JPH02177313A - 露光制御装置 - Google Patents
露光制御装置Info
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- JPH02177313A JPH02177313A JP63328826A JP32882688A JPH02177313A JP H02177313 A JPH02177313 A JP H02177313A JP 63328826 A JP63328826 A JP 63328826A JP 32882688 A JP32882688 A JP 32882688A JP H02177313 A JPH02177313 A JP H02177313A
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- control device
- light
- exposure control
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/032—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information reproduction
- H04N1/036—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information reproduction for optical reproduction
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、パルス化されたレーザ光を発生する光源を焼
付光として使用する露光装置において露光量を適正に制
御するための露光制御装置に関するものである。
付光として使用する露光装置において露光量を適正に制
御するための露光制御装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、露光制御装置は第５図に示すような構成であった
。同図において、エキシマレーザ１１のようなパルス発
光するレーザから出射されるパルス光は、照明系１２で
均一な配光特性を持つ光束に変換され、マスクＭおよび
投影光学系１３を通してウェハＷ上に投影露光される。
。同図において、エキシマレーザ１１のようなパルス発
光するレーザから出射されるパルス光は、照明系１２で
均一な配光特性を持つ光束に変換され、マスクＭおよび
投影光学系１３を通してウェハＷ上に投影露光される。
一方、照明系１２から出射きれる光束の一部は、ミラー
１４によフて反射されフォトセンサ１５に入射する。フ
オドセンサ１５はパイロ素子のような光電変換素子であ
り、その出力信号は一発のパルス光の入射に対して一発
パルスを出力する。そのため、フォトセンサ１５の出力
信号をパルス数積算回路１６で受け、そのパルス数を加
算していくことによりウェハＷに到達したパルス光の数
を計測することができる。
１４によフて反射されフォトセンサ１５に入射する。フ
オドセンサ１５はパイロ素子のような光電変換素子であ
り、その出力信号は一発のパルス光の入射に対して一発
パルスを出力する。そのため、フォトセンサ１５の出力
信号をパルス数積算回路１６で受け、そのパルス数を加
算していくことによりウェハＷに到達したパルス光の数
を計測することができる。
エキシマレーザ１から出射されるパルス光のエネルギー
は一般的にある範囲内で可変であり、そのエネルギーの
パルス間のバラツキはかなり安定しているがわずかに変
動している。そのため、パルス数積算回路１６の出力で
あるウェハＷへの到達パルス数をＣＰＵ１７に読み込み
、それと設定エネルギーとの積から、照明系１２に入射
する全エネルギーを求めることができる。一方、ウェハ
Ｗの露光量は、この照明系１２に入射する全エネルギー
と照明系３、マスクＭおよび投影光学系１３の透過率と
の積から求められる。そこで、パルス光の出射ごとに露
光量をＣＰＵ１７で算出し、露光量≧目標露光量の条件
となった時点で、レーザ制御部１８を介してエキシマレ
ーザ１に対し、パルス発光の停止命令を出力する。これ
により、エキシマレーザ１の出射パルス光の積算数を制
御し、ウェハＷの露光量制御を実現することができる。
は一般的にある範囲内で可変であり、そのエネルギーの
パルス間のバラツキはかなり安定しているがわずかに変
動している。そのため、パルス数積算回路１６の出力で
あるウェハＷへの到達パルス数をＣＰＵ１７に読み込み
、それと設定エネルギーとの積から、照明系１２に入射
する全エネルギーを求めることができる。一方、ウェハ
Ｗの露光量は、この照明系１２に入射する全エネルギー
と照明系３、マスクＭおよび投影光学系１３の透過率と
の積から求められる。そこで、パルス光の出射ごとに露
光量をＣＰＵ１７で算出し、露光量≧目標露光量の条件
となった時点で、レーザ制御部１８を介してエキシマレ
ーザ１に対し、パルス発光の停止命令を出力する。これ
により、エキシマレーザ１の出射パルス光の積算数を制
御し、ウェハＷの露光量制御を実現することができる。
［発明が解決しようとす゛る課題］
しかしながら、上記従来例ではエキシマレーザの発光パ
ルスのエネルギーのバラツキがパルス間でわずかではあ
るが存在するため、露光量の精度が悪くなりがちである
という問題点があった。特に、露光に要する発光パルス
数が少なくなればなるほど精度は著しく低下する。
ルスのエネルギーのバラツキがパルス間でわずかではあ
るが存在するため、露光量の精度が悪くなりがちである
という問題点があった。特に、露光に要する発光パルス
数が少なくなればなるほど精度は著しく低下する。
このため、エキシマレーザの出射エネルギーが向上して
いるにもかかわらず、露光精度を上げるためには出射エ
ネルギーをＮＤフィルタなどによって低下させて露光に
要するパルス数を多くすることが必要となるため、スル
ーブツトを向上させることができないという問題点があ
った。
いるにもかかわらず、露光精度を上げるためには出射エ
ネルギーをＮＤフィルタなどによって低下させて露光に
要するパルス数を多くすることが必要となるため、スル
ーブツトを向上させることができないという問題点があ
った。
本発明は、上述の従来形における問題点に鑑み、露光量
を高精度にモニタすることができ、かつ露光に要する発
光パルス数を少なくしてスルーブツトを向上させること
ができる露光制御装置を提供することを目的とする。
を高精度にモニタすることができ、かつ露光に要する発
光パルス数を少なくしてスルーブツトを向上させること
ができる露光制御装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段および作用コ上記の目的を
達成するため、本発明は、例えば焼付光として用いるエ
キシマレーザのパルス光の光路中に光電変換素子を設け
、その電気信号出力の内、パルス光を受光の際の、該受
光に対応した出力のみを積分し、積分結果を積算して、
その積算結果が所定値を超えたか否かを判別し、所定値
を超えた場合にはパルス光の発光を停止することとして
いる。
達成するため、本発明は、例えば焼付光として用いるエ
キシマレーザのパルス光の光路中に光電変換素子を設け
、その電気信号出力の内、パルス光を受光の際の、該受
光に対応した出力のみを積分し、積分結果を積算して、
その積算結果が所定値を超えたか否かを判別し、所定値
を超えた場合にはパルス光の発光を停止することとして
いる。
焼付光であるパルス光の光電変換出力のみを積分してい
るので、１パルスごとのエネルギーを高精度に求めるこ
とができる。したがって、エキシマレーザなどのパルス
エネルギーのバラツキによる影響を受けずに、露光量を
高精度でモニタすることが可能となる。
るので、１パルスごとのエネルギーを高精度に求めるこ
とができる。したがって、エキシマレーザなどのパルス
エネルギーのバラツキによる影響を受けずに、露光量を
高精度でモニタすることが可能となる。
また、エキシマレーザの出射エネルギーを最大で使い、
露光に必要なレーザ光のパルス数を最小にすることが可
能となり、露光装置のスルーブツトを最大限向上するこ
とができる。
露光に必要なレーザ光のパルス数を最小にすることが可
能となり、露光装置のスルーブツトを最大限向上するこ
とができる。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光ｆｉｌＪ御装置
の構成図である。同図において、エキシマレーザ光源１
は例えばＫｒＦやＸｅ Ｃ１ｌが封入されパルス化され
たレーザ光を発光する光源である。エキシマレーザ光源
１で発生したレーザ光は照明系２に入射する。照明系２
は、ドーム整形光学系およびオブティカルインテグレー
タなどにより構成され、入射されたレーザ光を所望のビ
ーム形状に整形し、光束の配光特性を均一にして出射さ
せるものである。照明系２の出射光路に沿って、集積回
路パターンが形成されたマスクＭまたはレチクルが配置
され、さらに投影光学系３およびウェハＷが配置されて
いる。これにより、マスクＭに形成された集積回路パタ
ーンは投影光学系３を通してウェハＷ上に投影露光され
ることになる。
の構成図である。同図において、エキシマレーザ光源１
は例えばＫｒＦやＸｅ Ｃ１ｌが封入されパルス化され
たレーザ光を発光する光源である。エキシマレーザ光源
１で発生したレーザ光は照明系２に入射する。照明系２
は、ドーム整形光学系およびオブティカルインテグレー
タなどにより構成され、入射されたレーザ光を所望のビ
ーム形状に整形し、光束の配光特性を均一にして出射さ
せるものである。照明系２の出射光路に沿って、集積回
路パターンが形成されたマスクＭまたはレチクルが配置
され、さらに投影光学系３およびウェハＷが配置されて
いる。これにより、マスクＭに形成された集積回路パタ
ーンは投影光学系３を通してウェハＷ上に投影露光され
ることになる。
一方、照明系２から出射した光束の一部は、ミラー４に
よってセンサ５の光電変換面に入射される。エキシマレ
ーザ１の出射パルス光の時間的な幅は数Ｉｏｎｓ程度と
極めて短いため、センサ５としてはＰＩＮフォトダイオ
ードやバイプラナ光電管のような応答性が数ｎｓ以下の
光電変換素子を用いるのがよい、また、照明系２の出射
ビームは配光特性が均一であるため、センサ５に入射す
る光のパワーとウェハＷに到達する光のパワーは比例関
係にある。したがって、センサ５の電気的出力信号を計
測することによってウェハＷでの光のパワーをモニタす
ることができる。
よってセンサ５の光電変換面に入射される。エキシマレ
ーザ１の出射パルス光の時間的な幅は数Ｉｏｎｓ程度と
極めて短いため、センサ５としてはＰＩＮフォトダイオ
ードやバイプラナ光電管のような応答性が数ｎｓ以下の
光電変換素子を用いるのがよい、また、照明系２の出射
ビームは配光特性が均一であるため、センサ５に入射す
る光のパワーとウェハＷに到達する光のパワーは比例関
係にある。したがって、センサ５の電気的出力信号を計
測することによってウェハＷでの光のパワーをモニタす
ることができる。
センサ５の出力信号は積分器６に入力され、レーザ光の
１パルス毎に電気的にアナログ積分される。そして、そ
の積分値はＡ／Ｄ変換器７によってディジタル値に変換
されマイクロコンピュータ８に読み込まれる。マイクロ
コンピュータ８はこの１パルス毎のディジタル化された
積分値を積算する。そして、その積算値とあらかじめ設
定されたウェハＷへの露光量とを比較して、設定露光量
よりも等しいか大きくなったら、レーザ制御部９に指令
を出してエキシマレーザ１の発光を停止させる。これに
よって露光量制御を行なうことができる。
１パルス毎に電気的にアナログ積分される。そして、そ
の積分値はＡ／Ｄ変換器７によってディジタル値に変換
されマイクロコンピュータ８に読み込まれる。マイクロ
コンピュータ８はこの１パルス毎のディジタル化された
積分値を積算する。そして、その積算値とあらかじめ設
定されたウェハＷへの露光量とを比較して、設定露光量
よりも等しいか大きくなったら、レーザ制御部９に指令
を出してエキシマレーザ１の発光を停止させる。これに
よって露光量制御を行なうことができる。
積分ゲート発生部１０は、積分器６に対し積分区間を規
定する積分ゲー′トを発生させる。積分器６に関する処
理タイミングを明確にするため第２図のタイミングチャ
ートを参照して説明する。
定する積分ゲー′トを発生させる。積分器６に関する処
理タイミングを明確にするため第２図のタイミングチャ
ートを参照して説明する。
同図において、発光同期信号ａとは実発光のタイミング
の数μｓ前にエキシマレーザ１から出力される同期信号
である。この発光同期信号ａとしては通常レーザ発光の
トリガーとなるサイラトロンのトリガー信号を使用する
。そのため、この同期タイミングからレーザの実発光タ
イミングまでのデイレイ時間は数μｓで固定されている
。
の数μｓ前にエキシマレーザ１から出力される同期信号
である。この発光同期信号ａとしては通常レーザ発光の
トリガーとなるサイラトロンのトリガー信号を使用する
。そのため、この同期タイミングからレーザの実発光タ
イミングまでのデイレイ時間は数μｓで固定されている
。
したがって、この発光同期信号ａを基準とし、これから
規定時間ｔ（詳しくは後述）遅らせて、積分ゲートＣを
作ることによって、積分ゲートｃのパルス区間中に常に
レーザの実発光のタイミングを収めることができる。積
分ゲートＣの幅は積分値の精度を上げるためには極力短
い方が有効であり、実施例では数１００ｎｓとしている
。その理由は、レーザの発光を電気信号に変換するセン
サの出力信号すにはノイズが混入することがあり、また
そのオフセットレベルが微小に変動するため、数１０ｎ
ｓのパルスを積分するためのたいへん′＃！１．ｇな積
分器６においてはそれらの影響を大きく受けてしまうた
めである。
規定時間ｔ（詳しくは後述）遅らせて、積分ゲートＣを
作ることによって、積分ゲートｃのパルス区間中に常に
レーザの実発光のタイミングを収めることができる。積
分ゲートＣの幅は積分値の精度を上げるためには極力短
い方が有効であり、実施例では数１００ｎｓとしている
。その理由は、レーザの発光を電気信号に変換するセン
サの出力信号すにはノイズが混入することがあり、また
そのオフセットレベルが微小に変動するため、数１０ｎ
ｓのパルスを積分するためのたいへん′＃！１．ｇな積
分器６においてはそれらの影響を大きく受けてしまうた
めである。
積分ゲートｃの区間だけセンサ出力信号すが積分器６で
積分されると、その積分器６の出力ｄはＡ／Ｄ変換器７
でディジタル量（Ａ／Ｄ変換出力信号ｅ）に変換され、
その変換終了と共にリードパルスｆがマイクロコンピュ
ータ８に出力される。
積分されると、その積分器６の出力ｄはＡ／Ｄ変換器７
でディジタル量（Ａ／Ｄ変換出力信号ｅ）に変換され、
その変換終了と共にリードパルスｆがマイクロコンピュ
ータ８に出力される。
マイクロコンピュータ８はこのリードパルスｆを検知す
るとＡ／Ｄ変換器７から積分値を読み込み、この値に従
って露光量制御を行なう。
るとＡ／Ｄ変換器７から積分値を読み込み、この値に従
って露光量制御を行なう。
次に、この露光量制御の処理内容を第３図のフローチャ
ートを参照して説明する。
ートを参照して説明する。
まず、マイクロコンピュータ８の不図示のキーボードか
ら露光命令が入力されると、初めにステップＳ１でレジ
スタＡがゼロクリアされる。レジスタＡは光電変換出力
の積分値を積算した値を記憶するレジスタであり、マイ
クロコンピュータ８の内部レジスタを用いてもよいし不
図示のメモリ上に確保しても良い。ぞの後、ステップＳ
２でレーザ制御部９に対して１パルス発光命令が出力さ
れ、エキシマレーザ１が１パルス発光する。これによっ
て発光同期パルスａ（第２図）が出力され、第２図で説
明したように積分が終了するとリードパルスｆが出力さ
れる。
ら露光命令が入力されると、初めにステップＳ１でレジ
スタＡがゼロクリアされる。レジスタＡは光電変換出力
の積分値を積算した値を記憶するレジスタであり、マイ
クロコンピュータ８の内部レジスタを用いてもよいし不
図示のメモリ上に確保しても良い。ぞの後、ステップＳ
２でレーザ制御部９に対して１パルス発光命令が出力さ
れ、エキシマレーザ１が１パルス発光する。これによっ
て発光同期パルスａ（第２図）が出力され、第２図で説
明したように積分が終了するとリードパルスｆが出力さ
れる。
ステップＳ３でマイクロコンピュータ８はリードパルス
ｆをチエツクし、積分が終了したが否かを判別する。こ
のリードパルスｆを認識したら、ステップＳ４で積分値
をレジスタＢに読み込む。
ｆをチエツクし、積分が終了したが否かを判別する。こ
のリードパルスｆを認識したら、ステップＳ４で積分値
をレジスタＢに読み込む。
そして、ステップＳ５でレジスタＡの積算値にレジスタ
Ｂの積分値を加算して再びレジスタＡに格納する２次に
、ステップＳ６でレジスタＡの内容である積算値とあら
かじめマイクロコンピュータ８のキーボードから入力さ
れメモリに記憶されている設定露光量とを比較する。そ
して、両者が等しいかあるいは積算値すなわちレジスタ
Ａの値の方が大であれば縫子、そうでなければステップ
Ｓ２に戻って再び１パルス発光命令を出力し、レジスタ
Ａの値が大になるまでこれをくり返す。
Ｂの積分値を加算して再びレジスタＡに格納する２次に
、ステップＳ６でレジスタＡの内容である積算値とあら
かじめマイクロコンピュータ８のキーボードから入力さ
れメモリに記憶されている設定露光量とを比較する。そ
して、両者が等しいかあるいは積算値すなわちレジスタ
Ａの値の方が大であれば縫子、そうでなければステップ
Ｓ２に戻って再び１パルス発光命令を出力し、レジスタ
Ａの値が大になるまでこれをくり返す。
このようにマイクロコンピュータ８は、１パルス発光す
るごとに積分値を読み込み、積算値を計算し、その積算
値と設定露光量とをパルス毎に比較することによって露
光量を制御する。
るごとに積分値を読み込み、積算値を計算し、その積算
値と設定露光量とをパルス毎に比較することによって露
光量を制御する。
ここで、規定時間ｔの決定の仕方について詳しく述べる
が、それに先立ちまず、ここでエキシマレーザの一般的
な構成について説明を加える。
が、それに先立ちまず、ここでエキシマレーザの一般的
な構成について説明を加える。
膜内なエキシマレーザの構成図を第６図に示す。
エキシマレーザは、チャンバ内に封入した気体を励起状
態にし、その励起された原子が、基底状態に落ちるとき
に、レーザ光を発生させる装置である。
態にし、その励起された原子が、基底状態に落ちるとき
に、レーザ光を発生させる装置である。
この励起状態は、主電極に高圧を加え、この間に放電を
起させることによって生成されるが、放電を円滑に進め
るためには、予信！踵というトリガが必要であり、予備
電離は予備電極間に放電を起させることによって行なわ
れる０通常、予備電極間には高圧が加えられており、サ
イラトロンのグリッドに発光同期を入力（トリガ信号）
することによって予備電離が開始される。そして、予備
電離が行なわれた後、数１・０Ｏｎｓ〜数μｓで主電極
間に放電が起きるため、実際の発光は発光同期の後、数
１００ｎｓ〜数μｓ遅れて行なわれる。つまり、規定時
間ｔは、この遅延時間をあらかじめ計測しておいてやる
ことにより決定できる。しかし、実際には、発光同期か
ら実発光までの時間は、ジッタ成分により変動する。ジ
ッタのぶ因としては、■電極間電圧の変動、■チ、ヤン
バ内の気体の状態変化、■発光の繰り返し周波数の変化
、■電極の摩耗、などがあるが、ジッタの幅は数１０〜
１００ｎｓ程度である。したがって、これらのジッタに
よる変動分もあらかじめ計測しておいてやり、これらの
変動分も考慮して、規定時間ｔを設定してやるとよい。
起させることによって生成されるが、放電を円滑に進め
るためには、予信！踵というトリガが必要であり、予備
電離は予備電極間に放電を起させることによって行なわ
れる０通常、予備電極間には高圧が加えられており、サ
イラトロンのグリッドに発光同期を入力（トリガ信号）
することによって予備電離が開始される。そして、予備
電離が行なわれた後、数１・０Ｏｎｓ〜数μｓで主電極
間に放電が起きるため、実際の発光は発光同期の後、数
１００ｎｓ〜数μｓ遅れて行なわれる。つまり、規定時
間ｔは、この遅延時間をあらかじめ計測しておいてやる
ことにより決定できる。しかし、実際には、発光同期か
ら実発光までの時間は、ジッタ成分により変動する。ジ
ッタのぶ因としては、■電極間電圧の変動、■チ、ヤン
バ内の気体の状態変化、■発光の繰り返し周波数の変化
、■電極の摩耗、などがあるが、ジッタの幅は数１０〜
１００ｎｓ程度である。したがって、これらのジッタに
よる変動分もあらかじめ計測しておいてやり、これらの
変動分も考慮して、規定時間ｔを設定してやるとよい。
［他の実施例］
上記の実施例では、積分器６がアナログ積分値を出力し
、この出力をＡ／Ｄ変換器７でディジタル値に変換して
マイクロコンピュータ８に渡しているが、積分器６およ
びＡ／Ｄ変換器７を′ｓ４図に示すようにディジタル積
分器にしてもよい。
、この出力をＡ／Ｄ変換器７でディジタル値に変換して
マイクロコンピュータ８に渡しているが、積分器６およ
びＡ／Ｄ変換器７を′ｓ４図に示すようにディジタル積
分器にしてもよい。
第４図を参照して説明すれば、まずフォトセンサ５の出
力はアンプ２０で増幅され、サンプルホールドＡ／Ｄ変
換器２１に入力される。一方、エキシマレーザ１から出
力される発光直前を示す同期信号はタイミング制御部２
２に入力され、ここでこの同期信号に基づきサンプルホ
ールドＡ／Ｄ変換器２１のサンプリングタイミングを与
えるサンプリングクロックを生成する。
力はアンプ２０で増幅され、サンプルホールドＡ／Ｄ変
換器２１に入力される。一方、エキシマレーザ１から出
力される発光直前を示す同期信号はタイミング制御部２
２に入力され、ここでこの同期信号に基づきサンプルホ
ールドＡ／Ｄ変換器２１のサンプリングタイミングを与
えるサンプリングクロックを生成する。
このサンプリングクロックはサンプルホールドＡ／Ｄ変
換器２１に入力され、このサンプリングクロックの周期
でアンプ２０の出力をサンプルホールドし、そしてＡ／
Ｄ変換する。
換器２１に入力され、このサンプリングクロックの周期
でアンプ２０の出力をサンプルホールドし、そしてＡ／
Ｄ変換する。
ところで、Ａ／Ｄ変換器のサンプル周期は一般に最も高
速のものでもｉｎｓ程度に留まり、エキシマレーザＩの
発光パルス幅である約２０ｎｓに比べて充分なサンプル
周期ではない、したがフて、精度を向上させるためには
サンプル周期をさらに短くする必要がある。そこで、本
実施例ではサンプルホールドＡ／Ｄ変換器２１を第４図
に示すように複数個並列にネに成し、それぞれのサンプ
リングクロックを数１００ｐｓづつずらすことによって
実買上サンプリング周期を短くすることとした。これら
複数個のサンプルホールドＡ／Ｄ変換器２１のディジタ
ル出力を加算器２３で逐次加算し、１パルスの発光ごと
の積分値を求めることができる。そして、この加算器２
３の出力をマイクロコンピュータ８で積算することで露
光量を求め、あとは前記の実施例と同様にして露光制御
を実現することができる。
速のものでもｉｎｓ程度に留まり、エキシマレーザＩの
発光パルス幅である約２０ｎｓに比べて充分なサンプル
周期ではない、したがフて、精度を向上させるためには
サンプル周期をさらに短くする必要がある。そこで、本
実施例ではサンプルホールドＡ／Ｄ変換器２１を第４図
に示すように複数個並列にネに成し、それぞれのサンプ
リングクロックを数１００ｐｓづつずらすことによって
実買上サンプリング周期を短くすることとした。これら
複数個のサンプルホールドＡ／Ｄ変換器２１のディジタ
ル出力を加算器２３で逐次加算し、１パルスの発光ごと
の積分値を求めることができる。そして、この加算器２
３の出力をマイクロコンピュータ８で積算することで露
光量を求め、あとは前記の実施例と同様にして露光制御
を実現することができる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、エキシマレーザ
などのパルス光を応答速度の速いフォトセンサで光電変
換し、その出力を積分しているので、パルスごとのエネ
ルギーを高精度に求めることができる、したがって、露
光に要する出射パルス数を最小限にすることが可能とな
り、露光装置のスルーブツトを向上させることができる
。また、エキシマレーザなどのパルスエネルギーを常に
監視しているためレーザの不調などによる不露光を低減
することもできる。
などのパルス光を応答速度の速いフォトセンサで光電変
換し、その出力を積分しているので、パルスごとのエネ
ルギーを高精度に求めることができる、したがって、露
光に要する出射パルス数を最小限にすることが可能とな
り、露光装置のスルーブツトを向上させることができる
。また、エキシマレーザなどのパルスエネルギーを常に
監視しているためレーザの不調などによる不露光を低減
することもできる。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光制御装置の構成
図、 第２図は、積分器の処理タイミングを説明するためのタ
イミングチャート、 第３図は、上記実施例の装置の露光制御の手順を説明す
るためのフローチャート、 第４図は、ディジタル積分器を用いた実施例に係る露光
制御装置の構成図、 第５図は、従来より用いられている露光制御装置の構成
図、 第６図は、エキシマレーザの概略構成を示す図である。 １．１１＝エキシマレーザ、 ２．１２７照明系、 ３．１３：投影光学系、 ４．１４：ミラー ５．１５：フすトセンサ、 ６：ｌＪＬ分器、 ７ ： Ａ／Ｄ変換器、 ８：マイクロコンピュータ、 ９．１８：レーザ制御部、 １０：積分ゲート発生部、 １６ニバルス数積算回路、 １７：ＣＰＵ。 ２０：アンプ、 ２１：サンプルホールドＡ／Ｄ変換器、２２：タイミン
グ制御部、 ２３：加算器。
図、 第２図は、積分器の処理タイミングを説明するためのタ
イミングチャート、 第３図は、上記実施例の装置の露光制御の手順を説明す
るためのフローチャート、 第４図は、ディジタル積分器を用いた実施例に係る露光
制御装置の構成図、 第５図は、従来より用いられている露光制御装置の構成
図、 第６図は、エキシマレーザの概略構成を示す図である。 １．１１＝エキシマレーザ、 ２．１２７照明系、 ３．１３：投影光学系、 ４．１４：ミラー ５．１５：フすトセンサ、 ６：ｌＪＬ分器、 ７ ： Ａ／Ｄ変換器、 ８：マイクロコンピュータ、 ９．１８：レーザ制御部、 １０：積分ゲート発生部、 １６ニバルス数積算回路、 １７：ＣＰＵ。 ２０：アンプ、 ２１：サンプルホールドＡ／Ｄ変換器、２２：タイミン
グ制御部、 ２３：加算器。
Claims (4)
- （１）パルス光源から出射されるパルス光を焼付光とし
て使用する露光装置の露光量を制御する露光制御装置に
おいて、 上記パルス光の光束の一部を受光して電気信号を出力す
る光電変換手段と、該受光に対応した光電変換出力のみ
を積分する手段と、該積分結果を積算する手段と、該積
算結果が所定値を超えたか否かを判別し所定値を超えた
場合には上記パルス光の発光を停止する制御手段とを具
備することを特徴とする露光制御装置。 - （２）前記光電変換出力を積分する手段が電気的な積分
器である請求項１に記載の露光制御装置。 - （３）パルス発光のタイミングに同期して積分ゲートを
発生させ、該積分ゲートの区間のみで前記光電変換出力
の積分動作を行なう請求項２に記載の露光制御装置。 - （４）前記積分ゲートの発生タイミングをパルス光源か
らの発光同期信号またはパルス光源への発光指令から求
める請求項３に記載の露光制御装置。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP63328826A JPH02177313A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光制御装置 |
| US07/611,442 US5107275A (en) | 1988-12-28 | 1990-11-13 | Exposure control system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63328826A JPH02177313A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光制御装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH02177313A true JPH02177313A (ja) | 1990-07-10 |
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ID=18214517
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| JP63328826A Pending JPH02177313A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 露光制御装置 |
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| JP (1) | JPH02177313A (ja) |
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