JPH02180629A - ガスリークの方法及び装置 - Google Patents
ガスリークの方法及び装置Info
- Publication number
- JPH02180629A JPH02180629A JP31389A JP31389A JPH02180629A JP H02180629 A JPH02180629 A JP H02180629A JP 31389 A JP31389 A JP 31389A JP 31389 A JP31389 A JP 31389A JP H02180629 A JPH02180629 A JP H02180629A
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- JP
- Japan
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- gas
- vacuum
- container
- pressure
- small volume
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- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガスリーク技術に係り、特に真空装置における
高真空となっている容器内部にガスをリークさせ、若干
低真空とする方法及び装置に関するものである。
高真空となっている容器内部にガスをリークさせ、若干
低真空とする方法及び装置に関するものである。
従来のガスリーク方法を第２図で説明する。図において
、真空装置ｌは真空をブレークするための導入弁５を必
ず設け、空気または窒素ガスを導入する導入管６を備え
ている。また真空計４も必ず設けられており真空装置ｌ
内部の真空度を知ることができる。したがって、高真空
から若干低真空とする場合、導入弁５がら空気または窒
素ガスをリークさせ、真空計４が所定の真空度まで低（
なったとき、導入弁５を閉じる。また、３の真空排気配
管と、２の仕切弁とで真空排気経路を構成している。な
お、この種の装置として関連するものには例えば特開昭
６２−１６８８９０号が挙げられる。
、真空装置ｌは真空をブレークするための導入弁５を必
ず設け、空気または窒素ガスを導入する導入管６を備え
ている。また真空計４も必ず設けられており真空装置ｌ
内部の真空度を知ることができる。したがって、高真空
から若干低真空とする場合、導入弁５がら空気または窒
素ガスをリークさせ、真空計４が所定の真空度まで低（
なったとき、導入弁５を閉じる。また、３の真空排気配
管と、２の仕切弁とで真空排気経路を構成している。な
お、この種の装置として関連するものには例えば特開昭
６２−１６８８９０号が挙げられる。
上記従来技術は所定の真空度に変えることに関して配慮
がされておらず、導入弁を閉じるタイミングが難しく、
タイミングを失すると低真空になり過ぎる恐れがあった
。また、真空計からの信号で自動的に導入弁を閉じるよ
うにしても応答時間の遅れ等により、確実に所定の真空
度まで落すことができない恐れがあった。これは導入ガ
ス量が少い程難しさが増し、導入ガス量が少い場合、導
入弁を極力小さくしてガス流量を少くする必要があるが
、短時間で所定の真空度にすることはできないという不
具合点があった。
がされておらず、導入弁を閉じるタイミングが難しく、
タイミングを失すると低真空になり過ぎる恐れがあった
。また、真空計からの信号で自動的に導入弁を閉じるよ
うにしても応答時間の遅れ等により、確実に所定の真空
度まで落すことができない恐れがあった。これは導入ガ
ス量が少い程難しさが増し、導入ガス量が少い場合、導
入弁を極力小さくしてガス流量を少くする必要があるが
、短時間で所定の真空度にすることはできないという不
具合点があった。
本発明の目的は上記不具合点を解決し、短時間で所定の
真空度に度えることができるガスリークの方法及び装置
を提供することにある。
真空度に度えることができるガスリークの方法及び装置
を提供することにある。
上記目的を達成するために、真空装置へのガス導入弁の
生餌に小容量のガス容器と、圧力針および小容量ガス容
器へのガス供給弁を設け、あらかじめ小容量のガス容器
へガス供給弁を開いてガスを供給し、所定の圧力までガ
スが溜ったならばガス供給弁を閉じておき、リークさせ
るべきときに真空装置へのガス導入弁を開き小宴１のガ
ス容器内のガスを全部真空装置内へリークさせるもので
ある。
生餌に小容量のガス容器と、圧力針および小容量ガス容
器へのガス供給弁を設け、あらかじめ小容量のガス容器
へガス供給弁を開いてガスを供給し、所定の圧力までガ
スが溜ったならばガス供給弁を閉じておき、リークさせ
るべきときに真空装置へのガス導入弁を開き小宴１のガ
ス容器内のガスを全部真空装置内へリークさせるもので
ある。
小容量のガス容器の容積なＶＳ、あらかじめ小容量のガ
ス容器へ溜めたガスの圧力なＰｓとし、真空装置の容積
なＶ、真空装置のリーク餌圧力なＰｌとすれば、リーク
後の真空装置の圧力Ｐ２はＰ２ ＝ （Ｖｓ ＸＰｓ−
）−ＶＸＰｔ ）／Ｖのようになるので、誤った圧力に
なる恐れがない。
ス容器へ溜めたガスの圧力なＰｓとし、真空装置の容積
なＶ、真空装置のリーク餌圧力なＰｌとすれば、リーク
後の真空装置の圧力Ｐ２はＰ２ ＝ （Ｖｓ ＸＰｓ−
）−ＶＸＰｔ ）／Ｖのようになるので、誤った圧力に
なる恐れがない。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。
図において、１は真空装置で容積は１０００ｍ”である
。５はガス導入弁、６′は窒素ガス供給管、９はガス供
給弁、７は小容量のガス容器で、容積はガス供給弁９か
らガス導入弁５までの配管を含めてｌｏｌ！である。以
上の構成において、あらかじめガス供給弁９を開いて、
小容量のガス容器７に窒素ガスを溜め、８の圧力計がｚ
ｘｌｏＰａ となった所で、ガス供給弁９を閉じる。
。５はガス導入弁、６′は窒素ガス供給管、９はガス供
給弁、７は小容量のガス容器で、容積はガス供給弁９か
らガス導入弁５までの配管を含めてｌｏｌ！である。以
上の構成において、あらかじめガス供給弁９を開いて、
小容量のガス容器７に窒素ガスを溜め、８の圧力計がｚ
ｘｌｏＰａ となった所で、ガス供給弁９を閉じる。
次に、仕切弁２を閉じて真空排気を停止した時の真空装
置１の圧力は４の真空計でｌＸ１ｏ Ｐａとなる。こ
の状態でガス導入弁５を開いたところ、すく゛に、真空
装置１の圧力は真空計４で２Ｐａを示す。
置１の圧力は４の真空計でｌＸ１ｏ Ｐａとなる。こ
の状態でガス導入弁５を開いたところ、すく゛に、真空
装置１の圧力は真空計４で２Ｐａを示す。
本実施例によればあらかじめ小容量のガス容器７にガス
を溜めて置き、二の力スをリークさせることにより、真
空装置を確実に所定の圧力に変更し、維持できる。
を溜めて置き、二の力スをリークさせることにより、真
空装置を確実に所定の圧力に変更し、維持できる。
本発明によれば、ガス導入を停止させるタイミングを刈
る必要なく、確実に真空装置内の圧力を短時間で所定の
圧力に変えることができる。
る必要なく、確実に真空装置内の圧力を短時間で所定の
圧力に変えることができる。
第１図は本発明の一実施例の力゛スリーク装置の概略系
統図、第２図は従来のガスリーク装置の概略系統図であ
る。 １・・・・・・真空装置、２・・・・・・仕切弁、４・
・・・・・真空計、５・・・・・・ガス導入弁、７・・
・・・・小容量のガス容器、８・・・・・・圧力計、９
・・・・・・力゛ス供給弁′４１図
統図、第２図は従来のガスリーク装置の概略系統図であ
る。 １・・・・・・真空装置、２・・・・・・仕切弁、４・
・・・・・真空計、５・・・・・・ガス導入弁、７・・
・・・・小容量のガス容器、８・・・・・・圧力計、９
・・・・・・力゛ス供給弁′４１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空となっている容器内へガスをリークさせる方法
において、 前記真空容器へリークさせるガスをあらかじめ所定の圧
力で小容量ガス容器に溜めておき、必要時小容量ガス容
器から真空容器へガスをリークさせ、瞬時に所定の真空
度に変えることを特徴とするガスリークの方法。 ２、真空となっている容器内へガスをリークさせる装置
において、 前記真空容器の近傍で真空容器へリークさせるガス流路
中に、あらかじめ所定の圧力でガスを貯蔵する圧力計を
備えた小容量ガス容器を設け、かつ、その前後に弁を設
けたことを特徴とするガスリーク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31389A JPH02180629A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | ガスリークの方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31389A JPH02180629A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | ガスリークの方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02180629A true JPH02180629A (ja) | 1990-07-13 |
Family
ID=11470425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31389A Pending JPH02180629A (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | ガスリークの方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02180629A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003071270A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-11 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
-
1989
- 1989-01-06 JP JP31389A patent/JPH02180629A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003071270A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-11 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置 |
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