JPH02176479A - 電気光学式サンプリング装置のクロック・刺激パターン発生器 - Google Patents
電気光学式サンプリング装置のクロック・刺激パターン発生器Info
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- JPH02176479A JPH02176479A JP1227277A JP22727789A JPH02176479A JP H02176479 A JPH02176479 A JP H02176479A JP 1227277 A JP1227277 A JP 1227277A JP 22727789 A JP22727789 A JP 22727789A JP H02176479 A JPH02176479 A JP H02176479A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
- G01R31/308—Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
-
- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
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- G01R31/319—Tester hardware, i.e. output processing circuits
- G01R31/31917—Stimuli generation or application of test patterns to the device under test [DUT]
- G01R31/31922—Timing generation or clock distribution
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は同期化・タイミング装置、−層詳しくは、電気
光学式検査装置により電子回路の高速検査を行うための
同期化・タイミング装置に関する。
光学式検査装置により電子回路の高速検査を行うための
同期化・タイミング装置に関する。
[従来の技術]
エミッタ結合型論理回路(ECL)、ひ化ガリウム、相
補型MOSの技術を用いる集積回路、装置の改良を行っ
て作動速度を高めた結果。
補型MOSの技術を用いる集積回路、装置の改良を行っ
て作動速度を高めた結果。
200MHz以上で作動する集積回路や装置を検査する
ことのできる生産検査・回路特性検査用の検査機器が必
要となってきた0本出願人が別の出願で提案している1
ギガヘルツより高い周波数て作動する検査装置では、1
.2Gb/sのNRZデータ転送速度を持つ電子刺激検
査・ベクトルを発生し、電気光学効果、すなわち。
ことのできる生産検査・回路特性検査用の検査機器が必
要となってきた0本出願人が別の出願で提案している1
ギガヘルツより高い周波数て作動する検査装置では、1
.2Gb/sのNRZデータ転送速度を持つ電子刺激検
査・ベクトルを発生し、電気光学効果、すなわち。
Pocks 1 s効果を利用して被検査装置(DUT
)の入出力信号を測定している。
)の入出力信号を測定している。
同期化・タイミング用の電気光学式検査装置については
種々の技術が従来利用されている。
種々の技術が従来利用されている。
そのうちの1つの技術では、電子検査信号発生用のタイ
ミング基準としても、生じた電子信号の測定のための光
学サンプリング・パルスとしても光学サンプリング・パ
ルスを使用している。
ミング基準としても、生じた電子信号の測定のための光
学サンプリング・パルスとしても光学サンプリング・パ
ルスを使用している。
Valdmanis等の米国特許第4,446゜425
号ならびにBloom等の米国特許第4゜681.44
9号が、それぞれ、レーザー源からの光パルスを使用し
てフォトダイオードから電子パルスを光学的に発生させ
る装置を記載している。これらのパルスは次いでPoc
ke 1 sセルに直接送られる。光パルスかフォトダ
イオードに衝突する前に移動する光路を機械的に変更さ
せることによって光パルスに対する電子パルスの位相調
部すなわち遅延が行われる。このような機械的な変更は
走査測定操作を非常に遅くし、精密な光路のずれを生じ
易くする。
号ならびにBloom等の米国特許第4゜681.44
9号が、それぞれ、レーザー源からの光パルスを使用し
てフォトダイオードから電子パルスを光学的に発生させ
る装置を記載している。これらのパルスは次いでPoc
ke 1 sセルに直接送られる。光パルスかフォトダ
イオードに衝突する前に移動する光路を機械的に変更さ
せることによって光パルスに対する電子パルスの位相調
部すなわち遅延が行われる。このような機械的な変更は
走査測定操作を非常に遅くし、精密な光路のずれを生じ
易くする。
別の技術では、周波数合成器に対してレーザーをロック
している。この周波数合成器は電子刺激信号を発生する
時間ベースとして用いられる。周波数合成器は光学パル
ス繰り返し周波数プラス小オフセット周波数の調波周波
数に同調させられる。その結果、電気光学式検出器に与
えられたレーザー・パルスが反復電子信号を逐次サンプ
リング・パルスとしてゆっくりと走査するように思える
。この技術にはいくつかの欠陥がある。刺激信号局波数
がレーザー・パルス繰り返し周波数の調波周波数かある
いはそれに非常に近いレベルに制限されるのである。こ
れは装置の周波数分解範囲をかなり制限する。このよう
な装置はサンプリング・モードでしか作動できず、光学
パルスを繰り返し刺激信号に迅速に乗せることかできな
い。
している。この周波数合成器は電子刺激信号を発生する
時間ベースとして用いられる。周波数合成器は光学パル
ス繰り返し周波数プラス小オフセット周波数の調波周波
数に同調させられる。その結果、電気光学式検出器に与
えられたレーザー・パルスが反復電子信号を逐次サンプ
リング・パルスとしてゆっくりと走査するように思える
。この技術にはいくつかの欠陥がある。刺激信号局波数
がレーザー・パルス繰り返し周波数の調波周波数かある
いはそれに非常に近いレベルに制限されるのである。こ
れは装置の周波数分解範囲をかなり制限する。このよう
な装置はサンプリング・モードでしか作動できず、光学
パルスを繰り返し刺激信号に迅速に乗せることかできな
い。
[発明の概要]
よって、本発明の目的は高速電気光学式検査装置のため
の改良したタイミング・合成化装置な提供することにあ
る。
の改良したタイミング・合成化装置な提供することにあ
る。
本発明の別の目的は繰り返し刺激波形の任意の点に光学
サンプリング・パルスを正確かつ迅速に位置決めできる
タイミング・合成化装置を提供することにある。
サンプリング・パルスを正確かつ迅速に位置決めできる
タイミング・合成化装置を提供することにある。
本発明の別の目的は刺激信号を発生させるための時間基
準信号として光学サンプリング・パルスを使用する高速
電気光学式検査装置用の改良したタイミング・合成化装
置を提供することにある。
準信号として光学サンプリング・パルスを使用する高速
電気光学式検査装置用の改良したタイミング・合成化装
置を提供することにある。
本発明の別の目的は高速電気光学式検査装置にタイミン
グ・合成化信号を分配する改良した方法を提供すること
にある。
グ・合成化信号を分配する改良した方法を提供すること
にある。
本発明の別の目的は波形マツピングのための逐次サンプ
リング・モードあるいは機能検査のための準ランダム・
サンプリング・モードのいずれかを用いて検査できる高
速電気光学式検査装置を提供することにある。
リング・モードあるいは機能検査のための準ランダム・
サンプリング・モードのいずれかを用いて検査できる高
速電気光学式検査装置を提供することにある。
本発明の別の目的は周波数に敏感であり、良好な周波数
分解能を有する高速電気光学式検査装置を提供すること
にある。
分解能を有する高速電気光学式検査装置を提供すること
にある。
本発明の別の目的はレーザー・パルスの周波数を繰り返
し刺激信号の周波数にロックする高速電気光学式検査装
置を提供することにある。
し刺激信号の周波数にロックする高速電気光学式検査装
置を提供することにある。
本発明の別の目的は電子装置を検査できる速度を改善し
た高速電気光学式検査装置を提供することにある。
た高速電気光学式検査装置を提供することにある。
本発明のこれらおよび他の目的によれば、プログラマブ
ル基準クロック発生器が刺激パターン発生器をトリガす
るように設けられ、この刺激パターン発生器が光学サン
プリング・パルスを用いている電気光学式検査装置にお
ける被検査装置(DUT)を電子的に検査する信号を発
生する。
ル基準クロック発生器が刺激パターン発生器をトリガす
るように設けられ、この刺激パターン発生器が光学サン
プリング・パルスを用いている電気光学式検査装置にお
ける被検査装置(DUT)を電子的に検査する信号を発
生する。
基準クロック発生器は基準パルスのソースを包含する。
これらのパルスは光学パルス・ソースから導き出されて
もよいし、光パルスのソースをトリガする基準パルスで
あってもよい。刺激クロック信号は電子基準パルスから
合成され1合成器はその出力を電子基準パルス率の調波
周波数に周波数ロックするようにプログラムされる。ク
ロック信号の発生率は光学サンプリング・パルスに応じ
て変え得る0本発明の成る特徴によれば1合成器はプロ
グラマブル分周器を有するフェーズロックループであっ
てもよい。フェーズロックループの出力は、たとえば、
パルス・スヮロウ/イクスペル・カウンタ内で遅延操作
を受け、公称出力信号や光学サンプリング・パルスに関
して位相が遅れているか、あるいは、進んでいるクロッ
ク信号を発生する。
もよいし、光パルスのソースをトリガする基準パルスで
あってもよい。刺激クロック信号は電子基準パルスから
合成され1合成器はその出力を電子基準パルス率の調波
周波数に周波数ロックするようにプログラムされる。ク
ロック信号の発生率は光学サンプリング・パルスに応じ
て変え得る0本発明の成る特徴によれば1合成器はプロ
グラマブル分周器を有するフェーズロックループであっ
てもよい。フェーズロックループの出力は、たとえば、
パルス・スヮロウ/イクスペル・カウンタ内で遅延操作
を受け、公称出力信号や光学サンプリング・パルスに関
して位相が遅れているか、あるいは、進んでいるクロッ
ク信号を発生する。
本発明の別の特徴によれば、高速電気光学式検査装置の
ための電子刺激パターン発生器は上述したような時間ベ
ース・クロックを発生する手段と、クロックと同期して
刺激パターンを発生し。
ための電子刺激パターン発生器は上述したような時間ベ
ース・クロックを発生する手段と、クロックと同期して
刺激パターンを発生し。
刺激パターンが検査装置用の光学サンプリング・パルス
と同期化するようにした手段とを包含する。パターンは
基準クロック率で並列モードにおいて発生させられ、検
査中の電子装置のビンに隣接して位置するビン電子回路
におけるクロック信号の逓倍によって直列モードに変換
される0本発明のまた別の特徴によれば、上述した刺激
パターン発生器は、さらに、所望の長さを有する所定の
刺激パターンを繰り返させる手段を包含する。刺激パタ
ーンのすべてのビットは光学サンプリング・パルスによ
って抜き取られる。フィードバック・バス・フェーズロ
ックループの除数Nは奇数の整数でなければならず、所
望の刺激クロック周波数と光学パルス繰り返し率の間の
比率を計算することによって決定される。
と同期化するようにした手段とを包含する。パターンは
基準クロック率で並列モードにおいて発生させられ、検
査中の電子装置のビンに隣接して位置するビン電子回路
におけるクロック信号の逓倍によって直列モードに変換
される0本発明のまた別の特徴によれば、上述した刺激
パターン発生器は、さらに、所望の長さを有する所定の
刺激パターンを繰り返させる手段を包含する。刺激パタ
ーンのすべてのビットは光学サンプリング・パルスによ
って抜き取られる。フィードバック・バス・フェーズロ
ックループの除数Nは奇数の整数でなければならず、所
望の刺激クロック周波数と光学パルス繰り返し率の間の
比率を計算することによって決定される。
[好ましい実施例の詳細な説明]
以下、本発明の好ましい実施例について詳しく説明を行
うが、これらの実施例は添付図面に図示しである。本発
明を好ましい実施例に関連して説明するけれども、発明
をそれに限定するつもりがないことは了解されたい、そ
れどころか、本発明は特許請求の範囲に定義した発明の
精神、範囲内に含まれ得る代替物、修正物、均等物すべ
てを網羅することを意図している。
うが、これらの実施例は添付図面に図示しである。本発
明を好ましい実施例に関連して説明するけれども、発明
をそれに限定するつもりがないことは了解されたい、そ
れどころか、本発明は特許請求の範囲に定義した発明の
精神、範囲内に含まれ得る代替物、修正物、均等物すべ
てを網羅することを意図している。
第1図はラック格納装置内に収容された主システム・ユ
ニット12と検査ヘッド・ユニット14とを包含する電
気光学式検査装置10のブロック図である。
ニット12と検査ヘッド・ユニット14とを包含する電
気光学式検査装置10のブロック図である。
主システム・ユニット12 にk S U N 3 /
160システム・コントローラ16と、ECL刺激パタ
ーン発生器18と、プログラマブル・システム時間ベー
ス発生器20と、サンプリング・コントローラを包含す
るデータ獲得システム22と、被検査装置(DUT)の
ためのプログラマブル給電装置24と、光学サンプリン
グ・ソースとしてのモードロック型Nd:YAGレーザ
−26と、システム給電装置28を含む他の支援電子機
器とを包含する。
160システム・コントローラ16と、ECL刺激パタ
ーン発生器18と、プログラマブル・システム時間ベー
ス発生器20と、サンプリング・コントローラを包含す
るデータ獲得システム22と、被検査装置(DUT)の
ためのプログラマブル給電装置24と、光学サンプリン
グ・ソースとしてのモードロック型Nd:YAGレーザ
−26と、システム給電装置28を含む他の支援電子機
器とを包含する。
検査ヘット・ユニット14は多数の高速ビン電子機器(
PE))’ライバ30の回路を被検査装置の各ビンに1
つあて包含する。これらの回路は中央設置の管状支持構
造32のまわりに半径方向に取り付けである。被検査装
置I(DUT)34は管状支持構造32の頂端のところ
で制御インピーダンス・プラットフォームに取り付けら
れる。刺激信号、電力、応答はDUT34の個々のビン
とビン電子機器回路ドライバ30のボートとの間で導線
(図示せず)を通してやりとりされる。DUT34の入
力/出力ビンはPockelsセル電気光学センサ36
に接続している。このセンサ36はレーザー・パルスに
よって光学的にサンプリング操作を受ける。レーザー・
パルスの経路は光線38で示しである。電気光学式操作
・測定システム40がレーザー・ソース26から光フア
イバ導線42に光パルスを受ける。
PE))’ライバ30の回路を被検査装置の各ビンに1
つあて包含する。これらの回路は中央設置の管状支持構
造32のまわりに半径方向に取り付けである。被検査装
置I(DUT)34は管状支持構造32の頂端のところ
で制御インピーダンス・プラットフォームに取り付けら
れる。刺激信号、電力、応答はDUT34の個々のビン
とビン電子機器回路ドライバ30のボートとの間で導線
(図示せず)を通してやりとりされる。DUT34の入
力/出力ビンはPockelsセル電気光学センサ36
に接続している。このセンサ36はレーザー・パルスに
よって光学的にサンプリング操作を受ける。レーザー・
パルスの経路は光線38で示しである。電気光学式操作
・測定システム40がレーザー・ソース26から光フア
イバ導線42に光パルスを受ける。
パターン発生器18からの刺激検査データは16ビツト
・ワイドECLフォーマットの並列形態で検査ヘット内
のPE回路ボード3oの各々に送られる。このデータは
検査ヘッド内で直列形態に多重化され、16倍の周波数
でDUT34の刺激を行う。
・ワイドECLフォーマットの並列形態で検査ヘット内
のPE回路ボード3oの各々に送られる。このデータは
検査ヘッド内で直列形態に多重化され、16倍の周波数
でDUT34の刺激を行う。
第2図は多数のサブシステム要素を有する1゜2GHz
パタ一ン発生器システム5oのブロック図である。シス
テム・コントローラ51が図示したようなC0NTR0
LLERBUSによッテシステムのすべての機能を制御
する0時間基準サブシステム52が、たとえば、第1図
のレーザー・パルス・ソース26から発する非常に安定
したレーザー・パルスからシステム時間基準パルスを引
き出す。レーザー・パルスは電気光学センサ36のため
の光学サンプリング・パルスのソースとしても役立つの
て、システム全体を同期化して刺激データ・パターンお
よび応答測定を光学サンプルと同期させるようにするこ
とができる。
パタ一ン発生器システム5oのブロック図である。シス
テム・コントローラ51が図示したようなC0NTR0
LLERBUSによッテシステムのすべての機能を制御
する0時間基準サブシステム52が、たとえば、第1図
のレーザー・パルス・ソース26から発する非常に安定
したレーザー・パルスからシステム時間基準パルスを引
き出す。レーザー・パルスは電気光学センサ36のため
の光学サンプリング・パルスのソースとしても役立つの
て、システム全体を同期化して刺激データ・パターンお
よび応答測定を光学サンプルと同期させるようにするこ
とができる。
時間ベース・システム53がPE回路カート30のすべ
てに共通のタイミング情報を与える。
てに共通のタイミング情報を与える。
検査装置全体のタイミングは容易に変えることのできな
い安定したレーザー・パルスにロックされる。光学サン
プリング率は電気光学センサ36の性能に限界があるた
めIMHzに制限される。その結果、成る種のケースで
はIGHzを超えるクロック率で作動する刺激パターン
は、成る刺激パターンの各ビットをIMHzで作動して
いる光学サンプリング・パルスによってサンプリングで
きるように変えなければならない。刺激穴ターンを逐次
サンプリングできないので、準ランダム・パターンと呼
び得るものとして刺激パターンを走査する成る種の手段
が必要である。時間ベース・システム53は刺激パター
ン発生器18のタイミングをレーザー・サンプリング・
パルスに対して動かして、レーザー・パルスが有効な準
ランダム様式で32にビットまでの刺激パターン全体を
サンプリングできるようにすることができる。時間ベー
ス・システム53はデータ・カード54およびこのデー
タ・カートのためのアドレス・カード55の走査に必要
なクロック・パルスも発生する。以下に説明するように
、時間ベース・システム53の成る実施例では、フェー
ズロックループ合成器が光学サンプリング・レーザー・
パルスの光検出によって得られる電子基準信号に関係す
る。
い安定したレーザー・パルスにロックされる。光学サン
プリング率は電気光学センサ36の性能に限界があるた
めIMHzに制限される。その結果、成る種のケースで
はIGHzを超えるクロック率で作動する刺激パターン
は、成る刺激パターンの各ビットをIMHzで作動して
いる光学サンプリング・パルスによってサンプリングで
きるように変えなければならない。刺激穴ターンを逐次
サンプリングできないので、準ランダム・パターンと呼
び得るものとして刺激パターンを走査する成る種の手段
が必要である。時間ベース・システム53は刺激パター
ン発生器18のタイミングをレーザー・サンプリング・
パルスに対して動かして、レーザー・パルスが有効な準
ランダム様式で32にビットまでの刺激パターン全体を
サンプリングできるようにすることができる。時間ベー
ス・システム53はデータ・カード54およびこのデー
タ・カートのためのアドレス・カード55の走査に必要
なクロック・パルスも発生する。以下に説明するように
、時間ベース・システム53の成る実施例では、フェー
ズロックループ合成器が光学サンプリング・レーザー・
パルスの光検出によって得られる電子基準信号に関係す
る。
高速ビン電子機器PE回路カード56か多数設けてあり
、その各々が1つのDUTの1つの端子ビンと組合わせ
た1つの高速チャンネルのための回路を包含する。PE
カードの全機能は対応したデータ・カード16か637
.5〜75MHzのクロック率で16ビツト・ワイド・
データ・ストリームを受は取り、1200 M B /
sまでの率で1つのDUTの1つのビンにこのデータ
を送ることにある。成る実施例では、1つのDUTが2
0本のビンを有し、各ビンが対応したデータ・カード5
4とPEカードを有し、このようなCUTを検査するこ
とができる。
、その各々が1つのDUTの1つの端子ビンと組合わせ
た1つの高速チャンネルのための回路を包含する。PE
カードの全機能は対応したデータ・カード16か637
.5〜75MHzのクロック率で16ビツト・ワイド・
データ・ストリームを受は取り、1200 M B /
sまでの率で1つのDUTの1つのビンにこのデータ
を送ることにある。成る実施例では、1つのDUTが2
0本のビンを有し、各ビンが対応したデータ・カード5
4とPEカードを有し、このようなCUTを検査するこ
とができる。
第3図は第2図の時間ベース発生器53に想到する時間
ベース発生器システムのブロック図てあり、これは76
MHzのパルス繰り返し周波数で作動するレーザー・パ
ルス・ソース52から時間基準クロック・パルスの供給
を受ける。このパルス繰り返し周波数が検出されて電子
基準パルスを与える。基準分周器回路60が電子基準パ
ルスの76MHzパルス繰り返し率を分割してIMHz
信号まで下げる。この信号は位相検出器62を包含する
プログラマブル・フェーズロックループのための基準周
波数である。位相検出器62は1MHz基準信号につな
がる1つの入力部を有する0位相検出器62からの出力
エラー信号は低域ループ・フィルタ64を通して電圧制
御式オシレータ(VCO)66の電圧制御入力端子に送
られる。このオシレータは600〜1200MHzの範
囲にわたって作動する。vCOの出力信号は、まず、プ
レスケーラ回路68において4て割られる0次に、この
信号はプログラマブルN除算回路70(ここで、Nは1
50〜300の範囲にある)において除算され、位相検
出器62の第2人力部に送られる。
ベース発生器システムのブロック図てあり、これは76
MHzのパルス繰り返し周波数で作動するレーザー・パ
ルス・ソース52から時間基準クロック・パルスの供給
を受ける。このパルス繰り返し周波数が検出されて電子
基準パルスを与える。基準分周器回路60が電子基準パ
ルスの76MHzパルス繰り返し率を分割してIMHz
信号まで下げる。この信号は位相検出器62を包含する
プログラマブル・フェーズロックループのための基準周
波数である。位相検出器62は1MHz基準信号につな
がる1つの入力部を有する0位相検出器62からの出力
エラー信号は低域ループ・フィルタ64を通して電圧制
御式オシレータ(VCO)66の電圧制御入力端子に送
られる。このオシレータは600〜1200MHzの範
囲にわたって作動する。vCOの出力信号は、まず、プ
レスケーラ回路68において4て割られる0次に、この
信号はプログラマブルN除算回路70(ここで、Nは1
50〜300の範囲にある)において除算され、位相検
出器62の第2人力部に送られる。
プレスケーラ68の出力は粗遅延カウンタ72にも送ら
れる。この粗遅延カウンタは通常は8による除算を行い
、7あるいは9のいずれかによる除算を行うように切り
換えることができる。
れる。この粗遅延カウンタは通常は8による除算を行い
、7あるいは9のいずれかによる除算を行うように切り
換えることができる。
7あるいは9による除算を行うことの効果は、粗遅延回
路72の出力部のところの信号が基準レーザー・サンプ
リング・パルスを+1または−1の光学サンプリング・
パルス期間だけ進めるかあるいは遅らせることにある。
路72の出力部のところの信号が基準レーザー・サンプ
リング・パルスを+1または−1の光学サンプリング・
パルス期間だけ進めるかあるいは遅らせることにある。
1未満のサンプリング・パルス期間の時間遅延は粗遅延
回路72の出力部に接続した微遅延回路74によって得
られる。
回路72の出力部に接続した微遅延回路74によって得
られる。
微遅延回路74はディジタル制御式L−C転送遅延ライ
ンであり、ここにおいて、Cは電圧同調バラクダであり
、7ナノ秒の遅延範囲を有する。粗遅延と微遅延の組合
わせを用いることによって、時間ベース・サブシステム
53の出力クロック間の任意の相対位相差を得ることが
できる。時間ベース・サブシステム53の出力は18.
75〜37.5MHzの周波数であり、これはクロック
分配回路網76を通しピン電子回路およびデータ、アド
レス回路カードに容易に分配され得る。
ンであり、ここにおいて、Cは電圧同調バラクダであり
、7ナノ秒の遅延範囲を有する。粗遅延と微遅延の組合
わせを用いることによって、時間ベース・サブシステム
53の出力クロック間の任意の相対位相差を得ることが
できる。時間ベース・サブシステム53の出力は18.
75〜37.5MHzの周波数であり、これはクロック
分配回路網76を通しピン電子回路およびデータ、アド
レス回路カードに容易に分配され得る。
時間ベース・サブシステム53の性能パラメータは1%
未満の岡波数分解箋、5ピコ秒未満の残余時間ジッダ、
ならびに、10ピコ秒未満の分解能を伴った6、6ナノ
秒の最小微遅延範囲である。
未満の岡波数分解箋、5ピコ秒未満の残余時間ジッダ、
ならびに、10ピコ秒未満の分解能を伴った6、6ナノ
秒の最小微遅延範囲である。
4除算プレスケーラ68を用いたのは、600〜120
0MHzの入力周波数を有するプログラマブル・カウン
タを設計し、作動させるのか難しかったからであり、ま
た、伝播遅延の公差が1入力パルス期間に近かったから
である。プレスケーラは較正副筒をまったく必要としな
い性能を確保するように選んだ。
0MHzの入力周波数を有するプログラマブル・カウン
タを設計し、作動させるのか難しかったからであり、ま
た、伝播遅延の公差が1入力パルス期間に近かったから
である。プレスケーラは較正副筒をまったく必要としな
い性能を確保するように選んだ。
タイミング周波数を変えたときにパターン発生器の設定
時間を減らすべく、粗遅延回路と微遅延回路をフェーズ
ロックループの外部に設置した。
時間を減らすべく、粗遅延回路と微遅延回路をフェーズ
ロックループの外部に設置した。
粗遅延回路72は9または7で除算するようにプログラ
ムできる8除算パルス・スワロウ/イクスペル・カウン
タである。パルス・スワロウ操作は4つのvCOクロッ
ク・サイクルを早期にサンプリングさせることになり、
パルス・イクスペリング操作は4つのvCOクロック・
サイクルをより後に刺激パターンでサンプリングさせる
ことになる。それ故、最大遅延範囲は6.67ナノ秒と
なる。すなわち、4つの600MHzクロック・サイク
ルとなる。この範囲内で補間を行うために。
ムできる8除算パルス・スワロウ/イクスペル・カウン
タである。パルス・スワロウ操作は4つのvCOクロッ
ク・サイクルを早期にサンプリングさせることになり、
パルス・イクスペリング操作は4つのvCOクロック・
サイクルをより後に刺激パターンでサンプリングさせる
ことになる。それ故、最大遅延範囲は6.67ナノ秒と
なる。すなわち、4つの600MHzクロック・サイク
ルとなる。この範囲内で補間を行うために。
微遅延回路は電圧同調バラクタであるCを持ったL−C
集中伝送ライン構造を用いることによって約7ナノ秒の
範囲にわたって4096の量子化遅延ステップを与える
。
集中伝送ライン構造を用いることによって約7ナノ秒の
範囲にわたって4096の量子化遅延ステップを与える
。
第4図は第1図に示すサブシステムのいくつかと第3図
に示す時間ベース発生器53とを示す電気光学式検査装
置のブロック図である。この実施例ては、システム光学
サンプリング・ソースは一定の繰り返し率またとえば、
約76M)(zて一連の光パルスを発生するモードロラ
フ式YAGレーザー80である。レーザーの光出力はビ
ーム・スプリッタ82によって分割される。、1つのビ
ームは高速光検出器83に入射し、この高速光検出器の
電子信号出力部はカウンタ60を駆動する。カウンタ出
力は時間ベース周波数合成器53のための位相基準信号
を与える。カウンタ60の出力は光学パルス・セレクタ
86のためのタイミング信号としても使用される。この
光学パルス・セレクタはレーザー80の光学出力パルス
をゲート制御し1カウンタ60の出力パルスと時間的に
一致する光学パルスのみを通す。通過したこれらの光学
パルスは参照符号88で示すように1つのDUTをサン
プリングするための光学サンプリング・パルスとなる。
に示す時間ベース発生器53とを示す電気光学式検査装
置のブロック図である。この実施例ては、システム光学
サンプリング・ソースは一定の繰り返し率またとえば、
約76M)(zて一連の光パルスを発生するモードロラ
フ式YAGレーザー80である。レーザーの光出力はビ
ーム・スプリッタ82によって分割される。、1つのビ
ームは高速光検出器83に入射し、この高速光検出器の
電子信号出力部はカウンタ60を駆動する。カウンタ出
力は時間ベース周波数合成器53のための位相基準信号
を与える。カウンタ60の出力は光学パルス・セレクタ
86のためのタイミング信号としても使用される。この
光学パルス・セレクタはレーザー80の光学出力パルス
をゲート制御し1カウンタ60の出力パルスと時間的に
一致する光学パルスのみを通す。通過したこれらの光学
パルスは参照符号88で示すように1つのDUTをサン
プリングするための光学サンプリング・パルスとなる。
粗a延回路72および微遅延回路74は特定の刺激パタ
ーン・ビットのためのクロック・パルスを光学サンプリ
ング・パルスに対して進めたり、〃らせたりする。微遅
延回路74の較正はパルス・イクスベル/スワロウ能力
を有する可変カウンタ70内で入手できる信号除算を比
較することによって行われる。この可変カウンタはフェ
ーズロックループを介して光学基準パルスあるいはシス
テム電子基準パルスにロックされた正確な既知の期間を
有する信号を発生する0時間較正回路75が基準入力信
号を微遅延回路74の出力と比較して微遅延のフルスケ
ール遅延を較正する。
ーン・ビットのためのクロック・パルスを光学サンプリ
ング・パルスに対して進めたり、〃らせたりする。微遅
延回路74の較正はパルス・イクスベル/スワロウ能力
を有する可変カウンタ70内で入手できる信号除算を比
較することによって行われる。この可変カウンタはフェ
ーズロックループを介して光学基準パルスあるいはシス
テム電子基準パルスにロックされた正確な既知の期間を
有する信号を発生する0時間較正回路75が基準入力信
号を微遅延回路74の出力と比較して微遅延のフルスケ
ール遅延を較正する。
第4図は適正な時刻にDU78Bに刺激パルスを与えて
光学サンプリング・パルスによって電気光学せるにおけ
るサンプリングを行わせる刺激パターン・ソース90に
信号を送るクロック分配システム76も示している。
光学サンプリング・パルスによって電気光学せるにおけ
るサンプリングを行わせる刺激パターン・ソース90に
信号を送るクロック分配システム76も示している。
第5図は32に検査ベクトル、すなわち、検査ビットを
保持しているRAM 100を有するデータ・カード5
4のブロック図である。データ・カートの出力は16ビ
ツト ワイド微分ECLデータ・ストリームである。デ
ータ・カード54のデータ転送速度は600〜1200
Mb/Sである。もっと低いデータ転送速度を得るため
に、データ・エクスパンダ回路102がデータ・ビット
を繰り返し、32にの最大検査ベクトル長をデータ転送
速度と無関係に維持されるようにする。+1または−l
のデータ・サイクルの遅延範囲をクロック周波数の全範
囲にわたって、すなわち、75〜1200MHzの範囲
にわたって得るために、ディジタル遅延回路104が大
きな遅延用にデータ・カード54内に設けてあり、必要
に応じて小さい遅延用にアナログ遅延がPEカードに与
えられる。
保持しているRAM 100を有するデータ・カード5
4のブロック図である。データ・カートの出力は16ビ
ツト ワイド微分ECLデータ・ストリームである。デ
ータ・カード54のデータ転送速度は600〜1200
Mb/Sである。もっと低いデータ転送速度を得るため
に、データ・エクスパンダ回路102がデータ・ビット
を繰り返し、32にの最大検査ベクトル長をデータ転送
速度と無関係に維持されるようにする。+1または−l
のデータ・サイクルの遅延範囲をクロック周波数の全範
囲にわたって、すなわち、75〜1200MHzの範囲
にわたって得るために、ディジタル遅延回路104が大
きな遅延用にデータ・カード54内に設けてあり、必要
に応じて小さい遅延用にアナログ遅延がPEカードに与
えられる。
第6図はアドレス・カードを示しており、このアドレス
・カードの主要な機能はデータ・カードRAMにアドレ
ス情報を与えることにある。スタート・レジスタ110
がデータ・カードに最初に与えられる出発データを選定
する。ストップ・レジスタ112がアドレス・カウンタ
114の最終カウントを決定する。ストップ・アドレス
はラップ・カウンタ出力端子がカウントするまでデータ
・カートのメモリに連続的に与えられる。
・カードの主要な機能はデータ・カードRAMにアドレ
ス情報を与えることにある。スタート・レジスタ110
がデータ・カードに最初に与えられる出発データを選定
する。ストップ・レジスタ112がアドレス・カウンタ
114の最終カウントを決定する。ストップ・アドレス
はラップ・カウンタ出力端子がカウントするまでデータ
・カートのメモリに連続的に与えられる。
600〜1200MHz未満の検査ベクトル率を許すた
めに、レンジ・カウンタ118がアドレス、カウンタ1
14への入力部のところのクロック・パルス率をデータ
転送速度の各オクターブ減少毎に2の因数分だけ減少さ
せる。アドレス・カウンタは検査ベクトル長を次のよう
に拘束する。
めに、レンジ・カウンタ118がアドレス、カウンタ1
14への入力部のところのクロック・パルス率をデータ
転送速度の各オクターブ減少毎に2の因数分だけ減少さ
せる。アドレス・カウンタは検査ベクトル長を次のよう
に拘束する。
TVL = 18*x
ここで、Xは整数であり、kは600〜1200 M
Hzないし75〜150 M Hzで出発した4オクタ
一ブ分について0〜3まで変わる。
Hzないし75〜150 M Hzで出発した4オクタ
一ブ分について0〜3まで変わる。
第7図はビン電子機器(PE)回路カード56のブロッ
ク図である。第1図に示すような典型的なシステム検査
ヘッド14がこのような回路カードを20個含み、それ
ぞれが1つの高速チャンネルについて回路を包含する。
ク図である。第1図に示すような典型的なシステム検査
ヘッド14がこのような回路カードを20個含み、それ
ぞれが1つの高速チャンネルについて回路を包含する。
PEカートの全種を針はデータ・カードから37−5〜
75MHzで16ビツト・ワイド並列データ・ストリー
ムを受は取り、検査ヘッド上の1つのDUTに1200
M Hzまでの率で直列出力データ・ストリームを正
確に給送することにある。
75MHzで16ビツト・ワイド並列データ・ストリー
ムを受は取り、検査ヘッド上の1つのDUTに1200
M Hzまでの率で直列出力データ・ストリームを正
確に給送することにある。
PRカードのタイミング制御部分はディジタル制御式時
間遅延回路120とフェーズロックループ122とを包
含する。18.75〜37゜5MHzの基準クロック信
号が位相検出器回路の1入力となり、この位相検出器回
路の出力が低域フィルタ回路126において濾波され、
VCo 128の制御端子に送られてその周波数を60
0〜1200MHzの範囲にわたって制御する。VCO
出力周波数は分周器回路130において16で割られ、
分周器回路132において2で割られる。32で割られ
たVCO出力信号は位相検出器124の他の入力部に送
られ、vCO出力周波数は基準入力周波数の32倍とな
る。
間遅延回路120とフェーズロックループ122とを包
含する。18.75〜37゜5MHzの基準クロック信
号が位相検出器回路の1入力となり、この位相検出器回
路の出力が低域フィルタ回路126において濾波され、
VCo 128の制御端子に送られてその周波数を60
0〜1200MHzの範囲にわたって制御する。VCO
出力周波数は分周器回路130において16で割られ、
分周器回路132において2で割られる。32で割られ
たVCO出力信号は位相検出器124の他の入力部に送
られ、vCO出力周波数は基準入力周波数の32倍とな
る。
PEカードを通るデータ経路は16ビツト並列直列シフ
ト・レジスタを経てビン・ドライバ136に続く、第1
図の主システム・ユニット12内に設置されたデータ・
カードからの並列データ(16ビツト・ワイド)はシフ
ト・レジスタ134の並列入力部に送られる。シフト・
レジスタ134のQ+、Q−直列出力はビン・トライバ
136の微分入力部に高速データを享える。
ト・レジスタを経てビン・ドライバ136に続く、第1
図の主システム・ユニット12内に設置されたデータ・
カードからの並列データ(16ビツト・ワイド)はシフ
ト・レジスタ134の並列入力部に送られる。シフト・
レジスタ134のQ+、Q−直列出力はビン・トライバ
136の微分入力部に高速データを享える。
600〜1200MHzのVCO出力信号はシフト・レ
ジスタ134のクロック入力部を駆動し、一方、16除
算出力信号はシフト・レジスタのロード入力端子を駆動
する。シフト・レジスタは、16個のクロック・パルス
からなる各ぐループにおいて、1回の並列ロード操作が
生じ、次いで、出力部に15回のデータ・シフトが行わ
れるように作動する。直列シフト操作が生じている間、
データ・カードはシフト・レジスタ134の並列入力部
に次の16ビツト分のデータを与える。シフト・レジス
タを用いて並列から直列への変換を行うことによって、
PEカードへの最大データ転送速度を75MHzとする
ことかできる。20個のPEチャンネルがある場合、デ
ータ・カードから検査ヘッドへ通る刺激データ・ビット
の数は320となり、それぞれが37.5〜75MHz
の率となる。これらのデータ転送率の信号は比較的安価
なケーブルや集積回路で容易に取り扱うことができる。
ジスタ134のクロック入力部を駆動し、一方、16除
算出力信号はシフト・レジスタのロード入力端子を駆動
する。シフト・レジスタは、16個のクロック・パルス
からなる各ぐループにおいて、1回の並列ロード操作が
生じ、次いで、出力部に15回のデータ・シフトが行わ
れるように作動する。直列シフト操作が生じている間、
データ・カードはシフト・レジスタ134の並列入力部
に次の16ビツト分のデータを与える。シフト・レジス
タを用いて並列から直列への変換を行うことによって、
PEカードへの最大データ転送速度を75MHzとする
ことかできる。20個のPEチャンネルがある場合、デ
ータ・カードから検査ヘッドへ通る刺激データ・ビット
の数は320となり、それぞれが37.5〜75MHz
の率となる。これらのデータ転送率の信号は比較的安価
なケーブルや集積回路で容易に取り扱うことができる。
1つのPHにおけるフェーズロックループの特徴は検査
装置の性能に対する影響にある。フェーズロックループ
は、実際にVCO出力信号に近い摂動のためのフィルタ
として作用する。以下に、この設計を行ったときの考察
について説明する。
装置の性能に対する影響にある。フェーズロックループ
は、実際にVCO出力信号に近い摂動のためのフィルタ
として作用する。以下に、この設計を行ったときの考察
について説明する。
vCO出力部におけるなんらかの変調、ノイズあるいは
ジッダはPEカードの出力部にあるデータに直接転送さ
れる。これはvCO出力がデータをピン・ドライバに転
送するからである。フェーズロックループ・フィルタは
位相検出器の出力部を通して送られた基準信号をvCO
出力信号のジッタに影響しない程度の低いレベルまで低
減しなければならない。vCO遊離位相ノイズはフェー
ズロックループによって充分に抑制されなければならな
い、フェーズロックループ・フィルタは各PEカードに
送られてきた基準クロック信号になんらかのノイズが現
われたときには出力データのジッタをかなり減じなけれ
ばならない、論理回路要素の過渡時間はGaAs論理回
路が使用されているのでできるだけ低くなければならな
い。入力周波数または入力位相の変化がなされた後のフ
ェーズロックループの設定時間は検査プログラムの実行
時間に影響を与える。フェーズロックループは温度、給
電における変動について比較的鈍感でなければならない
。
ジッダはPEカードの出力部にあるデータに直接転送さ
れる。これはvCO出力がデータをピン・ドライバに転
送するからである。フェーズロックループ・フィルタは
位相検出器の出力部を通して送られた基準信号をvCO
出力信号のジッタに影響しない程度の低いレベルまで低
減しなければならない。vCO遊離位相ノイズはフェー
ズロックループによって充分に抑制されなければならな
い、フェーズロックループ・フィルタは各PEカードに
送られてきた基準クロック信号になんらかのノイズが現
われたときには出力データのジッタをかなり減じなけれ
ばならない、論理回路要素の過渡時間はGaAs論理回
路が使用されているのでできるだけ低くなければならな
い。入力周波数または入力位相の変化がなされた後のフ
ェーズロックループの設定時間は検査プログラムの実行
時間に影響を与える。フェーズロックループは温度、給
電における変動について比較的鈍感でなければならない
。
サンプリング方法論(波形状態)
検査装置の電気光学式レシーバは最高生産高を必要とす
る場合には刺激パターン長についての拘束を行う、検査
装置は2つの機能モードで作動する。
る場合には刺激パターン長についての拘束を行う、検査
装置は2つの機能モードで作動する。
第1の機能モードは論理解析器としてのものである。第
2の機能モードは検査装置が逐次サンプリングを行うサ
ンプリング・スコープである。論理解析器モートでは、
DUT応答のサブセットが検査パターンの通過毎に集め
られ、応答ベクトルは逐次的には獲得されず、時間ベー
ス遅延設定値を変えてすべての応答ベクトルを集めなけ
ればならない。
2の機能モードは検査装置が逐次サンプリングを行うサ
ンプリング・スコープである。論理解析器モートでは、
DUT応答のサブセットが検査パターンの通過毎に集め
られ、応答ベクトルは逐次的には獲得されず、時間ベー
ス遅延設定値を変えてすべての応答ベクトルを集めなけ
ればならない。
逐次サンプリングは時間位置で逐次にサンプルを集める
が、選定した時間ウィンドウのデータ獲得を完了するた
めにパターンのより多くの回数の通過を必要とする。
が、選定した時間ウィンドウのデータ獲得を完了するた
めにパターンのより多くの回数の通過を必要とする。
論理解析器モード
検査装置アーキテクチャはデータ転送率が常にレシーバ
の光学サンプリング率の整数倍となるようにしである。
の光学サンプリング率の整数倍となるようにしである。
これは情報のサンプリングを各検査あるいはセル毎に同
じ相対時間位置で強制的に生じさせる。サンプル間の検
査ベクトルの数は方程式2で与えられ、これは初期イン
ターリーブ・ファクタ(IFi)と呼ぶ。
じ相対時間位置で強制的に生じさせる。サンプル間の検
査ベクトルの数は方程式2で与えられ、これは初期イン
ターリーブ・ファクタ(IFi)と呼ぶ。
ここで、
Ts=ベクトル・サンプリング間の時間Td=ベクトル
期間 Fd=データ転送率 Fs=応答サンプリング率 F1=レーザー繰り返し率 N =時間ベースPLL分周器設定値 M =基準分周器比 初期インターリーブ・ファクタはDUTに与えられる検
査ベクトルの一回の通過で生じるサンプリングされたベ
クトル間の検査ベクトルの数である。刺激検査シーケン
スの最初の繰り返しの際、1つのサンプルが各IFiベ
クトル毎に生じることになる。方程式3で与えられるパ
ターン長が初期インターリーブ・ファクタの整数倍でな
い場合には、検査ベクトル・パターンの2回目の通過の
際に、サンプルが検査ベクトルの異なったサブセットに
入ることになる。
期間 Fd=データ転送率 Fs=応答サンプリング率 F1=レーザー繰り返し率 N =時間ベースPLL分周器設定値 M =基準分周器比 初期インターリーブ・ファクタはDUTに与えられる検
査ベクトルの一回の通過で生じるサンプリングされたベ
クトル間の検査ベクトルの数である。刺激検査シーケン
スの最初の繰り返しの際、1つのサンプルが各IFiベ
クトル毎に生じることになる。方程式3で与えられるパ
ターン長が初期インターリーブ・ファクタの整数倍でな
い場合には、検査ベクトル・パターンの2回目の通過の
際に、サンプルが検査ベクトルの異なったサブセットに
入ることになる。
TVL=16*x (3)TVL=パタ
ーン長 X 士整数 この繰り返しサンプリング・プロセスは第1のサブセッ
トの第1のベクトルが2回サンプリングされるまで続く
、第1のサブセットにおける第1のベクトルが2回サン
プリングされた後サンプリングされたベクトルの間隔は
最終インターリーブ・ファクタ(IFf)と呼ぶ、この
最終インターリーブ・ファクタは初期インターリーブ・
ファクタとパターン長の最高共通ファクタである。残余
のデータを集めるには、時間ベースの遅延要素を変えな
ければならない。遅延設定において必要な変更回数は最
終インターリーブ数より1少ない9時間ベース遅延の動
きはビン電子カートのPLLの基準入力に対する位相摂
動を生じさせる。5ピコ秒内のPLLの設定時間はこの
期間中のサンプル・データの損失を生む。最終インター
リーブ数を最小限に抑えるアルゴリズムは以下の通りで
ある。
ーン長 X 士整数 この繰り返しサンプリング・プロセスは第1のサブセッ
トの第1のベクトルが2回サンプリングされるまで続く
、第1のサブセットにおける第1のベクトルが2回サン
プリングされた後サンプリングされたベクトルの間隔は
最終インターリーブ・ファクタ(IFf)と呼ぶ、この
最終インターリーブ・ファクタは初期インターリーブ・
ファクタとパターン長の最高共通ファクタである。残余
のデータを集めるには、時間ベースの遅延要素を変えな
ければならない。遅延設定において必要な変更回数は最
終インターリーブ数より1少ない9時間ベース遅延の動
きはビン電子カートのPLLの基準入力に対する位相摂
動を生じさせる。5ピコ秒内のPLLの設定時間はこの
期間中のサンプル・データの損失を生む。最終インター
リーブ数を最小限に抑えるアルゴリズムは以下の通りで
ある。
1)NWA方程式4を用いて計算され、検査ベクトル長
が常に偶数であるために、最も近い奇数の整数に四捨五
入される。これが所望の検査周波数の0.5%以内にあ
る実際の検査周波数を生じさせる。
が常に偶数であるために、最も近い奇数の整数に四捨五
入される。これが所望の検査周波数の0.5%以内にあ
る実際の検査周波数を生じさせる。
ここで、
Fd=所望データ転送率
pi=ミニレーザー返し率
M =基準分周器比
2)Xiを方程式5で計算する。
X1=TVL/16 (5)ここで、
TVL=検査パターン長
3)検査パターン長は方程式3によつて与えられた長さ
になんの操作もすることなく増大させられる。ここで、
XはNを持つ共通ファクタをまったく含まないXiより
大きい最小奇数である。
になんの操作もすることなく増大させられる。ここで、
XはNを持つ共通ファクタをまったく含まないXiより
大きい最小奇数である。
第8図が準ランダム・サンプリングの単純な例を示して
いる。
いる。
サンプリング・モード
検査装置は伝播遅延、エツジ率その他のタイミング情報
を必要とする場合には逐次サンプリング・モードで作動
する。この作動モードは検査装置生産高を最大にしよう
とする場合にはパターン長について異なった拘束を行う
。必要な情報を集めるには、最も短い検査時間では検査
ベクトルの通過回数が最小限でなければならない、ただ
−回のショット解析ではユーザーにとって不充分である
場合には、信号平均操作を行ってより大きい電圧解析を
行ってもよい。平均化操作を利用した場合、パターン長
は、検査パターンの通過毎に綴り返し検査ベクトルの同
じポイントをサンプリングすることになるようになって
いなければならない。検査時間を最短にするアルゴリズ
ムは以下の通りである。
を必要とする場合には逐次サンプリング・モードで作動
する。この作動モードは検査装置生産高を最大にしよう
とする場合にはパターン長について異なった拘束を行う
。必要な情報を集めるには、最も短い検査時間では検査
ベクトルの通過回数が最小限でなければならない、ただ
−回のショット解析ではユーザーにとって不充分である
場合には、信号平均操作を行ってより大きい電圧解析を
行ってもよい。平均化操作を利用した場合、パターン長
は、検査パターンの通過毎に綴り返し検査ベクトルの同
じポイントをサンプリングすることになるようになって
いなければならない。検査時間を最短にするアルゴリズ
ムは以下の通りである。
1、 Nを方程式4で計算し、次の偶数の整数に四捨
五入して所望データ転送率の0.5%以内のデータ転送
率を得る。
五入して所望データ転送率の0.5%以内のデータ転送
率を得る。
2、 Xiを方程式5で計算する。
3、 Xiを次の偶数の整数まで四捨五入し、Lを方
程式6で計算する。
程式6で計算する。
L = l 6 * X i / N (6)
4、 Xi?Lが整数となるまで整数ステップで増大
させる。
4、 Xi?Lが整数となるまで整数ステップで増大
させる。
5、 次に、パターンをアドレス・カートのラップ・カ
ウンタを使用して埋め込み操作するか、あるいは、ノー
オペレーションで埋め込み操作して方程式7で与えられ
るパターン長を得る。
ウンタを使用して埋め込み操作するか、あるいは、ノー
オペレーションで埋め込み操作して方程式7で与えられ
るパターン長を得る。
パターン長=16*Xi (7)第9図は逐次サ
ンプリングされている電気光学式検査装置への入力信号
を示している。
ンプリングされている電気光学式検査装置への入力信号
を示している。
本発明の好ましい実施例についての先の記述は図示なら
びに説明の目的のために行ったものであり、本発明を開
示したそっくりそのままの形態に限定するつもりはなく
、多くの修正、変更が上記の教示に照らして回旋である
。好ましい実施例は発明の原理ならびにその実際の用途
を最も良く説明し、当業者が発明を最良の方法で利用し
、意図した特定の用途に合うように種々の変更を行える
ように選び、説明したものである0本発明の範囲は特許
請求の範囲に定義したものであると考える。
びに説明の目的のために行ったものであり、本発明を開
示したそっくりそのままの形態に限定するつもりはなく
、多くの修正、変更が上記の教示に照らして回旋である
。好ましい実施例は発明の原理ならびにその実際の用途
を最も良く説明し、当業者が発明を最良の方法で利用し
、意図した特定の用途に合うように種々の変更を行える
ように選び、説明したものである0本発明の範囲は特許
請求の範囲に定義したものであると考える。
【図面の簡単な説明】
第1図は電子装置や集積回路の高速検査のための電気光
学式検査装置のシステム・ブロック図である。 第2図は本発明による1、20)Iz刺激検査バターン
発生器の概略ブロック図である。 第3図は本発明によるプログラマブル基準クロック発生
器のブロック図である。 第4図は本発明による刺激パターン発生器およびプログ
ラマブル基準クロック発生器を用いている電気光学式検
査装置の概略ブロック図である。 第5図は本発明によるデータ・カードのブロック図であ
る。 第6図は本発明によるアドレス・カードのブロック図で
ある。 第7図は本発明によるピン電気機器回路カードのブロッ
ク図である。 第8図は本発明による刺激パターンの準ランダム光学サ
ンプリングの一例を示す波形図である。 第9図は本発明による刺激パルスの逐次サンプリングの
一例を示す波形図である。
学式検査装置のシステム・ブロック図である。 第2図は本発明による1、20)Iz刺激検査バターン
発生器の概略ブロック図である。 第3図は本発明によるプログラマブル基準クロック発生
器のブロック図である。 第4図は本発明による刺激パターン発生器およびプログ
ラマブル基準クロック発生器を用いている電気光学式検
査装置の概略ブロック図である。 第5図は本発明によるデータ・カードのブロック図であ
る。 第6図は本発明によるアドレス・カードのブロック図で
ある。 第7図は本発明によるピン電気機器回路カードのブロッ
ク図である。 第8図は本発明による刺激パターンの準ランダム光学サ
ンプリングの一例を示す波形図である。 第9図は本発明による刺激パルスの逐次サンプリングの
一例を示す波形図である。
Claims (9)
- (1)クロック基準信号でトリガして電気 光学式検査装置における検査中の電子装置を電子的に刺
激するための出力刺激パターン信号を発生できる電子刺
激パターン発生器のためのプログラマブル基準クロック
発生器であって、 電子基準パルスのソースと、 前記電子基準パルスから合成刺激基準ク ロック信号を合成する合成手段と、 前記電子基準パルスのパルス繰り返し周波 数の調波周波数のうちの1つに周波数ロックされた合成
刺激基準クロック信号を発生するように前記合成手段を
プログラムする手段と、 プログラム可能な前記合成手段の出力部か らの前記合成刺激基準クロック信号を前記電子刺激パタ
ーン発生器のクロック入力部に送って検査中の電子装置
を検査するための刺激検査・パターンを発生させる手段
と を包含することを特徴とするプログラマブル基準クロッ
ク発生器。 - (2)、請求項1記載のプログラマブル基準クロック発
生器において、合成刺激基準クロック信号を合成する合
成手段が光学パルスを前記電子基準パルスに変換する手
段を包含し、前記光学パルスが前記電気光学検査装置に
送られて光学サンプリング・パルスとして役立てられ、
これら光学サンプリング・パルスが前記刺激検査・パタ
ーン信号のためのタイミング基準として役立つことを特
徴とするプログラマブル基準クロック発生器。 - (3)、請求項1記載のプログラマブル基準クロック発
生器において、合成刺激基準クロック信号を合成する合
成手段が前記電気光学検査装置に送られる光学サンプリ
ング・パルスを発生する手段を包含し、前記電子基準パ
ルスが前記光学サンプリング・パルスおよび前記合成刺
激基準クロック信号のためのタイミング基準として役立
てることを特徴とするプログラマブル基準クロック発生
器。 - (4)、請求項1記載のプログラマブル基準クロック発
生器において、合成刺激基準クロック信号を合成する合
成手段が電子基準パルスに関して刺激基準クロック手段
からのクロック信号の発生を制御し、前記電子基準パル
スに関する前記刺激パターン信号を精密に位置決めする
手段を包含することを特徴とするプログラマブル基準ク
ロック発生器。 - (5)、請求項1記載のプログラマブル基準クロック発
生器において、合成刺激基準クロックを合成する手段が
フェーズロックループを包含し、このフェーズロックル
ープが、 前記電子基準パルスにつながる第1入力端 子を備えた位相検出器と、 この位相検出器の出力信号につながる入力 端子を有するループ・フィルタと、 このループ・フィルタの出力信号につなが る制御端子を有する制御オシレータと、 この制御オシレータの出力信号につながる 入力端子を有し、また、前記位相検出器の第2入力端子
につながる出力信号を有するプログラマブル分周回路と を有し、制御オシレータの出力信号の周波数が電子基準
パルスの周波数の倍数にロックされることを特徴とする
プログラマブル基準クロック発生器。 - (6)、電子光学式検査装置のための高速電子刺激パタ
ーン発生器であって、 前記電子光学式検査装置のための光学サン プリング信号に対する時間基準信号を発生すると共に、
前記電子刺激パターン発生器のための時間基準信号を発
生する手段と、 前記時間基準信号にロックされるプログラ ムされた周波数を有するクロック基準信号を発生するプ
ログラマブル時間べえす手段と、 前記クロック基準信号と同期して刺激パ ターンを発生し、この刺激パターンを前記時間基準信号
に同期させる手段と を包含することを特徴とする高速電子刺激パターン発生
器。 - (7)、請求項6記載の高速電子刺激パターン発生器に
おいて、前記プログラマブル時間ベース手段が刺激パタ
ーンを発生する手段の作動周波数の約数である周波数で
作動し、刺激パターンを発生する前記手段が前記プログ
ラマブル時間ベース手段の周波数を刺激パターンを発生
する前記手段の作動周波数に乗ずる周波数逓倍手段を包
含することを特徴とする高速電子刺激パターン発生器。 - (8)、請求項7記載の高速電子刺激パターン発生器に
おいて、周波数逓倍手段がプログラマブル時間ベース手
段の周波数を刺激パターンを発生する前記手段の作動周
波数に乗ずるフェーズロックループを包含することを特
徴とする高速電子刺激パターン発生器。 - (9)、請求項7記載の高速電子刺激パターン発生器に
おいて、前記時間ベース手段の周波数と同期して並列モ
ードで刺激パターン信号を発生する手段を包含し、また
、前記刺激パターン信号を刺激パターンを発生する前記
手段の作動周波数と同期して直列モードに変換する手段
を包含することを特徴とする高速電子刺激パターン発生
器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/240,017 US5095262A (en) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | Electro-optic sampling system clock and stimulus pattern generator |
| US240017 | 1988-09-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02176479A true JPH02176479A (ja) | 1990-07-09 |
Family
ID=22904755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1227277A Pending JPH02176479A (ja) | 1988-09-01 | 1989-09-01 | 電気光学式サンプリング装置のクロック・刺激パターン発生器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5095262A (ja) |
| EP (1) | EP0357440A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02176479A (ja) |
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| JP2015517667A (ja) * | 2012-05-16 | 2015-06-22 | ディーシージー システムズ、 インコーポライテッドDcg Systems Inc. | 同期レーザパルスを用いたレーザ・アシステッド・デバイス・オルタレーション |
| US9201096B2 (en) | 2010-09-08 | 2015-12-01 | Dcg Systems, Inc. | Laser-assisted device alteration using synchronized laser pulses |
| JP2016109673A (ja) * | 2014-10-16 | 2016-06-20 | ディーシージー システムズ、 インコーポレイテッドDcg Systems Inc. | レーザボルテージイメージングのシステム及び方法 |
| US10191111B2 (en) | 2013-03-24 | 2019-01-29 | Dcg Systems, Inc. | Synchronized pulsed LADA for the simultaneous acquisition of timing diagrams and laser-induced upsets |
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1988
- 1988-09-01 US US07/240,017 patent/US5095262A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-09-01 JP JP1227277A patent/JPH02176479A/ja active Pending
- 1989-09-01 EP EP19890308856 patent/EP0357440A3/en not_active Withdrawn
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Also Published As
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|---|---|
| EP0357440A2 (en) | 1990-03-07 |
| US5095262A (en) | 1992-03-10 |
| EP0357440A3 (en) | 1991-02-06 |
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