP0739922B1 (fr) | Compositions en poudre à base de polyesters cristallins contenant des groupes méthacrylyle terminaux | |
| US4212901A (en) | Method for treating a substrate with a radiation and chemically curable coating composition | |
| US4206025A (en) | Radio-hardenable acrylic polyesters | |
| US5942556A (en) | Stabilized radiation curable compositions based on unsaturated ester and vinyl ether compounds | |
| JPS6241982B2 (ja) | ||
| JPH0724411A (ja) | 放射線硬化性組成物を使用する被覆方法 | |
| JPH02248415A (ja) | 放射線硬化性アクリレートポリエステル | |
| US3968016A (en) | Mixture of unsaturated polyester resins with an epoxy diacrylate and the actinic light treatment of same | |
| US4775597A (en) | Ultraviolet light curable compositions for application to porous substrates based on unsaturated polyesters reacted with amino alcohols | |
| US4649082A (en) | Radiation curable compositions based on radiation curable esters of polyfunctional hydroxyl-containing carboxylic acids | |
| JP3544774B2 (ja) | 塗料用不飽和ポリエステル樹脂組成物 | |
| JPS6039283B2 (ja) | ポリブタジエン変性不飽和ポリエステルの製造法 | |
| WO1992014764A1 (en) | Clear, liquid, photocurable composition containing a mixture of an unsaturated polyester, vinylpyrrolidone and a non-volatile vinyl ether | |
| JPH1180661A (ja) | 塗装仕上げ方法および塗装物品 | |
| JP3150204B2 (ja) | 樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH11302562A (ja) | 光硬化型塗料組成物 | |
| JPH0473448B2 (ja) | ||
| JPH059247A (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 | |
| JPS5812310B2 (ja) | 放射線硬化性被覆組成物 | |
| JPH0844057A (ja) | 光硬化可能な樹脂組成物 | |
| WO1998023683A1 (en) | Radiation curable compositions based on unsaturated polyester, vinyl ether and urethane vinyl ether compounds | |
| JP3456441B2 (ja) | 不飽和ポリエステル樹脂塗膜の硬化方法 | |
| WO2024042074A1 (en) | Process for providing low gloss coatings | |
| JPH10168385A (ja) | 紫外線硬化型缶用塗料組成物及びこれを用いた塗装金属缶の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |