JPH02181314A - 超電導線およびその製造方法 - Google Patents
超電導線およびその製造方法Info
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- JPH02181314A JPH02181314A JP63333287A JP33328788A JPH02181314A JP H02181314 A JPH02181314 A JP H02181314A JP 63333287 A JP63333287 A JP 63333287A JP 33328788 A JP33328788 A JP 33328788A JP H02181314 A JPH02181314 A JP H02181314A
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- JP
- Japan
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- wire
- metal compound
- acid
- superconductive
- superconducting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、セラミック系の超電導線とその製造方法に関
するものである。
するものである。
従来の技術
従来の超電導線の製造方法は、一般に超電導の金属や金
属酸化物のインゴットを作成した後、導電性の金属など
に封入し前記導電性の金属と共に線引きする方法が用い
られてきた。
属酸化物のインゴットを作成した後、導電性の金属など
に封入し前記導電性の金属と共に線引きする方法が用い
られてきた。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、この方法では製造が容易である反面、近
年発表された超電導酸化物、即ち結晶性が超電導性に大
きく影響するセラミックス系の超電導物質に適用すると
結晶性が崩れてしまい、結果として超電導性が悪くなる
という厄介な問題があった。
年発表された超電導酸化物、即ち結晶性が超電導性に大
きく影響するセラミックス系の超電導物質に適用すると
結晶性が崩れてしまい、結果として超電導性が悪くなる
という厄介な問題があった。
従来法の欠点に鑑み、本発明の目的は、飽和電流密度の
高いセラミック系の超電導線を高能率で製造する方法を
提供ことにある。
高いセラミック系の超電導線を高能率で製造する方法を
提供ことにある。
課題を解決するための手段
金属化合物線の表面が前記金属化合物の陽極酸化膜で覆
われている構造の超電導線とする。
われている構造の超電導線とする。
また、あらかじめ金属化合物を所定の断面形状を有する
任意の太さの細線に線引きした後、電解液に浸漬した状
態で前記細線と他の第２の電極の間に所定の電圧を印加
し前記細線の表面を陽極酸化することにより表面が超電
導酸化膜で被われた超電導線を作製する。
任意の太さの細線に線引きした後、電解液に浸漬した状
態で前記細線と他の第２の電極の間に所定の電圧を印加
し前記細線の表面を陽極酸化することにより表面が超電
導酸化膜で被われた超電導線を作製する。
作用
上記構成の超電導線は、芯が導電性の金属で、表面が結
晶性の超電導酸化膜で覆われた形状に形成されるため、
従来のような線引き時の超電導層の破壊がない。さらに
、表面の結晶性の超電導セラミック層では、酸化物結晶
が一定の方向に配向した状態で極めて均一性良く形成さ
れているため、単一の断面積で極めて大きな臨界電流を
取ることができる。
晶性の超電導酸化膜で覆われた形状に形成されるため、
従来のような線引き時の超電導層の破壊がない。さらに
、表面の結晶性の超電導セラミック層では、酸化物結晶
が一定の方向に配向した状態で極めて均一性良く形成さ
れているため、単一の断面積で極めて大きな臨界電流を
取ることができる。
また、上記の方法を用いれば、線引きには通常の導線作
成工程が応用できる。さらに表面に超電導酸化膜層を形
成する際、従来のような高温加熱を必要としないため、
表面の酸化された層の超電導特性を損なうことがなく、
金属細線が断線することもない。
成工程が応用できる。さらに表面に超電導酸化膜層を形
成する際、従来のような高温加熱を必要としないため、
表面の酸化された層の超電導特性を損なうことがなく、
金属細線が断線することもない。
実施例
以下、実施例を第１〜３図を用いて説明する。
まず、酸化されて超導電性を示す金属化合物、例えばＹ
Ｂａ２Ｃｕｉ、あるいはＢ ｉ２ｓ ｒ＊ｃ ａ２ｃｕ
ｓ（その他、 Ｌａ５ｒＣｕ系、 ＬａＣａＣｕ系、あ
るいはＬａＢａＣｕ系、あるいはＴａ５ｒＣａＣｕ系等
が知られている）の合金を、直径が数十〜数百ミクロン
で、断面形状が第１図に示すような円形または多角形の
細線に線引きして金属化合物細線１を製造する。その後
、第２図に示すように電解液２として硫酸（その他、塩
酸、または硝酸、または燐酸、またはほう酸、または酢
酸や蟻酸、蓚酸等の有機酸などが利用できる）を数パー
セント含んだ酸性水溶液に浸漬し、前記金属化合物細線
１を第一の電極とし、さらにＰｔ等よりなる第２の電極
３との間に電圧（例えば、酸性水溶液のＩ）Ｈが２〜３
程度の場合は、水溶液の温度を２０〜６０℃程度で数Ｖ
程度の直流電圧、またはパルス電圧）を印加し金属化合
物の細線を陽極酸化することにより結晶性の超電導セラ
ミック層４で被覆された超電導線５を製作できる。
Ｂａ２Ｃｕｉ、あるいはＢ ｉ２ｓ ｒ＊ｃ ａ２ｃｕ
ｓ（その他、 Ｌａ５ｒＣｕ系、 ＬａＣａＣｕ系、あ
るいはＬａＢａＣｕ系、あるいはＴａ５ｒＣａＣｕ系等
が知られている）の合金を、直径が数十〜数百ミクロン
で、断面形状が第１図に示すような円形または多角形の
細線に線引きして金属化合物細線１を製造する。その後
、第２図に示すように電解液２として硫酸（その他、塩
酸、または硝酸、または燐酸、またはほう酸、または酢
酸や蟻酸、蓚酸等の有機酸などが利用できる）を数パー
セント含んだ酸性水溶液に浸漬し、前記金属化合物細線
１を第一の電極とし、さらにＰｔ等よりなる第２の電極
３との間に電圧（例えば、酸性水溶液のＩ）Ｈが２〜３
程度の場合は、水溶液の温度を２０〜６０℃程度で数Ｖ
程度の直流電圧、またはパルス電圧）を印加し金属化合
物の細線を陽極酸化することにより結晶性の超電導セラ
ミック層４で被覆された超電導線５を製作できる。
なお、長尺の超電導線を得ようとするときは、第２図に
示すようにリール６．６９に巻いた金属化合物の細線を
部分的に浸漬しながら電解酸化を連続的に行えば良い。
示すようにリール６．６９に巻いた金属化合物の細線を
部分的に浸漬しながら電解酸化を連続的に行えば良い。
発明の効果
本発明の方法により作られた超電導細線は、芯が導電性
の金属で、表面が結晶性の超電導酸化膜で覆われた形状
に形成されるため、従来のような線引き時の超電導層の
破壊がない。また、超電導セラミック層の形成時、従来
のような高温酸化工程を必要としないので金属細線が断
線することもない。さらにまた、表面の結晶性の超電導
セラミック層では、酸化物結晶が一定の方向に配向した
状態で極めて均一性良く形成されているため、単一の断
面積で極めて大きな臨界電流を取ることができる。
の金属で、表面が結晶性の超電導酸化膜で覆われた形状
に形成されるため、従来のような線引き時の超電導層の
破壊がない。また、超電導セラミック層の形成時、従来
のような高温酸化工程を必要としないので金属細線が断
線することもない。さらにまた、表面の結晶性の超電導
セラミック層では、酸化物結晶が一定の方向に配向した
状態で極めて均一性良く形成されているため、単一の断
面積で極めて大きな臨界電流を取ることができる。
第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の実施例における超電導
線の断面図、第２図は本発明の超電導細線を連続的に製
造する方法を示す概略断面図を示す。 １・・・・・・金属化合物細線、２・・・・・・電解液
、３・・・・・・第二の電極、 ４・・・・・・超電
導セラミックス。
線の断面図、第２図は本発明の超電導細線を連続的に製
造する方法を示す概略断面図を示す。 １・・・・・・金属化合物細線、２・・・・・・電解液
、３・・・・・・第二の電極、 ４・・・・・・超電
導セラミックス。
Claims (6)
- （１）金属化合物線の表面が前記金属化合物の陽極酸化
膜で覆われていることを特徴とする超電導線。 - （２）金属化合物が、Ｃｕを含んでいることを特徴とす
る請求項１に記載の超電導線。 - （３）金属化合物が、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ、Ｔｌ−Ｂａ−Ｃ
ａ−Ｃｕ、Ｌａ−Ｃａ−Ｃｕ、Ｌａ−Ｂａ−Ｃｕ、Ｂｉ
−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ、あるいはＴａ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ
の組合せより選択されたいずれか一種であることを特徴
とする請求項２に記載の超電導線。 - （４）金属化合物を所定の断面形状を有する任意の太さ
の細線に線引きする工程と、電解液に浸漬した状態で前
記細線と他の第２の電極の間に所定の電圧を印加し前記
細線の表面を陽極酸化する工程とを含むことを特徴とす
る超電導線の製造方法。 - （５）電界液のｐＨが酸性であることを特徴とする請求
項４に記載の超電導線の製造方法。 - （６）電解液が、塩酸、硝酸、硫酸、燐酸、ほう酸、ま
たは酢酸や蟻酸、蓚酸等の有機酸を含んでいることを特
徴とする請求項６に記載の超電導線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333287A JPH02181314A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 超電導線およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333287A JPH02181314A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 超電導線およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02181314A true JPH02181314A (ja) | 1990-07-16 |
Family
ID=18264409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63333287A Pending JPH02181314A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 超電導線およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02181314A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63225414A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-20 | Toshiba Corp | 超伝導体薄膜の製造方法 |
| JPS642221A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Method of forming thin film of ceramic-based superconductive material |
-
1988
- 1988-12-29 JP JP63333287A patent/JPH02181314A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63225414A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-20 | Toshiba Corp | 超伝導体薄膜の製造方法 |
| JPS642221A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-06 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Method of forming thin film of ceramic-based superconductive material |
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