JPH02180663A - 積層体の製造方法およびその装置 - Google Patents
積層体の製造方法およびその装置Info
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- JPH02180663A JPH02180663A JP15721988A JP15721988A JPH02180663A JP H02180663 A JPH02180663 A JP H02180663A JP 15721988 A JP15721988 A JP 15721988A JP 15721988 A JP15721988 A JP 15721988A JP H02180663 A JPH02180663 A JP H02180663A
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- monomolecular
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
この発明は、積層体の製造に関し、さらに詳細には、累
積多層膜（ラングミュア・プロジェット膜、ＬＢ膜）が
固体基板に積層された積層体に関する。
積多層膜（ラングミュア・プロジェット膜、ＬＢ膜）が
固体基板に積層された積層体に関する。
［従来の技術］
一つの分子内に親木基と疎水基を持つ両親媒性有機物質
をクロロホルムなどの折機溶媒に溶かし水面上に展開す
ると、その溶媒が蒸発し、有機物質の膜ができる。有機
膜が形成されている水面の面積を枠（バリアー）で狭め
ると、ある面積で両親媒性分子が水面上で親水基部分を
水側に、疎水基部分を空気側に向けて、規則的配列配向
した一分子の厚さの膜、すなわち、単分子膜を形成する
。
をクロロホルムなどの折機溶媒に溶かし水面上に展開す
ると、その溶媒が蒸発し、有機物質の膜ができる。有機
膜が形成されている水面の面積を枠（バリアー）で狭め
ると、ある面積で両親媒性分子が水面上で親水基部分を
水側に、疎水基部分を空気側に向けて、規則的配列配向
した一分子の厚さの膜、すなわち、単分子膜を形成する
。
単分子膜を水面から固体基板に繰返して転移させて得た
ものを、累積多層膜（ラングミュア・プロジェット膜、
ＬＢ膜）と呼ぶ。この累積多層膜が固体基板に積層され
た積層体は、各種センサ、機能素子、表示素子、記憶、
記録媒体、コーティング材料、液晶配向膜、非線形光学
素子、超微細パターン用レジストスイッチング素子用絶
縁膜、選択的透過膜などの用途に適用させる。
ものを、累積多層膜（ラングミュア・プロジェット膜、
ＬＢ膜）と呼ぶ。この累積多層膜が固体基板に積層され
た積層体は、各種センサ、機能素子、表示素子、記憶、
記録媒体、コーティング材料、液晶配向膜、非線形光学
素子、超微細パターン用レジストスイッチング素子用絶
縁膜、選択的透過膜などの用途に適用させる。
従来、累積多層膜が固体基板に積層された積層体は、一
般的に、垂直浸漬法と水平付着法との２通りの方法によ
り製造されている。垂直浸漬法は、第３図に概略的に示
すように、親水基と疎水基を持つ両親媒性分子の単分子
膜状態を水面で保持しながら、浸漬した親水性の固体基
板１を垂直に引上げて基板表面に単分子膜２を転移させ
〔第３図（ａ）〕、次いで、基板を垂直に引下げて基板
上の両親媒性分子の疎水基面に、単分子膜を更に転移さ
せ〔第３図（ｂ）） 、これを繰返して累積多層膜３を
有する積層体４〔第３図（Ｃ）〕を得る。
般的に、垂直浸漬法と水平付着法との２通りの方法によ
り製造されている。垂直浸漬法は、第３図に概略的に示
すように、親水基と疎水基を持つ両親媒性分子の単分子
膜状態を水面で保持しながら、浸漬した親水性の固体基
板１を垂直に引上げて基板表面に単分子膜２を転移させ
〔第３図（ａ）〕、次いで、基板を垂直に引下げて基板
上の両親媒性分子の疎水基面に、単分子膜を更に転移さ
せ〔第３図（ｂ）） 、これを繰返して累積多層膜３を
有する積層体４〔第３図（Ｃ）〕を得る。
基板が疎水性の場合はこの逆の工程をとる。他方、水平
付着法は、第４図に概略的に示すように、単分子膜状態
を水面で保持し、固体基板１を水平に保持しながら、水
面上の単分子膜２に基板面１を接触させ次いで引上げて
基板表面に単分子膜２を転移させ〔第４図（ａ）） 、
これを繰返して累積多層膜３を有する積層体４〔第４図
（ｂ）〕を得る。
付着法は、第４図に概略的に示すように、単分子膜状態
を水面で保持し、固体基板１を水平に保持しながら、水
面上の単分子膜２に基板面１を接触させ次いで引上げて
基板表面に単分子膜２を転移させ〔第４図（ａ）） 、
これを繰返して累積多層膜３を有する積層体４〔第４図
（ｂ）〕を得る。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、垂直浸漬法では、作業効率が必ずしも良
好でなく、しかも浸漬するために基板の材質に制限が多
い。水平付着法による累積の場合、基板が水面に触れた
ときおよび離れたときに、水面に目視できるほど波が生
じている。この乱れた状態で基板上に累積をするので、
単分子膜が乱れ構造をとり、得られれＬＢ膜も乱れ構造
を示す。
好でなく、しかも浸漬するために基板の材質に制限が多
い。水平付着法による累積の場合、基板が水面に触れた
ときおよび離れたときに、水面に目視できるほど波が生
じている。この乱れた状態で基板上に累積をするので、
単分子膜が乱れ構造をとり、得られれＬＢ膜も乱れ構造
を示す。
しかも、流動性の高い単分子膜の場合、基板を水面から
離すときに、完全に基板が水平でないと表面圧が加わっ
ているので、第５図に示すように、単分子膜の一部が回
り込んでしまい、基板面に不均一な累積膜が形成される
。
離すときに、完全に基板が水平でないと表面圧が加わっ
ているので、第５図に示すように、単分子膜の一部が回
り込んでしまい、基板面に不均一な累積膜が形成される
。
この発明は、上記の背景に基づきなされたものであり、
その目的とするところは、均一かつ良好な累積膜を有す
る積層体を、大量にかつ効率的に製造する方法およびそ
の装置を提供することである。
その目的とするところは、均一かつ良好な累積膜を有す
る積層体を、大量にかつ効率的に製造する方法およびそ
の装置を提供することである。
［課題を解決するための手段］
本発明者は、上記課題の解決のために種々の検討を加え
た結果、水平付着法において、単分子膜を基板面に転移
させる前に、液面上の単分子膜を予め所望の寸法に区画
すれば、この発明の目的達成に有効であることを見出し
てこの発明を完成するに至った。
た結果、水平付着法において、単分子膜を基板面に転移
させる前に、液面上の単分子膜を予め所望の寸法に区画
すれば、この発明の目的達成に有効であることを見出し
てこの発明を完成するに至った。
すなわち、この発明の積層体の製造方法は、基板上に複
数の単分子膜が累積された積層体を製造する方法であっ
て、 （イ） 液面に、累積すべき物質の単分子膜を形成し、 （ロ） 基板面を容易に出入れすることができる透し孔
の横断寸法を有する格子状区画板を、上方より該単分子
膜面に当てて、単分子膜部分を該区画板の各透し孔内に
区画し、 （ハ） 区画された単分子膜部分面に、基板面を水平に
保持しながら上方より接触しかつ引離し、単分子膜部分
を基板面に転移させ、 （ニ） 単分子膜部分の基板面への前記転移を繰り返し
て、基板上に複数の単分子膜を累積させることを特徴と
するものである。
数の単分子膜が累積された積層体を製造する方法であっ
て、 （イ） 液面に、累積すべき物質の単分子膜を形成し、 （ロ） 基板面を容易に出入れすることができる透し孔
の横断寸法を有する格子状区画板を、上方より該単分子
膜面に当てて、単分子膜部分を該区画板の各透し孔内に
区画し、 （ハ） 区画された単分子膜部分面に、基板面を水平に
保持しながら上方より接触しかつ引離し、単分子膜部分
を基板面に転移させ、 （ニ） 単分子膜部分の基板面への前記転移を繰り返し
て、基板上に複数の単分子膜を累積させることを特徴と
するものである。
この発明による方法の好ましい態様において、基板を、
区画板の各透し孔内に順次移動させて、（ハ）工程の転
移を繰り返すことができる。
区画板の各透し孔内に順次移動させて、（ハ）工程の転
移を繰り返すことができる。
この発明による方法の好ましい別の態様において、複数
の基板各々を、同時に各透し孔内に挿入し、次いで、区
画板を移動させて単分子膜部分を区画板の各透し孔内に
区画する様に、（イ）工程、（Ｃ７）工程および（ハ）
工程を繰り返すことができる。
の基板各々を、同時に各透し孔内に挿入し、次いで、区
画板を移動させて単分子膜部分を区画板の各透し孔内に
区画する様に、（イ）工程、（Ｃ７）工程および（ハ）
工程を繰り返すことができる。
この発明による一態様の積層体の製造装置は、基板上に
複数の単分子膜が累積された積層体を製造する装置であ
って、 透し孔に基板面を容易に出入れすることができる格子を
有し、その格子の枠が液面上の単分子膜を、基板面寸法
に失質的に等しい複数の単分子膜部分に区画することを
特徴とするものである。
複数の単分子膜が累積された積層体を製造する装置であ
って、 透し孔に基板面を容易に出入れすることができる格子を
有し、その格子の枠が液面上の単分子膜を、基板面寸法
に失質的に等しい複数の単分子膜部分に区画することを
特徴とするものである。
この発明による積層体の別の態様の製造装置は、前記態
様の装置の透し孔に区画された単分子膜部分面に、基板
面を水平に保持しながら上方より接触しかつ引離し、単
分子膜部分を基板面に転移させる自動制御装置を備える
ことを特徴とするものである。
様の装置の透し孔に区画された単分子膜部分面に、基板
面を水平に保持しながら上方より接触しかつ引離し、単
分子膜部分を基板面に転移させる自動制御装置を備える
ことを特徴とするものである。
以下、この発明をより具体的に説明する。
製造装置
この発明における区画板は、基板上に複数の単分子膜が
累積された積層体を製造する装置であって、透し孔の横
断寸法が基板面を容易に出入れできる寸法である格子を
有し、この格子の枠が、液面上の単分子膜を基板面寸法
と実質的に等しい複数の単分子膜部分に区画する。
累積された積層体を製造する装置であって、透し孔の横
断寸法が基板面を容易に出入れできる寸法である格子を
有し、この格子の枠が、液面上の単分子膜を基板面寸法
と実質的に等しい複数の単分子膜部分に区画する。
区画板の透し孔の横断形状は、出入れする基板の形状に
応じて適宜選択変更される。その様な形状として、長方
形、正方形、平行四辺形、円形、楕円形、三角形、さら
にこれらを繰み合わせた形状などの形状がある。
応じて適宜選択変更される。その様な形状として、長方
形、正方形、平行四辺形、円形、楕円形、三角形、さら
にこれらを繰み合わせた形状などの形状がある。
透し孔の横断形状および横断面積を含めた横断寸法は、
基板を水平に容易に出入れすることができるように決め
られる。
基板を水平に容易に出入れすることができるように決め
られる。
区画板の枠は、液面に接触するときや引離されるときな
どに生じる液面の乱れを低減するためにできるだけ細い
ことが望ましい。この枠の材質は、耐溶剤性、耐食性、
洗浄性および、機械的強度を考慮して選択される。その
様な材質として、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフ
ッ化ビニリデン、共重合フッ素樹脂などのフッ素樹脂、
その他、ポリプロピレンなどの樹脂、およびこれらの樹
脂に金属などで補強した複合材、機械的強度がある材料
に上記の樹脂を塗布したものなどがある。
どに生じる液面の乱れを低減するためにできるだけ細い
ことが望ましい。この枠の材質は、耐溶剤性、耐食性、
洗浄性および、機械的強度を考慮して選択される。その
様な材質として、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフ
ッ化ビニリデン、共重合フッ素樹脂などのフッ素樹脂、
その他、ポリプロピレンなどの樹脂、およびこれらの樹
脂に金属などで補強した複合材、機械的強度がある材料
に上記の樹脂を塗布したものなどがある。
この発明における区画板として用いることができる一具
体例の区画板１０を、第１図に示す。この例では、幅３
龍厚さ５關の枠１１により骨組みが形成され、その枠で
１５ｍｍＸ４０ｍ＋＊の長方形の透し孔１２を複数個形
成される。
体例の区画板１０を、第１図に示す。この例では、幅３
龍厚さ５關の枠１１により骨組みが形成され、その枠で
１５ｍｍＸ４０ｍ＋＊の長方形の透し孔１２を複数個形
成される。
この発明のおいては、上記の例に限定されず種々の変形
が可能である。
が可能である。
例えば、この発明による別の態様の製造装置では、前記
の区画板の透し孔に区画された単分子膜部分面に、基板
面を水平に保持しながら上方より接触しかつ引離し、単
分子膜部分を基板面に転移させる自動制御装置を備える
ことができる。
の区画板の透し孔に区画された単分子膜部分面に、基板
面を水平に保持しながら上方より接触しかつ引離し、単
分子膜部分を基板面に転移させる自動制御装置を備える
ことができる。
この変形例による製造装置を第２図に示す。
この例では、基板１を、自動制御装置（アーム１３を介
して制御）で、区画板１０の各々の透し孔１２内に順次
移動させ、出入れして（ハ）工程の転移を繰り返す。
して制御）で、区画板１０の各々の透し孔１２内に順次
移動させ、出入れして（ハ）工程の転移を繰り返す。
製造方法
この発明の積層体の製造方法では、先ず液面に、累積す
べき物質の単分子膜が形成される（イ）。
べき物質の単分子膜が形成される（イ）。
この発明において累堵すべき物質は、積層体の用途に応
じて適宜選択されるが、少なくとも単分子膜形成能を有
するものである。例えば、アラキン酸などの長鎖脂肪酸
、機能性分子の長鎖アルキル誘導体、ある種の機能高分
子、生体高分子などの一つの分子内に親水基と疎水基を
持つ両親媒性有機物質などがある。
じて適宜選択されるが、少なくとも単分子膜形成能を有
するものである。例えば、アラキン酸などの長鎖脂肪酸
、機能性分子の長鎖アルキル誘導体、ある種の機能高分
子、生体高分子などの一つの分子内に親水基と疎水基を
持つ両親媒性有機物質などがある。
サブフェーズである液は、少なくとも累積すべき物質に
対して不溶性ないし、難溶性であり、化学的に悪影響し
ないものである。そのような液として、水、グリセリン
、重金属含有緩衝液などがある。
対して不溶性ないし、難溶性であり、化学的に悪影響し
ないものである。そのような液として、水、グリセリン
、重金属含有緩衝液などがある。
液面に単分子膜を形成する方法は、従来の方法を適用す
ることができる。例えば、槽に水を満たして液面を形成
し、次いで、累積すべき物質を液面に膜状に広げ、液面
に添ってバリアーを動かし、その膜を狭めて形成するこ
とができる。
ることができる。例えば、槽に水を満たして液面を形成
し、次いで、累積すべき物質を液面に膜状に広げ、液面
に添ってバリアーを動かし、その膜を狭めて形成するこ
とができる。
次いで、この発明の方法において、格子状区画板を上方
より単分子膜面に当てて単分子膜部分を区画板の各透し
孔内に区画する（口）。
より単分子膜面に当てて単分子膜部分を区画板の各透し
孔内に区画する（口）。
更に、区画された単分子膜部分面に、基板面を水平に保
持しながら上方より接触しかつ引離し、単分子膜部分を
基板面に転移させる（ハ）。
持しながら上方より接触しかつ引離し、単分子膜部分を
基板面に転移させる（ハ）。
単分子膜部分の基板面への前記転移を繰り返して、基板
上に複数の単分子膜を累積させる（二）。
上に複数の単分子膜を累積させる（二）。
（ニ）行程は、種々の態様により実施することができる
。
。
例えば、基板を、区画板の各透し孔内に順次移動させて
、（ハ）工程の転移を繰り返すことができる。この態様
では、１またはそれ以上の一部の基板を同時に各透し孔
に順次出入れして複数の単分子膜を累積させる。
、（ハ）工程の転移を繰り返すことができる。この態様
では、１またはそれ以上の一部の基板を同時に各透し孔
に順次出入れして複数の単分子膜を累積させる。
別の態様において、透し孔の数に相当する個数の基板各
々を、同時に各透し孔内に出入れし、次いで、区画板を
新たな単分子膜面に移動し、基板を同時に各透し孔に出
入れして複数の単分子膜を累積させる。この態様では、
（イ）工程、（ロ）工程および（ハ）工程が繰り返えさ
れる。
々を、同時に各透し孔内に出入れし、次いで、区画板を
新たな単分子膜面に移動し、基板を同時に各透し孔に出
入れして複数の単分子膜を累積させる。この態様では、
（イ）工程、（ロ）工程および（ハ）工程が繰り返えさ
れる。
［作 用］
上記の様な構成からなるこの発明では、は次の様に作用
する。
する。
この発明の積層体の製造方法においては、格子状区画板
が単分子膜面に当てられると、区画板の枠部分が単分子
膜と直接に接触してその単分子膜部分を切断もしくは破
壊し、またはこれに付着させると共に、透し孔部分は単
分子膜と接触せずに膜をそのまま良好に維持する。従っ
て、透し孔の横断寸法に相当する面積の単分子膜部分が
透し孔に囲まれて区画される。この区画された単分子膜
部分を上方から基板面と接触させ液面から引離すと、単
分子膜部分が基板面に付着し、転移される。
が単分子膜面に当てられると、区画板の枠部分が単分子
膜と直接に接触してその単分子膜部分を切断もしくは破
壊し、またはこれに付着させると共に、透し孔部分は単
分子膜と接触せずに膜をそのまま良好に維持する。従っ
て、透し孔の横断寸法に相当する面積の単分子膜部分が
透し孔に囲まれて区画される。この区画された単分子膜
部分を上方から基板面と接触させ液面から引離すと、単
分子膜部分が基板面に付着し、転移される。
この接触および引離しの際に、液面に波が生じる恐れが
あるが、区画板の枠部分はそのまま液面に保持されるの
で、波の発生を抑え、生じた波を鎮める働きをする。
あるが、区画板の枠部分はそのまま液面に保持されるの
で、波の発生を抑え、生じた波を鎮める働きをする。
また、透し孔の横断寸法は、基板が水平に出入れできる
ように基板面より多少大きくされるが、基板面と同様の
寸法にされるので、基板の引離しに際して、余分な単分
子膜が付着するのを防止する。
ように基板面より多少大きくされるが、基板面と同様の
寸法にされるので、基板の引離しに際して、余分な単分
子膜が付着するのを防止する。
［発明の効果］
この発明により次の効果を得ることができる。
請求項１による製造方法では、単分子膜部分が透し孔内
に固定されるので、基板面を単分子膜面に接触させたと
きに、また、引離すときに生じる恐れがある液面の波を
抑制して、乱れた単分子膜の累積を防止することができ
、良好な膜構造を有するＬＢ膜が得られる。さらに、基
板寸法と同じ単分子膜部分が転移するので、従来の問題
点である余分な単分子膜の回り込みを防止して良質のＬ
Ｂ膜が形成される。
に固定されるので、基板面を単分子膜面に接触させたと
きに、また、引離すときに生じる恐れがある液面の波を
抑制して、乱れた単分子膜の累積を防止することができ
、良好な膜構造を有するＬＢ膜が得られる。さらに、基
板寸法と同じ単分子膜部分が転移するので、従来の問題
点である余分な単分子膜の回り込みを防止して良質のＬ
Ｂ膜が形成される。
請求項３では、多数の基板が同時に操作されるので、能
率よ＜ＬＢ膜を有する積層体が製造される。
率よ＜ＬＢ膜を有する積層体が製造される。
請求項４による製造装置では、良好なＬＢ膜を有する積
層体を製造することができると共に、構造が簡素である
ために、廉価に得られ、故障などの支障を容易に排除で
きる。
層体を製造することができると共に、構造が簡素である
ために、廉価に得られ、故障などの支障を容易に排除で
きる。
請求項５による製造装置では、ロボットなどの自動制御
装置を用いるので、再現性を高め、作業効率を著しく向
上されることができる。
装置を用いるので、再現性を高め、作業効率を著しく向
上されることができる。
［実施例］
以下、この発明を実施例により具体的に説明する。
実施例
下記に示す条件で、アルキルアンモニウム−Ｎｉ （
ｄｍｉ ｔ）２とアラキン酸とを１＝１の割合で混合単
分子膜を形成した。
ｄｍｉ ｔ）２とアラキン酸とを１＝１の割合で混合単
分子膜を形成した。
装置： Ｌａｕｄａ ＰＩＩｍｖａａ
ｇｅ気温： ２２℃ 湿度： ４０％ 展開溶媒：ベンゼン／アセトニトリル−１／１溶液濃度
： ５Ｘ１０−４ Ｍサブフェーズ：
純粋水 サブフェーズ温度： ２５℃ バリアー圧縮速度： ２ｃｍ／分 表面圧； ２０ ｄｙｎｅ／ ｃｍ得ら
れた単分子膜上に、第１図に示す区画板を載せて単分子
膜を区画し、区画された単分子膜部分を、アラキン酸Ｌ
Ｂ膜を５層累積し疎水処理されたガラス基板上に水平付
着させて累積した。
ｇｅ気温： ２２℃ 湿度： ４０％ 展開溶媒：ベンゼン／アセトニトリル−１／１溶液濃度
： ５Ｘ１０−４ Ｍサブフェーズ：
純粋水 サブフェーズ温度： ２５℃ バリアー圧縮速度： ２ｃｍ／分 表面圧； ２０ ｄｙｎｅ／ ｃｍ得ら
れた単分子膜上に、第１図に示す区画板を載せて単分子
膜を区画し、区画された単分子膜部分を、アラキン酸Ｌ
Ｂ膜を５層累積し疎水処理されたガラス基板上に水平付
着させて累積した。
その結果、基板の接触離脱時の波紋発生がなく、余分の
単分子膜の回込みがなく、良好なＬＢ膜を得た。更に、
単に区画板を液面に置くだけで区画された単分子膜を２
１枚形成することができた。
単分子膜の回込みがなく、良好なＬＢ膜を得た。更に、
単に区画板を液面に置くだけで区画された単分子膜を２
１枚形成することができた。
また、基板の移動すべき場所が明確になり、作業能率も
改善させる。
改善させる。
比較例
実施例を同じ組成の単分子膜を、垂直浸漬法でＬＢ膜の
累積を行った。しかし、単分子膜が流動せず、基板が突
き抜けて累積できなっかた。
累積を行った。しかし、単分子膜が流動せず、基板が突
き抜けて累積できなっかた。
第１図はこの発明による製造方法に用いることができる
区画板の平面図、第２図はこの発明による製造方法に用
いることができる装置を示す概略図、第３図は垂直浸漬
法を説明する説明図、第４図は水平付着法を説明する説
明図、第５図は従来の水平付着法の問題点を説明する説
明図である。 １・・・基板、２・・・単分子膜、３・・・ＬＢ膜、４
・・・積層体、１０・・・区画板、１１・・・透し孔、
１２・・・枠、１３・・・アーム。
区画板の平面図、第２図はこの発明による製造方法に用
いることができる装置を示す概略図、第３図は垂直浸漬
法を説明する説明図、第４図は水平付着法を説明する説
明図、第５図は従来の水平付着法の問題点を説明する説
明図である。 １・・・基板、２・・・単分子膜、３・・・ＬＢ膜、４
・・・積層体、１０・・・区画板、１１・・・透し孔、
１２・・・枠、１３・・・アーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に複数の単分子膜が累積された積層体を製造
する方法であって、 液面に、累積すべき物質の単分子膜を形成し、基板面を
透し孔に容易に出入れすることができる透し孔の横断寸
法を有する格子状区画板を、上方より該単分子膜面に当
てて、基板面寸法と実質的に等しい単分子膜部分を該区
画板の各透し孔内に区画し、 区画された単分子膜部分面に、基板面を水平に保持しな
がら上方より接触しかつ引離し、単分子膜部分を基板面
に転移させ、 単分子膜部分の基板面への前記転移を繰り返して、基板
上に複数の単分子膜を累積させる ことを特徴とする積層体の製造方法。 ２、基板を、区画板の各透し孔内に順次移動させて、単
分子膜部分の基板面への転移を繰り返す、請求項１記載
の積層体の製造方法。 ３、複数の基板各々を、同時に各透し孔内に挿入し、次
いで、区画板を移動させて単分子膜部分を区画板の各透
し孔内に区画することを繰り返す、請求項１記載の積層
体の製造方法。 ４、基板上に複数の単分子膜が累積された積層体を製造
する装置であって、 基板面を透し孔に容易に出入れすることができる格子を
有し、該格子の枠が液面上の単分子膜を、基板面寸法と
実質的に等しい複数の単分子膜部分に区画することを特
徴とする装置。 ５、請求項４記載の装置の透し孔に区画された単分子膜
部分面に、基板面を水平に保持しながら上方より接触し
かつ引離し、単分子膜部分を基板面に転移させる自動制
御装置を備えることを特徴とする積層体を製造する装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15721988A JPH02180663A (ja) | 1988-06-25 | 1988-06-25 | 積層体の製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15721988A JPH02180663A (ja) | 1988-06-25 | 1988-06-25 | 積層体の製造方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02180663A true JPH02180663A (ja) | 1990-07-13 |
Family
ID=15644824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15721988A Pending JPH02180663A (ja) | 1988-06-25 | 1988-06-25 | 積層体の製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02180663A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014190575A1 (zh) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 配向膜制作装置及制作方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61291058A (ja) * | 1985-06-15 | 1986-12-20 | Canon Inc | 成膜装置 |
| JPS63151373A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-23 | Toshiba Corp | 有機薄膜製造装置 |
-
1988
- 1988-06-25 JP JP15721988A patent/JPH02180663A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61291058A (ja) * | 1985-06-15 | 1986-12-20 | Canon Inc | 成膜装置 |
| JPS63151373A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-23 | Toshiba Corp | 有機薄膜製造装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014190575A1 (zh) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 配向膜制作装置及制作方法 |
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