JPH02176752A - 露光用マスク及びその撓み防止治具 - Google Patents
露光用マスク及びその撓み防止治具Info
- Publication number
- JPH02176752A JPH02176752A JP63333549A JP33354988A JPH02176752A JP H02176752 A JPH02176752 A JP H02176752A JP 63333549 A JP63333549 A JP 63333549A JP 33354988 A JP33354988 A JP 33354988A JP H02176752 A JPH02176752 A JP H02176752A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- support frame
- exposure mask
- mask
- transparent plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は露光用マスク及びその撓み防止治具に関するも
のである。
のである。
従来の露光用マスクを精密に露光する場合、大きく２つ
の方式がある。フォトレジスト層上に直接載せて露光す
る直接露光方法と、フォトレジスト層と露光用マスクを
離間させて投影露光する間接露光方法である。このうち
、直接露光方法は遮光パターンが直接フォトレジストと
接するためによごれや破損の虞れがあり問題である。
の方式がある。フォトレジスト層上に直接載せて露光す
る直接露光方法と、フォトレジスト層と露光用マスクを
離間させて投影露光する間接露光方法である。このうち
、直接露光方法は遮光パターンが直接フォトレジストと
接するためによごれや破損の虞れがあり問題である。
このため、間接露光方法が多く用いられていた。
ところで、最近被露光体のサイズが大きくなりつつある
。例えば液晶デイスプレィ等製サイズが大きくなり、そ
れに用いられるＴＰＴ等の個別画素用トランジスタ等も
露光方法を用いてパターン形成するものであるし、その
他そこに用いられるブラックマトリックス等のパターン
化のために大型精密露光が行われるようになってきてい
る。
。例えば液晶デイスプレィ等製サイズが大きくなり、そ
れに用いられるＴＰＴ等の個別画素用トランジスタ等も
露光方法を用いてパターン形成するものであるし、その
他そこに用いられるブラックマトリックス等のパターン
化のために大型精密露光が行われるようになってきてい
る。
以下、このうち液晶デイスプレィに付属して設けられる
カラーフィルタのクロムのブラックストライプのパター
ン形成のための露光の場合を用いて説明する。
カラーフィルタのクロムのブラックストライプのパター
ン形成のための露光の場合を用いて説明する。
液晶デイスプレィ装置等に用いられるカラーフィルタは
、例えば第５図（ａ）（ｂ）に示すようにガラス基板１
上に複数色たとえば赤、緑、青のパターンＲ，Ｇ、Ｂを
形成し、これらパターンＲ１Ｇ、Ｂの上に必要に応じて
オーバーコート層−を形成して構成されている。
、例えば第５図（ａ）（ｂ）に示すようにガラス基板１
上に複数色たとえば赤、緑、青のパターンＲ，Ｇ、Ｂを
形成し、これらパターンＲ１Ｇ、Ｂの上に必要に応じて
オーバーコート層−を形成して構成されている。
このようなカラーフィルタを製造する場合には、まず第
６ａ図に示すようにガラス基板１上にクロム層３を形成
する。次に第６ｂ図に示すようにガラス基板１上に形成
されたクロム層３の上にフォトレジスト層４を形成した
後、第６Ｃ図に示すように露光用マスク５を用いてフォ
トレジスト層４を露光する。その後、第６ｄ図に示すよ
うに感光しなかったフォトレジスト層４を除去した後、
第６ｅ図に示すようにガラス基板１上に形成されたクロ
ム層３をエツチングし、ガラス基板１上に格子状の黒パ
ターンＢＬを形成する。次に第６ｆ図に示すようにガラ
ス基板１上のフォトレジスト層４を全て除去した後、第
６ｇ図に示すようにガラス基板１上に形成された黒色パ
ターンＢＬの間に赤、緑、青のパターンＲ，Ｇ、Ｂを順
次印刷する。
６ａ図に示すようにガラス基板１上にクロム層３を形成
する。次に第６ｂ図に示すようにガラス基板１上に形成
されたクロム層３の上にフォトレジスト層４を形成した
後、第６Ｃ図に示すように露光用マスク５を用いてフォ
トレジスト層４を露光する。その後、第６ｄ図に示すよ
うに感光しなかったフォトレジスト層４を除去した後、
第６ｅ図に示すようにガラス基板１上に形成されたクロ
ム層３をエツチングし、ガラス基板１上に格子状の黒パ
ターンＢＬを形成する。次に第６ｆ図に示すようにガラ
ス基板１上のフォトレジスト層４を全て除去した後、第
６ｇ図に示すようにガラス基板１上に形成された黒色パ
ターンＢＬの間に赤、緑、青のパターンＲ，Ｇ、Ｂを順
次印刷する。
そして、必要に応じて第６ｈ図に示すようにガラス基板
１上に形成れたパターンＲ，Ｇ、Ｂ、ＢＬの上にオーバ
ーコート層２を形成する。
１上に形成れたパターンＲ，Ｇ、Ｂ、ＢＬの上にオーバ
ーコート層２を形成する。
ところで、このようなカラーフィルタの製造方法におい
ては、ガラス基板１の寸法が大形化（例えば１ｍｘ１ｍ
）ｔ、た場合、露光用マスク５が第６ｃ図に破線で示す
ように自重によって撓み、露光用マスク５が撓んだ状態
でガラス基板１上のフォトレジスト層４が露光されるた
め、ガラス基板１上の格子状の黒色パターンＢＬが歪ん
でしまい、正確に形成することができなくなるという問
題があった。
ては、ガラス基板１の寸法が大形化（例えば１ｍｘ１ｍ
）ｔ、た場合、露光用マスク５が第６ｃ図に破線で示す
ように自重によって撓み、露光用マスク５が撓んだ状態
でガラス基板１上のフォトレジスト層４が露光されるた
め、ガラス基板１上の格子状の黒色パターンＢＬが歪ん
でしまい、正確に形成することができなくなるという問
題があった。
本発明の目的は上述した問題点に鑑みてなされたもので
あり、露光用マスクの撓みを防止できる露光用マスクの
撓み防止治具を提供しようとするものである。
あり、露光用マスクの撓みを防止できる露光用マスクの
撓み防止治具を提供しようとするものである。
上記目的を達成するために本発明は、露光用遮光パター
ンが設けられている透明板よりなる露光用マクス板と、
前記露光用マクス板の周縁部で連設する支持枠と、上記
支持枠の開口部を覆う透明板と、上記支持枠に設けられ
上記露光用マスク板と支持枠及び上記透明板とで形成さ
れる密閉空間内を加圧又は減圧するための圧力調整孔と
を具備してなる露光用マスクと、露光用マスクの周縁部
を支持する支持枠と、この支持枠に上記露光用マスクを
固定する固定具と、上記支持枠の開口部を覆う透明板と
、上記支持枠に設けられ上記露光用マスクと支持枠及び
上記透明板とで形成される密閉空間内を加圧又は減圧す
るための圧力調整孔とを具備してなることを特徴とする
ものである。
ンが設けられている透明板よりなる露光用マクス板と、
前記露光用マクス板の周縁部で連設する支持枠と、上記
支持枠の開口部を覆う透明板と、上記支持枠に設けられ
上記露光用マスク板と支持枠及び上記透明板とで形成さ
れる密閉空間内を加圧又は減圧するための圧力調整孔と
を具備してなる露光用マスクと、露光用マスクの周縁部
を支持する支持枠と、この支持枠に上記露光用マスクを
固定する固定具と、上記支持枠の開口部を覆う透明板と
、上記支持枠に設けられ上記露光用マスクと支持枠及び
上記透明板とで形成される密閉空間内を加圧又は減圧す
るための圧力調整孔とを具備してなることを特徴とする
ものである。
本発明においては、露光用マスク板若しくは露光用マス
クの周縁部を支持枠で支持し、露光用７スフ仮着しくは
露光用マスクと支持枠及び透明板とで形成される密閉空
間内を加圧又は減圧した状態で露光を行なうことにより
、基板の寸法が大形化した場合でも露光用マスク板若し
くは露光用マスクが自重によって撓むのを密閉空間内の
圧力によって防止し、被露光体と完全に平行な位置関係
で露光することができる。
クの周縁部を支持枠で支持し、露光用７スフ仮着しくは
露光用マスクと支持枠及び透明板とで形成される密閉空
間内を加圧又は減圧した状態で露光を行なうことにより
、基板の寸法が大形化した場合でも露光用マスク板若し
くは露光用マスクが自重によって撓むのを密閉空間内の
圧力によって防止し、被露光体と完全に平行な位置関係
で露光することができる。
以下、カラーフィルタのブラックストライプに適用した
例につき実施例を示す。
例につき実施例を示す。
第１図は本発明の一実施例を示す露光用マスクの撓み防
止治具の斜視図で、第２図は第１図の■■断面図である
。第１図及び第２図において、この撓み防止治具１０は
露光用マスク５の周縁部を支持する支持枠１１と、この
支持枠１１に上記露光用マスク５を固定する固定具（図
示せず）と、上記支持枠１１の開口部を覆う透明板１２
とを備えており、支持枠１１には露光用マスク５と支持
枠１１及び透明板１２とで形成される密閉空間内を加圧
又は減圧するための圧力調整孔１３が形成されている。
止治具の斜視図で、第２図は第１図の■■断面図である
。第１図及び第２図において、この撓み防止治具１０は
露光用マスク５の周縁部を支持する支持枠１１と、この
支持枠１１に上記露光用マスク５を固定する固定具（図
示せず）と、上記支持枠１１の開口部を覆う透明板１２
とを備えており、支持枠１１には露光用マスク５と支持
枠１１及び透明板１２とで形成される密閉空間内を加圧
又は減圧するための圧力調整孔１３が形成されている。
上記のように構成される撓み防止治具１０を用いてガラ
ス基板１」二に格子状の黒色パターンＢＬを形成する場
合には、まず第３ａ図に示すようにガラス基板１上にク
ロム層３を形成する。次に第３ｂ図に示すようにガラス
基板１上に形成されたクロム層３の上にフォトレジスト
層４を形成した後、第３Ｃ図に示すようにガラス基板１
の上方に撓み防止治具１０を配置し、この撓み防止治具
１０上に露光用マスク５を配置する。そして、露光用マ
スク５と支持枠１１及び透明板１２とで形成される密閉
空間内に加圧空気を圧力調整孔１３より導入し、密閉空
間内を所定圧力に加圧した状態で露光を行なう。そして
、感光しなかったフォトレジスト層４を除去した後、ガ
ラス基板１上のクロム層３をエツチングして第３ｄ図に
示すような格子状の黒色パターンＢＬをガラス基板１上
に形成する。
ス基板１」二に格子状の黒色パターンＢＬを形成する場
合には、まず第３ａ図に示すようにガラス基板１上にク
ロム層３を形成する。次に第３ｂ図に示すようにガラス
基板１上に形成されたクロム層３の上にフォトレジスト
層４を形成した後、第３Ｃ図に示すようにガラス基板１
の上方に撓み防止治具１０を配置し、この撓み防止治具
１０上に露光用マスク５を配置する。そして、露光用マ
スク５と支持枠１１及び透明板１２とで形成される密閉
空間内に加圧空気を圧力調整孔１３より導入し、密閉空
間内を所定圧力に加圧した状態で露光を行なう。そして
、感光しなかったフォトレジスト層４を除去した後、ガ
ラス基板１上のクロム層３をエツチングして第３ｄ図に
示すような格子状の黒色パターンＢＬをガラス基板１上
に形成する。
このように本実施例では、露光用マスク５の周縁部を支
持枠１１で支持し、露光用マスク５と支持枠１１及び透
明板１３とで形成される密閉空間内を所定圧力に加圧し
て露光を行なうことにより、露光用マスク５には密閉空
間内の加圧力が作用するため、ガラス基板１の寸法が大
形化（例えばｍＸ１ｍ）がした場合でも露光用マスク５
が自重によって撓むのを防止でき、ガラス基板１上に歪
みのない黒色パターンＢＬを形成することができる。
持枠１１で支持し、露光用マスク５と支持枠１１及び透
明板１３とで形成される密閉空間内を所定圧力に加圧し
て露光を行なうことにより、露光用マスク５には密閉空
間内の加圧力が作用するため、ガラス基板１の寸法が大
形化（例えばｍＸ１ｍ）がした場合でも露光用マスク５
が自重によって撓むのを防止でき、ガラス基板１上に歪
みのない黒色パターンＢＬを形成することができる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではない。
例えば上記実施例では露光用マスク５と支持枠１１及び
透明板１２とで形成される密閉空間内に加圧ガスを導入
して露光用マスク５の撓みを防止したが、第４図に示す
ように露光用マスク６と支持枠１１及び透明板１２とで
形成される密閉空間内を圧力調整孔１３から真空排気し
て露光用マスク６の撓みを防止してもよい。ただし、こ
の場合には露光用マスク５は支持枠１１の下側に位置す
ることになる。
透明板１２とで形成される密閉空間内に加圧ガスを導入
して露光用マスク５の撓みを防止したが、第４図に示す
ように露光用マスク６と支持枠１１及び透明板１２とで
形成される密閉空間内を圧力調整孔１３から真空排気し
て露光用マスク６の撓みを防止してもよい。ただし、こ
の場合には露光用マスク５は支持枠１１の下側に位置す
ることになる。
以上の例は露光用マスクの撓み防止治具の例であり、露
光用マスクを取替えることで露光用パターンを変えるこ
とができる例である。しかし、本発明は固定具による固
定ではなく、もともと固定して繋がっており、全体とし
て露光用マスクとなっている例でも構わない。また、露
光するパタンはクロム層等の液晶デイスプレィの黒色パ
タンやブラックストライプに限定されることなく、カラ
ーフィルタの各色を印刷するときの製版パターン、カラ
ーフィルタを染色するときの被染色基材をパターン形成
するときの露光用パターンとして用いても良いし、また
透明電極等のバタンニングに用いてもよい。さらに、ア
クティブマトリックス方式の液晶デイスプレィにおいて
は個々の画素に対応するスイッチング素子が必要となる
が、その他ＴＰＴ等の半導体を作成するものでもよい。
光用マスクを取替えることで露光用パターンを変えるこ
とができる例である。しかし、本発明は固定具による固
定ではなく、もともと固定して繋がっており、全体とし
て露光用マスクとなっている例でも構わない。また、露
光するパタンはクロム層等の液晶デイスプレィの黒色パ
タンやブラックストライプに限定されることなく、カラ
ーフィルタの各色を印刷するときの製版パターン、カラ
ーフィルタを染色するときの被染色基材をパターン形成
するときの露光用パターンとして用いても良いし、また
透明電極等のバタンニングに用いてもよい。さらに、ア
クティブマトリックス方式の液晶デイスプレィにおいて
は個々の画素に対応するスイッチング素子が必要となる
が、その他ＴＰＴ等の半導体を作成するものでもよい。
以上説明したように本発明は、基板の寸法が大形化した
場合でも露光用マスクが自重によって撓むのを防止でき
、基板上に歪みのないパターンを形成することができる
。
場合でも露光用マスクが自重によって撓むのを防止でき
、基板上に歪みのないパターンを形成することができる
。
第１図は本発明の一実施例を示す露光用マスクの撓み防
止治具の斜視図、第２図は第１図の■−■断面図、第３
ａ図ないし第３ｄ図は同実施例の作用を示す図、第４図
は本発明の他の実施例を示す露光用マスクの撓み防止治
具の断面図、第５図ないし第６図は従来技術を説明する
ための図で、第５図（ａ）はカラーフィルタの断面図、
同図（ｂ）はその平面図、第６ａ図ないし第６ｈ図はカ
ラーフィルタの製造方法を示す図である。 １・・・ガラス基板、Ｒ，Ｇ、Ｂ、ＢＬ・・・パターン
、２・・・オーバーコート層、３・・・クロム層、４・
・・フォトレジスト層、５・・・露光用マスク、１０・
・・撓み防止治具、１１・・・支持枠、１２・・・透明
板、１３・・・圧力調整孔。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図 第 図 第一回 ム 第６ｂ図 光 第６ｃ図 第−図
止治具の斜視図、第２図は第１図の■−■断面図、第３
ａ図ないし第３ｄ図は同実施例の作用を示す図、第４図
は本発明の他の実施例を示す露光用マスクの撓み防止治
具の断面図、第５図ないし第６図は従来技術を説明する
ための図で、第５図（ａ）はカラーフィルタの断面図、
同図（ｂ）はその平面図、第６ａ図ないし第６ｈ図はカ
ラーフィルタの製造方法を示す図である。 １・・・ガラス基板、Ｒ，Ｇ、Ｂ、ＢＬ・・・パターン
、２・・・オーバーコート層、３・・・クロム層、４・
・・フォトレジスト層、５・・・露光用マスク、１０・
・・撓み防止治具、１１・・・支持枠、１２・・・透明
板、１３・・・圧力調整孔。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図 第 図 第一回 ム 第６ｂ図 光 第６ｃ図 第−図
Claims (2)
- （１）露光用遮光パターンが設けられている透明板より
なる露光用マクス板と、前記露光用マクス板の周縁部で
連設する支持枠と、上記支持枠の開口部を覆う透明板と
、上記支持枠に設けられ上記露光用マスク板と支持枠及
び上記透明板とで形成される密閉空間内を加圧又は減圧
するための圧力調整孔とを具備してなる露光用マスク。 - （２）露光用マスクの周縁部を支持する支持枠と、この
支持枠に上記露光用マスクを固定する固定具と、上記支
持枠の開口部を覆う透明板と、上記支持枠に設けられ上
記露光用マスクと支持枠及び上記透明板とで形成される
密閉空間内を加圧又は減圧するための圧力調整孔とを具
備してなることを特徴とする露光用マスクの撓み防止治
具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333549A JPH02176752A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光用マスク及びその撓み防止治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333549A JPH02176752A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光用マスク及びその撓み防止治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02176752A true JPH02176752A (ja) | 1990-07-09 |
Family
ID=18267288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63333549A Pending JPH02176752A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光用マスク及びその撓み防止治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02176752A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| WO2008032429A1 (en) * | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Evatech Co., Ltd. | Image display device |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| CN116083842A (zh) * | 2023-01-03 | 2023-05-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件 |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63333549A patent/JPH02176752A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| WO2008032429A1 (en) * | 2006-09-11 | 2008-03-20 | Evatech Co., Ltd. | Image display device |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| CN116083842A (zh) * | 2023-01-03 | 2023-05-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件 |
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