JPH02172758A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
- Publication number
- JPH02172758A JPH02172758A JP32842588A JP32842588A JPH02172758A JP H02172758 A JPH02172758 A JP H02172758A JP 32842588 A JP32842588 A JP 32842588A JP 32842588 A JP32842588 A JP 32842588A JP H02172758 A JPH02172758 A JP H02172758A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- sialon
- protective layer
- silicon dioxide
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ファクシミリやプリンター等の感熱記録に用
いられるサーマルヘッドに関する。
いられるサーマルヘッドに関する。
本発明は絶縁性基板上にグレーズ層、発熱抵抗体、電極
配線および保護層をもつサーマルヘッドにおいて、保護
層を二酸化珪素（ＳｉＯ□）とサイアロン（ＳｉＡｌＯ
Ｎ）の二層構造とすることにより、耐パルス性を向上さ
せ、長寿命化を可能としたものである。
配線および保護層をもつサーマルヘッドにおいて、保護
層を二酸化珪素（ＳｉＯ□）とサイアロン（ＳｉＡｌＯ
Ｎ）の二層構造とすることにより、耐パルス性を向上さ
せ、長寿命化を可能としたものである。
従来、薄膜サーマルヘッドは、第３図にその一例を示す
如く、絶縁性基板１表面にグレーズ層２を形成し、その
上に発熱抵抗体３を形成、さらに共通電極４１個別電極
５の給電配線を形成後、該発熱抵抗体３の酸化防止、耐
摩耗の為の保護層６が設けられている。ここで発熱抵抗
体３には従来窒化タンタル（ＴａＮ）が用いられていた
が、発熱抵抗体の高密度化、同時駆動発熱抵抗体の増加
に伴う消費電力の低減化の為、現在はより高比抵抗材料
のタンタルと二酸化珪素の化合物であるＴａ−５ｉＯ□
が多く用いられている。又、保３１［６には、耐摩耗性
に優れたサイアロン（ＳｉＡＺＯＮ）が多く用いられて
いる。
如く、絶縁性基板１表面にグレーズ層２を形成し、その
上に発熱抵抗体３を形成、さらに共通電極４１個別電極
５の給電配線を形成後、該発熱抵抗体３の酸化防止、耐
摩耗の為の保護層６が設けられている。ここで発熱抵抗
体３には従来窒化タンタル（ＴａＮ）が用いられていた
が、発熱抵抗体の高密度化、同時駆動発熱抵抗体の増加
に伴う消費電力の低減化の為、現在はより高比抵抗材料
のタンタルと二酸化珪素の化合物であるＴａ−５ｉＯ□
が多く用いられている。又、保３１［６には、耐摩耗性
に優れたサイアロン（ＳｉＡＺＯＮ）が多く用いられて
いる。
上記のように形成されたサーマルヘッドにおいて、Ｔａ
−５４０２発熱抵抗体３に発熱印字の為のパルス電圧を
供給した際に、Ｔａ−３ｉＯ□発熱低抗体３とサイアロ
ン保３１［６との熱膨張率の差から保護層の割れ、剥離
等が起こりやすく、耐摩耗性があるが、耐パルス性にお
いて十分な性能を発揮する事ができなかった。第２図に
従来のサーマルヘッドの耐パルス性についてステンプス
トレス８ＫＸＪ＜ ヲ行った結果を、第４図に試験後の
破断状態での発熱抵抗体部分の平面外観図を示す。ステ
ップストレス試験は、パルス幅１ ｍ５ｅｃ＋パルス周
期３ ｍ５ｅｃのパルスで、１０４ハルスを１ステツプ
として、各ステップの印加電圧を発熱抵抗体の単位面積
当たりの電力値をＩＯＷ／−から、５Ｗ／−きざみで増
加していく様に設定した。第２図に示す様に従来のサー
マルへラドでは６０Ｗ／ｍｄまでの耐パルス性しか得ら
れず、その破断状態は第４図に示す如く、発熱抵抗体３
のふくれ８．およびサイアロン保護層６の割れ９．？Ｉ
Ｊ離１０の発生であり、寿命の点で問題であった。
−５４０２発熱抵抗体３に発熱印字の為のパルス電圧を
供給した際に、Ｔａ−３ｉＯ□発熱低抗体３とサイアロ
ン保３１［６との熱膨張率の差から保護層の割れ、剥離
等が起こりやすく、耐摩耗性があるが、耐パルス性にお
いて十分な性能を発揮する事ができなかった。第２図に
従来のサーマルヘッドの耐パルス性についてステンプス
トレス８ＫＸＪ＜ ヲ行った結果を、第４図に試験後の
破断状態での発熱抵抗体部分の平面外観図を示す。ステ
ップストレス試験は、パルス幅１ ｍ５ｅｃ＋パルス周
期３ ｍ５ｅｃのパルスで、１０４ハルスを１ステツプ
として、各ステップの印加電圧を発熱抵抗体の単位面積
当たりの電力値をＩＯＷ／−から、５Ｗ／−きざみで増
加していく様に設定した。第２図に示す様に従来のサー
マルへラドでは６０Ｗ／ｍｄまでの耐パルス性しか得ら
れず、その破断状態は第４図に示す如く、発熱抵抗体３
のふくれ８．およびサイアロン保護層６の割れ９．？Ｉ
Ｊ離１０の発生であり、寿命の点で問題であった。
上記問題点を解決する為、本発明のサーマルヘッドは、
保護層を二酸化珪素（Ｓｉｎｇ）の中間層とサイアロン
（ＳｉＡＩＯＮ）の二層構造とした。
保護層を二酸化珪素（Ｓｉｎｇ）の中間層とサイアロン
（ＳｉＡＩＯＮ）の二層構造とした。
Ｔａ−５ｉ０２発熱抵抗体とサイアロン保護層の間に、
上記二酸化珪素（ＳｉＯ□）の中間層を設けることによ
り、二酸化珪素層が両層の熱膨張差の緩和層となり、サ
イアロン保護層の割れ、ｆｆ、＋＋ 離の発往をより亮
電力まで押さえる事ができるのである。
上記二酸化珪素（ＳｉＯ□）の中間層を設けることによ
り、二酸化珪素層が両層の熱膨張差の緩和層となり、サ
イアロン保護層の割れ、ｆｆ、＋＋ 離の発往をより亮
電力まで押さえる事ができるのである。
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図は、本発明のサーマルヘッドの断面図を示し、保護層
は従来のサイアロン（厚み３．０μ口）−層に対し本発
明では、二酸化珪素（厚み０．５μｍ）中間層７とサイ
アロン（Ｗ、み２．５Ａ’１ｌｌ） 保８ＵＨ６０）−
層構造を、それぞれのクーゲットを用いた連続スパッタ
リングにより形成した。第２図にこの様に形成したサー
マルヘッドのステップストレス試験の結果を、従来のサ
ーマルヘッドの結果と併せて示す。第２図に示すように
本発明のサーマルヘッドでは、中間層である二酸化珪素
層がＴＴａ−３ｉｎ発熱抵抗体とサイアロン保護層の熱
膨張差の緩和層となり、破断点を従来の６０Ｗ／ｍＩＡ
がら９０Ｗ／ｍＪまで延ばす事が可能となった。
図は、本発明のサーマルヘッドの断面図を示し、保護層
は従来のサイアロン（厚み３．０μ口）−層に対し本発
明では、二酸化珪素（厚み０．５μｍ）中間層７とサイ
アロン（Ｗ、み２．５Ａ’１ｌｌ） 保８ＵＨ６０）−
層構造を、それぞれのクーゲットを用いた連続スパッタ
リングにより形成した。第２図にこの様に形成したサー
マルヘッドのステップストレス試験の結果を、従来のサ
ーマルヘッドの結果と併せて示す。第２図に示すように
本発明のサーマルヘッドでは、中間層である二酸化珪素
層がＴＴａ−３ｉｎ発熱抵抗体とサイアロン保護層の熱
膨張差の緩和層となり、破断点を従来の６０Ｗ／ｍＩＡ
がら９０Ｗ／ｍＪまで延ばす事が可能となった。
以上の様に本発明によれば、保護層を二酸化珪素とサイ
アロンの二層構造とすることにより、従来よりも長寿命
のサーマルヘッドを提供することが可能となった。
アロンの二層構造とすることにより、従来よりも長寿命
のサーマルヘッドを提供することが可能となった。
第１図は本発明のサーマルヘッドの断面図、第２図は従
来及び本発明のサーマルヘッドのステップストレス試験
の結果を示す図、第３図は従来のサーマルヘッドの断面
図、第４閣は従来のサーマルヘッドのステップストレス
試験後の破断状態の平面外観図を示すものである。 ５・・・個別電極 ６・・・サイアロン保護層 ７・・・二酸化珪素中間層 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 １ ・・絶縁性基板 ２・・・グレーズ層 ３・・・Ｔａ−５ｉＯ□発熱抵抗体 ４・・・共通電極 頷井Ｒ７ｊ杢負５明のけ−マンレヘッドＯス示、、７゛
ストレ又言弐〃むｔ■（乞示７コ躬２回 ９Ｑ Ｆｆ−マル＼・７トのヌテ、）ＤストＬ又訊ｌＩ
Ｊ史後のｒ２祈宿、０千面功１丈り第４詔
来及び本発明のサーマルヘッドのステップストレス試験
の結果を示す図、第３図は従来のサーマルヘッドの断面
図、第４閣は従来のサーマルヘッドのステップストレス
試験後の破断状態の平面外観図を示すものである。 ５・・・個別電極 ６・・・サイアロン保護層 ７・・・二酸化珪素中間層 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 １ ・・絶縁性基板 ２・・・グレーズ層 ３・・・Ｔａ−５ｉＯ□発熱抵抗体 ４・・・共通電極 頷井Ｒ７ｊ杢負５明のけ−マンレヘッドＯス示、、７゛
ストレ又言弐〃むｔ■（乞示７コ躬２回 ９Ｑ Ｆｆ−マル＼・７トのヌテ、）ＤストＬ又訊ｌＩ
Ｊ史後のｒ２祈宿、０千面功１丈り第４詔
Claims (1)
- 絶縁性基板上にグレーズ層、発熱抵抗体、電極配線およ
び保護層を順次積層してなるサーマルヘッドにおいて、
該保護層が二酸化珪素（ＳｉＯ＿２）とサイアロン（Ｓ
ｉＡｌＯＮ）の二層構造となっていることを特徴とする
サーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32842588A JPH02172758A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32842588A JPH02172758A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | サーマルヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172758A true JPH02172758A (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=18210118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32842588A Pending JPH02172758A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02172758A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008105307A1 (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-04 | Rohm Co., Ltd. | サーマルプリントヘッド |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS604077A (ja) * | 1983-06-23 | 1985-01-10 | Fujitsu Ltd | サ−マルヘツド |
| JPS623968A (ja) * | 1985-06-29 | 1987-01-09 | Noritake Co Ltd | 耐摩耗性薄膜サ−マルヘツド |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP32842588A patent/JPH02172758A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS604077A (ja) * | 1983-06-23 | 1985-01-10 | Fujitsu Ltd | サ−マルヘツド |
| JPS623968A (ja) * | 1985-06-29 | 1987-01-09 | Noritake Co Ltd | 耐摩耗性薄膜サ−マルヘツド |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008105307A1 (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-04 | Rohm Co., Ltd. | サーマルプリントヘッド |
| JP2008207439A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Rohm Co Ltd | サーマルプリントヘッド |
| US7969459B2 (en) | 2007-02-26 | 2011-06-28 | Rohm Co., Ltd. | Thermal print head |
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