JPH02179A - 飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、血小板活性化因子（ＰＡＦ）拮抗作用を有す
る新規な飽和へテロ環カルボン酸アミド誘導体及びその
塩に関する。

（従来の技術） ＰＡＦは、ヒトおよび動物の細胞より放出される化学物
質であり、下記式で示されるホスホリルコリンのアセチ
ルグリセリルエーテルである。

（式中ｔは１５または１７を意味する。）ＰＡＦは、気
道平滑筋の収縮、血管透過性の充進、血小板の凝集、血
圧降下等の生理活性を有し、喘息、炎症、血栓症、ショ
ック等の諸症状を惹き起こす因子と考えられている。そ
れ故。

ＰＡＦの生理活性に拮抗する物質の研究が進められてお
り、幾つかの抗ＰＡＦ薬が報告されて−・る（たとえば
、特開昭６１−９３１９１号、特開昭６０−１１６６７
９号、特開昭６０−１４２９３２号、特開昭５９−１３
４７９８号、特開昭６１−８７６８４号、　特開昭６１
−３７７２６号）。

本発明者等は、従来の抗ＰＡＦ薬と化学構造を異にする
新規な飽和へテロ環カルボン酸アミド誘導体に°すぐれ
た抗ＰＡＦ活性を認め１本発明を完成した。

（課題を解決するための手段） 本発明の飽和へテロ環カルボン酸アミド誘導体は、つぎ
の一般式（Ｉ）で示される。

（式中の記号は以下の意味を有する。

Ｒ１：ベンゼン環が縮合していてもよい置換又は未置換
の５乃至６員のへテロ環基。

Ｒ２：水素原子、低級アルキル基、又はＲ１と同一の基
。

Ｘ′＝酸素原子、硫黄原子、又・は低級アルキル基で置
換されていてもよいメチレン基。

ＹＩ：酸素原子、硫黄原子、又は式）Ｎ−Ｒ’で示され
る基。

Ａ１：低級アルキル基でそれぞれ置換されていてもよい
メチレン基又はエチレン基。

Ｒ４：水素原子、低級アルキル基、カルボキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、アシル基。

Ｒ５及びＲ６：一方が水素原子、又は置換又は未置換の
炭化水素基、他方が置換又は未置換の炭化水素基、又は
ベンゼン環が縮合していてもよい５乃至６員のへテロ環
基。

Ａ２及びＡ３：同−又は異って、置・換又は未置換の低
級アルキレン基。

Ｚ：メチン基（＞ＣＨ−）、又は窒素原子Ｒ７：水素原
子、置換若しくは未置換の炭化水素基、カルボキシ基、
低級アルコキシカルボニル基、アシル基、カルノ（モイ
ル基。

又はモノ若しくはジ低級アルキル°アミノカルボニル基
。

Ｒ８，ＲＱ、　Ｒｌｏ及びＲ１１：同−又は異って、水
素原子。

低級アルキル基、アラルキル基、又はアリール基。） 本発明化合物の化学構造上の特徴は、特定の飽和へテロ
環の特定の位置が特定のへテロ環並びに特定のカルボキ
サミドで必ず置換された飽和へテロ環カルボン酸アミド
誘導体である点にある。即ち１式（Ｉ） Ｒｏ：炭素数２〜１７のアルカイル基 Ｒ２：カルボキシル基又はそのエステル、アミドで示さ
れる化合物が結石除去作用を有することが。

アメリカ特許３５９２９０５には る飽和へテロ環、即ち５又は６員の飽和へテロ環の特定
の位置が特定のへテロ環、即ちＲ１で示されるベンゼン
環が縮合されることもある５又は６員の−・テロ環並び
に−ＣＯＲ’で示される特定のアミン基が置換されたカ
ルボキサミドで必ず置換されている点に化学構造上の特
徴を有しているのである。

従来２本発明化合物（Ｉ）の如き飽和へテロ環カルボン
酸アミド誘導体としては種々の化合物が知られている。

例えば、酉ドイツ特許２７２９４１４には 式 ％式％） で示される化合物が抗炎症作用を有することが。

各々開示されているが、前記の如き化学構造上の特徴を
有する化合物は具体的には知られていなかったのである
。

本発明化合物を更に詳細に説明すると以下の通りである
。

本明細書の一般式の定義において、特に断わらない限り
、［低級」なる用語は炭素数が１乃至６個の直鎖又は分
岐状の炭素鎖を意味する。

従って、「低級アルキル基」としては、具体的には例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基。

イソピロピル基、ブチル基、イソブチル基、　５ｅｅ−
ブチル基、　　ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル（アミル
）基、インペンチル基、ネオペンチル基、　　ｔｅｒｔ
　−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチ
ル基、１．２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、イソ
ヘキシル基、１−メチルペンチル基。

２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基。

１．１−ジメチルブチル基、１．２−ジメチルブチル基
、２．２−ジメチルブチル基、１．３−ジメチルブチル
基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチ
ル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、　　
１，１．２−　）　ＩＪメチルプロピル基。

１．２．２−）！Ｊメチルグロビル基、１−エチル−１
−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基等が挙げられる。

また、「モノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニル
基」は、カルバモイル基のアミン基に前記「低級アルキ
ル基」がモノ又はジ置換した基を意味する。従って、具
体的には例えば。

メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基
、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカ
ルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、インブチルア
ミノカルボニル基。

べ／チルアミノカルボニル基、インペンチルアミノカル
ボニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、インへキシル
アミノカルボ＝ル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジ
エチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニ
ル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基、ジブチルア
ミノカルボニル基、ジベンチルアミノ力ルポニル基、ジ
ヘキシルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカル
ボニル基、メチルプロピルアミノカルボニル基、エチル
プロピルアミノカルボニル基、エチルイソプロピルアミ
ノカルボニル基、ブチルメチルアミノカルボニル基、ブ
チルプロピルアミノカルボニル基等が挙げられる。

本発明において、「炭化水素基」は、炭素と水素とだけ
からなる化合物の総称である炭化水素の分子から１個の
水素原子を除いた１価基を意味し、殊に非環式炭化水素
としては飽和炭化クロアルキル基、芳香族単環及び多環
式炭化水ラルキル基やアラルケニル基が好適である。

ここに、「アルキル基」は、炭素数が１〜２０個の直鎖
又は分岐状のものが好適であり、具体的には上記「低級
アルキル基」の具体例に加えて、さらにヘプチル基、５
−メチルヘキシル基。

オクチル基、６−メチルヘプチル基、ノニル基。

７−メチルオクチル基、デシル基、８−メチルノニル基
、ウンデシル基、９−メチルデシル基。

ドデシル基、　　１０−メチルクンデシル基、トリデシ
ル基、１１−メチルドデシル基、テトラデシル基、　　
１２−メチルトリデシル基、　ペンタデシル基、　　１
３−メチルテトラデシル基、　ヘキサデシル基、１４−
メチルペンタデシル基、　ヘプタデシル基、１５−メチ
ルヘキサデシル基、オクタデシル基、　　１６−メチル
ヘプタデシル基、ノナデシル基、１７−メチルオクタデ
シル基、アイコシル基、１８−メチルノナデシル基等が
挙げられる。

「シクロアルキル基」は、炭素数が３〜７個のものが好
適であり、具体的にはシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基等である。

「アリール基」としては、具体的にはフェニル基やナフ
チル基などが好適なものとして例示できる。

「アラルキル基」としては、前記「低級アルキル基」の
任意の水素原子が前記「アリール基」で置換された基が
好ましく、具体的にはベンジル基、フェネチル基、１−
フェニルエチル基。

３−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、１
−フェニルプロピル基、１−メｆルー２−フェニルエチ
ル基、４−フェニルブチル基。

３−フェニルブチル基、２−フェニルブチル基。

１−フェニルブチル基、２−メチル−３−７エニルプロ
ビル基、２−メチル−２−フェニルプロヒル基、２−メ
チル−１−フェニルプロピル基、１−メチル−３−フェ
ニルプロピル基、１−メチル−２−フェニルプロピル基
、１−メチル−１−７エニルプロビル基、１−エチル−
２−フェニルエチル基、１．１−ジメチル−２−フ二二
ルエテル基、５−７二二ルペンチル基、４−フェニルペ
ンチル基、３−フェニルへ／チル基、２−フェニルペン
チル基、１：ｌ；’ｚニルペンチル基、３−メチルー４
−フェニルブチル基。

３−メチル−３−フェニルブチル基、３−メチル−２−
フェニルブチルａ、３−メｆルー１−フェニルフチル基
、６−フェニルヘキシル基。

５−フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、３
−フェニルヘキシル基、２−７エニルヘキシル基、ｌ−
フェニルヘキシル基、４−メチル−５−フェニルペンチ
ル基、４−メチル−４−フェニルペンチル基、４−メチ
ル−３−フェニルペンチル基、４−メチル−２−フェニ
ルペンチル基、４−メチル−１−フェニルペンチル基、
１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、２−（
１−ナフチル）エチル基、２−（２−ナフチル）エチル
基、１−（１−ナフチル）エチル、Ｍ、１−（２−ナフ
チル）エチル基。

３−（１−ナフチル）プロピル基、３−（２−ナフチル
）プロピル基、２−（１−ナフチル）プロピル基、２−
（２−ナフチル）プロピル基。

１−（１−ナフチル）プロピル基、１−（２−ナフチル
）プロピル基、１−メチル−２−（１−ナフチル）エチ
ル基、１−メチル−２−（２−ナフチル）エチル基、４
−（１−ナフチル）ブチル基、４−（２−ナフチル）ブ
チル基、３−（１−ナフチル）ブチル基、３−（２−ナ
フチル）ブチル基、２−（１−ナフチル）ブチル基、２
−（２−ナフチル）ブチル基、１−（１−ナフチル）ブ
チル基、１−（２−ナフチル）ブチル基、２−メチル−
３−（１−ナフチル）プロピル基、２−メチル−３−（
２−ナフチル）プロピル基、２−メチル−２−（１−ナ
フチル）プロピル基、２−メチル−２−（２−ナフチル
）プロピル基、２−メチル−１−（１−＋ブチル）プロ
ピル基、２−メチル−１−（２−ナフチル）プロピル基
、５−（１−ナフチル）ペンチル基。

５−（２−ナフチル）ペンチル基、４−（１−ナフチル
）ペンチル基、４−（２−ナフチル）ペンチル基、３−
メチル−４−（１−ナフチル）ブチル基、３−メチル−
４−（２−ナフチル）ブチル基、６−（１−ナフチ／Ｉ
／）ヘキシル基。

６−（２−す７チル）ヘキシル基、５−（１−す７チル
）ヘキシル基、５−（２−ナフチル）ヘキシル基、４−
メチル−５−（１−ナフチル）ペンチル基、４−メチル
−５−（２−す７チル）ペンチル基、ジフェニルメチル
基（ペンスヒトリル基）、トリチル基等が挙げられる。

ｒアラルケニル基」は、前記「アリール基」が低級アル
ケニル基に結合したものであって。

具体的には例えば、２−７二二ルエテニル基。

３−７　ｘニル−１−フロベニル基、３−７二二ルー２
−フロベニル基、１−メチル−２−フェニル−１−ブテ
ニル基、４−フェニル−２−フチニル基、４−フェニル
−３−フｆ二／１４．５フェニルー１−ペンテニル基、
５−フェニル−２−ペンテニル基、５−フェニル−３−
ペンテニル基、５−７エニルー４−ペンテニル基。

６−フェニル−１−へキセニル基、６−７エユルー２−
へキセニル基、６−フェニル−３−へキセニル基、６−
フェニルー４−ヘキセニル基。

６−フェニル−５−ヘキセニル基、２−（１−ナフチル
）エチニル基、２−（２−ナフチル）エチニル基、３−
（１−ナフチル）−２−７’ロベニル基、３−（２−ナ
フチル）−２−グロベ二／１４．４−（１−ナフチル）
−３−フｆニル基、４−（２−す７チル）−３−ブテニ
ル基。

５−（１−ナフチル）−２−ペンテニル基、５（２−ナ
フチル）−２−ペンテニル基、５−（１−ナフチル）−
４−ペンテニル基、５−（２−ナフチル）−４−ペンテ
ニル基、　　６−（１−ナフチル）−２−へキセニル基
、６−（２−ナフチル）−２−へキセニル基、６−（１
−ナフチル）−５−ヘキセニル基、６−（２−ナフチル
）−５−へキセニル基等である。

「非芳香族縮合多環式炭化水素基」としては具体的にイ
ンデニル基（Ｃ（テしく但し結合手はベンゼン環、飽和
環のいずれに結合するものであってもよいことを示す。

以下同様の結合手の表示は、同じ意味を示す）、インデ
ニル基具体的にはピロリル基、ピローリニル基、ピロリ
ジニル基、イミダゾリル基、イミグゾリニル基、イミダ
ゾリジニル基、ピラゾリル基、ピラゾリニル基、ピラゾ
リジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、インド
リル基、ベンズイミダゾリル基、インダゾリル基、ピリ
ジル基。

ジヒドロピリジル基、テトラヒドロピリジル基。

−１−シクロへブテニル基（Ｇｅ−）、フルオレニル基
（（）乎≧ｅ−，）、　　２．３−ジヒドロ−ＩＨ−ベ
ンズ［ｆ］インデニル基（（ＥζＢ）Ｌ　Ｈ−ヘア、＜
　［ｒ］　インデニル基３．．）等芳香族炭化水素基に
含まれない縮合多環式炭化水素基が挙げられる。

本発明化合物において　Ｒ１や　Ｒ１と同一の基である
場合のＲ２やＲ５又はＲ６が示す「ベンゼン環が縮合し
て（・てもよい５乃至６員のへテロ環基」としては。

酸素原子、硫黄原子、及び／又は窒素原子を含む飽和又
は不飽和のへテロ環基が好適でちり。

キナゾリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基７
　シンノリニル基、などの窒素原子のみを含有する単環
又は二環式飽和又は不飽和へテロ環基、チアゾリル基、
チアゾリニル基、チアゾリジニル基、イソチアゾリル基
、チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソ
チアゾリル基などの窒素原子と硫黄原子を含有する単環
又は二環式飽和又は不飽和へテロ環基、オキサシリル基
、オキサゾリニル基、オキサゾリジニル基、インオキサ
シリル基、オキサジアゾリル基、ベンズオキサシリル基
、ペンズイソオキサゾリル基などの窒素原子と酸素原子
を含有する単環又は二環式飽和又は不飽和へテロ環基等
の含窒素へテロ環基の他、チエニル基、テトラヒドロチ
エニル基等の金儲ヘテロ環基やフリル基、テトラヒドロ
フリル基、ピラニル基、テトラドロピラニル基、ジオキ
シリル基、ベンゾフリル基、ベンゾピラニル基、ベンゾ
ジオキソリン基などの含酸素へテロ環基が挙げられる。

これらのへテロ環基はその結合手が環炭素原子又は環窒
素原子のいずれに、あるいはへテロ環又はベンゼン環の
いずれに有するものであってもよい。

Ａ２やＡ３が示す「低級アルキレン基」は、炭素数１乃
至３個の直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基が挙げられる
。

また、「アシル基」は、殊に、ホルミル基。

アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、インブチリ
ル基、バレリル基、インバレリル基。

ヒバロイル基、ヘキサノイル基等の低級アルカメイル基
、ベンジルカルボニル基、３−フェニルプロパノイル基
、２−フェニルプロパノイル基、１−７エニルプロパノ
イル基、４−フェニルブタノイル基、３−・フェニルブ
タノイル基。

２−フェニルブタノイル基、１−７エニルブタノイル基
、２−メチル−３−７エニルプロバノイル基、５−７エ
ニルペンタノイル基、４−７エルベンタノイル基、３−
フェニルペンタノイル基、２−フェニルペンタノイル基
、１−フェニルペンタノイル基、３−メチル−４−フェ
ニルブタノイル基、３−メチル−２−フェニルフタノイ
ル基、６−７エニルヘキサノイル基、５フェニルヘキサ
ノイル基、４−７エニルヘキサノイル基、３−フェニル
ヘキサノイル基、２−フェニルヘキサノイル基、１−フ
ェニルヘキサノイル基、４−メチル−５−フェニルペン
タノイル基、４−メチル−３−７エニルヘキサノイル基
、４−メチル−２−フェニルヘキサノイル基等のアラル
カッイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナ
フトイル基や（伊、ｍ、又はｐ）トルオイル基、　　（
ｏ　、　ｍ　又ｔｔ−ｐ　）−フルオロベンゾイル基。

（ｏ、ｍ又はｐ）−クロロベンゾイル基、（０゜ｍ又は
ｐ）−ブロモベンゾイル基、　各種フルオロナフトイル
基、各種クロロナフトイル基、各種ブロモナフトイル基
等の置換又は未置換のアリールカルボニル基等が好適な
ものとして挙げられる。

また「低級アルコキシカルボニル基」としてはメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、インプロポキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、インブトキシカルボニル基、　　５ｅｃ−ブ
トキシカルボニル基、　　ｔｅｒｔ　　７’）キシカル
ボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、３−メチルブ
トキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニルｆ、４
−メチルペンチルオキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ８乃至Ｒ１＋の「アラルキル基」や「アリール基」は
前記炭化水素基中で示したアラルキル基やアリール基で
例示された基が好適である。

前記「炭化水素基」や「ベンゼン環が縮合していてもよ
い５乃至６員のベテロ環基」は。

Ｒ５，Ｒ６及びＲ７並びにＲ１及びＲ２において更に置
換基を有して（・てもよく、これらの置換基は、）・ロ
ゲン原子、低級アルキル基、水酸基群（水酸基、メルカ
プト基、アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シクロア
ルキル低級アルコキシ基。

シクロアルキル低級アルキルチオ基、アラルキルオキシ
基、アラルキルチオ基、アリールオキシ基。

アリールチオ基、アリールオキシ低級アルコキシ基、ア
リールオキシ低級アルキルチオ基、アリールチオ低級ア
ルコキシ基、了り−ルチオ低級アルキルチオ基）、オキ
ソ基群（オキソ基。

チオキソ基）、カルボキシ基群（カルボキシ基。

低級アルコキシカルボニル基、アシル基）、シアン基、
カルバモイル基群（カルバモイル基、モノ若しくはジ低
級アルキルアミノカルボニル基）。

二１・ロ基、アミノ基群（アミノ基、モノ若しくはジ低
級アルキルアミノ基、モノ若しくはジアラルキルアミノ
基、Ｎ−アラルキル−級アルキルアミノ基）やＲ５及び
Ｒ６にあっては更に含窒素へテロ環基な加えたものの中
から選択される。

ここに、「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子が好適である。「低級アルキル基」は前
記のものを意味する。

「アルコキシ基」は、炭素数が１〜ｌＯ個の直鎖又は分
岐状のものが好適であり、具体的にはメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基
、イソブトキシ基。

５ｅｃ−ブトキシ基、　　ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペン
チルオキシ（アミルオキシ）基、インペンチルオキシ基
、　’　ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオ
キシ基、２−メチルブトキシ基、１．２−ジメチルプロ
ポキシ基、１−エチルプロポキシ基。

ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、５−メチルへキ
シルオキシ基、オクチルオキシ基、６−メチルへブチル
オキシ基、ノニルオキシ基。

７−メチルオクチルオキシ基、デシルオキシ基。

８−メチルノニルオキシ基等が挙げられる。

なお、「低級アルコキシ基」は、上記「アルコキシ基」
のうち、炭素数が１乃至６個のものが挙げられる。

「低級アルキルチオ基」としては、上記「低級アルコキ
シ基」の酸素原子が、硫黄原子となったもので、具体的
には、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
イソプロピルチオ基。

ブチルチオ基、　　５ｅｃ−ブチルチオ基、　　ｔｅｒ
ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ネオペンチルチオ
基、２−メチルブチルチオ基、１．２−ジメチルグロビ
ルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ヘキシルチオ基
等が挙げられる。

「シクロアルキル低級アルコキシ基」や「シクロアルキ
ル低級アルキルチオ基」としては。

前記「低級アルコキシ基」や「低級アルキルチオ基」の
任意の水素原子が前記「シクロアルキル基」で置換され
た基を意味し、具体的には例えばシクロプロピル−メト
キシ（又はメチルチオ）基（シクロプロピル−メトキシ
基又はシクロプロピル−メチルチオ基の意味。以下同じ
）。

２−シクロプロピル−エトキシ（又ハエチルチオ）基、
１−シクロプロピル−エトキシ（又はエチルチオ）基、
３−シクロプロビループロボキシ（又はプロピルチオ）
基、２−シクロプロピループロボキシ（又はプロピルチ
オ）基、１−シクロプロピループロボキシ（又はプロピ
ルチオ）基、２−シクロプロピルー１−メチル−エトキ
シ（又はエチルチオ）基、４−シクロプロピル−ブトキ
シ（又はブチルチオ）基、５−シクロプロピルベンチル
ーオキシ（又はチオ）基、６−シクロブロビルヘキシル
ーオキシ（又はチオ）基、シクロブチル−メトキシ（又
はメチルチオ）基、２−シクロブチル−エトキシ（又は
エチルチオ）基、１−シクロブチル−エトキシ（又はエ
チルチオ）基、３−シクロブチル−プロポキシ（又はプ
ロピルチオ）基、２−シクロプチルーズロボキシ（又は
プロピルチオ）基。

１−シクロブチル−１−メチル−エトキシ（又はエチル
チオ）基、４−シクロブチル−ブトキシ（又はブチルチ
オ）基、５−シクロブチルベンチルーオキシ（又はチオ
）基、６−シクロプチルヘキシルーオキシ（又はチオ）
基、シクロペンチル−メトキシ（又はメチルチオ）基、
２−シクロペンチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、
ｌ−シクロペンチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、
３−シクロペンチル−プロポキシ（又はプロピルチオ）
基、２−シクロペンチル−プロポキシ（又はプロピルチ
オ）基、１−シクロペンチル−プロポキシ（又はプロピ
ルチオ）基、２−シクロペンチルー１−メチル−エトキ
シ（又ハエチルチオ）基、４−シクロペンチル−ブトキ
シ（又はブチルチオ）基、５−シクロペンチルペ°ンチ
ルーオキシ（又はチオ）基、６−シクロペンチルヘキシ
ル−オキシ（又ハチオ）基、シクロヘキシル−メトキシ
（又はメチルチオ）基、２−シクロヘキシル−エトキシ
（又はエチルチオ＞基、１−シクロヘキシル−エトキシ
（又ハエチルチオ）基、３−シクロへキシル−プロポキ
シ（又はプロピルチオ）基、２−シクロヘキシル−プロ
ポキシ（又はプロピルチオ）基、１−シクロへキシル−
プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−シクロヘキシ
ルー１−メチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、４−
シクロヘキシル−ブトキシ（又はブチルチオ）基。

５−シクロヘキシルベンチルーオキシ（又ハチオ）基、
６−シクロヘキジルヘキシルーオキシ（又はチオ）基、
シクロヘプチル−メトキシ（又はメチルチオ）基、２−
シクロヘプチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、１−
シクロヘプチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、３−
シクロヘプチループロポキシ（又はプロピルチオ）基、
２−シクロヘプチループロポキシ（又はプロピルチオ）
基、１−シクロへブチル−プロポキシ（又はプロピルチ
オ）基、２−シクロヘプチルー１−メチル−エトキシ（
又はエチルチオ）基、４−シクロへブチル−ブトキシ（
又はブチルチオ）基、５−シクロヘプチルペンチル−オ
キシ（又はチオ）基、６−シクロヘブチルヘキシルーオ
キシ（又はチオ）基等が挙げられる。

「アラルキルオキシ基」や「アラルキルチオ基」は、前
記「低級アルコキシ基」や「低級アルキルチオ基」の任
意の水素原子が、前記「アＩＪ−ル基」で置換された基
を意味し、具体的には「アリール基」としてフェニル基
のみで例示すれば１例えばベンジル−オキシ（又はチオ
）基。

フェネチル−オキシ（又はチオ）基、１−７エニルーエ
トキシ（又はエチルチオ）基、３−７エニループロポキ
シ（又はプロピルチオ）基。

２−７エニループロポキシ（又はプロピルチオ）基、１
−フェニル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−
フェニルー１−メチルーエトキシ（又はエチルチオ）基
、４−フェニルーブトキシ（又はブチルチオ）基、５−
フェニルベンチルーオキシ（又はチオ）基、６−フエニ
ルヘキジルーオキシ（又はチオ）基等である。

「アリールオキシ基」や「アリールチオ」基としては具
体的にはフェノキシ（又はフェニルチオ）基、ナフチル
−オキシ（又はチオ）基等の芳香族単環又は多環式炭化
水素ヒドロキシ又はメルカプト化合物より誘導されたエ
ーテル又はチオエーテル残基が挙げられる。

「アリールオキシ低級アルコキシ基」、「アリールオキ
シ低級アルキルチオ基」、「アリールチオ低級アルコキ
シ基」や「アリールチオ低級アルキルチオ基」は、前記
「低級アルコキシ基」や「低級アルキルチオ基」の任意
の水素原子に前記「アリールオキシ基」や「アリールチ
オ基」が置換した基を意味し、「アリールオキシ基」や
「アリールチオ基」としてフェノキシ（又はフェニルチ
オ）基のみで例示すれば、フェノキシ（又はフェニルチ
オ）−メトキシ（又はメチルチオ）基、２−フェノキシ
（又はフェニルチオ）−エトキシ（又はエチルチオ）基
、１−フェノキシ（又はフェニルチオ）−エトキシ（又
はエチルチオ）基、３−フェノキシ（又はフェニルチオ
）−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−フェノキ
シ（又はフェニルチオ）−プロポキシ（又はプロピルチ
オ）基、１−フェノキシ（又はフェニルチオ）−プロポ
キシ（又はプロピルチオ）基、２−フェノキシ（又は）
工ニルチオ）−１−メチル−エトキシ（又はエチルチオ
）基、４−フェノキシ（又はフェニルチオ）−ブトキシ
（又はブチルチオ）基、５−フェノキシ（又はフェニル
チオ）ペンチル−オキシ（又はチオ）基、６−フェノキ
シ（又はフェニルチオ）ヘキシル−オキシ（又はチオ）
基等である。

「アシル基」や「モノ若しくはジ低級アルキルアミノカ
ルボニル基」は、前記と同様の基が具体的置換基として
挙げられる。

［モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基」は。

アミン基の一つ又は二つの水素原子が前記「低級アルキ
ル基」で置換された基を意味する。具体的にはメチルア
ミン基、エチルアミノ基、プロピルアミン基、イソプロ
ピルアミノ′基、ブチルアミノ基、インブチルアミノ基
、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ヘキシル
アミノ基、イソへキシルアミノ基等　炭素数が１乃至６
個の直鎖又は分岐状のアルキル基で置換されたモノアル
キルアミノ基、ジメチルアミノ基。

ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジベンチルアミノ基、
ジヘキシルアミノ基等炭素数が１乃至６個の直鎖又は分
岐状のアルキル基でジ置換された対称型のジアルキルア
ミノ基、エチルメチルアミノ基、メチルプロピルアミノ
基。

エチルプロピルアミノ基、ブチルメチルアミノ基、ブチ
ルエチルアミノ基、ブチルプロピルアミノ基等炭素数が
１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル基のうち相異な
るアルキル基でジ置換された非対称型のジアルキルアミ
ノ基が挙げられる。

「モノ若しくはジアラルキルアミノ基」としては、ベン
ジルアミノ基、フェネチルアミノ基。

３；７ｚニルプロピルアミ／基、４−フェニルブチルア
ミノ基、５−フェニルペンチルアミノ基、６−フエニル
ヘキジルアミン基、１−ナフチルメチルアミノ基、２−
ナフチルメチルアミノ基、１−ナフチルエチルアミノ基
、２−ナフチルエチルアミノ基、１−ナフチルプロピル
アミノ基、２−ナフチルグロピルアミン基、１−ナフチ
ルブチルアミノ基、２−ナフチルブチルアミノ基、ジフ
ェニルメチルアミノ基、２．２−ジフェニルエチルアミ
ノ基、３．３−ジフェニルプロピルアミノ基、４．４−
ジフェニルブチルアミノ基、トリフェニルメチルアミン
基等のモノアラルキルアミノ基、ジベンジルアミノ基、
ジフェネチルアミノ基、ビス（３−フェニルプロピル）
アミン基、ビス（４−フェニルブチル）アミン基、ビス
（５−フェニルペンチル）アミン基、ビス（６−フェニ
ルヘキシル）アミン基などの対称型ジアラルキルアミノ
基、Ｎ−ベンジルフェネチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−
３−フエニルブロピルアミン基、Ｎ−ベンジル−４−フ
ェニルブチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−５−フェニルペ
ンチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−６−フエニルヘキジル
アミン基、Ｎ−７エネチルー３−フェニルプロピルアミ
ノ基、Ｎ−フェネチル−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−フェネチル−５−フェニルペンチルアミノＭ、　　
Ｎ−フェネチルー６−フェニルヘキシルアミン基。

Ｎ−（３−７エニルプロビル）−４−フェニルブチルア
ミノ基、Ｎ−（３−フェニルプロピル）−５−フェニル
ペンチルアミノ基、Ｎ−（３−７エニルプロビル）−６
−フエニルヘキジルアミン基、Ｎ−（４−フェニルブチ
ル）−５−フェニルペンチルアミノ基、Ｎ−（４−フェ
ニルブチル）−６−７エニルヘキシルアミノ基、Ｎ−（
５−フェニルペンチル）−６７ｘニルヘキシルアミノ基
などの非対称型ジアラルキルアミノ基が挙げられる。

「Ｎ−アラルキル−Ｎ−低級アルキル基」は。

前記「モノアラルキルアミノ基」のアミン基に前記「低
級アルキル基」が置換して三級化したアミン基を意味し
、Ｎ−メチルベンジルアミノ基、Ｎ−エチルベンジルア
ミノ基、Ｎ−プロピルベンジルアミノ基、Ｎ−ブチルベ
ンジルアミ／基、Ｎ−ペンチルベンジルアミノ基、　Ｎ
　−ヘキシルベンジルアミノ基、Ｎ−メチルフヱネチル
アミノ基、Ｎ−エチルフェネチルアミノ基。

Ｎ−プロピルフェネチルアミノ基、Ｎ−ブチルフェネチ
ルアミノ基、Ｎ−ペンチルフェネチルアミノ基、Ｎ−へ
キシルフェネチルアミノ基。

Ｎ−メチル−３−７エニルプロビルアミノ基。

Ｎ−エチル−３−フェニルプロピルアミン基。

Ｎ−プロピル−３−７エニルプロビルアミノ基。

Ｎ−ブチル−３−７エニルプロビルアミノ基。

Ｎ−ペンチルー３−フェニルプロピルアミン基。

Ｎ−へキシル−３−フェニルプロピルアミン基。

Ｎ−メチル−４−フェニルブチルアミノ基、Ｎ−エチル
−４−７エニルプチルアミノ基、Ｎ−プロピル−４−フ
ェニルブチルアミノ基、　　Ｎ　−ブチル−４−フェニ
ルブチルアミノ基、　Ｎ　−ヘンチル−４−７エニルブ
チルアミノ基、Ｎ−へキシル−４−フェニルブチルアミ
ノ基などが代表的な具体的基として挙げられる。

Ｒ５及びＲ６の置換基としての「含窒素−、テロ環基」
は、ヘテロ原子として窒素原子を含み、他に硫黄障子や
酸素原子を含んでいてもよく、かつベンゼン環と縮合し
ていてもよい。飽和又は不飽和の５乃至６員ヘテロ環基
を意味し、具体的には前記「ベンゼン環が縮合していて
もよい５乃至６員のへテロ環基」のうち、窒素原子を少
なくとも一個有するヘテロ環基が挙げられる。

これらのへテロ環の結合手についても、前記と同様、環
炭素原子や環窒素原子のいずれに。

またへテロ環やベンゼン環のいずれに結合するものであ
ってもよい。

また　ＡｍやＡ３が有していてもよい置換基としては、
低級アルキル基、アラルキル基やアリール基が好適であ
り、具体的には前記「低級アルキル基」で例示された基
や、「炭化水素基」の中でアラル・キル基や了り−ル基
として例示された基が好適である。

本発明化合物（Ｉ）は塩を形成する。本発明には化合物
（Ｉ）の塩が包含される。このような塩としては具体的
には、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ化
水素酸等の鉱酸や、酢酸、シュウ酸、コハク酸、クエン
酸、マレイン酸、リンゴ酸、フマール酸、酒石酸、ピク
リン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の有機
酸との酸付加塩、グルタミン酸、アスパラギン酸等の酸
性アミノ酸との塩、塩化メチル。

臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキルとの
結合による第４級アンモニウム塩等が挙げられる。

また１本発明によって提供される化合物（Ｉ）には少な
くとも２個以上の不整炭素原子を有しており、その存在
に基づく異性体が存在する。

また、ヘテロ環に水酸基又はメルカプト基が結合した化
合物とオキソ基又はチオキソ基が結合した化合物とはケ
ト−エノール型の互変異性体の場合がある。

本発明には、これらの分離された各異性体及びこれらの
混合物が含まれる。

（製造法） 本発明化合物（Ｉ）は、基本骨格及び種々の置換基の特
徴を利用して種々の合成法を適用することによって製造
することができる。以下にその代表的製法を例示する。

第１製法（アミド化Ａ） 第３製法（アミド化Ｃ） （ＴＩ） （ｎＴ） 又はその反応性誘導体 （Ｖ） 又はその反応性誘導体 （Ｖｌ） 第２製法（アミド化Ｂ） 第４製法（Ｎ−アシル化Ａ） ＱＶ） （■） （■） 又はその反応性誘導体 （ｂ） （■ｃ） 第５１８！法（Ｎ−アシル化Ｂ） （ＩＸ） （Ｘ） 又はその反応性誘導体 （ｒｄ） 第６製法（Ｎ−アシル化Ｃ） αＤ αＤ 又はその反応性誘導体 （Ｉｅ） 第９製法（エーテル又はチオエーテル化Ｃ）（Ｘ割） （ＸＩＸ） 第１０製法（環化） （ＸＸ） （ｘｌｘＩ） （Ｉｉ） 第７製法（エーテル又はチオエーテル化Ａ）（Ｘ［Ｖ　
） （ＸＶ） 第８製法（エーテル又はチオエーテル化Ｂ）（Ｘ％’Ｉ
） （八’ＩＩ） （Ｉｇ） 第１１製法（Ｎ−アルキル化Ａ） 第１２製法（Ｎ−アルキル化Ｂ） ＜　ｘｘｒｖ　） （３）必要により保護基の除去 （Ｉｋ） 第１３製法（Ｎ−アルキル化Ｃ） 第１５！Ａ法（Ｎ−アルキル化Ｅ） ○■■） ○■■） （Ｘα■ 第１４製法（Ｎ−アルキル化Ｄ） 第１６製法 （ＸＸＩＸ） （ＸＸＸ） （ＸＸＸＩＶ　） （ＸＸＸＶ） 第１７製法（還元） （反応式中、Ｒゝ、　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ’、　Ｒ’、　Ｘ
’、　Ａ’、　Ｙ’及びＺは前記の意味を有し、他の記
号は以下の意味を示す。

Ｒ１２：保護基を有していてもよいＲ１と同一の基。

Ｒ１３：保護基を有していてもよいＲ２と同一の基。

Ｙ２：保護基を有していてもよいｙｌと同一の基。

Ｒ１４：保護基を有していてもよいＲ３と同一の基。

Ｒ１５：保護基を有していてもよいＲ５と同一の基。

Ａ４：炭化水素２価基。

Ｒ１６及びＲ１？　：同−又は異って、水素原子又は低
級アルキル基。

Ｒ１８ニアシル基よりカルボニル基を除去した残基。

＠二三級化されていないベンゼン環が縮合していてもよ
い５乃至６員の含窒素へテロ環基。

Ｒ１９：水素原子、低級アルキル基又は式Ｈ−０で示さ
れる基。

Ｒ２０：保護基を有していてもよいＲ１と同一の基。

Ｒ２′＝保護基を有していてもよいＲ２と同一の基。

Ｙ３：保護基を有していてもよいＹｌと同一の基。

Ｒ２２＝保護基を有していてもよいＲ５と同一の基。

Ａｓ　：　Ａ４と同一の基又は式−Ａ４　　Ｘ２　　Ａ
Ｓ−で示される２価基。

Ｘ２：酸素原子又は硫黄原子。

へ６：低級アルキレン基。

Ｄｌ及びＤ２ニ一方が水酸基、メルカプト基、又はこれ
らのアルカリ金属置換体、他方がハロゲン原子又は有機
スルホン酸残基。

Ｒ２３：炭素数が１乃至１０個のアルキル基、シクロア
ルキル低級アルキル基、アラルキル基。

アリール基又はアリールオキシ低級アル６員のへテロ環
２価基、又は式−Ａ６　　Ｘ２−Ａδ−で示される基。

Ａ８＝ベンゼン環が縮合していてもよい５乃至６員のへ
テロ環２価基。

Ｒ２４：保護基を有していてもよいＲ３と同一の基。

Ｘ４：酸素原子又は硫黄原子 Ｙ４＝酸素原子、硫黄原子又はイミノ基（−ＮＨ−）。

Ｄ３：ハロゲン原子又は有機スルホン酸残基。

Ｒ２５：低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基
、又はアシル基。

Ｄ４及びＤ５ニ一方が保護基を有していてもよ−・アミ
ン基、他方がハロゲン原子又は有機スルホン酸残基。

５２、、、と同−又は相異なる低級アルキル基又キ基。

Ｒ３１：水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、又
はアリール基。

Ｘ５：酸素原子、硫黄原子、又は置換基として低級アル
キル基を有していてもよいメチレン基、若しくは置換基
として低級アルキル基を有していてもよいメチン基。

であるときは水素原子、低級アルキル基。

又はアラルキル基　ｐ５がハロゲン原子又は有機スルホ
ン酸残基であるときは低級アルキル基又はアラルキル基
、又はＤ５−Ｒ″一体でフタル酸イミドカリウム（但し
。

Ｄ４はハロゲン原子又は有機スルホン酸残基）。

・・・・ぺいずれかの結合が２重結合。）ここで、保護
基としては、アミン基の保護基。

カルボキシ基の保訛基、メルカプト基の保護基。

水酸基の保護基が挙げられ、アミン基の保護基としては
ベルジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−メチルベンジルオキシカルボニ
ル基、ｐ−クロロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−フェニルアゾベ
ンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェニルアゾ
ペンジルオキンカルボニル７５．　３．５−ジメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、　３，４．５−トリメト
キシベンジルオキシカルボニル基。

ｔｅｒｔ−ブトキシカルぎニル基、　　ｔｅｒｔ−アミ
ルオキシカルボニル基、ｐ−ビフェニルイソプロピルオ
キシカルボニル基、ジイソプロピルメチルオキシカルボ
ニル基などのウレタン型の保護基。

ホルミル基、トリフルオロアセチル基、フタリル基、ト
シル基、ｏ・−二トロフェニルスルフェニル基、　　ｐ
−メト＊シー０−ニトロフェニルスルフェニル基、ベン
ゾイル基、クロロアセチル基などのアシル型の保護基、
トリチル基、ベンジル基、２−ベンゾイル−１−メチル
ビニル基。

トリメチルシリル基などのアルキル型の保護基。

ベンジリデン基、２−ヒドロキシアリリデン基などのア
リリデン型の保護基が挙げられる。

また、カルボキシ基の保護基としては、ベンジル基ｒ　
　ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、　
　２１４１６−ドリメチルペンジル基。

ペンタメチルベンジル基、メチル基、エチル基。

ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、
フタルイミドメチル基、シクロペンチル基、２−メチル
チオエチル基、フェナシル基、４−ピコリル基などのエ
ステル残基が挙げられる。

メルカプト基の保護基としては、ベンジル基。

ｐ−メトキシベンジル基ｒ　　ｐ−二トロベンジル基、
ベンズヒドリル基、トリチル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、ベンゾイル基、エチルカルバモイル基、アセト
アミドメチル基、エチルチオ基、ベンジルチオメチル基
などが、また水酸基の保護基としてはベンジル基、　　
ｔｅｒｔ−ブチル基、アセチル基、トリフルオロセチル
基、ベンジルオキシカルボニル基などがそれぞれ挙げら
れる。

「炭化水素２価基」は　Ｒ５，Ｒ６，Ｒ？において置換
された炭化水素基に対応するものであり、アルキレン基
、シクロアルカンジイル基、アリーレン基、非芳香族縮
合多環式炭化水素２価基。

アラルキレン基が好適である。

「アルキレン基」は炭素数が１〜２０個の直鎖又は分岐
状の基が好適であり、具体的にはメチレン基、メチルメ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基
、テトラメチレン基。

１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基
、３−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、ｌ−
メチルテトラメチレン基、４メチルテトラメチレン基、
ヘキサメチレン基。

５−メチルペンタメチレン基、ヘプタメチレン基、オク
タメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウン
デカメチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン
基、テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基、ヘ
キサデカメチレン基、ヘプタデカメチレン基、オクタデ
カメチレン基、ノナデカメチレン基、アイコサメチレン
基等が挙げられる。

「シクロアルカンジイル基」としては、各種シクロプロ
パンジイル基、各種シクロブタンジイル基、各種シクロ
ペンタンジイル基、各種シクロヘキサンジイル基や各種
シクロへブタンジイル基が、「非芳香族縮合多環式炭化
水素２価基」としては具体的には各種インダンジイル基
。

各種インデンジイル基、各種テトラヒドロナフタレンジ
イル基、各種ジヒドロナフタレンジイル基、各種１．２
−ベンゾ−１−シクロヘプテンジイル基、各種フルオレ
ンジイル基、各種２，３−ジヒドロ−ＩＨ−ベンズ［ｆ
］インデンジイル基。

各種ＩＨ−ベンズ［ｆ］インデンジイル基が好適なもの
として例示される。また、「アリーレン基」としてはフ
ェニレン基（０＋ｍ＋Ｉ）　）　ｒ各種ナフタレンジイ
ル基等が挙げられる。「アラルキレン基」は、炭素数が
１乃至６個の低級アルキレン基と、上記「アリーレン基
」とが結合したアリールアルカンの２価基を意味し、ア
リーレン基としてフェニレン基、低級アルキレン基とし
てメチレン基で例示すれば−ＣＨ２−４３−となる。

また、アルコラード（フェノラート）やチオラート（チ
オフェノラート）を形成するアルカリ金属原子としては
カリウムやナトリウム等が挙げられる。

「アシル基よりカルボニル基を除去した残基」としては
、特に低級アルキル基、アラルキル基。

ハロゲン置換又は未置換のアリール基、低級アルコキシ
基が好゛適であり、これらの具体例としては前記と同一
の基が挙げら′れる。

「三級化されていないベンゼン環が縮合していてもよい
５乃至６員の含窒素へテロ環基」は。

Ｒ１及びＲ１と同一の基であるときのＲ２が示す「ベン
ゼン環が縮合していてもよい５乃至６員のへΔ２又はΔ
３−ピロリニル基、ピロリジニル基、イミダゾリル基、
イミダゾリニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリル基
、ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、　　ＩＨ−１，
２，３−）リアゾリル基。

２　Ｈ−１，２，３−トリアゾリル基、　　ＩＨ−１，
２，４−トリアゾリル基、　　４　Ｈ−１，２，４−ト
リアゾリル基、　　ＩＨ−１，２，３，４−テトラゾリ
ル基、インドリル基、ベンズイミダゾリル基、ＩＨ−イ
ミダゾリル基、２Ｔ（−インダゾリル基、１．４−ジヒ
ドロピリジル基、テトラヒドロピリジル基、ピペリジュ
ル基、ピペラジニル基、Δ４−チアゾリニル基、チアゾ
リジニル基、Δ４−オキサゾリニル基、オキサゾリジニ
ル基、Δ４−イソオキサシリル基、インオキサゾリジニ
ル基等が挙げられる。

ＤＩ、　Ｄ２．　Ｄ３．　ｐ４及びＤ５が示す「・・ロ
ゲン原子」としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子等
が。

有機スルホン酸残基としてはメタンスルホニルオキシ基
、エタンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオ
キシ基や、ベンゼンスルホニルオキシ基ヤ）ルエン（％
　Ｋ　ｐ−）ルエン）スルホニルオキシ基などのアリー
ルスルホニルオキシ基が挙げられる。

Ｒ２５が示すｒシクロアルキル低級アルキル基」は、前
記「低級アルキル基」の任意の水素原子が前記「シクロ
アルキル基」で置換された基を示し、低級アルキル基と
してメチル基、シクロアルキル基としてシクロヘキシル
基で例示すればシクロヘキシルメチル基となる。

同様に「アリールオキシ低級アルキル基」や「アリール
チオ低級アルキル基」は、前記「低級アルキル基」の任
意の水素原子が前記「アリールオキシ基」や「アリール
チオ基」で置換された基を意味し、低級アルキル基とし
てプロピル基、アリールオキシ基やアリールチオ基とし
てフェノキシ（又はフェニルチオ）基で例示すれば、フ
ェノキシ（又はフェニルチオ）プロピル基となる。

Ａ７やＡａが示す「ベンゼン環と縮合していてもよい５
乃至６員のへテロ環２価基」は　Ｒ１及びＲ１と同一の
基である場合のＲ２が示す置換されたベンゼン環と縮合
してもよい５乃至６員のへテロ環基」に対応するもので
あり、具体的にはピリジン環で例示すればピリジン−２
，３−ジイル基　（’Ｑ’）の各種ピリジンジイル基と
なる。

その他の基は前記と同様である。

以下各製法につき詳述する。

第１製法 本発明化合物（Ｉ）は、一般式（ｎ）で示される保護基
を有していてもよいペテロ環カルボン酸又はその反応性
誘導体と、一般式（ｍ）で示されろ保護基を有していて
もよいアミンとを反応させ２次いで必要により保護基を
除去することにより製造することができる。

化合物（■）の反応性誘導体としては、酸クロライド、
酸ブロマイドの如き酸ハライド；酸アジド；Ｎ−ヒドロ
キシベンゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシスクシンイミ
ド等との活性エステル；対称型酸無水物；アルキル炭酸
、ｐ−トルエンスルホン酸等との混合酸無水物等が挙げ
られる。

化合物（ＩＩ）を遊離のカルボン酸で反応させるとキハ
、ジシクロへキシルカルボジイミドや１．１’−カルポ
ニルジイミターゾール等の縮合剤の存在下に実施するの
が有利である。

反応条件は原料化合物、殊に化合物（ＩＩ）の反応性誘
導体の種類によって若干異なるが、ピリジン。

テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル。

Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチレンクロリド、ジクロルエタン、クロロ
ホルム、酢酸エチル、アセトニトリル等反応に不活性な
有機溶媒中、原料化合物（■）。

（［）を等モル乃至は一方を過剰モルを用いて反応させ
るのが有利でちる。

反応性誘導体の種類によって、あるいは原料化合物（Ｉ
ＩＩ）の塩を用いる場合など２反応に際し、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ピリジン。

ピコリン、ルチジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモ
ルホリン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の無機塩基などの塩基の存在下に実施するのが有
利な場合がちる。なお。

原料化合物（［［）を過剰モルとして反応を促進させる
こともできる。また、ピリジンは溶媒を兼ねろこともで
きる。

反応温度は反応性誘導体の種類によって異なり。

適宜設定される。

本反応においては、他にメルカプト基や反応性のアミン
基、カルボキン基、ヒドロキシ基が存在しない方が好ま
しいが、保護基を導入して反応させた後保護基を除去す
ることによって目的物とすることができる。

保護基の脱離は、保護基の種類によって異なる。

例えばアミン基の保ｎ基が置換又は未置換のベンジルオ
キシカルボニル基などである場合には接触還元が好適で
あり、場合によっては臭化水素酸／酢酸、臭化水素酸／
トリフルオロ酢酸、フッ化水素酸などによる酸処理が用
いられる。ｔｅｒｔ−フトキシカルボニル基などの他の
ウレタン型保護基は臭化水素酸／酢酸、トリフルオロ酢
酸、塩酸。

塩酸／酢酸、塩酸／ジオキサンなどによる酸処理が有利
でちる。

また、カルホキ・７基の保護基が、メチル基、エチル基
であるときは、ケン化により、ベンジルを各種置換ベン
ジル基は接触還元やケン化により。

ｔｅ　ｒｔ−ブチル基は上記と同様の酸処理により、ト
リメチルシリル基は水と接触させることにより。

それぞれ容易に除去される。

メルカプト基や水酸基の保護基は、大男、ナトリウム／
液体アンモニア処理やフッ化水素酸処理により除去でき
る他、保護基の種類によっては（例えば０−ベンジル、
０−ベンジルオキシカルボニル基 用して、また、アシル系の保護基であるときは酸又はア
ルカリの存在下加水分解することにより除去することが
できる。

これらの処理は、常法によって行うことが可能でちる。

第２製法 一般式（Ｉａ）で示されるＹｆかイミノ基でちる化合物
は、一般式（ｒＶ）で示されるオキサゾリジンジオン環
縮合ヘテロ環化合物と、化合物（１■）との反応によっ
て製造することもできる。

反応法、保護基とその除去は第１製法とほぼ同様である
。

第３製法 本発明化合物にはＲ３としてカルバモイル基あるいはモ
ノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニル基を有する
炭化水素基置換アミン基でちるアミド化合物も含まれて
おり、一般式（Ｉｂ）で示されるかかる化合物は、一般
式（Ｖ）で示される側鎖カルボン酸又はその反応性誘導
体と一般式（”／Ｉ）で示されるアミン顛とを反応させ
、必要により保護基を除去することにより製造できる。

反応条件等は第１製法と同様である。

第４製法 一般式（１ｃ）で示される本発明化合物は、対応する環
状２級アミン（■）に、一般式（ＶＩＩｌ）で示される
カルボン酸又はその反応性誘導体を反応させ次いで必要
により保護基を除去することにより製造することができ
る。

このＮ−アンル化反応は、第１製法と同様に実施するこ
とかできる。

第５製法 一般式（■ｄ）で示される本発明化合物は、対応するヘ
テロ環２級アミン（ＩＸ）と、一般式（Ｘ）のカルボン
酸又はその反応性誘導体と反応させ次いで必要により保
護基を除去することによって製造することが可能である
。

反応条件等は第１製法とほぼ同様である。

第６製法 本発明化合物中にはＲ１及びＲ１と同一の基である場合
のＲ２として環状２級アミン含有へテロ環にアシル基が
結合した化合物（Ｉｅ）も含まれており、化合物（ＸＩ
）と（Ｘ［Ｉ）又はその反応性誘導体とを第１製法と同
様に反応処理して製造できる。

第７製法 本発明化合物中にはエーテルあるいはチオエーテル化合
物が含まれており、そのような化合物にあっては常法の
エーテル化法やチオエーテル化法を適用して製造可能で
ある。

常法中、最も一般的な方法であるアルコール又はメルカ
プタン又はそのアルカリ金属置換体とハロゲン化物又は
スルホネートとを反応させる方法が最も有利に用いられ
る。

一般式（Ｉｆ）で示されるエーテル又はチオエーテル化
合物は、−数式（ＸＩＶ）で示されるヒドロキシ若しく
はメルカプト化合物若しくはこれらのアルカリ金属置換
体、又はハライド若しくはスルホネート化合物と、−数
式（ＸＶ）で示されるハライド若しくはスルホネート化
合物、又はヒドロキシ若しくはメルカプト化合物若しく
はこれらのアルカリ金属置換体とを反応させることによ
り製造される。

反応は、化合物（ＸＩＶ）と化合物（ＸＶ）とをほぼ等
モル、あるいは一方をやや過剰モルとして、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド。

アセトン、メチルエチルケトン（２−ブタノン）。

メタノール、エタノール、エチレンクロリド、クロロホ
ルム、エーテル、テトロヒドロフラン、ジオキサンなど
の有機溶媒又は水、あるいは水と有機溶媒との混合溶媒
中で行われる。

原料化合物（ＸＩＶ）又は（ＸＶ）として、アルカリ金
属置換体を使用しないときは、塩基の存在下に行われ、
そのような塩基としては、水酸化ナトリウム。

水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、トリトンＢなどの塩基が好適に用いられ
る。

反応温度は特に限定されないが９通常室温下ないしは加
温下に設定される。

原料化合物（ｘｒｖ）中に遊離のメルカプト基又はその
アルカリ金属置換体が他に存在するときは９通常その部
分においても同時にチオエーテル化される。

また、置換基の種類によっては副反応を抑制するために
保護基を導入して反応させるのが好適であり２反応後の
保護基の脱離は第１！Ａ法中の記載と同様にして処理す
ることにより行なわれる。

第８製法 一般式〇ｇ）で示されるエーテル又はチオエーテル化合
物は、化合物（ＸＶＩ）と化合物（ＸＳ’ｌｌ）との反
応により製造することができ９反〔栄件等は第７製法と
同様である。

第９製法 また、−数式（Ｉｈ）で示されるエーテル又はチオエー
テル化合物も、化合物（Ｘ１７１１）及び化合物（ＸＩ
Ｘ）を原料化合物として第７製法と同様に処理して製造
される。

第１０製法 本発明化合物中、Ｘｌが酸素原子又は硫黄原子である化
合物（Ｉｉ）は、−数式（ＸＸ）で示されるケトン（又
はアルデヒド）と、−数式（ＸＸＩ）で示されるジオー
ル、ジチオール、ヒドロキンメルカプタン又はアミノア
ルコール、アミノメルカプタン化合物とを原料化合物と
する環化反応を適用して製造することができる。

反応は、メタノール、エタノール、インプロパツール等
のアルコール類や含水アルコールなどの溶媒中化合物（
ＸＸ）と化合物（ＸＸＩ）とをほぼ等モルあるいは一方
の原料化合物をやや過剰量用いて。

通常室温下に行なわれる。更に、ベンゼン、トルエンな
どの共沸脱水溶媒を用い、ディーンースターク装置など
の脱水手段を施しながら実施することもできる。なお９
本反応においては、他にメルカプト基、アミン基やカル
ボキシ基などが存在しない原料が有利であるが、これら
の基を保護して実施することができる。

これらの保護基の脱離は第１製法と同様である。

第１１製法 一般式Ｃｒｊ）で示されるＮ−置換化合物は、−数式（
Ｘ）ＧＩＩ）で示される対応する環式第２アミンと一般
式（ＸＸＩ［Ｉ）で°示されるハライド又はスルホネー
ト化合物とを反応させ２次いで必要により保護基を除去
することにより製造される。

原料化合物（■）としてハライド化合物を用いる反応は
、第７製法と同様の溶媒中、化合物（ＸＸＩＩ　）に対
して化合物（ＸＸ１１１）とをほぼ等モルあるいは一方
をやや過剰モル用いて、室温乃至加温下、ちるいは加熱
還流して実施するのが有利である。

この反応に際し、ピリジン、ピコリン、　Ｎ、Ｎ　−ジ
メチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、ジメチルアミン等の二、三級
塩基や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、水酸化ナトリウム。

水酸化カリウム等の無機塩基を添加することが反応を円
滑に進行させる上に有利な場合がある。

原料化合物（ｘｘｍ）として有機スルホン酸残基で置換
された化合物を使用する反応は、化合物（ＸＸＩＩ　）
と化合物（ＸＸＩＩＩ）とほぼ等モルあるいは一方をや
や過剰モルとして第７製法と同様の溶媒中、冷却下ある
いは室温下に行うのが有利である。反応時間は種々の反
応条件を考慮して適宜設定される。

本反応においても他にメルカプト基２反応性のカルボキ
シ基、水酸基などが存在しない方が好ましいが、保護基
を導入して反応させて目的物とすることもできる。また
、他に反応性のアミノ基が存在するときは２反応条件に
よってはそのアミノ基も同時にＮ−アルキル化を受ける
場合があり。

容易に脱離する保護基を導入して反応させ保護基を除去
して目的物とすることもできる。

保護基の脱離等については第１製法に記載のとおりであ
る。

第１２製法 本発明の化合物中Ｒ３がジアミンタイプの置換基である
化合物は、一般式（ＸＸＩＶ）で示されるアミン又はハ
ライド若しくはスルホネートと、一般式（ＸＸＶ）で示
されるハライド若しくはスルホネート又はアミンとを反
応させる方法を適用して製造できる。

反応条件中溶媒、温度条件、塩基の添加や保護基の脱離
等に・ついては第１１製法とほぼ同様であるが、原料化
合物の使用量は目的物として対称型ジ置換アミン化合物
を製造するときは化合物（ＸＸ［Ｖ）あるいは化合物（
ＸＸＶ）の一方が他方に対してほぼ２倍モル、好ましく
は化合物（ＸＸＩＶ）としてアミンを用い化合物（ＸＸ
Ｖ）としてハライド等を用いそのハライド等の化合物（
ＸＸＶ）をアミン化合物（ＸＸ［Ｖ）に対してほぼ２倍
モル用いる。また、目的物としてモノ置換アミン又はモ
ノ置換アミンを原料としてジ置換アミンを製造するとき
は、それぞれの原料化合物はほぼ等モルが適当である。

なお、目的物としてモノ置換アミンを製造する際は、三
級アミン化を抑制して目的物を収率よく製造するために
Ｄ４又はＤＳのアミノ基に三級化抑制用の保護基９例え
ばトルエンスルホニルオキシ基。

アセチル基、フェナシルスルホニル基、トリフルオロメ
タンスルホニル基、ビスベンゼンスルホニル基等を導入
して２級アミン化するのが好ましい。

また　ｐ４がハロゲン又は有機スルホン酸残基を示すハ
ライド又はスルホネート化合物（ＸＸ［Ｖ）を原料とし
て一級アミンを製造するときは、化合物（ＸＸＶ）とし
てアンモニア類を用いることもできるが、フタル酸イミ
ドカリウムを用いて反応させた後、保護基を除去する方
法を適用するのが有利である。

第１３製法 本発明化合物中（ＩＩ）の化合物は、対応する環式２級
アミン（Ｗｌ）と化合物（ＸＥＧＩＩ）との反応により
製造することができる。反応条件等は第１１製法とほぼ
同様である。

第１４製法 また、化合物（１ｍ）も、第１１製法と同様に処理して
、原料化合物（ＸＸＩｘ）及び（ＸＸＸ）より誘導する
ことができる。

第１５製法 Ｒ１及びＲＩと同一の基である場合のＲｔにアミノ基。

モノ若しくはジ置換アミン基を有する本発明化合物（Ｉ
ｎ）は、第１２製法と同様に処理して製造することがで
きる。

第１６製法 るイミダゾリジン化合物を製造しようとする場合には１
種六の１．３−ジアゾール合成法の適用が考えられるが
、化合物（１０）を製造する場合には一般式（ｘｘｘｒ
ｖ）で示される対応するエチレンジアミンの一方の窒素
原子とアミド結合している化合物を原料化合物として、
これを環化させる方法が有利である。反応試剤としては
種々のカルボニル化合物を用いることができるが、炭化
水素系の置換基の導入をも考慮すれば一般式（ｘｘｘｖ
）で示されるアルデヒド類が好適である。

反応は、そレキュラーシーブを添加した反応に不活性な
有機溶媒（例えばトルエンなど）中で化合物ＣＸＸＸＩ
Ｖ）と（ＸＸＸＶ）とを加熱することにより行うことが
できる。

この反応においても、他にメルカプト基、アミン基、カ
ルボキシ基などが存在しない化合物が有利であるが、場
合により保護基を導入して実施することも可能である。

その場合の保護基の除去は第１１！法と同様に行なわれ
る。

第一製法 本発明化合物中には、還元手段の適用により取得できる
化合物が種々含まれている（例えばＣ＝Ｃ−ｃ−ｃ。

Ｃ＝Ｃ Ｃ＝Ｃ−ｃ　ｃ又は、　　Ｎｏ、−ＮＨ，、Ｓ−８−３
Ｈ等々）。

式示した方法は、特に基本骨格である飽和へテロ環化合
物を、対応する不完全水素化へテロ環の還元により製造
する方法である。

還元は、白金黒、酸化白金、パラジウム炭素。

ラネーニッケル等の還元触媒の存在下に接触還元する方
法が有利である。

その他の製造法 以上は、アミド化法、エーテル又はチオエーテル化法、
環化反応やＮ−アルキル化反応等につき詳述したが１０
本発明化合物は種々の官能基を含んでおり、その基の特
徴から種々の方法を適用して製造することが可能である
。

例えば１本発明化合物（Ｉ）中、置換基として遊離のカ
ルボキシ基を有する化合物は対応するエステルより常法
によりエステル残基を除去することにより、ｉた逆に置
換基としてエステル形成された低級アルコキクカルボニ
ル基である化合物は対応するカルボン酸又はその反応性
誘導体と低級アルコール又は低級アルキルハライドなど
アルコール成分の反応性誘導体とを反応させ、常法のエ
ステル形成反応を施すことにより製造することができる
。

このようにして製造された本発明化合物ＣＩ）は。

遊離のま−１ちるいはその塩として単離され、精製され
る。塩は通常用いられる造塩反応に付すことにより製造
することができる゛。

単離精製は、抽出、濃縮、結晶化、濾過、再結晶、各種
クロマトグラフィー等通常の化学操作を適用して行なわ
れる。

なお１本発明化合物には前記の如く、ラセミ体。

光学活性体、ジアステレオマー等の光学異性体。

シス体、トランス体の幾何異性体やケト型、工斤ル型の
互変異性体等が単独であるいは混合物として存在する。

ラセミ化合物は適当な原料化合物を用いることにより、
あるいは−数的なラセミ分割法により［たとえば、−数
的な光学活性酸（酒石酸等）とのジアステレオマー塩に
導き、光学分割する方法等］立体化学的に純粋な異性体
に導くことができる。また、ジアステレオマーの混合物
は常法２例えば分別結晶化またはクロマトグラフィー等
により分離できる。

幾何異性体は異性体間の物理化学的性質の差を利用して
分離することができる。

（発明の効果） 本発明化合物ＣＩ）及びその塩は、ＰＡＦ拮抗作用を有
し、ＰＡＦによって惹起される種々の疾病の治療、予防
圧有用である。殊に抗喘息剤、抗炎症剤。

抗潰瘍剤、ショック症状の緩和剤、虚血性心・脳疾患、
肝疾患、血栓症および腎炎の治療剤、ＦＡ器移植時の拒
絶抑制剤等として利用できる。

また１本発明化合物中には、血管拡張作用をも有する化
合物が含まれており、そのような化合物にあっては、血
管拡張剤としても有用である。

本発明の化合物の抗ＰＡＦ作用はつぎの方法によって確
認されたものである。

ＰＡＦによる血小板凝集に対する作用 方法二体重約３　ｋｇの雄性日本白色家兎の耳動脈より
３．８％クエン酸ナトリウム水醪液を１容入れたプラス
チソクンリンジに血液を９容採取した。血液を２７０　
Ｘｇで１０分間、室温で遠心しその上清を音直小板血漿
（以下、ＰＲＰ）とし、残りをさらに１ｌ１００Ｘで１
５分間遠心して乏血小板血漿（以下。

ＰＰＰ）を得た。ＰＲＰをＰＰＰで稀釈して血小板数を
５０万個／μｌに調整した後、　　ＰＡＦによる血小板
凝集なボーンとクロス（ジャーナル　オプ　フイジオロ
ジー、１６８巻、　　１７８−１９５頁（１９６３年）
）［ＧＶ、Ｒ，Ｂｏｒｎ　ａｎｄ、Ｍ、Ｊ、Ｃｒｏｓｓ
、　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ、　
１６８゜１７８−１９５．　（１９６３）］の方法によ
り測定した。すなわち、　ＮＢＳヘマトレーサー（二元
バイオサイエンス）を用い、　　ＰＡＦ（１０−８Ｍ）
によるＰＲＰの光透過度の変化を測定した。なお、化合
物ＵＰＡＦ添加の２分前に加え、対照におけるＰＡＦに
よる最大光透過度に対する抑制率からＩＣ，。値（５０
％抑制濃度）を求めた。

結果二表１に示したように２本発明化合物の多数がウサ
ギ血小板において抗ＰＡＦ作用（ＩＣ，。値１０−６Ｍ
以上）を示し、特に、実施例３７．４９．６７゜７１、
８１．８３．８５．９０．９１．１１９．１４２では強
く。

そのＩＣ，。値は２．８　Ｘ　１０−８〜８．５Ｘ１０
−８Ｍであった。

これらの化合物はＡＤＰ　（３μＭ）、アラキドン酸（
１００μＭ）およびコラーゲン（ｔｏμｇ／ｍｌ）によ
る血小板凝集に対しては抑制作用を示さないことから（
データは示さず）、ＰＡＦに特異的な拮抗薬と思われる
。

（実施例） 以下に実施例を掲記し２本発明を更に詳細に説明する。

なお、前記原料化合物中には、新規化合物が含まれてお
りその製法を参考例に示す。

なお９文中ＮＭＲはＴＭＳを内部標準とする核磁気共鳴
スペクトルを、ＭＳはマススペクトルを、ＬＡＨは水素
化リチウムアルミニウムを。

ＨＯＢＴは、１−ヒドロキシベンゾトリアソールを、Ｄ
ＣＣはジシクロへキシルカルボジイミドを、ＴＨＦはテ
トラヒドロフランを、ＤＭＦはＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミドを表わす。

参考例　１゜ Ｌ−システィンとピリジン−３ アルデヒドと から製造された ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸２
．１ｇ、水２０ｍ１．　　ジオキサ７４０ｍ１の混液に
ジーｔｅｒｔ−ブチルージーカルボネート２．４　ｇ　
、及び】規定水酸化ナトリウム水溶液１０ｍ１を４℃以
下で加え、室温で３０分間攪拌する。反応液を減圧濃縮
し、水３０　ｍｌを加え、０５Ｍのクエン酸水溶液を加
えｐＨ２〜３としたのち酢酸エチルで抽出する。抽出液
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し残
留物を酢酸エチルより再結晶してＮ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボン酸１ｇを得た。　融点　１６７〜１６９℃。

加熱した。活性炭１００■を温時に加え濾過した。

冷時析出した結晶なｒ取しエタノールで洗い、２−（４
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸１．２ｇを
得た。　融点　１７１〜１７３℃ＯＮＭＲ（ＤＭＳＯ−
ｄ、　） δ：３．０〜３．５（２Ｈ）、　３．９〜４．２（ＩＨ
）、　５．５６．５．７８（各３９合せてＩＨ）、　７
．４〜７．６（２Ｈ）、　　８．５〜８．６（２Ｈ） 参考例　３ 参考例　２゜ Ｈ２ＳＨ ピリジン−４−アルデヒド１．０７ｇと　Ｌ−システィ
ン１．２］ｇを６０％エタノール中還流温度に４時間キ
ノリン−３−アルデヒド１．５７ｇ及びＬ−システィン
１．２１ｇを５０％エタノール５０ｍ１に溶解し。

室温で１時間攪拌した。析出した結晶を吸引捕集し、５
０％エタノールで洗い、乾燥して２−（３−キノリル）
チアゾリジン−４−カルボン酸１゜９５ｇを得た。　融
点　１７３〜１７５℃　（分解）参考例　４゜ ｐ−クロロメチル−（４−フェニルブトキシ）ベンゼン
１．２０ｇ及びフタルイミドカリ１．１５ｇのＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド２０　ｍｌ中溶液を１００℃で３
時間攪拌した。反応混合液を酢酸エチルで希釈し水３回
、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧で留去して得られた固体を酢酸エチ
ルから再結晶ｌ−てＮ−［ｐ−（４−フエニルジｌキシ
）ベンジルコフタルイミド１．８５ｇを得た。　融点　
１０６〜１０７５°Ｃ（２）（Ｉ）−（ＣＨｔ％　ｏＱ
ｃｕ、４゜ｆｌｌで得られたＮ−［ｐ−（４−フェニル
ブトキシ）ベンジルコフタルイミド９２０■とヒドラジ
ン水和物２００■のエタノール１０ｍｔ中溶液を３時間
加熱還流した。今後１公離した固体を一過し去り。

Ｐ液を濃縮した。残留物にクロロポルムを加え。

不溶物をｆ別した。このＰ液を濃縮してｐ−（４−７エ
ニルプトキシ）ベンジルアミン１９ｏＩＴ１ｇヲ得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、　） δ：１．６〜１．９（４Ｈ）、　２．５〜２．８（２Ｈ
）、　３．７５（２Ｈ。

ｂｒ）、　３．８〜４．０（２Ｈ）、　６．７〜６．９
（２Ｈ）、　７．１〜７．３（７Ｈ） 参考例　５゜ ＣＨ３（ＣＨＩ　）ａ−ｏ＋ｃＨ２ＮＨ！ｐ−１０ロメ
チル（ヘプチルオキシ）ベンゼン９００　ｆｆ１ｇのＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド２５　ｍｌ中溶液にナトリ
ウムアジド１．２５ｇの水２．５　ｍｌ中溶液を加え、
１００℃で６時間攪拌した。冷後２反応混合物を水で希
釈し、エーテルで生成物を抽出した。

エーテル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥、減圧濃縮した。得られた残留油状
物のテトラヒドロフラン１０ｍｔ中溶液を、水素化リチ
ウムアルミニウム２００　ｍｇのテトラヒドロフラン１
５ｍｔ中懸濁液へ、０°Ｃで５分間かけて滴下した。同
温度で１時間、室温で１時間攪拌したのち、硫酸す）　
ＩＪウム１０水和物を加え。

過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解した。

不溶物をｒ過し去り、Ｐ液を減圧濃縮してｐ−へブチル
オキシベンジルアミン８６０　ｍｇを得た。

Ｍ　Ｓ　：　ｍ／ｚ　　２２１　（Ｍ”　）ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３　） δ：０．８〜１．０（３Ｔ（）、　１．２〜１．５（Ｉ
ＯＨ）、　１．６〜１９（２Ｈ）、　３．８０（２Ｈ，
ｓ）、　３．９４（２Ｈ，ｔ）、　６．８７（２Ｈ，ｄ
）、　７．２２（２Ｈ，ｄ）プロモー４−フェニルブタ
ン６００ｍｇ及び炭酸カリウム５８０■のＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド３　ｍＺ中中腹液室温で一夜攪拌した
。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１規定水酸化
す）　ＩＪウム、水。

飽和食塩水で厘次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥した。酢酸エチル層を減圧濃縮してｍ　−（４−フェ
ニルブトキシ）ベンズアルデヒド６６０■を得た。

ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　　　２５４　　（Ｍ＋）ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ、） δ　：１，６〜１．９（４Ｈ）、２．６〜２．８（２Ｈ
）、４．０６（２Ｈ，ｔ）。

７．２〜７．４（９Ｈ）、　　９．９６（ＩＨ，ｓ）参
考例　６ ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド３８０１’ｌ！、１−
ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンズアルデヒド６６０
■のメタノール１０ｍ１中溶液に水素化ホウ素ナトリウ
ム２００　ｆｆ１ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反
応混合物を減圧濃縮して得た残留物に、５％塩酸を加え
、酢酸エチルで生成物を抽出した。

酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥
し、減圧濃縮してｍ〜（４−フェニルブトキシ）ベンジ
ルアルコール５１０１Ｔ１ｇヲ得り。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　） δ：１．６〜１．９（４Ｈ）、　２．６〜２．８（２Ｈ
）、　３．９〜４．１（２Ｈ）、　４．６０（２Ｈ，ｓ
）、　７．２〜７．５（９Ｈ）δ　：１．６〜１．９（
４Ｈ）、　　２．６〜２．８（２Ｈ）、　　３．６〜３
，９（２Ｈ）、３．９〜４．Ｄ２）Ｔ）、６．７〜６．
９（３Ｔ（）。

７．２〜７．４（６Ｈ） 参考例　７゜ ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアルコール５＋
ｏｍｇ４ベンゼン５ｍＺに溶解し、塩化チオニル１．４
ｇを加え室温で４時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃
縮してｍ−クロロメチル（４−７二二ルブトキシ）ベン
ゼン５２０ｍｇを得た。この化合物を引き続き参考例４
の方法で処理して、ｍ−（４−７エニルブトキシ）ベン
ジルアミン４７０　ｍｇを得た。

ＭＳ　　：　ｍ／ｚ　　２５５　（Ｍ＋）ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ、　） ２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール３２０ｍｇ。１−プロモー４−フェニルブタ７４３
０１１１ｇ及び炭酸カリウム３５０　ｍｇのＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド５ｍｌ中温合物を室温で一夜攪拌し
た。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１規定水酸
化す）　ＩＪウム、水、飽和食塩水で順次洗浄した。酢
酸エチル層を無水硫酸す）　１７ウム上で乾燥、減圧濃
縮した。得られた残渣を酢酸エチルかう再結晶して２−
アミノ−５−［（４−フェニルブチル）チオコー１．３
．４−チアジアゾ−＃　３００　ｍｇを得た。　融点　
］］］’Ｃ 元素分析値（ＣＨＨＩ５Ｎ３Ｓ２として）Ｃ（係） Ｈ（ｃ！Ａ Ｎ（彌 Ｓ（チ） 理論値 実験値 ５４．３１ ５．７０ １５．８８ ２４、］６ ２３．９０ 理論値 実験値 Ｃ（憎 ５４．７２ ５４．９８ Ｈ（＠　　　　Ｂｒｌ＠ ６．４３　　　　２４．２７ ６．４０　　　２３．９１ 参考例　８゜ ２．４−ジヒドロキシ−３−プロピルアセトフェノン５
．０ｇ、　１．３−ジブロモブタン１１．１ｇ、炭酸カ
リウム６０ｇ及びテトラｎ−ブチルアンモニウムプロミ
ド５０ＩＴ１ｇのアセトン１３０ｍｔ中混合物を一夜加
熱還流した。今後、不溶物を戸別し、Ｐ液を濃縮した。

残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液
；ヘキサン：酢酸エチル＝８　：　］　）で精製し１−
［４−（３−ブロモブトキシ）−２−ヒドロキシ−３−
プロピルフェニル］エタノン２４７ｇを得た。　融点　
５３〜５５°Ｃ 元素分析値（Ｃ５Ｈ７＋　０３　Ｂｒとして）参考例　
９゜ ＜１）ｓ（ＣＨ，）、−Ｂｒ　＋　ｌ０ＩＥ−ＣＯＯＣ
ＨｔＣＩ（、４２１４Ｇ（ＣＨｔ）４−０Ｈ １−エトキシカルボニルピペラジン１．９３ｇ、炭酸カ
リウム１．７６ｇ、　　２−ブタノン１５ｍＺの混液に
室温下１−ブロム、−４−フェニルブタン２．４７　ｇ
と２−ブタ７ノ５ｍｌの溶液を加えた。８０℃で１２時
間攪拌後冷却し、水を加え酢酸エチルで抽出した。抽出
液を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：］）で精製シ。

１−エトキシカルボニル−４−（４−７ｚニルフチル）
ピペラジンを得た。得られた化合物をエタノール２０ｍ
１．　１０％水酸化ナトリウム水溶液２０ｍＺに溶解し
て、１００℃で１２時間攪拌した。冷却後。

反応液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸すｌ−’Ｊウム上で乾燥した。

減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノール：２５
％アンモニア水＝　１００　：　１０　：　１　）で精
製し、油状の１−（４−フェニルブチル）ピペラジ舜得
た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、） δ　：　　１．３４〜１．８５（４Ｈ，ｍ）、２．２０
−３．０４（１２Ｈ，ｍ）。

７．０４−７．４０　（５Ｈ，ｍ　） ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　　２１７　　（Ｍ＋）参考例　
１０゜ Ｃ＞−（ＣＨ２）３−ＱＨ １−エトキシカルボニルピペラジンと１−ブロモー３−
フェニルプロパンを出発原料として、参考例９と同様に
処理して１−（３−フェニルプロピル）ピペラジンを得
た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　’） δ：　　１．６３〜１．９７　（２Ｈ，ｍ　）。

７．０４−７．４４　（５Ｈ，ｍ　） Ｍ　Ｓ　：　ｍ／ｚ　　２０３　（Ｍ　）２．４４〜３
．００　（１２Ｈ，ｍ　）。

参考例　１１゜ ＨｔＮｏｏ　（ＣＨｚ）ｎ’４ｆＪ））ｐ−アミンフェ
ノール３．０６ｇと１０％水酸化ナトリウム水溶液の３
０　ｍｌの混液に室温でジーｔｅｒｔ　−ブチル−ジ−
カルボネート６．４３　ｇとＴ　！（Ｆ　５’ｍｌの溶
液を加えた。８０℃で１２時間攪拌後冷却し１反応液を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣なシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル
＝４：］”ｌで精製し＋ｐ−２１０■、２−ブタノン１
０ｍ７の混液を室温下３０分間攪拌した後、室温で１−
ブロム−４−フェニルブタン３１０１Ｔ１ｇと２−ブタ
ノン５ｍｌの溶液を加え。

８０℃で】２時間攪拌した。冷却後反応液に水を加え、
有機物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を水。

飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸すｌ−ＩＪウム上で
乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル
＝１０：１）で精製し、　ｌ　−（ｔｅｒｔに水冷下ト
リフルオロ酢酸５ｍｌを加え、水冷下３０分間攪拌した
。反応液を減圧濃縮し、飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水
溶液、飽和食塩水で順次洗浄し。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１，） δ　：　　１．６６〜１．９０（４Ｈ，ｍ）、　　２．
６７（２Ｈ，ｔ）、　　３．９０（２Ｈ，ｔ）、６．５
６〜６．８２（４Ｈ，ｍ）、７．１３〜７．３３（５Ｈ
，ｍ） ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　　２４１　　（Ｍ＋）参考例　
１２゜ Ｇ（ＣＩ（、）ｓ　−ＯＨＧ（ＣＨｔ　）ｓ　−Ｂｒ５
−フェニルペンタン−１−オール２０ｇ、　４７％臭化
水素酸３０　ｍｌの混液を６時間加熱還流する。反応液
を冷却しｎ−ヘキサンで抽出する。抽出液を水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝−＋００：］　）　で］ａｇｔ、、
１−プロモー５−７エニルベンタン１６８７ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、　’） δ：　　１．２８〜２．０３（６Ｈ，ｍ）、　２．６３
（２Ｈ，ｔ）、　３．４２（２Ｈ，ｔ）、　７．０１３
−７．４０（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２２８　
（Ｍ”＋１　）参考例　１３゜ シクロペンタンメタノール１．１１ｇ、　　）リエチル
アミン１．５０ｇのジクロロメタン３０ｍｔ中の溶液に
、水浴上で冷却しながら、　メタンスルホニルクロリド
１．５２ｇを５分間で滴下した。反応混合物を室温で３
０分間攪拌し、水３回、飽和食塩水１回で順次洗浄した
。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃
縮してシクロペンタンメチルメタンスルホネート２．０
６ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　） δ：　１．１〜１．９（８Ｔ（）、　２．１〜２．５（
ＩＨ，ｍ）、　２．０２（３Ｈ，ｓ）、　４．１３（２
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　１７８　（Ｍ”）（１）で得られ
たシクロペンタンメチルメタンスルホネ−）　０．８０
ｇ、　　ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド０．６０ｇ及
び無水炭酸カリウム０．９３　ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド６　ｌｎｌｎｌ中物合物０°Ｃで一夜攪拌し
た。反応混合物を酢酸エチルで希訳し、水で洗った。有
機層を、１規定水酸化ナトリウム、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し。

減圧下濃縮して　ｐ−シクロペンタンメトキシベンズア
ルデヒド４６０　ｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、　） δ：　　１．２〜２．０（８Ｈ）、　２．４０（ＩＨ，
ｑｕｉｎｔｅｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．９２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−”７Ｈｚ）、　６．９９（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝１０Ｈｚ）、　７．８６（２Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝１０Ｈｚ）、　９．８８（ＩＨ。

Ｓ） ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２０４　（Ｍ＋）参考例　１４ ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド１．０Ｏｇ、　　ヨウ
化インアミル１．４６ｇ及び炭酸カリウム１．８０　ｇ
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１５　ｍｌｌ中台合物
２日間室温で攪拌した。反応混合物に水を加え、生成物
を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を１規定水酸化
す）　ＩＪウム、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−（３
−メチルブトキシ）ベンズアルデヒド１．３４ｇを得た
。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ！　） δ：　０．９７（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　１．
６〜１．９（３Ｈ）。

４．０８（２Ｈ，ｔ、　Ｊ−７Ｈｚ）、　６．９９（２
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）。

７．８７　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）、　９．９０
　（Ｌ　Ｈ，ｓ　）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　１９２　（Ｍ”
） 参考例　１５〜１７ 参考例１４と同様にして以下の化合物を得た。

参考例　１８ Ｈ２Ｎ−ｃＨ，Ｑｏ−ｃＨ＜：七 ｐ−インプロポキシベンズアルデヒド７７０１Ｔ１ｇ。

酢酸アンモニウム４．０ｇのメタノール２０ｍ１中溶液
にナトリウムシアノポロハイドライド３３０ｒｌ１ｇを
加えた混合物を室温で４０時間攪拌した。反応混合物に
濃塩酸を加え、　　ｐＨを２以下にした。濃縮したのち
、残留物を水に溶解し、酢酸エチルで洗浄した。水層に
固体の水酸化カリウムを加え、　ｐＩ（を１１以上とし
た。酢酸エチルで生成物を抽出した。

酢酸エチル層、を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−インプロ
ポキシベンジルアミン１１０ｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　） δ：　１．２８（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．５
０（２Ｈ，Ｄ、Ｏで消失）　、　　３．７１（２Ｈ，ｓ
）、　４．４６（ＩＨ，ｈｅｐ、。

Ｊ＝６Ｈｚ）、　　６．７５　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、　　７．１４（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ） ＭＳ：　ｍ／ｚ　　１６５　（Ｍ”） 参考例　１９〜２１ 参考例１８と同様にして以下の化合物を得た。

参考例２２ Ｔ（２Ｎ−ＣＨ２ｅＯ−（ＣＨｚ）ｓ＜Ｉ）ｐ−（３−
フェニルプロポキシ）ベンズアルデヒド７５０１１１ｇ
及びヒドロキシルアミン塩酸塩２．３ｇのメタノール２
０　ｍｌｌ浴溶液、水冷下、　１０％水酸化す）　ＩＪ
ウムを加えｐＨを８に調整した。反応混合物を１時間攪
拌したのち、メタノールを蒸発させて得た残留物に水を
加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
、濃縮して。

ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンズオキシム７５０
ｍｇを得た。この化合物のテトラヒビ０フラン１０ｍｔ
中溶液を水素化リチウムアルミニウム３００■のテトラ
ヒドロ７ラン６　ｍｌｌ中温濁液一３０℃で滴下した。

−３０°Ｃで２０分間攪拌したのち、室温として２時間
攪拌した。硫酸ナトリウム１０水和物で過剰の水素化リ
チウムアルミニウムを分解したのち１反応混合物を濾過
した。Ｆ液を酢酸エチルで希釈し、　　１０％塩酸で洗
った。塩酸層を固体水酸化カリウムでアルカリ性とし、
酢酸エチルで生成物を抽出した。酢酸エチル層を水、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
。

減圧上濃縮してｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンジ
ルアミン２６０１ＴＩｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　） δ：　１．６（２Ｈ，Ｄ２０で消失）、　２．００〜２
．３５　（２Ｈ，ｍ　）。

２．７０〜３．ＯＯ（２１（、ｍ）、　３．８１　（２
Ｈ，ｓ　）、　３．９７（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、
　６．８７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．２４（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　７．２５（５
１（、ｓ）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２４１　（Ｍ”）参考
例　２３〜２７ 参考例２２と同様にして以下の化合物を得た。

参考例２８ ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンズアルデヒド１．３５
ｇのテトラヒドロフラン５０　ｍｌ中溶液に。

−１０℃で水素′化すチウムアルミニウム３５０ｒｌ１
ｇを徐々に加えた。室温で１時間攪拌したのち、過剰の
水素化リチウムアルミニウムを硫酸ナトリウム・１０水
和物で分解した。　この混合物から不溶物を戸別して得
たＰ液を濃縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル
アルコ−／Ｉ／１．３３　ｇ　ヲ得り。

この化合物のベン９フ２５ｍｔ中溶液に塩化チオニル３
ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧下
濃縮し、ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルクロリド
１．４５ｇを得た。この化合物のＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５０ｍｔ中溶液にナトリウムアジド３，３ｇの
水１４ｍｔ中溶液を水冷下加えた。

反応混合物を一夜室温で攪拌したのち、水で希釈し、生
成物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和
食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧
下濃縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル　アジ
ド１．４８ｇを得た。この化合物のテトラヒドロフラン
３０　ｍｌｌ浴溶液水素化リチウムアルミニウム５００
ｍｇを水冷下加えた。

反応混合物を徐々に室温として２時間攪拌した。

過剰の水素イピリチウムアルミニウムを硫酸ナトリウム
・１０水和物で分解した。不溶物を沢別した溶液を減圧
下濃縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルアミン
１．１３ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　） δ　：　０．９５　（６）（、ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　
１．５　（２Ｈ，Ｄ２０で消失）。

１．６〜１．９（３Ｈ）、　３．８０（２Ｈ，ｓ）、　
３．９８（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　６．８７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９７（ｚ
）、　７．２４（２Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ） Ｍｓ：ｍ／ｚ １９３　　（Ｍ”） 参考例２９ エチル　１−（４−カルボキシ）ピペリジンカルボキシ
レート１．０１ｇ　とトリエチルアミン０．７２　ｇ。

のテトラヒドロフラン　２０ＬＩｌｌの溶液に−１０〜
−５℃でクロルギ酸エチル０．６７ｇ、テトラヒドロフ
ラン２ｍＺの溶液を加え３０分間攪拌する。析出する結
晶なｒ去し、°Ｆ液を水素化ホウ素ナトリウム０２５７
ｇ、水１０ｍ１の溶液に水冷下３０分かけて加え、室温
で３０分間攪拌する。反応混合物を水冷下ＩＮ塩酸で酸
性としエーテルで抽出する。エーテル層を水、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥後、減圧下濃縮する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。ヘキサン
−酢酸エチル（１：　１　ｖ／ｖ　）の混液で溶出して
エチル　１−（４−ヒドロキシメチル）ピペリジンカル
ボキシレートを０．６９ｇ得た。

ＮＭＦｔ（ＣＤＣ１，”） δ　：　　０．８８〜１．４２（ＩＨ，ｂｒ）、１．３
０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

１．４２〜２．ＯＯ（５Ｈ，ｍ）、　２．７７　（２Ｈ
，ｄｔ、　Ｊ＝１２．０゜３．０Ｈｚ）、　３．５２（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　４．１５（２Ｈ，ｑ
。

Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　４．００〜４．３６（２）！、　
ｍ）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　１８７　（Ｍ”）Ｈ２Ｃ４ オキザリルクロリド１．５９ｇのジクロロメタン３０ｍ
１溶液に−６０〜−５０°Ｃの範囲でジメチルスルホキ
シド１．９７ｇのジクロロメタン５［Ｉｌｔ溶液を加え
５分後にエチル　１−（４−ヒドロキシメチル）ピペリ
ジンカルボキシレート２．１１ｇのジクロロメタン１０
ｍ１溶液を滴下し、１５分間攪拌する。

反応混合物にトリエチルアミン５．７３ｇを加え　５分
間攪拌し、室温で１５分間攪拌する。反応液に水を加え
ジクロロメタンで抽出する。有機層をＩＮ塩酸、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥後、
減圧下濃縮して、エチル　１−（４−ホルミル）ピペリ
ジンカルボキシレート１．９７ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、　） δ：　１．２５（３Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝７．０Ｈｚ）、　
１．４２〜２．１０（４Ｈ，ｍ）。

２．２４〜２．６５　（ＩＨ，ｍ）、　２．６５〜３．
２４　（２Ｈ，ｍ　）。

３．８２〜４．４１　（４Ｈ，ｍ）、　９．６８　（Ｉ
Ｈ，ｓ　）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　１８５　（Ｍ”）水素
化ナトリウムＯ，：１ｇをジメチルスルホキシトロｍＺ
Ｋ加え７５℃で３０分間攪拌した後室温にもどし、室温
下ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド２．１ｇ
のジメチルスルホキシド５　ｍｌ懸濁液を加え、１５分
間攪拌する。この混合物にエチル　１−（４−ホルミル
）ビベリジンカルボキシレー）　０．９３　ｇのジメチ
ルスルホキシド５　ｍｌ溶液を加え１時間攪拌する。水
を加えエーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウム上乾燥後、減圧下濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（３５ｇ）に
付し。

ヘキサン：酢酸エチル（３：１）の混液で、溶出してエ
チル　（４−スチリル）ピペリジンカルボキシレート１
．１３ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ！　） δ：　１．２９（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）＋　１
．１０〜１．９５（４Ｈ，ｍ）。

２．０：３−２．５８（ＩＨ，ｍ）、　２．５８〜３．
０５（２Ｈ，ｍ）。

４．１６　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　３．８
８〜４．４０　（２Ｈ，ｍ）。

５．４６（１／７Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１２．０，１０．０Ｈ
ｚ）、　　６．１３（６／７Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１６．０
．６．０Ｈｚ）、　６．４２　（１／７Ｈ，ｄ。

Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、　６．４３　（６／７Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝１６．０Ｈｚ）。

７．０８〜７．４５　（５Ｈ，ｍ　） ＭＳ　：　ｍＡ　　２５９　（Ｍ”） エチル　１−（４−スチリル）ピペリジンカルボキシレ
ート０．８０ｇと１０％パラジウム−炭素８０■の酢酸
エチル（４０ｍｌ）中温合物を室温下水床の吸収が止む
まで接触還元する。触媒なｒ去し、Ｆ液を減圧下濃縮し
、エチル　１−［４−（２−〕工二ルエチル）コヒペリ
ジンカルポキシレート０．８０ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、　） δ：　１．２８（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝８．０Ｈｚ）、　０
．７２〜２．０１　（７Ｈ，ｍ）。

２．５０〜２．９８（４Ｈ，ｍ）、　３．８９〜４．４
２（２Ｈ，ｍ）。

４．１４（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝８．０Ｈｚ）、　７．０２
〜７．５４（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２６１　
（Ｍ”）エチル　１−［４−（２−フェニルエチル）］
ピペリジンカルボキシレート０１７０ｇと４７％臭化水
素酸６　ｍｌの溶液を、　　１００℃で６時間加熱還流
する。少量の水を加え、結晶を溶解しエーテルで洗浄し
、水層を２０％水酸化す）　ＩＪウムでアルカリ性とす
る。食塩で塩析後エーテルで抽出する。

有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す）　ＩＪウム
上で乾燥後、減圧下濃縮して４−（２−フェニルエチル
）ピペリジン０．４２ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ　：　　０．７８〜２．０６（８Ｈ，ｍ）、２．３０
〜２．８６（４Ｈ，ｍ）。

２．８６〜３．３２（２Ｈ，ｍ）、６．９５〜７．５０
（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　　ｍ／ｚ　　１８９　　（Ｍ”
）参考例　３０〜３２ とを用い、参考例（３）〜（５）と同様に処理して以下
の化合物を得た。

参考例　３３ ホモピペラジン１．１０ｇの水１５ｍ？溶液に室温下２
Ｎ塩酸をｐＨ２になるまで加える。次にこれに４０％酢
酸ナトリウム水溶液とクロロギ酸エチル１．２８ｇとを
ｐ　Ｈ２，０〜３．５の範囲で交互に加え室温で２時間
攪拌する。反応液を酢酸エチルで洗浄し、水層を炭酸カ
リウムで飽和する。酢酸エチルで抽出し有機層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥域圧下
濃縮しエチル　１−ホモピペラジンカルボキシレート１
．２７ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：４．２Ｂ（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．６０
〜１．９９（３）ｔ、　ｍ）。

２．７５−３．０４　（４）（、ｍ）、　３．３０〜３
．６５（４Ｈ，ｍ）。

４．１５（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ） Ｍ　Ｓ　：　　ｍ／ｚ　　１７２　（Ｍ”）エチル　１
−ホモピペラジンカルボキシレート０．８６ｇとベンジ
ルブロマイド０．９０ｇのテトラヒドロフラン５　ｍｌ
溶液に炭酸カリウム０．８０ｇを加え４時間加熱還流す
る。反応後これに水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す）　ＩＪウム上で乾
燥後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付す。

ヘキサン−酢酸エチル（２：１）の混液で溶出し。

エチル　１−（４−ベンジル）ホモピペラジンカルボキ
シレート１．０６ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．２５（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７１（ｚ）、　　１
．６２〜２．０５（２Ｈ，ｍ）。

２．５０〜２．８１　（４Ｈ，ｍ）、　３．３２〜３．
７５（４Ｈ，ｍ）。

３．６１（２Ｈ，ｓ）、　４．１４（２）（、ｑ、　Ｊ
＝７Ｈｚ）、　７．２９（５Ｈ，ｓ） ＭＳ：　ｍ／ｚ　　２５２（Ｍ＋） ０．８５　ｇと４７％臭化水素酸溶液５　ｍｌの混液な
１０時間１００℃で加熱する。反応液に少量の水を加え
。

酢酸エチルで洗浄する。水層な３０％水酸化す）　ＩＪ
ウム水溶液でアルカリ性とし食塩で塩析後、酢酸エチル
で抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す
）　ＩＪウム上で乾燥後、減圧下濃縮し　１−ベンジル
ホモピペラジン０．５５ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ５） δ：　１．６０−１．９６（２Ｈ，ｍ）、　１．９１（
ＩＨ，ｓ）、　２．５２〜２．８０（４Ｈ，ｍ）、　２
．８０〜３．０７（４Ｈ，ｍ）、　３．６８（２Ｈ，ｓ
　）、　７．１２〜７．４５　（５Ｈ，ｍ）Ｍ　Ｓ　：
　ｍ／ｚ　１９０ 参考例９４〜３□ 参考例３３の（２）〜（３）と同様に処理して以下の化
合物を得た。

参考例 エチル　１−ヒペラジンカルポキシレー）２．０２ｇ、
無水炭酸カリウム１．９２　ｇ　、デシルブロマイド３
．０８ｇ及び２−ブタノン２０　ｍＺの混液を８０℃で
一夜攪拌する。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出する
。酢酸エチル層を３Ｎ塩酸で抽出する。抽出液を炭酸カ
リウムでアルカリ性とした後酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
する。残留物にエタノール２０ｍＺ、　　１０％苛性ソ
ーダ水溶液２０ｍＡを加え、　１００℃で一夜攪拌する
。反応液を冷却し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗し、無水硫酸ナトリウで乾燥し減圧濃縮して、油状の
１−デシルピペラジン０．３８ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ！　） δ：　０．７３〜１．７４（１９Ｈ，ｍ）、　２．１６
〜２．５２（６Ｈ，ｍ）。

２．８４〜２．９８　（４Ｈ，ｍ　） ＭＳ　：　ｍ、／ｚ　　２２６（Ｍ”）参考例　５１ ＣＨ３ＣＨ，０ＣＯ−ＵＨ ＋ ＣＨ，−Ｃ）−ＣＩ−ｔ。

エチル　１−ピペラジンカルホキシレー）　１．６ｇ。

ｐ−トルアルデヒド１．３ｇ、　　エタノール３０ｍＺ
の混液に、水素化ホウ素ナトリウム５００■を加え、室
温で一夜攪拌する。反応液を減圧濃縮し水５０ｍＺを加
え、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル抽出液を希塩酸
で抽出する。希塩酸抽出液を酢酸エチルで洗い、炭酸水
素ナトリウムでアルカリ性とし。

酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、無水炭酸カリ
ウムで乾燥し減圧濃縮して、油状のエチル４−ｐ−１リ
ルーｌ−ピペラジンカルホキシレー）　０．８　ｇを得
た。このものを参考例３８の方法にならいカルボエトキ
７基を除去し、油状の１−ｐ−トリルピペラジン０．３
６ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ、） δ：　２．４２（３Ｈ，ｓ、　ＣＨｌ）、　２．．３−
２．６（４Ｈ，ｍ）、　２．７〜３．１　（４Ｈ，ｍ）
、３．４３　（２Ｈ，ｓ、　ＣＨ２）、７．１４　（４
１（。

Ｓ） 参考例　５２ エチル　１−ピペラジンカルボキシレートとシンナムア
ルデヒドを原料として、参考例５１と同様に処理して、
油状の１−シンナミルピペラジンを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ３） δ：　２．２〜２．６（４Ｈ，ｍ）、　２．８〜３．０
（４Ｈ，ｍ）、　３．１６（２Ｈ，ｄ、　ＣＨ２）、　
６．２８（ＬＨ，ｄｔ）、　６．５６（１）１゜ｄ　）
、　７．０〜７．５　（５Ｈ，ｍ　）参考例　５３ Ｌ−Ｎ−メチルシスティン［酸塩１．７２ｇ、ニコチン
アルデヒド１．０７ｇ、水２ＱＩＺの混液を、室温で２
４時間攪拌する。反応液にピリジン０．８　ｍｌ　、エ
タノール１　ｒｎｌを加え析出する結晶を戸数、エタノ
ールで洗浄後乾燥して、３−メチル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸０．７４ｇヲ得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄａ　） δ：　２．２４．’２．３２　（３Ｈ／２Ｘ２．　ａ、
　Ｎ−ＣＨ３）、　３．００〜３．６４（５／２　Ｈ，
ｍ）、　４．１６〜４．３２（Ｈ／／２．　ｍ）、　４
．９２゜５．３６　（’／２Ｘ２．　ｓ）、　７．１０
〜７．３２（ＩＨ，ｍ）、　７．８０〜８．００（ＩＨ
，ｍ）、　８．４４〜８．７２（２Ｈ，ｍ）Ｍ　Ｓ　（
ＦＡＢ）　：　ｍ／ｚ　２２５（Ｍ＋’ｆ（）”参考例
　５４ 参考例　５５ Ｈ２ＳＨ ３−アセチルピリジン３．６３ｇ、　Ｌ−システィン３
．６３　ｇ　、水２５　ｍｌ　、エタノール２５ｍ１の
混液を２４時間加熱還流する。反応液を減圧下に濃縮し
、残渣にイソプロパツールを加え、生成する粉末を戸数
する。粉末にエタノールを加え、不溶物を炉去した後、
濃縮乾固する。残渣を水に溶解し、水冷攪拌下、希塩酸
を加え、ｐＨ６にし生成する粉末な戸数、エタノールで
洗浄した後、乾燥し、１−メチル−１−（３−ピリジル
）チアゾリジン−４−カルボン酸２．５４ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：　１．７８．１．８８（合せて３Ｈ，各ｓ）、２．
９２〜３．５６（２）（。

ｍ）、　３．５６〜４．３８（ＩＨ，ｍ）、　７．２０
〜７．４４（ＩＨ，ｍ）。

７．８（１−９，０８（ＩＨ，ｍ）、　９．３２〜９．
５２（ＩＨ，ｍ）。

９．６８〜９．８６　（Ｌ　Ｈ，ｍ　）Ｍ　Ｓ　（ＦＡ
Ｂ）　：　ｍ／ｚ　２２５（Ｍ＋Ｈ）”ジー２−ピリジ
ルケトン３．６８ｇ、Ｌ−システィン２．４２ｇ＋　　
水２５ｍＺ、　　エタノール２５ｍ１の混液を３．５時
間加熱還流する。放冷後、不溶物を戸去し。

減圧下に濃縮乾固する。残渣を酢酸エチル、エーテルで
順次洗浄し、２．２−ジー（２−ピリジル）チアゾリジ
ン−４−カルボン酸ｏ、６３ｇを’４た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯｄａ　） δ：　２．８５−４．１５（３Ｈ，ｍ）、　７．２０〜
８．９０（８Ｈ，ｍ）参考例５６ 参考例　５７゜ ３−ピペリジンメタノール４．ＯＯｇのジオキサン５０
ｍ１．水３０ｍｔ中溶液に、０℃でジーｔｅｒｔ−ブチ
ルージーカルボネート７．５８ｇ及び１規定水酸化ナト
リウム３５ｍ１を加えた。反応混合物を室温とし、１．
５時間攪拌したのち、生成物を酢酸エチルで抽出した。

酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｌ　−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルピペリジン−３−メタノール７２
０ｇを得た。　融点　７７〜７９°ＣＮＭ　Ｒ（ＣＤＣ
ｌ、　） δ：　１．４８（９Ｈ，ｓ）、　１．４〜１．９（４Ｈ
）、　２．６〜３．２（４Ｈ）。

３．６〜３．９　（４Ｈ） ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２１５　（Ｍ”）オキザリルクロ
リド０．５０ｍ１のジクロロメタン１０ｍ１中溶液に一
６０℃でジメチルスルホキシド０８５ｍＡを加え、３分
後にｌ　−ｔｉｔ−ブトキシカルボニルピペリジン−３
−メタノール１．０８ｇのジクロロメタン１０ｍＺ中溶
液を５分間で滴下した。１５分間攪拌後１反応混合物に
トリエチルアミン３．０ｒｎｌを加えた。

５分間攪拌したのち反応混合物に水２０　ｍｌを加え振
盪したのち、ジクロロメタン層を分液した。ジクロロメ
タン層を１規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水、飽和食塩水で順次洗浄したのち、無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｌ　−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルピペリジン−３−アルデヒド０．９
８ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．４６（９Ｈ，ｓ）、　１．４〜２．０（４Ｈ
）、　２．４（ＬＨ，ｍ。

ＸＶ／２＝２１　Ｈｚ　）、　３．１０　（Ｉ　Ｈ，ｄ
ｄ、　Ｊ　＝８．５及び１４Ｈｙ、）。

３．６．５　（Ｉ　Ｈ，ｄｄｄ。

Ｊ−４゜ ５及び１２．５Ｈｚ　）、　３．９４ （Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝４及び１４Ｈｚ）。

９．６８（ＩＨ。

Ｓ） ＭＳ　：　ｍ／ｚ　　２１３　　（Ｍ”）参考例　６８
゜ 参考例　６９゜ ３−　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸３．１０ｇのジク
ロロメタン３０ｍ４中溶液に一７８℃でオキザリルクロ
リド１．３１　ｍｌ及びＮ、　Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド５０１′ｒ１ｇを加えた。反応混合物を徐々に室温に
温め。

１２時間攪拌した。生じた沈殿を戸数し乾燥して１゜３
−ジオキソ−５−（３−ピリジル）チアシリジノ［３，
４−ｃ］オキサゾリジン塩酸塩１．９０ｇを得た。

融点　１７０℃（分解） 元素分析値（Ｃ＋。Ｈ９ＣＩ　Ｎ、Ｏ，Ｓとして）＃ｄ
　　Ｈ（％ｌ　　Ｎ１％ｌ　　　３％）　　ｃＩＷｄ計
算値　４４．０４　３．３３　１０．２７　１１．７６
　１３．００実験値　４３．９４　３．３７　１０．２
４　１１．７６　１３．３０ｐ−メトキシフェニル５．
３４ｇをメタノール溶液中１０％パラジウム−炭素２０
０ｒｌ１ｇを触媒とし水素ガスの吸収が止むまで攪拌し
た。触媒を炉去しＦ液を減圧下濃縮して　３−（ｐ−メ
トキシフェニル）プロピオン酸５．４３　ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：２．３４〜３．１５（４Ｈ）、　３．７６（３Ｈ，
ｓ）６．６４〜７．３０（４，、Ｈ）、　１１．００（
ＩＨ，ｓ）参考例　７０ 水素化リチウムアルミニウム１．１０　ｇの無水エーテ
ル５０＋ｎＺ懸濁溶液に室温上攪拌しながら、３−（ｐ
−メトキシフェニル）プロピオン酸の無水エーテル１０
０ｍｔ中溶液を２０分かけて滴下した。３０分室温で攪
拌後、１時間加熱還流した。冷後、水冷下反応液ニ水を
加えて、さらに１０％塩酸水溶液を加えて酸性とした反
応液をエーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後
無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮１−て　
３−（ｐ−メトキシフェニル）グロバノール５．０６ｇ
を得たＯ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ３） δ：１．６０〜２．１６（２Ｈ）、　２．３８〜２．９
５（３Ｈ）、　３．６９（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、
　３．８０（３Ｈ，ａ）。

６７１〜７．３０（４Ｈ） 参考例　７５゜ ｏ２ＮＯｃＨ＝ｃＨ−ｃｏｏＨ−一→Ｏ，Ｎ−１Ｓ）−
ｃＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ。

ｐ−ニトロケイヒ酸５．８０　ｇ　、　　とヨウ化メチ
ル１０．４　ｇ　、無水炭酸カリウム１０．４　ｇとア
セトン２００ｍｔ混合溶液を室温下２日間攪拌した。沈
殿物を枦去後、Ｐ液を減圧下濃縮し、残渣に水を加え酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素す）ＩＪウ
ム溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧下濃縮して　ｐ−ニトロケイヒ酸メチル
エステル３．３０ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　３．８３（３Ｈ，ａ　）、　６．５２（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ　＝１６Ｈｚ　）。

７．５０−７．９５（３Ｈ）、　８．２１（２Ｈ，ｄ、
　Ｊ　＝９Ｈｚ）参考例　７６゜ ０−トルアルデヒド１．２０ｇと無水テトラヒドロフラ
ン２０ｍ１の溶液を室温下メチル　（トリフェニルフォ
スフオラニリデン）アセテ−）３．６７ｇの無水テトラ
ヒビ０フラン２０ｍｔ懇濁溶液に加え、１５時間加熱還
流した。溶媒を減圧上濃縮し残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（［）ｇ）に付した。

ヘキサン−酢酸エチル（２：１）の混液で溶出し、０−
メチルケイヒ酸メチルエステル１．６５　ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ３） δニドランス体２．４５（３Ｈ，ｓ　）、　３．８０（
３Ｈ，ｓ　）。

６．３４　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝１６Ｈｚ）、　６．９
９−７．６６　（４Ｈ）。

７．９７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）。

シス体２．２９（ａ）、　３．６３（ｓ）、　６．０３
（ｄ、　Ｊ　＝１２Ｈｚ） 参考例　７９゜ 参考例　８０゜ ＮＣ０ＣＨ，ＣＨ，Ｃ００ＣＨ，正≠二ＮＣ−Ｃ＞（Ｃ
Ｉ４２）３−ＯＨ１Ｍスーパーハイドライド／テトラヒ
ドロフラン溶液（３，３ｍ１）と無水テトラヒドロフラ
ン（５ｍ＃）？ｉＧ液をアルゴンガス気流下−５０〜−
６０℃に冷却した。

これに　ｐ−シプノペンズアルデヒドとメチル（トリフ
ェニルフォスフォラニリデン）アセテートを原料として
参考例７６及び６９に従って合成した３−（ｐ−シアノ
フェニル）プロピオン酸メチルエステル２１０１［１ｇ
のテトラヒドロフラン２ｍｌ溶液を滴下し、同温で１０
分間攪拌した。同温で水、ＩＮ塩酸を反応液に順次加え
て酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧上
濃縮して　３−（ｐ−シアノフェニル）プロパツールｘ
２０ｍｇヲ得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．６１−２．２０（３Ｈ）、　２．６０−３．
０６（２Ｈ）。

３．６８（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　７．１０−７
．７５（４Ｈ）３−（ｐ−）リル）プロパツール２．１
３ｇを４７％臭化水素酸水溶液７ｍｌ中で５時間加熱還
流した。

溶媒を減圧上濃縮し残渣に水を加えエーテルで抽出した
。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
上で乾燥して減圧上濃縮した。残渣を減圧上蒸留して　
３−（ｐ−）リル）プロピルブロマイド１．７５ｇを得
た。

沸点　６５℃／　Ｑ、７ｍｍ　Ｈｇ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．８５−２．４３（２Ｈ）、　２．３２（３Ｈ
，ｓ　）、　２．５５−２．９５（２Ｈ）、　３．３９
（２Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝６Ｈｚ）、　７．０４（４Ｈ，ｓ
　）参考例　８１ ３−（ｐ−メトキシフェニル）プロノくノール５ｇの無
水ピリジン５０ｔｎｌ溶液に、水冷下メタンスルホニル
クロリド３．８ｇをゆっくり滴下し、同温で３時間攪拌
した。溶媒を減圧上濃縮し残渣に水を加え１０％塩酸で
酸性とし酢酸エチルで抽出した。有機層をＩＮ塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液。

飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥し、減圧上濃縮して　３−（ｐ−メトキシフェニル）
プロビルメタンスルホネ−）　６．３２ｇ　ｔｚ：得た
。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） ａ　：　１．７５−２．３６（２Ｈ）、２．５５−２．
９３（２Ｈ）、３．００（３Ｈ。

ｓ　）、　３．８０（３Ｈ，ａ　）、　４．２４　（２
Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

６．７０−７．３０（４Ｈ） アセトン１００ｍ１混合溶液を１５時間加熱還流した。

減圧上濃縮し残渣に水を加えエーテルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥し減圧上濃縮して　３−（ｐ−メトキシフェニル）フ
ロビルヨータイト６．６２　ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ、） δ：　１．８１−２．３５（２Ｈ）、　２．１８（２Ｈ
，ｂｒ、　ｔ、　Ｊ　＝７Ｈｚ）。

３．１６（２Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝６Ｈｚ）、　３．８０（
３Ｈ，ｓ　）、　６．７１−７．３０（４Ｈ） 参考例８２ ３−（ｐ−メトキシフェニル）プロピルメタンスルホネ
ート６．３０ｇとヨウ化ナトリウム１．１１ｇの参考例
８４゜ ３−（ｐ−クロロフェニル）フロパノール１．５５ｇと
トリフェニルフォスフイン２．５１　ｇのＮ、　Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１０ｍＺ混合溶液に、室温下ヨウ素
２．４２　ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド８ｍｌ溶
液を１色の消失を確認しながらゆっくりと滴下した。反
応液の色の消失が止んだ後反応液に水を加え５％チオ硫
酸ナトリウム水溶液を加え過剰のヨウ素を還元し、酢酸
エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧上濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（２０ｇ）Ｋ付し
、ヘキサンで溶出して。

３−（ｐ−クロロフェニル）フロビルヨータイト１．８
２　ｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．９２２．４０　（２Ｈ）、　２．７１　（２
Ｈ，ｂｒ　ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ　）。

３．１３（２Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝６Ｈｚ）、　６．９１−
７．４０（４Ｈ）参考例　８３ 参考例８９゜ フェニルプロピルブロマイド５．０１ｇを、水冷下濃硝
酸（６５％）１０ｍｔと濃硫酸１０　ｍＡの混合溶液に
５分間かげて滴下し、同温で１時間攪拌後、室温で１週
間放置した。反応混合物を水中にあけて。

酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウム上で乾燥後減圧上濃縮して残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー　（１５０ｇ）に
付した。ヘキサン−酢酸エチル（１０：１）で溶出して
、２，３−ジニトロフェニルプロピルブロマイド５．５
０　ｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　２．０８−２．５１（２Ｈ）、　３．２０（２Ｈ
，ｄｄ、　Ｊ　＝７Ｈｚ。

Ｊ＝９Ｈｚ）、　３．５０（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）
。

７．６８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　８．４２（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　８．７９
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ）二２Ｎ−Ｃ＞（ＣＨ２）、
−ＯＨＨ，Ｎ−Ｃ＞　（ＣＨ２）３＝Ｂｒ　−ＨＢ　ｒ
３−（ｐ−アミノフェニル）プロパツール（０，５１ｇ
）の４７％臭化水素酸水溶液（５ｍｌ）を６時間加熱還
流し溶媒を減圧下濃縮した。メタノール、トルエンを加
え溶媒を減圧下濃縮し、再び操り返して。

３−（ｐ−アミノフェニル）プロピルブロマイド臭化水
素酸塩（１，０４ｇ）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、＋ＣＤＣｌ、　（３：１））δ
：　１．９１−２．４７（２Ｈ）、　２．６４−３．０
３（２Ｈ）。

３．４３（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　４．８５（３
Ｈ，ｂｒ　ｓ）。

７．４０　（４Ｈ，ａ　） 参考例　１０１゜ ＴＨＥ’ ■ ５．１３（ＩＨ。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ！　） Ｊ＝７Ｈｚ）。

（６Ｈｓ　　ｍ）。

（２Ｌ　　ｔｔ （５Ｈ，５） ｂｒ）、　　７．２１（ＩＯＨ，ｓ） δ：　１．２１（ＩＨ，ｓ）、　　１．２５（３Ｈ，ｔ
。

１．６１−２．１０（２Ｈ，ｍ）、　　２．４５−２．
９３３．２９（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　４．１５
Ｊ＝７Ｈｚ）、　　５．１５（ＩＪ　ｂｒ）、　　７．
２１カルボエトキシエチレンジアミン０．８８ｇ、　　
３−フェニルプロピロブロマイド１．３３ｇと無水炭酸
°カリウム１．０ｇのテトラヒドロ７ランｌ０ｍ１の混
合溶液を睦４禰−夜加熱還流した。不溶物をＰ去後。

ｒ液を減圧下濃縮して残渣をアルミナカラムクロマトグ
ラフィー（２５ｇ　）に付した。ヘキサン−酢酸エチル
（３：］）で溶出して　Ｎ−カルボエトキシ−Ｎ、Ｎ−
シー（３−７エニルプロビル）エチレンジアミン０．５
４ｇｏと　Ｎ−カルボエトキシ−Ｎ−（３−フェニルプ
ロピル）エチレンジアミン０．６０　ｇｏを得た。

■　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、　）　　δ：　１．２３（３Ｈ
，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．５６−２．０２（４Ｈ，ｍ）、　　２．２０−２．
８７・（ＩＯＨ，ｍ）。

３．００−３．４５（２Ｈ，ｍ）、　　４．１２（２Ｈ
，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

参考例１０２ 晒０ＣＯＮＨＣＨ畠ＮＨ−（ＣＨ，）、（）　−→Ｈ，
ＮＣＨ，ＣＨ，ＮＨ−（ＣＨ，）、＜＞拳２ＨＣＩ Ｎ　−カルボエトキシ−νＪ−（３−フェニルプロピル
）エチレンジアミン５８０ＩＴ１ｇの濃塩酸１０ｍ１溶
液を封管中１２０℃で一夜加熱した。溶媒を減圧下ＮＭ
Ｒ（ＤＭＳＯｄａ　） δ：　１．７６−２．２０（２Ｈ，ｍ）、　　２．４８
−３．１０（４Ｈ，ｍ）、　　３．２２（４Ｈ，ｓ）、
　　７．２８（５Ｈ，ｓ）、　　８．０−１０．０（５
Ｈ，ｂｒ）ＭＳ　：　　ｍ／ｚ　　１７９　（Ｍ”＋１
　）参考例】０４゜ ＮＣ−Ｃ）（ＣＨ２）、ＣＩ−一→ＨＯ−（ＣＨ，）３
＜Ｉ）−ＣＮ５−（ｐ−シアノフェニル）フロビルヨー
ダイトムＱ．５ｇのテトラヒドロフラン］Ｏｍｔの混合
溶液を２時間加熱還流した。減圧濃縮して残渣に飽和食
塩水を加えて酢酸エチルで抽出し，有機層を飽和食塩水
で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥し。

溶媒を減圧下濃縮して　１−［　３−（ｐ　−シフ／７
ｚニル）プロピルコピペラジン（　１４０　ｍｇ　）を
得た。

ＮＭＲ　（　ＣＤＣｌ，） δ：　１．６０°−２．１０（２Ｈ，　ｍ）、　　２．
０４（ＩＨ，　ｓ）。

２、１９−２．５４（６Ｈ，　ｍ）、　２．６９（２Ｈ
，　ｔ，　Ｊ：＝８Ｈｚ）。

２、８９（４Ｈ，　ｔ，　、Ｊ＝５１（ｚ）、　７．２
７（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、５６（２Ｈ，　ｄ，　　Ｊ＝９Ｈｚ）ＭＳ　：　　
ｍ／ｚ　　２２９　（　Ｍ”　）参考例１０５。

（）−ＣＨ．Ｎ３ＪＣＯＮＨ（ＣＨ，）ｓＣＨ。

１−ベンジルピペラジン１．７６ｇ，　　テトラヒドロ
フラン２０　ｍｌの溶液に，ｎ−プチルイソシ了゛ネー
）　１．０ｇとテトラヒドロフラン５ｒｎｌの溶液を水
冷下加える。室温で２時間攪拌した後，減圧濃縮して粗
製の１−ベンジル−４−ブチルアミノカルボニルピペラ
ジン２．８ｇを得た。このものを精製することなく次の
反応に用いた。

ＮＭＲ　（　ＣＤＣＩ，　） δ：　０．９０（３Ｈ，　ｔ）、　　１．１〜１．７（
４Ｈ，　ｍ）、　　２．２〜２．６（４Ｈ，　ｍ）、　
　３．０〜３．６（６Ｈ，　ｍ）、　　３．５０（２Ｈ
，　ｓ）。

４、５（ＩＨ，　ｂｒ　ｓ）、　　７．０−７．５（５
Ｈ，　ｍ）参考例１０６。

１−ベンジルピペラジン３．５２ｇ，　　３−７エニル
プロピオン酸３．５ｇ，テトラヒドロフラン２０　ｍｌ
の混液にジシクロへキシルカルボジイミド４．５ｇを加
え，室温で一夜攪拌した。生じたジシクロヘキシル尿素
をＰ別し，母液を減圧濃縮する。残留物に酢酸エチル１
００ｍｌ，水５０ｍｌを加え，炭酸カリウムでアルカリ
とした後分液する。酢酸エチル層を，水，飽和食塩水で
順次洗い，無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し減圧濃縮し
て，油状の１−ベンジル−４−（３−フェニルプロピオ
ニル）ピペラジン６ｇを得た。

ＮＭＲ　（　ＣＤＣＩ，　） δ：　２．１〜２．５（４Ｈ，　ｍ）、　　２．４〜３
．２（４Ｈ，　ｍ）＋　　３．３〜３、８（４Ｈ，　ｍ
）、　　３．４５（２Ｈ，　ｓ）、　　７．１〜７．４
（ＩＯＨ，ｍ）参考例１０７ １−ベンジル−４−プチルアミノ力ルボニルビベラジ／
２．８ｇ＋エタノール１５ｍ１の溶液に１０％パラジウ
ム−炭素２５０　ｍｇを加え、水素の吸収が止むまで接
触還元する。触媒を戸別し、ｒ液を減圧濃縮し、１−ブ
チルアミノカルボニルピペラジン２．２ｇを得た。この
ものは精製することなしに次の反応に用いた。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ：０．９２（３Ｈ，ｔ）、　　１．１〜１．７（４Ｈ
，ｍ）、　　２．７〜３．０（４Ｈ，ｍ）　３．０〜３
．５（６Ｈ，ｍ）参考例１０＆。

１−ベンジル−４−（３−７エニルプロピオニル）ピペ
ラジンを出発原料として、参考例】０７と同様にして１
−（３−フェニルプロピオニル）ピペラジンを得た。

ＭＳ：　　ｍ／ｚ　　２１８　（Ｍ”　）参考例１０９
゜ Ｎ−カルボベンジルオキシ−セリン２．０ｇ、　　］　
−メチルホルムアミド３０ｍ１中溶液に、水冷下ジシク
ロへキシルカルボジイミド１．５８ｇを加えた。反応混
合物を室温で２４時間攪拌し、酢酸エチルで希釈し、４
％炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液で２回。

水で１回、飽和食塩水で１回顧次洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥し、減圧上濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して１−［２−（ベン
ジルオキシカルボニルアミノ）＝３−ヒドロキシプロピ
オニル］−４−（３−フェニルプロピル）ピペラジン２
．３９ｇを得た。

融点　９５〜９７℃ 元素分析値（ＣｕＨｓｒＮｓＯ＊として）Ｃ（慢　　Ｈ
（ｃ！ＡＮ（− 計算値　　６７．７４　　７．３４　　９．８７実験値
　　６７．７４　　７．２６　　９．８８ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３　） δ：　　１．７〜２．０（２Ｈ）、　　１．８〜２．６
（３Ｈ，ｎｔｏで消失）。

２．３〜２．８（８Ｈ）、　　３．４〜３．８（７Ｈ）
、　　７．１〜７．３（５Ｈ）ＭＳ　：　　ｍ／ｚ　　
　２９１　（Ｍ”　）参考例】１０゜ 参考例１１！。

］−［２−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−３−
ヒドロキシプロピオニル］−４−（３−７エニルプロピ
ル）ピペラジン１．１２ｇのエタノール３０ｍ１中溶液
に１０％パラジウム−炭素１００　ｍｇを加え。

水素気流下水素の吸収が止むまで攪拌した。触媒を一過
し去り、′ＩＰ液を減圧上濃縮して］−（２−了ミノー
３−ヒドロキシグロピオニル）−４−（３−フェニルプ
ロプル）ピペラジン８００ＩＴ１ｇを得り。

ｐ−へブチルオキシベンジルアミン２００　ｍｇ、グリ
セロール酸（６５％水溶液）１５０１ｑ及びｌ−ヒドロ
キシベンズトリアゾール］１１０ｆｆ１のＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド２ｍＺ中溶液にジシクロへキシルカル
ボジイミド１６０ｒｌ１ｇを加えた。反応混合物を室温
で１６時間攪拌１−２酢酸エチルで希釈したのち。

飽和炭酸水素すｌ−ＩＪウム水溶液、水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し。

減圧下濃縮した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィーで精製してＮ−（ｐ−ヘプチルオキシベンジル
）−グリセルアミドｓｏｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３） δ：　０．９０（３Ｈ，ｂｒ　　ｔ）、　　１．２〜１
．５（８Ｈ）、　　１．７〜１．９（２Ｈ）、　　３．
０（ＩＨ，Ｄ、Ｏで消失）、　　３．８〜４．０　（２
Ｈ）　。

３．９（ＩＨ，Ｄ、Ｏで消失）、　　４．１〜４．３（
ＩＨ）、　４．３８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　　
６．８８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）。

７．１８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ”８Ｈｚ）、　７．０〜７．
３（ＩＨ，ＤｚＯで消失） ＭＳ　：　　ｍ／ｚ　　　３０９　（Ｍ”　）参考例１
１２゜ ＭＦ ２−（３−ピリジル）−１−ビロリン−４−カルボン酸
ヤ（化水素酸塩１．１５ｇ、　１−へブチルピペラジン
７７０　ｍｇ、　ジシクロへキシルカルボジイミド８６
０■及び］−ヒドロキシベンゾトリアゾール５６０　ｆ
ｆ１ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１ＳｍＺ中混合
物を室温で３日間攪拌した。酢酸エチルで反匠え、酢酸
エチルで抽出した。有機層をＩＮ塩酸で抽出後、水層に
炭酸カリウムを加えｐＨ１０として再び酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸す）　
ＩＪウム上で乾燥して、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（１５ｇ）に付し、酢酸エ
チルで溶出して１−へブチル−４−［２−（３−ピリジ
ル）−２−ビロリン−５−イルカルボニル］ヒペラジン
１．０１ｇを得た。

１）　　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ：　０．９１（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈ７，）、　１．
１２〜１．７２（ＩＯＨ，ｍ）。

１．９２〜２．９３（９Ｈ，ｍ）、　２．９５〜３．２
６（２Ｈ，ｍ）。

３．３７〜４．３０（３Ｈ，ｍ）、　５．０４〜ｓ、３
ｏ（ｔＨ，ｍ）。

実施例　１ Ｎ　−ｔａｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｒｌＷ、テ
トラヒドロフラン１０ｍ４の溶液に、４℃以下で、Ｌ−
メチオニン　メチルエステル・塩酸塩３９０ｒｒ１ｇ、
　　１−ヒドロキシベンゾトリアゾール３９０［ｒｌｇ
、　Ｎ−メチルモルホリン１９０　ｆｔ１ｇ、　　ジシ
クロへキシルカルボジイミド４４０■を順次加え、４℃
以下で１時間、室温で１時間攪拌する。生じた沈澱を戸
去し、Ｆ液を減圧濃縮、酢酸エチル５０　ｍｌを加え、
不浴物を戸去し。

Ｆ液を０．５　Ｍのクエン酸水溶液、水、５％炭酸水素
す）　ＩＪウム水溶液、水で順次洗い、硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧濃縮して、油状の［Ｎ　−ｔｅｒｔ　−
ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジルチアンリジン
−４−カルボニル］−Ｌ−メチオニン　メチルエステル
４４０　ｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　１．３６　（９Ｈ，ｓ　）、　　１．８〜２．２
　（３Ｈ，ｍ）、　２．２〜２．６　（２Ｈ。

ｍ）、３．２６（ＩＨ，ｄｄ）、３．６（ＩＨ，ｄｄ）
、３．７８（３Ｈ。

ｓ　）、　４．６〜４．８　（ＩＨ，ｍ）、　４．８６
　（ＩＨ，ｄｄ　）、　６．０２（ＩＨ，ｓ）、７．３
（ＩＨ，ｄｄ）、７．８〜８．０（ＩＨ，ｍ）。

８．５２（ＩＨ，ｄｄ　）、　８．６５（ＩＨ，ｄｄ　
）実施例　２ Ｎ−ホルミル−２−（３−ピリジル）チアシリ４℃以下
でＬ−メチオニン　メチル　エステル・塩酸塩１．１６
　ｇ　、　１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．１７
ｇ、Ｎ−メチ、１１／　モルホリン５６０ｍｇ、ジシク
ロへキシルカルボジイミド１．３２　ｇを順次加え、４
℃以下で１時間、室温で１時間攪拌する。以下実施例１
と同様に処理し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
［溶出液：クロロホルム−メタノール（９：１）混液コ
で精製して、油状の［Ｎ−ホルミル−２−＜３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボ＝ルコーｘ、−メチオニ
ンメチル　エステル８２０１’９を得た。

元素分析値（Ｃ＋ａ　Ｈｔ＋　ＮｓＯ＜Ｓｔとして）Ｎ
（至） １０．９６ １０．６２ 理論値 実験値 ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　２．０８（３Ｈ，ｓ　）、　１．８〜２．６（４
Ｈ，ｍ）、　３．２〜３．５（ＩＨ。

ｍ）、　３．８（３Ｈ，ｓ　）、　３．５〜３．８（Ｌ
Ｈ，ｍ）、　４．５〜４．８（ＩＨ，ｍ）、　４．８〜
５．１　（ＩＨ，ｍ）、　６．１．６．４１　（合せて
１合、各ｓ　）、　７．２〜７．５　（ＩＨ，ｍ　）、
　７．８〜８．０　（Ｉ　Ｈ。

ｍ）、　８．３４　（ＩＨ，ａ　）、　８．４”−８，
９（２Ｈ，ｍ）実施例　３ ピリジル）チアゾリジン−４−カルボニル］−Ｌ−メチ
オニン　メチル　エステル４３０　ｍｇに水冷下トリフ
ルオロ酢酸５ｍ７を加え、室温で２時間攪拌し。

反応液を減圧濃縮する。残留物に酢酸エチルを加え再度
減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル５　ｍｌに溶解し、
氷冷下、４規定−塩化水素−ジオキサン溶液１　ｍｌを
加える。析出した結晶を戸数し、結晶を酢酸エチルで洗
い、乾燥して、［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボニル］−Ｌ−メチオニン　メチル　エステル
・２塩酸塩３００ｆ［１ｇを得た。融点　１１０℃ 元素分析値（Ｃ＋５ＨｚｉＮｓＯ＊Ｓ２ＣＩｔとして）
Ｃ鉤　　Ｈ（至）　　Ｎ（至） 理論値　４０．３６　　５．６４　　９．４１実験値　
４０．００　　５．３５　　９．２４［Ｎ　−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル−２−（３−実施例　４ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テト
ラヒドロフラン５ｍＡの溶液に、４℃以下で、Ｌ−ロイ
シン　メチル　エステル−塩酸塩３５０ｆｆ１ｇ、　１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール３９０ｆｆ１ｇ、　　
Ｎ−メチルモルホリン１９０１Ｔ１ｇ、　　ジシクロへ
キシルカルボジイミド４４０ｒ１ｇを順次加え、氷室内
で一夜攪拌する。生じた沈澱を炉去し、Ｐ液を減圧濃縮
し、酢酸エチル５０ｍ１を加え、不溶物をＰ去し、Ｐ液
を０．５　Ｍクエン酸水溶液、水、飽和炭酸水素す）　
ＩＪウム水溶液。

水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
して、油状の［Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボニル］
−Ｌ−ロイシン　メチル　エステル８３０ｍｇを得た。

得られた化合物８００ｒｒ＠に氷冷下トリフルオロ酢酸
３　ｍｌを加え室温で３時間攪拌する。

反応液を減圧濃縮し酢酸エチル１０ｍ１を加え、再度減
圧濃縮する。残留物を酢酸エチル１０ｍ４に溶解し。

氷冷下、２，２規定−塩化水素−ジオキサン溶液３ｍｌ
を加え、氷室で一夜静置する。結晶を戸数し、酢酸エチ
ルで洗い、乾燥して［２−（３−ピリジル）１００’Ｃ 元素分析値（Ｃ１６Ｈ２３Ｎ、Ｏ，Ｓ・Ｃ％　　　　Ｈ
鉤 理論値　４５．２４　　６．３１ 実験値　４５．２１　　５．９８ ２ＨＣ１＠４１５Ｈ，０として） Ｎ（（至）　　　Ｓ（至） ９．８９　　　　７．５５ ９．８５　　　　７．５５ 実施例５ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とり、Ｌ−α−ア
ミノ酪酸メチルエステル・塩酸塩を出発原料として、実
施例４と同様に処理して、２−［２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−イル］カルボニルアミノ酪酸メチル
エステル・２塩酸塩を得た。融点　９８〜１００℃ 元素分析値（Ｃ，、Ｈ，、Ｎ３０３Ｓ　＠　２ＨＣ１６
Ｈ２Ｏとして）Ｃ（至） 理論値　　４２．００ 実験値　　４２．０８ 実施例　６ Ｎ　−ｔａｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とＤ−メチオニン
　エチル　エステル・塩酸塩を出発原料として、実施例
４と同様に処理して、［２−（３−ピリジル）チアゾリ
ジン−４−カルボニル］−Ｄ−メチオニン　エチル　エ
ステル・２塩酸塩ヲ得た。

融点　９４〜９６６Ｃ 元素分析値ＣＣ＋５Ｈ２ｓＮｓＯｓＳｚ・２ＨＣ１−／
　Ｈ２Ｏとして）Ｃ開　Ｈ開　Ｎ鉤　　Ｓ開　　Ｃ１鉤 理論値　４２．０７　５．８７　９．２０　１４．０４
　１５．５２実験値　４２．１７　５．８９　８．８９
　１３．７７　１５．６８実施例　７ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ＝／Ｌｚ−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とＬ−メチオ
ニンアミド・塩酸塩を出発原料として、実施例４と同様
に処理して、［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボニル］−Ｌ−メチオニンアミド・２塩酸塩を得
た。融点　１３１℃ＭＳ　：　ｍ／ｚ　３４０　（Ｍ”
　−２ＨＣ１）実施例８ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とグリシン　メチ
ル　エステル・塩酸塩を出発原料とし。

実施例４と同様に処理して、［２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボニルコグリシンメチル　エステ
ル・２塩酸塩を得た。融点１１６〜ｌ１８℃ 元素分析値　（Ｃ＋ｔＨ＋５ＮｚＯｓＳ・２ＨＣ１−Ｈ
，Ｏとして）Ｃ（至）　　　Ｈ（至）　　　Ｎ（至）理
論値　　３８．７２　　５．１４　　１１．２９実験値
　　３８．９９　　４．６２　　１０．９９実施例　９ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００■。

テトラヒドロフラン１０ｍ１の溶液に、４℃以下で３−
メチルチオプロピルアミン２００ｒｌ１ｇ、　ｌ−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール３９０ｒｌ１ｇ、　ジシクロ
へキシルカルボジイミド４４０ｆｆ１ｇを順次加え、室
温で３時間攪拌する。生じた沈澱を戸去し、Ｐ液を減圧
濃縮し。

残留物を酢酸エチル５０ｍ１に溶解する。酢酸エチル浴
液を０．５Ｍのクエン酸水溶液、水、飽和炭酸ナトリウ
ム水溶液、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧濃縮して　Ｎ−（３−メチルチオプロピル）　−
３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド２５０ｍｇを得
た。得られた化合物２５０１ＴＩｇに氷冷下トリフルオ
ロ酢酸２　ｍｌを加え、実施例４と同様に処理して油状
のＮ−（３−メチルチオプロピル）−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩１３
０ｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ：１．６〜１．９（２Ｈ）、２．０８（３Ｈ）、　２
．４〜２．６　（２Ｈ）。

３．０〜３．７　（４Ｈ）、　４．０５〜４．５０　（
ＩＨ）、　５．９〜６．１（ＩＨ）、７．４〜９．２（
４Ｈ） 実施例　１Ｏ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とｎ−ヘプチルア
ミンを出発原料にして、実施例９と同様に処理して、Ｎ
−ｎ−へブチル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：０．６〜１．１（３Ｈ）、　１．１〜１．８　（ｌ
０Ｈ）、　２．９〜３．９（４Ｈ）。

４．４〜４．７（ＩＨ）、　６．２０（ＩＨ）、　８．
０〜８．３（ＩＨ）。

８．６〜９．３（３Ｈ） 実施例　１１ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と２−アミノピリ
ジンを用い実施例９と同様に処理してＮ−（２−ピリジ
ル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド・３塩酸塩を得た。融点　１４５℃ 元素分析値（Ｃ，、Ｈ，７Ｎ４０　Ｓ　Ｃｌ　３として
）Ｃ５％）　　　ＨｅＦ、Ｉ　　　Ｓ（？ｎ理論値　　
４２．４９　　４．３３　　８．１０実験値　　４２．
８３　　４．５８　　８．０３実施例　１２ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と０−アニシジン
を用い実施例９と同様に処理してＮ−（２−メトキシフ
ェニル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩を得た。

融点　１２９°Ｃ 元素分析値（Ｃ＋ａＨ＋ｏＮｉＯ□ＳＣＩ、として）Ｃ
鉤　　　Ｈ（至）　　Ｎ鉤 理論値　　４９．４９　４．９３　１０．８２実験値　
　４９．２９　５．１８　１０．３８実施例　１３ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６
３０ｍｇ、　　ｍ−アニンジン３５０ｍｇ、　　ジシク
ロへキシルカルボジイミド６５０　ｆｆ１ｇ及び１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール４３０１Ｑｇのジメチルホ
ルムアミド８　ｍｌ中混合物を一夜室温で攪拌した。酢
酸エチル５０ｍ１で反応混合物を希釈し、不溶物を戸去
した。ｐ液を水２回、炭酸水素ナトリウム水溶液。

水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。減圧濃縮して得られた残渣を分取薄層クロマト
グラフィーにて精製してＮ−（３−メトキシフェニル）
−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサ
ミド２３０　ｍｇを得た。この化合物を酢酸エチルに溶
解し２規定塩化水素−ジオキサン溶液を１ｍｔ加えた。

生じた固体を戸数し。

酢酸エチルで洗い乾燥してＮ−（３−メトキシフェニル
）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキ
サミド・２塩酸塩２５０■を得た。

融点　１２９°Ｃ 元素分析値（Ｃｌ６Ｈ１９Ｎ３０２　Ｓ　Ｃ’２として
）Ｃ鉤　　Ｈ鉤　Ｎ開　　８％） 理論値　４９．４９　４．９３　１０．８２　８．２６
実験値　４９．４９　５．０８　１０．５６　８．２４
実施例　１４ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
２−フェニルエチルアミンとから、実施例１３ノ方法に
従い、Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得
た。融点　１１５℃元素分析値（Ｃｌ７Ｈ２１ＮｓＯＳ
　Ｃ１２として）Ｃ開　Ｈ（至）　Ｎ（至）　　Ｓ鉤 理論値　５２．８５　５．４８　１０．８８　８．３０
実験値　５２．２５　５．７４　１０．７７　８．１６
実施例　１５ 実施例１３の方法に従い、参考例２で得た化合物と３−
メチルチオプロピルアミンからＮ−（３−メチルチオプ
ロピル）−２−（４−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩を得た。融点　７０’Ｃ 元紫分析値（ＣｕＨｚ＋Ｎ５Ｏ８，ＣＩ、として）Ｃ鉤
　Ｈ開　　Ｎ（至） 理論値　４２．１６　５．７２　１１．３５実験値　４
１．６５　５．８３　　ＩＯ，８７実施例　１６ ピリジンー２−アルデヒド１．５０ｇと　Ｌ−システィ
ン１．７０ｇの５０％エタノール中溶液を室温で４時間
攪拌した。不溶物を戸別した反応混合物を減圧上濃縮し
、シロップ状物質を得た。これをテトラヒドロフラン３
５ｍ１に溶解し、ジシクロへキシルカルボジイミド２．
８９ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．８９ｇ
及び３−メチルチオプロピルアミン１．６２ｇを加え室
温で一夜攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、
不溶物を濾過して除いた。戸液を水２回、炭酸水素す）
　ＩＪウム水溶液、水２回。

飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸す）　ＩＪウム上で乾
燥し減圧濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラ
フィー（溶出液　トルエン：酢酸エチル＝１　：　１　
）で精製して、Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−２−
（２−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド１
．５０　ｇを得た。この化合物８００■を酢酸エチルに
溶解し、２規定塩化水累−ジオキサン溶液を加えた。溶
媒を留去して得られる残渣を乾燥して、Ｎ−（３−メチ
ルチオプロピル）−２−（２−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・塩酸塩８３０　ｍｇを得た。融
点　６５°Ｃ元累分桁値（ＣＩ３Ｈ２□Ｎ、０２Ｓ２Ｃ
１として）Ｃ鉤　Ｈ（至）　Ｎ鉤　　Ｓ　５％） 理論値　４４．３７　６．３０　１１．９４　１８．２
２実験値　４４．５９　６．０９　１１．７９　　Ｌ８
．３８実施例　１７ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６
３０１Ｔ１ｇ、　３．４．５−　）ジメトキシアニリン
５２０■、ジシクロへキシルカルボジイミド６５０　ｍ
ｇ及びｌ−ヒドロキシベンゾトリアゾール４３０１ｒｇ
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド８　ｍｌｌ中台合物室
温で一夜攪拌した。酢酸エチルで反応混合物を希釈し。

不溶物をＰ去した。Ｐ液を炭酸水素す）　ＩＪウム水、
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥、減圧上濃縮した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；酢酸エチル）で精製して、
　　Ｎ　−（３，４，５−）リメトキシフェニル）−２
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
３７０　ｍｇを得た。この化合物を酢酸エチル１０ｍ１
に溶解し、２Ｎ塩化水累−ジオキサン溶液２ｍＺを加え
た。生じた固体を戸数し、酢酸エチルで洗い、乾燥して
Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩
酸塩２００■を得た。融点　１３０〜１３２°Ｃ 元素分析値（Ｃ＋ａ　Ｈ２ｓＮ３０４　Ｓ　Ｃ１，とし
て）Ｃ鉤　Ｈ開　Ｎ鉤　Ｓ鉤 理論値　４８．２２　５．１７　９，３７　７．１５実
験値　４８．２３　５．３５　９．０２　７．１２実施
例　１８ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
アニリンとから、実施例１７の方法に従い。

Ｎ−フェニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。

融点　１．４５〜１４８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ） δ：３．４〜４．２（２Ｈ）、　４．９６（ＩＨ，ｔ）
、　６．３１．６．３５（合せてＩＨ）、７．０〜７．
４　（３Ｈ）、　７．６〜７．８　（２Ｈ）。

８．１０（ＩＨ，ｄｄ）、　８．９〜９．０（２Ｈ）、
　９．３（ＩＨ）実施例　１９ ポン酸及びベンジルアミンとから、実施例１７の方法に
従いＮ−ベンジル−２−（３−ピリジル）チア　ソリジ
ン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。融点　１２
６〜１３０　’Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：３．２〜３．７　（２Ｈ）、　４．３〜４．６（３
Ｈ）、　６．０８．６．１４（合せてＩＨ）、７．３（
５Ｈ）、８．０６（ＩＨ，ｄｄ）。

８．７〜９．０（２Ｈ）、　９．１〜９．２　（Ｉ　Ｈ
）実施例　２０ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ｐ−メチルベンジルアミンとから実施例１７の方法に従
い、Ｎ−（ｐ−メチルペンシル）−２−（３−ピリジル
）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た
。融点　１３０〜１３６℃２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−カル元素分析値（Ｃ，、Ｈ，、Ｎ、ＯＳ　
ＣＩ２として）Ｃ開　Ｈ開　Ｎ（殉　Ｓ（至） 理論値　５２．８５　５．４８　１０．８８実験値　５
２．６４　５．５６　１０．８１８．３０ ８．３８ 実施例　２１ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
４−フェニルブチルアミンとから、実施例１７ノ方法に
従い、Ｎ−（４−フェニルブチル）−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得
た。融点　１００〜１０４℃元素分析値（Ｃ，、Ｉ２．
Ｎ３ＯＳ　ＣＩ、・０．２　Ｉ２０として）Ｃ（資）　
Ｈ（至）　Ｎ鉤　Ｓ鉤　Ｃ１（至）理論値　５４．３６
　６．１５　１０．０１　７．６４　１６．８４実験値
　５４．４４　６．１６　１０．０８　７．６８　１６
．５９実施例　２２ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
Ｎ−メチルベンジルアミンとから、実施例１７の方法に
従い、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−２−（３−ピリジル
）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た
。融点　１０５〜１１０℃元素分析値（Ｃ，、Ｉ２．Ｎ
、ＯＳ　ＣＩ、・Ｈ，Ｏとして）Ｃ鉤　Ｈ鉤　Ｎ（％！
　Ｓ（至）　Ｃ１鉤理論値　５０．５０　５．７３　１
０．３９　７．９３　１７．５４実験値　５０．６３　
５．６０　１０．４３　７．９８　１７．２６実施例　
２３ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ｐ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアミンとから、
実施例１７の方法に従い、Ｎ−［ｐ−（４−フェニルブ
トキシ）ベンジル］−２−（３−ピリジル）チアゾリジ
ン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。融点　１３
３〜１３５°Ｃ元素分析値（ＣｚａＨｓ＋Ｎ３０□ＳＣ
Ｉ、・０．２　Ｈ，０として）Ｃ鉤　Ｈ鉤　Ｎ鉤　Ｓ鉤
　Ｃ１（至） 理論値　５９．５８　６．０４　８．０２　６．１２　
１３．５３実験値　５９．５８　６．０２　７．９６　
６．２３　１３．５８実施例　２４ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ｐ−へブチルオキシベンジルアミンとから、実施例１７
の方法に従い、Ｎ−（ｐ−へブチルオキシベンジル）−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩を得た。

融点　１５５〜１６０°Ｃ 元素分析値（Ｃｔｓ　Ｈ＞ｘ　Ｎ３Ｏ□ＳＣＩ、・０．
３　Ｉ２０として）Ｃ鉤　　Ｈ（至）　Ｎ％）　　Ｓ鉤
　　Ｃ１（至）理論値　５６．１６　６．８８　８．５
４　６．５２　１４．４１実験値　５６．１１　６．８
４　８．４７　６．５３　１４．５０実施例　２５ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸、
！−ｍ−（４−７エニルブトキシ）ベンジルアミンとか
ら、実施例１７の方法に従い、Ｎ−［ｍ−（４−フェニ
ルブトキシ）ベンジル］−２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。融点　
８８〜９３℃ 元素分析値（Ｃ２６Ｉ３１　Ｎ、Ｏ□Ｓ　ＣＩ２−０．
５　Ｉ２０として）Ｃ鉤　Ｈ開　Ｎ（至）Ｓ（至）　Ｃ
Ｉ（至）理論値　５８．９７　６．０９　７．９４　６
．０６　１３．３９実験値　５８．９６　６．０７　７
．９６　６．１１　１３．３６実施例　２６ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ｍ−へブチルオキシベンジルアミンとから、実施例１７
の方法に従い、Ｎ−（ｍ−へブチルオキシベンジル）−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩を得た。

融点　１３５〜１４０℃ 元素分析値（Ｃ２３ＨｓｓＮｓ　０２　Ｓ　ＣＩｔとし
て）ＣＦ４　　ＨＦ４　　Ｎ５％）　　ＳＷ４理論値　
５６．７６　６．８４　８．６４　６．５９実験値　５
６．６８　６．８５　８．６９　６．６２実施例　２７ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
２−アミノ−５−［（４−フェニルブチル）チオ］−１
，３，４−チアジアゾールとから。

実施例１７の方法に従い、Ｎ−［５−［（４−フェニル
ブチル）チオ］−１，３，４−チアジアゾール−２−イ
ル］−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド・２塩酸塩を得た。

融点　９９〜１０５℃ 元素分析値（Ｃｚ＋）（２ｓＯ８ｘｃ１ｚとして）Ｃ（
ト）Ｈ鉤　Ｎ（ト）　Ｓ鉤 理論値　４７．５４　４．７５　１３．２０　１８．１
３実験値　４７．５８　４．８４　１３．０９　１８．
２８実施例　２８ ２−（３−キノリル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
３−メチルチオプロピルアミンとから実施例１７の方法
に従い、Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−２−（３−
キノリル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸
塩を得た。融点１２２〜１２６℃ 元素分析値（Ｃ，ＴＨ２，Ｎ３０Ｓ２ＣＪ２−０．５Ｈ
２０として）Ｃ開　　Ｈ□□□　Ｎ（へ）　　Ｓ■）　
　　Ｃ１開理論値　４７．５５　５．６３　９．７８　
１４．９３　１６．５１実験値　４７．５７　５，７２
　９．７５　１５．０２　１６．４７実施例　３０ 実施例　２９ ２−（３−キノリル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
４−フェニルブチルアミンとから、実施例１７の方法に
従い、Ｎ−（４−７エニルプチル）−２−（３−キノリ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得
た。融点　１１６〜１２２°Ｃ元素分析値（ＣｔｓＨ２
？Ｎｓ　ＯＳ　Ｃ１２として）Ｃ（至）　Ｈ（至）　Ｎ
（飛　Ｓ（至）理論値　５９．４８　５．８６　９．０
５　６．９０実験値　５９．１３　５．８４　８．９９
　７．１４２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボン酸とピロリジンを出発原料として、実施例１７と
同様に処理してｌ−［２−（３−ピリジル）チアゾリジ
ン−４−イルカルポニルコピロリジンー２塩酸塩を得た
。融点　１３６°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：　１．．６０〜２．１３（４Ｈ，ｍ）、　３．０６
〜３．９０（６Ｈ，ｍ）。

４．５５〜４．７１　（ＩＨ，ｍ　）、　６．０９．６
．２６　（合せてＩＨ。

各ｓ）、　８．０８　（ＩＨ，ｄｄ　）、　８．７２〜
９．２０　（３Ｈ，ｍ）実施例　３１ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
モルホリンを出発原料として、実施例１７と同様に処理
して４−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イ
ルカルボニルコモルホリン・２塩酸塩を得た。融点　１
４３℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：　２．９７〜３．７８　（ＩＯＨ，ｍ　）、　４．
６２〜４．７８　（ＩＨ，ｍ）。

６．００．６．２３（合せてＩＨ，各ｓ　）、　８．０
５　（ＩＨ，ａａ　）８．７１〜９．１０　（３Ｈ，ｍ
　） 実施例　３２ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ、酸と
１−７エニルビペラジンを出発原料として、実施例１７
と同様に処理して　１−フェニル−４−［２−（３−ピ
リジル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペラジ
ン・３塩酸塩を得た。

融点　１６９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ：　　３．０４〜４．２０（１０Ｈ，ｍ）、４．６４
〜４．８４（ＩＨ，ｍ）。

６．００．６．２３（合せてＩＨ，各８）、　７．０４
〜７．６４　（５Ｈ。

ｍ）、７．９９〜８．１４（ＬＨ，ｍ）、８．７０〜９
．１６（３Ｈ，ｍ）実施例　３３ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ピペリジンを出発原料として、実施例１７と同様に処理
して、１−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
イルカルボニルコピペリジン・２塩酸塩を得た。融点　
１７２６Ｃ 元素分析値（ＣＩ４　Ｉ２１　ＮｓＯＳ　ＣＩｔ・０．
３　Ｉ２０として）Ｃ鉤　Ｈ鉤　Ｎ（至）　Ｓ鉤　Ｃ１
鉤 理論値　４７．２７　６．１２　１１．８１　９．０１
　１９．９３実験値　４７．３６　６．０３　１１．７
５　９．０１　１９．７１実施例３４ 実施例　３５ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
シクロヘキシルアミンを出発原料として。

実施例１７と同様に処理して　Ｎ−シクロヘキシル−２
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
・２塩酸塩を得た。融点　１３９°ＣＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ、） δ：　０．９０〜１．９５（１１Ｈ，ｍ）、　３．０６
〜３．６９（３Ｈ，ｍ）。

４．３９　（ＬＨ，ｄｄ　）、　６．０７．６．１４　
（合せてＩＨ，各ｓ）。

８．０３（ＩＨ，ｄｄ　）、　８．４６〜９．１３（３
Ｈ，ｍ）２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カル
ボン酸とイソアミルアミンを出発原料として、実施例１
７と同様に処理して　Ｎ−（３−メチルブチル）−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩を得た。融点　１１５℃元素分析値（Ｃｌ４Ｈ
，２Ｎ３ＯＳ　ＣＩ２・０．３　Ｈ，０として）Ｃ（至
）　Ｈ鉤　Ｎ鉤　Ｓい） 理論値　４７．１４　６．３９　１１．７８　８．９９
ｔ／、ｔ’６ 実験値　４７．２４　６．５９　　＋＋−１５−＆９．
１０実施例３６ 実施例３７ ２ＨＣ１ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
　４−ベンジルピペリジンを出発原料として、実施例１
７と同様に処理して　４−ベンジル−１−（２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペリ
ジン・２塩酸塩を得た。

融点　１３５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　） δ：　０．７６〜２．０６（５Ｈ，ｍ）、　２．３５〜
４．５４（８Ｈ，ｍ）。

４．６８〜５．０８　（ＩＨ，ｍ）、　６．０Ｂ、　６
．２８　（合せてＩＨ１各ｓ）、　　７．０６〜７．２
８（５Ｈ，ｍ）、８．０７（ＬＨ。

ｄｄ　）ｔ　８．７１〜９．３０　（３Ｈ，ｍ　）２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と、１
−（３−フェニルプロピル）ピペラジンを出発原料とし
て、実施例１７と同様に処理して、１−（３−フェニル
プロピル）−４−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−イルカルボニル］ピペ２ジン・３塩酸塩を得た。

融点　１４４℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、　） δ：　　１．８５〜４．８６（１７Ｈ，ｍ）、５．９７
，６．１８（合せてＩＨ。

各ａ）、　　７．１０〜７．４８（５Ｈ，ｍ）、　８．
０６（ＩＨ，ｄｄ）。

８．６５〜９．１２　（３Ｈ，ｍ　） 実施例３８ 実施例３９ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
ｐ−（４−フェニルブトキシ）アニリンを出発原料とし
て、実施例１７と同様に処理してＮ−［ｐ−（４−フェ
ニルブトキシ）フェニル〕−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩を得た。

融点　１１１℃ 元素分析値（Ｃ＊ｓＨｔ＊ＮｓＯ，５ＣＩｔとして）Ｃ
（％）Ｈ（％）Ｎ（％）　　Ｓ（％）理論値　　５９．
２８　５．７７　８．３０　６．３３実験値　　５９．
６５　５．７６　８．４０　６．３９２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸５１０ｍｇ、　１−
ヒドロキシベンゾトリアシーに４９０ｍｇ、／ナデシ／
ｌ／アミン６８０１７１ｇ、　７″）ラヒドロフラン１
２ｍＡの混合物に、水冷下ジシクロへキシルカルボジイ
ミド５００　ｔＩｌｇとテトラヒドロフラン３ｍｌの溶
液を滴下し、水冷下１時間攪拌後、室温で１２時間攪拌
した。酢酸エチル３０ｍ＃で反応混合物を希釈し、不溶
物を炉去した。Ｆ液を飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶
液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製
し、酢酸エチルから再結晶して、Ｎ−ノナデシル−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド勺
え。

融点　１０８〜１１０℃ 元素分析値（ＣｔａＨ＋ａＮ３０Ｓ　ｅ　１１５　Ｈｚ
Ｏとして）Ｃ（％）　　　Ｈ（％）　　Ｎ（％）　　ｓ
（％）理論値　　７０．３０　１０．２０　８．７８　
６．７０実験値　　７０．３７　１０．３４　８．８３
　６．８０Ｃ（％）　　Ｈ（％） Ｎ（％）　　　Ｓ（％） 理論値 実験値 ６５．４８ ６５．１６ ８．６８ ８．８０ １２．０６ １１．９１ ９．２０ ９．０４ 実施例４１゜ 実施例４０゜ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と
デシルアミンを出発原料として、実施例３９と同様に処
理して　Ｎ−デシル−２−（３−ピリジル）チアゾリジ
ン−４−カルボキサミドを得た。

融点　８８℃ 元素分析値（ＣｎＨｓ。Ｎ、Ｏ３として）Ｎ−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリ
ジン−４−カルボン酸とチラミンを出発原料として、実
施例３９と同様に処理しテ、Ｎ−［２−（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エチル］　−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カル
ボキサミドを得た。

融点　７６℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　　１．３４（９Ｈ，３）、　２．７２（２Ｈ，ｔ
）、　３．２２（ＩＨ，ｄｄ）ｔ３．４：３”３．７０
　（３Ｈ，ｍ　）、　４．８０　（ＩＨ，ｄｄ）、　５
．９９（ＩＨ，ｓ）＋　６．７０〜７．０３（４Ｈ，ｍ
）、７．１９〜７．３２（ＩＨ，ｍ）、７．７５〜７．
８４（ＩＨ，ｍ）、８．５１（ＩＨ。

ｄｄ）、８．６３（ＩＨ，ｄ） し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出液：酢酸エチル）にて精製して実施例４２゜ 物を酢酸エチルに溶解し、２規定塩化水素−ジオキサン
溶液を１．５　ｔｎｌ加えた。生じた固体を戸数し。

酢酸エチルで洗い、乾燥して、Ｎ−ベンジルオキ２−（
３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸ｓｏｏｍ
ｇ、　ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン・塩酸塩３８０
ｍｇ、　１−ヒドロキシベンゾトリアゾール４８０■、
Ｎ−メチルモルホリン２４０ｍｇ、テトラヒドロフラン
１５ｍ１の混合物に水冷下、ジシクロへキシルカルボジ
イミド４９０ｍｇとテトラヒドロフラン５　ｍｌの溶液
を滴下し、水冷下１時間攪拌後、室温で１２時間攪拌し
た。酢酸エチル３０　ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶
物をＦ去した。Ｆ液を飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄融点　１１５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ） δ：　３．０２〜３．５２（２Ｈ，ｍ）。

４．９０（２Ｈ，ｓ）、６．００゜ ７．２８〜７．５３　（５Ｈ，ｍ　）ｔ９．２６　（３
Ｈ，ｍ） ４．０７〜４．２０　（Ｉ　Ｈ，ｍ　）。

６．０８　（合せてＩＨ，各ｓ）。

８．０７（ＩＨ，ｄｄ）、８．６４〜 実施例４３゜ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸８１０１７ｇ。

４−メチルピペリジン２６０１Ｔ１ｇ、　　１−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール５３０ｆｆ１ｇ、テトラヒドロ
フラン１０ａｔの混合物に水冷下、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド５４０　ｆｆ１ｇとテトラヒドロフラン５
　ｍＬの溶液を滴下し、水冷、下１時間攪拌後、室温で
１２時間攪拌した。酢酸エチル３０ｍ１で反応混合物を
希釈し。

不溶物を炉去した。Ｆ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。減圧濃縮して、４−メチル−１−［３−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−イルカルボニルコピペリジンを得た。得
られた化合物にトリフルオロ酢酸５　ｒｎｌを加え、室
温で１時間攪拌した。

反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し、飽
和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。

減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液：酢酸エチル）にて精製して、４−
メチル−１−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−イルカルボニルコピペリジンを得た。この化合物を酢
酸エチルに溶解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を
３　ｍＬ加えた。生じた固体を戸数し、酢酸エチルで洗
い、乾燥して。

４−メチル−１−［ｚ＝−（３−ピリジル）チアン融点
　１３０℃ 元素分析値（Ｃ，５Ｈ２３ＮａＯ３Ｃ１！として）Ｃ幹
）Ｈ（％）　　　Ｎ（％） 理論値　　４９．４５　６．３９　１１．５３実験値　
　４９．５９　６．６０　１１．４７Ｓ　（％） ８．８０ ８．６３ 実施例４４゜ 実施例４５゜ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とＮ、　Ｎ　−ジ
メチルエチレンジアミンを出発原料として実施例４３と
同様に処理して、　Ｎ−［２−（Ｎ’、Ｎ’−ジメチル
アミノ）エチル］−２−（３−ピリジル）チアソリジン
−４−カルボキサミド・３塩酸塩を得た。

融点　１５０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ：　２．６３〜３．８０（１２Ｈ，ｍ）、４．２６〜
４．５０（ＬＨ，ｍ）。

６．０１．６．０８　（合せてＩＨ９各ｓ　）＋　８．
０６　（Ｉ　Ｈｌｄｄ　）＋８．７０〜９．１８　（３
鴇ｍ） ＭＣＩ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸とＮ−メチル−Ｎ
−フェニルヒドラジンを出発原料とし。

実施例４３と同様に処理して、Ｎ′−メチル−Ｎ／−７
エニルー２−（３−ピリジル）チアソリシン−４−カル
ボヒドラジド・２塩酸塩を得た。

融点　１４５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄａ　） δ：　３．０４〜３．７２（５Ｈ，ｍ）、　４．２８〜
４．５０　（ＩＨ，ｍ）。

６．０３．６．１２　（合せてＩＨ，各ｓ　）、　　６
．７０〜７．３２（５Ｈ，ｍ）、　８．０７（ＬＨ，ｄ
ｄ）、　８．６’Ｊ−９，１７（３Ｈ，ｍ）実施例４６
゜ 実施例４７゜ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と４−フェニルピ
ペリジンを出発原料とし、実施例４３と同様に処理して
、４−フェニル−１−［２−（３−ビリジル）チアゾリ
ジン−４−イルカルボニルコピペリジン・２塩酸塩を得
た。

融点　１１５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄａ　） δ：　１．３２〜２．０８（４Ｈ，ｍ）、　２．５８〜
３．８２（６Ｈ，ｍ）。

３．９６〜５．ＯＯ（２Ｈ，ｍ　）ｔ　６．０４．６．
２８　（合せてＬＨ。

各ａ）、　７．０８〜７．４４　（５Ｈ，ｍ）、　８．
０６　（ＩＨ，ｄｄ　）。

８．６８〜９．１６　（３Ｈ，ｍ　） ＭＣＩ Ｎ　　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と１−メチルピペ
ラジンを出発原料として、実施例４３と同様に処理して
１−メチル−４−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−イルカルボニルコピペラジン・３塩酸塩を得た。

融点　１８２℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ） δ：　２．６２〜５．ＯＯ（１４Ｈ，ｍ）、　６．０３
．６．２２　（合せてＩＨ。

各ｓ　）、　８．０９（ＩＨ，ｄｄ）、　８．７０〜９
．２０（３Ｈ，ｍ）実施例４８゜ 実施例４９゜ ＣＯＯＣ（ＣＨ３）３ ＨＣ１ Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸と１−ベンジルピ
ペラジンを出発原料として、実施例４３と同様に処理し
て、１−ベンジル−４−［２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−イルカルボニルコピペラジン・°３塩酸塩
を得た。

融点　１６５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、　） δ：　２．７６〜４．８０　（１３Ｈ，ｍ）、　５．９
３．’　６．１５　（合せてＩＨ，各ｓ　）、　７．３
６〜７．８０（５Ｈ，ｍ）、　８．０３（ＩＨ。

ｄｄ）、　８．６：２−９．１０（３Ｈ，ｍ）Ｎ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボン酸と、１−（４−フェニルブチ
ル）ピペラジンを出発原料として、実施例４３と同様に
処理して１−（４−）工二ルプチル）−４−［２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペ
ラジン・３塩酸塩を得た。

融点　１５７℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄａ　） δ：　１．３３〜１．８５　（４Ｈ，ｍ）、　２．３０
〜２．７６　（８Ｈ，ｍ）。

２．８６〜３．７８　（６Ｈ，ｍ）、　３．９９〜４．
３０　（ＩＨ，ｍ）。

５．９６．６．１７　（合せてＩＨ，各ｓ　）、　　７
．１２〜７．４４（６Ｈ，ｍ）、　８．１２　（ＩＨ，
ｄｄ　）、　８．７２〜９．１７　（２Ｈ，ｍ）実施例
５０゜ 加え、室温で１時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残
留物を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸す）　ＩＪウ
ム上で乾燥した。減圧濃縮して得られた結晶を酢酸エチ
ルから再結晶してＮ′−フエＮ　−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
カルボン酸６８０　ｍｇ。

フェニルヒドラジン２４０■、１−ヒドロキシベンゾト
リアゾール４５０　［［１ｇ、テトラヒドロフラン２０
　ｍｌの混合物に水冷下ジシクロへキシルカルボジイミ
ド４５０ＩＱｇとテトラヒドロフラン５　ｍｌの溶液を
滴下し、水冷下１時間攪拌後、室温で１２時間攪拌した
。酢酸エチル３０ｍ１で反応混合物を希釈し、不溶物を
戸去した。ｐ液を飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。減圧濃縮してＮ′−フェニル融点　１５５℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３＋　ＤＭＳＯ−ｄ、）δ：　３．２
２〜３．５６（２Ｈ，ｍ）、４．２２〜４．３６（ＩＨ
，ｍ）。

５．６０．５．７２（合せてＩＨ，各ｓ）、　　６．７
２〜７．４４（６Ｈ。

ｍ）、７．８１〜？、９．５（ＩＨ，ｍ）、８．５６（
ＩＨ，ｄｄ）。

８．７９（ＩＨ，ｄ） 実施例５１゜ 得た。得られた化合物にトリフルオロ酢酸５　ｍＺをＮ
−［２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル］３　　ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド５４０■、炭酸カリウ
ム１８０ｍｇ、　　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０
ｍ１の混液に室温下１−プロモー４−フェニルブタン２
８０１ｒｌｌ（とＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドの５ｒ
ｎｔ溶液を加えた。８０℃で３日間攪拌し、冷却後反応
液に水２０ｍＺを加え、有機物を酢酸エチルで抽出した
。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸す）
　ＩＪウムで乾燥した。減圧濃縮し、残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：へキサン：酢酸
エチル＝１：３）で精製して。

Ｎ−［２−［’ｐ−（４−〕二ニルブトキシ）フェニル
］エチル］　−３−ｔｅｒｔ−７”　）キシ力ルポニル
ロ酢酸５　ｍｌを加え、室温で１．５時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し。

飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。減圧濃縮
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出液：酢酸エチル）にて精製して。

Ｎ−［２−（ｐ　−（４−フェニルブトキシ）フエ酢酸
エチルに溶解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を１
　ｒｎｌ加えた。生じた固体を戸数し、酢酸エチルで洗
い、乾燥してＮ　−［２−［ｐ　−（４−フェニルブト
キシ）フェニル］エチル］−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸イを匈た。

融点　１０２℃ 元素分析値（ＣｚｔＨｓｓＮ３０ｚＳＣ１ｔとして）Ｃ
（％）　　Ｈ（％）　　Ｎ（％）　　Ｓ（％）理論値　
　６０．６７　６．２２　７．８６　６．００実験値　
　６０．５１　６．１５　７．９４　５．９７実施例５
２゜ 実施例５３゜ ＨＣｌ Ｎ−［２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル］−３−
ｔａｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミドと１−ブロモー３−
フェニルプロパンを出発原料として、実施例５１と同様
に処理して、Ｎ−［２−［ｐ−（３−フェニルプロポキ
シ）フェニル］エチル］−２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−カルボキサミド−２塩酸塩を得た。

融点　９８℃ 元素分析値（ＣｔａＨｓｒ　Ｎｓ　Ｏｔ　Ｓ　Ｃ１！・
０．３Ｈ，Ｏとして）Ｃ（％）Ｈ■）８便）　　Ｓ（％
）　　Ｃ１■）理論値５９．３８　６．０６　７．９９
　６．１０　１３．４８実験値５９．３７　６．０５　
８．０１　６．０９　１３．３１２１（ＣＩ Ｎ−Ｃ２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル］−３−
ｔｅｒｔブトキ７カルボニル−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジ／−４−カルボキサミドと１−ブロモ−２−フ
ェニルエタンを出発原料として。

実施例５１と同様に処理して、Ｎ−［２−［ｐ−（２−
７エニルエトキシ）フェニル］エチル］−２−（３−ピ
リジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ） δ：２．５８〜３．６４（８Ｈ１ｍ）、４．１１〜４．
４０（３Ｈ１ｍ）。

６．０３（１）（、ｓ）、　６．８３〜７．３５（５Ｈ
，ｍ）ｅ　８．０２（１１（、ｄｄ　）、　８．６６〜
８．８５　（ＩＨ，ｍ）、　８．８８〜９．０１（ＩＨ
，ｍ）、　９．０７（ＩＨ，ｄｄ）ＭＳ　　：　　ｍ／
ｚ　４３３　（Ｍ”−２ＸＨＣｌ　）実施例　５４ ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルアミン１．１３ｇ
、　　２−　（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カル
ボン酸１．２９ｇ、ジシクロへキシルカルボジイミド１
．２５　ｇ　、及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
０．８２ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＺ中
混合物を室温で一夜撹拌した。酢酸エチル１００ｍＡで
反応混合物を希釈し、不溶物をＰ別した。　Ｐ液を飽和
炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液。

水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥し、減圧上濃縮した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精
製し、Ｎ−［ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル］−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド２．２０ｇを得た。この化合物の酢酸エチル６０ｍｔ
中溶液に４規定塩化水素−ジオキサン溶液４ｍｌを加え
た。分離した固体なｒ取し、酢酸エチルで洗い、減圧下
乾燥してＮ−［Ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル］
−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサ
ミド・２塩酸塩２．３０ｇを得た。

融点　１２０〜１２８℃ 元素分析値（Ｃ２１Ｈ２９Ｎ、０２ＳＣ１２・０．４Ｈ
，Ｏとして）Ｃ（％）　　Ｈ（％）Ｎ（％）　　Ｓ（％
）　　ＣＩ（％）理論値　５４．１７　６．４５　９．
０２　６．８９　１５．２３実測値　５４．２３　６．
３７　８．９６　７．００　１５．１６実施例　５５〜
８０ 実施例５４と同様にして以下の化合物を得た。

実施例　８１゜ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸０
．３４ｇ、　］−デデシルビ９９フ００．３フ、　］−
ヒドロキシベンゾトリアゾール０．３３ｇ、　Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド１０ｍ１の混液に、水冷下、ジシ
クロへキシルカルボジイミド０．３４　ｇを加え、室温
で一夜攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、不溶物
をＰ去した。ｆ液を飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液
で洗い２次いで飽和食塩水で洗い、無水硫酸す）　ＩＪ
ウムで乾燥し減圧濃縮した。残留物に酢酸エチル５ｍｌ
を加え、不溶物をＰ去した。Ｐ液に２規定塩化水素−ジ
オキサンを加えた。生じた結晶なｒ取し、酢酸エチルで
洗い、乾燥して、１−デシル−４−［２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペラジン・
３哩酸塩０．６３ｇを得た。

融点　１７０℃ 元素分析値（Ｃ２，Ｈ４，Ｎ４０ＳＣＩ、・Ｈ，Ｏとし
て）Ｃ（博　Ｈ（慢　　Ｎ（彌　　Ｓ（彌　　Ｃ１（・
鱒理論値　　５０．５９　７．９４　１０．２６　５．
８７　１９．４８実験値　　５０．５０　７．８１　１
０．２２　６．０７　１９．４７実施例　８６゜ ＣＨＯ １−（３−フェニルプロピル）−４−［２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペラジン
４０ＩＴ１ｇ、ジクロロメタン５　ｒｎｌの溶液に、ギ
酸−無水酢酸（５：　３　ｖ／ｖ　）の混液０．５　ｍ
ｌを加え、室温で一夜攪拌した。反応液に酢酸エチル２
０ＩＩＩｔを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液及び
水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し。

減圧濃縮して°油状の１−［３−ホルミル−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル］−４−
（３−フェニルプロピル）ピペラジン３０■を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１５） δ：　１．６〜２．０　（２Ｈ９ｍ　）、２．２〜２．
８　（８Ｈ＋　ｍ　）、３．０〜３．４（２Ｈ，ｍ）、
　３．６〜３．９（４Ｈ，ｍ）、　５．０〜５．７（Ｉ
Ｈ。

ｍ　）ｔ　　６．１４　、６．４　（合せてＩＨ，各８
）、　　７．０〜７．５（５Ｈ。

ｍ）、７．６〜７．９（ＩＨ，ｍ）、８．２４（ＩＨ，
ｓ）、　　８．４〜８．８（３Ｈ，ｍ） ＭＳ　　：　　ｍ／ｚ　　　４２４　　（Ｍ”）実施例
　８７゜ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　） δ　：　　１．４０（９Ｈ，ｓ）、１．６〜２．］　（
２Ｈ，ｍ）、２．２〜２．８（８Ｈ，ｍ）、３．０〜３
．４（２Ｈ，ｍ）、３．４〜４．０（６Ｈ。

ｍ）、５．０８（ＩＨ，ｂｒ　ｔ）、’６．１６（ＩＨ
，ｂｒ　ｓ）。

７．０〜７．５　（５Ｈ，ｍ）、　　８．４〜８．８’
（４Ｈ，ｍ）ＭＳ　　：　　ｚ／ｍ　　　４９６　（Ｍ
”）３−　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６５０１１１
ｇ及び　１−（３−７エニルプロビル）ピペラジン４０
０　ＩＴＩｇを出発原料として実施例５４と同様に処理
した。塩酸塩になさずに、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製して。

油状の１−　［３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）
−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボ
ニル］−４−（３−フェニルプロピル）ピペラジン５６
０　ｍｇを得た。

実施例８８〜８９ 実施例８７と同様にして以下の化合物を得た。

実施例 ９０゜ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸０
．８４ｇ・　ｌ−オクチルピペラジン０．７９ｇ、　　
１−ヒドロキシペンゾトリアゾール０．５４ｇ、　Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド２０　ｍｌの混液に、水冷下
、ジシクロへキシルカルボジイミド０．８２ｇを加え、
室温で一夜攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し。

不溶物をＰ去した。Ｐ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。

残渣に酢酸エチルを加え不溶物をＰ去し、Ｐ液を減圧下
に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー［溶出液＝ｌＯ％メタノールー酢酸エチルコで精製し
、得られた油状物をエタノール２５　ｍｌに溶解し、フ
マル酸０．３２ｇを加える。２日間放置した後、生成す
る結晶なＰ取、冷エタノールで洗い乾燥して、１−オク
チル−４−［２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
イルカルボニルコピペラジン・フマル酸塩０．７２ｇを
得た。

融点　１３５°Ｃ 元素分析値（Ｃ２５Ｈ３８Ｎ４０５Ｓとして）Ｃ（Ｉ　
　　Ｈ（Ｉ　　　Ｎ（１５（ｃＡ理論値　　５９．２７
　７．５６　１１．０６　６．３３実験値　　５９．０
１　７．６６　１０．９５　６．２７実施例９１〜９４ 実施例９０と同様に処理して以下の≠シ祷化合物を得た
。

実施例 １−へブチル−４−［２−（３−ピリジル）−２−ピロ
リン−５−イルカルボニルコヒペラジン５７０［ｒｌｇ
を水２０ｍ１−エタノール２０ｍ１溶液中、酸化白金を
触媒として用い、水素の吸収が止むまで接触還元した。

触媒なｆ去後、Ｆ液を減圧下濃縮して残渣をシリカゲル
カラムクロマトｙラフイー（５ｇ）に付した。メタノー
ル−酢酸エチル（１：１０）の混液で溶出して、ｌ−へ
ブチル−４−［５−（３−ピリジル）ピロリジン−２−
イルカルボニルコヒヘラジン２５０■を得た。実施例５
４に従い、この３塩酸塩を得た。

融点　１３８〜１４３℃ 元素分析値（Ｃ，、Ｈ１７Ｎ、ＯＣＩ、−１，８Ｈ２Ｏ
として）Ｃ（％）　　Ｈ（％）　　Ｎ（％）ｃｌ（％）
理論値　５０．４１　８．１８　１１．２０　２１．２
６実験値　５０．４９　７．８３　１１０９　２１．１
０実施例　１３４ ３−フェニルプロピルエチレンジアミン２００ｆｎｇと
Ｎ−メチルモルホリン８１ｍｇとのジメチルホルムアミ
ド５ｍｌ混合溶液に１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
１２０ｍＬ　ジシクロへキシルカルボジイミド１８０ｍ
ｇ及び２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
ン酸１７０■を順次加え、室温で一夜撹拌した。反応混
合液を酢酸エチルで希釈し、不溶物をデ去後Ｐ液を減圧
下濃縮した。残渣に０．５　Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層をＩＮ塩酸で抽出
後、水層な炭酸カリウムでｐＨ１０として再び酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥後、減圧下濃縮して残渣をアルミナ
カラムクロマトグラフィ−（２０ｇ）に付し、メタノー
ル−酢酸エチル（１：１０）の混液で溶出してＮ−（３
−フェニルプロピルアミノエチル）　−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド１６０■を得
た。本化合物のＮＭＲおよびＭＳデータは実施例１１５
の化合物のそれと一致した。

実施例　１３５ １．３−ジオキソ−５−（３−ピリジル）チアシリジノ
［３，４−ｃ］オキサゾリジン塩酸塩５０■のジメチル
スルホキシド１ｍＺ中溶液に、室温で１−　（３−７ｚ
ニルプロピル）ピペラジン４０Ｑのジメチルスルホキシ
ド０．５ｍｌ中溶液を加えた。反応混合物を室温で２時
間撹拌したのち、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮して１−（３−フ
ェニルプロピル）−４−［２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−イルカルボニルコピペラジン７０ｍｇを得
た。このものの物理化学的性質は、実施例１０８のもの
と一致した。

実施例　１３７ １−［２（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−ピ
ペリジニル）チアゾリジン−４−イルカルボニ＃］−４
−（３−フェニルプロピル）ピペラジン４３０ｍｇをジ
クロロメタン３ｍｌに溶解し、トリフルオロ酢酸２ｍｌ
を加えて室温で６時間撹拌した。

反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍ１中
に注ぎ入れ、生成物を酢酸エチルで抽出した。

酢酸エチル層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥したのち、減圧下濃縮して１−（３−フェニル
プロピル）−４−［２−（３−ピペリジニル）チアゾリ
ジン−４−イルカルボニルコピペラジン２８０ｍｇを得
た。この化合物を酢酸エチル８ｍｌに溶解し、４規定塩
化水素ジオキサン溶液１ｍｌを加えた。３０分撹拌した
のち、生じた固体をＰ取し乾燥して１−（３−フェニル
プロピル）−４−［２−（３−ピペリジニル）チアゾリ
ジン−４−イルカルボニルコピペラジン・３塩酸塩２０
０　ｍｇご得た。

融点　１７４〜１７８℃ 元素分析値（０２２Ｈ，７Ｎ４Ｏ３ＣＩ、・１．５Ｈ２
０として）Ｃ（％）　　Ｈ（％）Ｎ（％）ｓ（％）理論
値　４９．０２　７．４８　１０．３９　５．９５実験
値　４９．０２　７．４０　１０．２９　６．００実施
例　１３８ Ｎ−（ｐ−へブチルオキシベンジル）−グリセルアミド
７０ｍｇ、　　ピリジン−３−アルデヒド５０ｒｌ１ｇ
のベンゼン１０ｍ１．　　ピリジン２．５　ｍｌ中溶液
ｔｃ　ｐ−トルエンスルホン酸５ｍｇを加え、１２時間
還流して共沸脱水した。今後９反芯温合物を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液で２回、水で３回、飽和食塩水で１
回頭次洗浄ｉ〜、無水硫酸ナトリウムで乾燥し。

減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィーで精製してＮ−（ｐ−へブチルオキシ
ベンジル）−２−（３−ピリジル）−１，３−ジオキソ
ラン−４−カルボキサミドロ０ｍｇを得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ：　０．９０（３Ｈ，ｂｒ　ｔ）、　１．２〜１．５
（８Ｈ）、　１．６〜２．０（２°Ｈ）、　３．９５（
２Ｈ，ｔ、　Ｊ−７Ｈｚ）、　４．１〜４．８（５Ｈ）
。

５．８９．５．９９　（合せて１）（）、６．６〜７．
２　（Ｉ　Ｈ，Ｄ２０で消失）ｔ　６．８〜７．４（５
１（）、　７．６〜７．８　（Ｉ　Ｈ）、　８．６〜８
．７（２Ｈ） ＭＳ　：　ｍＨｚ　　３９８　（Ｍ”）実施例　１３９ １−（２−アミノ−３−ヒドロキシプロピオニル）　−
４−（３−フェニルプロピル）ピペラジンとピリジン−
３−アルデヒドとから、実施例１３８の方法に従い、１
−（３−フェニルプロピル）−４−（２−（３−ピリジ
ル）オキサゾリジン−４−イルカルボニルコピペラジン
を得た。

元素分析値（Ｃ２２Ｈ２ｓＮ＜Ｏｔとして）Ｃ（％）　
　Ｈ（％）Ｎ（％） 理論値　６９．４５　７．４２　１４．７２実験値　６
９．１６　７．３８　１４．５８Ｍ５　：　ｍＨｚ　　
３８０　（Ｍ＋）ＣＨ。

Ｎ　−（３〜フエニルグロピルアミノエチル）−２−（
３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド５０
ｒｒＩｇｅｐ−）ルアルデヒド１７ｒ［１ｇ、モレキュ
ラーシープ（４Ａ）１００ｒｎｇのトルエフ２ロｔ混合
溶液を１２０℃で８時間封管中で加熱した。反応液をｆ
過後、Ｆ液を減圧下濃縮して残渣を薄層分取りロマトグ
ラフィー（２％メタノール−酢酸エチルで２回展開、　
Ｒｆ値０．１５）に付し、１−（３−７エニルブロビル
）−３−［２−（３−ヒ＋）シル）チアゾリジン−４−
イルカルボニル］−２−（ｐ−トリル）イミダゾリジン
３．３ｍｇを得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ、） δ：　１．５５〜１．９３（３Ｈ，ｍ）、　２．３９（
３Ｈ，ｓ）。

２．４；ｌ’−２，８７（８Ｈ，ｍ）、　３．０９（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ。

１２Ｈｚ）、　３．４１（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ、
　Ｊ＝１２Ｈｚ）。

４．０７〜４．３０　（Ｉ　Ｈ，ｍ）、　５．１６　（
Ｉ　Ｈ，ｓ　）、　５．５２（ＩＨ。

ｓ　）、　７．０３〜７．４２　（ＩＯＨ，ｍ）、　７
．６０〜７．８１　（工Ｈ。

ｍ）、８．４４（ＩＨ２ｄｄ、Ｊ＝２Ｈ２，Ｊ＝５Ｈ２
）。

８．６３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）ＭＳ　：　ｍ
Ｈｚ　　４７２（Ｍ”） 実施例　１４１ １−［２−（５，６−シメトキシー３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−イルカルボニル］−４−（３−フェニル
プロピル）ピペラジン７３０　ｍｇを酢酸エチル２５　
ｍｌに溶解し、室温撹拌下に２規定塩化水素−ジオキサ
ン溶液を加える。生じた粉末なＰ取し、飽和炭酸ナトリ
ウム溶液に溶解する。酢酸エチルを加え、有機層を分取
、水洗乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製しくシリ
カゲル５０　ｒｎｔ。

１０％メタノール−酢酸エチル）、１−［２−（５−メ
トキシ−６−オキソ−５，６−シヒドロー３−ピリジル
）チアゾリジン−４−イルカルボニルコ−４−（３−フ
ェニルプロピル）ヒヘラシン２１０■を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、） δ：　Ｉ−５６〜Ｌ９４　（２Ｈｌｒｎ　）ｓ　２−２
０〜２−８０　（８Ｈｌｍ　）−２，９０−４，４０（
ＩＯＨ，ｍ）、　５．２８〜５．６６　（ＩＨ，ｍ）。

６．８σ〜７．４４　（７Ｈ，ｍ　） Ｍ　Ｓ　：　ｍ／ｚ　　４４２　（Ｍ”）参考例　１１
４ 参考例８０と同様にして以下の化合物を得た。

１−プロモー３−フェニルブタン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、） δ：　　１．２９（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　２．
１１（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　２．６４〜３．５
０（３Ｈ，ｍ）、　７．２４（５Ｈ，ｓ）参考例　１１
４ 参考例１０１と同様にして以下の化合物を得た。

エチル　１−［４−（３−フェニルブチル）コピペラジ
ンカルボキシレート ＮＭＲ（Ｃｆ）ＣＩ、） δ　：　　１．１１〜１．５０（６Ｈ，ｍ）、　１．５
６〜３．０５（９Ｈ，ｍ）。

３．５０　（４）Ｉ、　ｔ、　Ｊ＝＝６Ｈｚ）、　４．
１９（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈ２）、７．２４（５Ｈ，Ｂ
） 参考例　１１５ 参考例１０２と同様にして以下の化合物を得た。

１−（３−フェニルブチル）ヒベラジンＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ、） δ：　１．２４（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．７
６（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７　Ｈｚ　）、１．９３　（Ｉ　
Ｈ９ｓ　）、２−１０〜２．４６　（６Ｈ−ｒｎ　）＊
２．５１〜２．９７　（５Ｈ，ｍ）、　７．００〜７．
３８　（５Ｈ，ｍ）ＭＳ　：　（ｍ／ｚ）　２１８（Ｍ
”）実施例　１４２゜ 実施例９０と同様に処理して以下の化合物を得た。

１−（３−７エニルプチル）−４−［２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−イルカルボニルコピペラジン・
７マール酸塩 融点　１６６〜１６８℃ 元素分析値（Ｃ２？Ｈ３４Ｎ、Ｏ，Ｓとして）Ｃ（％）
Ｈ（％）　　Ｎ（％）　　Ｓ（％）計算値　６１．５８
　６．５１　１０．６４　６．０９実験値　６１．２１
　６．４５　１０．５８　６．４２Ｍ５　：　（ｍ／ｚ
）　　４１０　（Ｍ”−Ｃ４Ｈ，Ｏ４）本発明化合物（
Ｉ）は、そのままもしくは自体公知の薬学的に許容され
５る担体、賦形剤などと混合した医薬組成物［例１錠剤
、カプセル剤、散剤。

顆粒剤、丸剤、軟膏剤、シロップ剤、注射剤、吸入剤、
量刑］として経口的もしくは非経口的に安全に投与する
ことができる。投与量は投与対象。

投与ルート、症状などによっても異なるが２通常成人１
日当り０４１〜５００　ｍｇ好ましくは１〜２００＋ｒ
！ｇであり、これを１日２〜３回に分けて経口または非
経口投与する。

処方例　１ 錠剤 実施例９１の化合物　　　　　２０ｍｇ乳糖　　　　　
５７ｍｇ コーンスターチ　　　　　　　３８ｍｇヒドロキシプロ
ピルセルロース　　４ｍｇマグネシウム　ステアレート
　　１■ 総量　１２０ｍｇ 実施例９１の化合物２０ｇ、乳糖５７ｇ、コーンスター
チ３８ｇを均一に混合する。次に１０％ヒドロキシプロ
ピルセルロース溶液４０ｇを加えて湿式造粒する。篩過
後、乾燥する。得られた造粒物にマグネシウムステアレ
ート１ｇを加えて混合する。

７　ｒＩＶ／ｍ　５．６　Ｒの臼杵を用いて打錠し錠剤
とする。

処方例　２ カプセル 実施例９１の化合物　　　　　１５ｒｌ１ｇ結晶セルロ
ース　　　　　　　４０■ 結晶乳糖　　　　　　　　　１４４　ｍｇマグネシウム
　ステアレート　　　１ｒｒ＠総量　２００ｆｆ１ｇ 実施例９１の化合物１５ｇ、結晶セルロース４０ｇ。

結晶乳糖１４４　ｇ、　　マグネシウム　ステアレート
１ｇを均一に混合し、カプセル充填機で３号カプセルに
充てんしカプセル剤とする。

処方例３ 凍結乾燥製剤 １バイアル中 実施例９１の化合物 Ｄ−マンニトール １１■ ０ｍｇ 総量 １ｍｇ 水８００ｍ４をとり、実施例９１の化合物１ｒｒ１ｇ及
びＤ−マンニトール５００１ｇを順次加えて溶かし、水
を加えて１１とする。この液を無菌的に一過した後。

バイアルに１ｍｔずつ充填し、凍結乾燥し、用時溶解型
の注射薬とする。

特許出願人　山之内製薬株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ＾１：ベンゼン環が縮合していてもよい置換又は未置
   換の５乃至６員のヘテロ環基、 Ｒ＾２：水素原子、低級アルキル基、又はＲ＾１と同一
   の基、 Ｘ＾１：酸素原子、硫黄原子、又は低級アルキル基で置
   換されていてもよいメチレン基、Ｙ＾１：酸素原子、硫
   黄原子、又は式＞Ｎ−Ｒ＾４で示される基、 Ａ＾１：低級アルキル基でそれぞれ置換されていてもよ
   いメチレン基又はエチレン基、 Ｒ＾３：式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
   る基、式▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基、式▲数式、化学式、表等があります▼で
   示される 基、式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
   、 又は式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
   、 Ｒ＾４：水素原子、低級アルキル基、カルボキシ基、低
   級アルコキシカルボニル基、 又はアシル基、 Ｒ＾５及びＲ＾６：一方が水素原子又は置換若しくは未
   置換の炭化水素基、他方が置換又は未置換の炭化水素基
   、又はベンゼン環が縮合していてもよい５乃至６員ヘテ
   ロ環基、 Ａ＾２及びＡ＾３：同一又は異って、置換又は未置換の
   低級アルキレン基、 Ｚ：メチン基（＞ＣＨ−）、又は窒素原子 Ｒ＾７：水素原子、置換若しくは未置換の炭化水素基、
   カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基
   、カルバモイル基、又はモノ若しくはジ低級アルキルア
   ミノカルボニル基、 Ｒ＾８、Ｒ＾９、Ｒ＾１＾０及びＲ＾１＾１：同一又は
   異って、水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、又
   はアリール基。） で示される飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体又はそ
   の塩。