JPH02173614A - 液晶素子の配向膜形成方法 - Google Patents

液晶素子の配向膜形成方法

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JPH02173614A
JPH02173614A JP32755388A JP32755388A JPH02173614A JP H02173614 A JPH02173614 A JP H02173614A JP 32755388 A JP32755388 A JP 32755388A JP 32755388 A JP32755388 A JP 32755388A JP H02173614 A JPH02173614 A JP H02173614A
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JP
Japan
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substrate
solution
resin material
soln
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP32755388A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Sakamoto
正典 坂本
Yukio Suzuki
幸夫 鈴木
Takaki Takato
孝毅 高頭
Kazuyuki Haruhara
一之 春原
Yasushi Kawada
靖 川田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は液晶素子を構成する透明電極基板の表面に配向
膜を形成する方法に関する。
(従来の技術) 液晶素子は腕時計、電卓、テレビなどの表示装置として
広く使用されている。この液晶素子は、2枚の透明電格
基板を対向させ、スペーサを介して近接保持してセルを
形成し、このセルの内部に液晶材料を注入した構造を有
している。そして、前記透明電極基板の対向面には液晶
分子を一方向に配列させるために、一方向に配向処理が
施された配向膜が設けられている。
従来、配向膜の形成方法としては、透明電極基板の表面
にSiOなどの無機物を斜方蒸着させる方法が知られて
いるが、斜方蒸着法では大型基板上に均一な蒸着膜を形
成することが困難であり、液晶配向力の低い配向膜しか
得られず、しかもコスト高になるため、量産技術として
は不適当である。
そこで、配向膜の形成方法としては、透明電極基板の表
面に配向膜を構成するポリイミドなどの樹脂材料の溶液
をスピンコード法やオフセット印刷法などにより塗布し
、乾燥した後、布などで一方向にラビングする方法が最
も実用性の高い方法として用いられている。このように
ラビング処理を施すのは、スピンコード法やオフセット
法などにより形成された樹脂薄膜は、そのままでは液晶
。
分−’r−+配向させる作用を示さず、ラビング処理に
よってはじめて液晶分子を配向させる作用を示すように
なるためである。
このラビング処理の作用については、長い間解明されて
いなかったが、近年、ラビング処理により樹脂薄膜表面
の高分子鎖が配向し、これによって液晶分子を配向させ
る作用を示すようになるとの報告がなされている。実際
に、配向した高分子が強い液晶配向力を示すことはよく
知られている。
しかし、ラビング処理では基板上に形成された樹脂RH
を布などでこするため、以下のような問題が生じる。す
なわち、ラビング処理により生じた静電気が放電するこ
とにより、基板表面に形成された透明電極のパターンや
薄膜トランジスタなどを破壊したり、特性を劣化させた
りしてしまう。
また、ラビング処理ではゴミの発生が甚だしいため、ラ
ビング時にゴミによって表面キズが発生したり、液晶素
子中にゴミが挟み込まれる原因になっている。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は前記問題点を解決するためになされたものであ
り、ラビング処理を行うことなく、簡便に液晶配向力の
強い配向膜を形成することができ、透明電極のパターン
又は薄膜トランジスタの静電破壊や、ゴミの発生の問題
を避けることができる方法を提供することを目的とする
。
[発明の構成] (課題を解決するための手段と作用) 本発明の液晶素子の配向膜形成方法は、液晶素子を構成
する透明電極基板の表面に液晶分子を配向させる配向膜
を形成するにあたり、前記透明電極基板の表面に、配向
膜を構成する樹脂材料の溶液を接触させ、樹脂材料の溶
液にずり応力を加えて樹脂材料を流動配向させた後、乾
燥することを特徴とするものである。
本発明において、配向膜を構成する樹脂材料としては、
具体的には、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリアミド
、ポリエステルアミド、ポリアミドアミック酸、ポリエ
ステル、ポリエステルイミド、ポリエーテルスルホンの
群から選ばれる1種又は2種以上の混合物を挙げること
ができる。基本的には、溶媒に可溶であればいかなるも
のも使用できる。これら樹脂を適当な溶媒に溶解させ、
配向膜の膜厚に応じて溶液の粘度を調整する。
本発明において、樹脂材料の溶液にすり応力を加えて樹
脂材料を流動配向させる具体的な手段としては以下のよ
うな方法が挙げられる。
例えば、オフセット印刷法において、樹脂材料の溶液を
グラビア版からローラー表面のオフセット版に転写し、
更にオフセット版から透明電極基板に転写する際に、ロ
ーラーと透明電極基板との間に並進速度差を与える方法
がある。このためには、基板用の並進駆動機構を設ける
か、又はローラーの並進速度をローラー表面の周速度よ
りも遅くする駆動機構を設ける。この方法では、前記並
進速度差に応じて配向膜の配向性を制御できる。
また、透明電極基板を樹脂溶液中に浸漬し、基板面を溶
液面に対してほぼ垂直にして、基板を溶液中より一定方
向に引き上げる方法がある。この場合、引き上げ速度に
ついては、樹脂の種類、溶媒、粘度により最適な速度が
違ってくるが、一般に8〜50cm/1tHであること
が望ましい。これは、引き上げ速度が速すぎると膜厚の
均一性が損なわれ、一方引き上げ速度が遅すぎると充分
な配向性が得られなくなるためである。この方法では、
溶液の粘度、基板の引き上げ速度などにより配向膜の膜
厚、配向性を制御できる。
また、透明電極基板表面に樹脂材料の溶液を塗布し、加
圧板により溶液を一定方向に押し広げる方法がある。こ
の場合、樹脂材料の溶液の粘度を1ポイズ以上、より好
ましくは5〜5oポイズの範囲に:A整することが望ま
しい。粘度が1ボイズ未満では基板表面に塗布した樹脂
材料の溶液の流動性が高いため、高分子鎖を配向させる
ことができない。一方、粘度が例えば100ボイズ以上
と高いと加圧板を用いても基板表面に樹脂材料の溶液を
均一に押し広げることができず、また応力をかけた方向
にスジが入るなどの問題が生じ、高分子鎖を良好に配向
させることができない。この方法では、溶液の粘度など
により配向膜の膜厚、配向性を制御できる。
なお、この他にも、透明電極基板表面に延伸した高分子
フィルムを貼付する方法も考えられるが、この方法では
フィルムの膜厚を約3−以下にすることができないので
好ましくない。これは、配向膜の膜厚が厚いと、使用時
に電極間に印加した信号電圧が配向膜に分配される割合
が多くなり、液晶に有効に印加されなくなるためである
。
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
実施例1〜20及び比較例1〜4 第1図は本発明方法を実施するために用いられたオフセ
ット印刷機の概略構成図である。第1図において、基板
1とグラビア版4との間には、オフセット版2を貼付し
た200m+*径のオフセットローラー3が配置されて
いる。ローラー3はローラー回転駆動機構により回転角
速度ω(ラジアン/秒)で回転し、これに連動してロー
ラー並進駆動機構により100ω(am /秒)の並進
速度で並進する。また、通常のオフセット印刷機と異な
り、基板1も基板並進駆動機構によりローラー3の進行
方向に対して正方向又は逆方向にv(am/秒)の並進
速度で並進する。
このオフセット印刷機を用い、以下のようにして配向膜
を形成する。まず、グラビア版4上に樹脂溶液を塗布し
、ローラー3を逆回転させてグラビア版4からオフセッ
ト版2へ樹脂溶液を転写する。次に、ローラー3を正回
転させてオフセット版2から基板1へ樹脂溶液を転写す
る。この際、基板1をv(mm/秒)の並進速度で並進
させて、ローラー3と基板1との間に並進速度差を与え
る。
この場合、基板1とオフセット版2表面との間隙をdと
すると、v/d(1/秒)のずり速度勾配ができる。d
はほぼ1trmであるから、v−0,1mm/秒程度で
も、10’(1/秒)のずり速度基ができる。
第1表に示すように所定濃度に調整したポリイミド又は
ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液を、ローラ
ーの回転角速度及び基板の並進速度を第1表に示す値に
設定し、前記のようにして基板上にオフセット印刷した
後、速やかにホットプレート上に載せて加熱し、溶媒を
蒸発させて第1表に示す膜厚の配向膜を得た。
なお、比較例1〜4では基板の並進速度が0であり、樹
脂溶液にずり応力がかかっていない。また、比較例2.
4では基板の並進速度0で配向膜を形成した後、ラビン
グ処理を行った。
更に、配向膜が形成された基板を用いてセルを組立て、
ねじれネマチック型液晶を注入して液晶素子を作製した
。これらの液晶素子について、1cm2あたりの配向欠
陥数を調べ、配向膜の配向力を評価した。その結果を第
1表に併記する。
第1表から明らかなように、本発明方法により形成され
た配向膜は、実用上充分な配向力を示している。
実施N2L22 第2図に示すように、基板11を基板支持体12に取付
け、容器13に収容された樹脂材料の溶液14中に浸漬
した後、基板11面を溶液14面に対してほぼ垂直にし
て、基板支持体12及び基板11を溶液14中より一定
方向に引き上げ、そのまま乾燥して配向膜を形成した。
実施例2I 樹脂材料の溶液としてポリイミド/チーブチロラクトン
溶液を用い、この溶液の粘度を20センチポイズに調整
し、この溶液に基板支持体に取付けた基板を浸漬した後
、基板面を溶液面に対してほぼ垂直にして15cm/s
inの速さで引き上げた。そのまま15分間放置した後
、100℃のオーブンに移し、溶媒を蒸発させ、!!厚
1−の配向膜を得た。
この配向膜は良好な配向力を示すことが確認された。
実施例22 樹脂材料の溶液としてポリアミック酸/N−メチルピロ
リドン溶液を用い、この溶液の粘度を15センチボイズ
に調整し、この溶液に基板支持体に取付けた基板を浸漬
した後、基板面を溶液面に対してほぼ垂直にして8(至
)/mlnの速さで引き上げた。
そのまま150℃のオーブンに移し、溶媒を蒸発させた
。更に、再度前記溶液中に基板支持体を浸漬し、30c
m/sinの速さで基板支持体の軸方向に液面に対して
垂直に引き上げ、そのまま30分間放置した後、オーブ
ンで溶媒を蒸発させ、膜厚2pの配向膜を得た。
この配向膜は良好な配向力を示すことが確認された。
実施例23.24 第3図に示すように、基板21上に樹脂材料の溶液22
を塗布した後、加圧板23で溶液22を一定方向に押し
広げ、そのまま乾燥して配向膜を形成した。
実施例23 樹脂材料の溶液としてポリイミド/チーブチロラクトン
溶液を用い、この溶液の粘度を10ボイズに調整し、こ
の溶液を基板上に塗布した後、加圧板で押し広げた。こ
れをす早< 100℃のホットブレート上に移し、溶媒
を蒸発させ、膜厚1趨の配向膜を得た。
この配向膜は良好な配向力を示すことが確認された。
実施例24 樹脂材料の溶液としてポリアミック酸/N−メチルピロ
リドン溶液を用い、この溶液の粘度を5ボイズに調整し
、この溶液を100℃のホットプレート上に載せた基板
上に塗布した後、加圧板で押し広げた。これを150℃
で1時間キュアし、膜厚500人の配向膜を得た。
この配向膜は良好な配向力を示すことが確認された。
[発明の効果] 以上詳述したように本発明方法によれば、ラビング処理
を行うことなく、簡便に液晶配向力の強い配向膜を形成
することができ、透明電極のパターン又は薄膜トランジ
スタの静電破壊や、ゴミの発生の問題を避けることがで
き、その工業的価値は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例において配向膜を形成するため
に用いられたオフセット印゛刷機の概略構成図、第2図
は本発明の他の実施例における配向膜の形成方法を示す
説明図、第3図は本発明の更に他の実施例における配向
膜の形成方法を示す説明図である。 1・・・基板、2・・・オフセット版、3・・・オフセ
ットローラー 4・・・グラビア版、11・・・基板、
12・・・基板支持体、13・・・容器、14・・・樹
脂材料の溶液、21・・・基板、22・・・樹脂材料の
溶液、23・・・加圧板。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 液晶素子を構成する透明電極基板の表面に液晶分子を配
    向させる配向膜を形成するにあたり、前記透明電極基板
    の表面に、配向膜を構成する樹脂材料の溶液を接触させ
    、樹脂材料の溶液にずり応力を加えて樹脂材料を流動配
    向させた後、乾燥することを特徴とする液晶素子の配向
    膜形成方法。
JP32755388A 1988-12-27 1988-12-27 液晶素子の配向膜形成方法 Pending JPH02173614A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03203721A (ja) * 1989-12-29 1991-09-05 Nec Corp 液晶表示パネルの製造方法
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