JPH02183150A - イオンの質量分析法および装置 - Google Patents
イオンの質量分析法および装置Info
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- JPH02183150A JPH02183150A JP1001318A JP131889A JPH02183150A JP H02183150 A JPH02183150 A JP H02183150A JP 1001318 A JP1001318 A JP 1001318A JP 131889 A JP131889 A JP 131889A JP H02183150 A JPH02183150 A JP H02183150A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はイオンの質量分析法および装置、特に試料をイ
オンまたは中性粒子で衝撃しそれによって試料から発生
する２次イオンを質量分析するのに適したイオンの質量
分析法および装置に関する。
オンまたは中性粒子で衝撃しそれによって試料から発生
する２次イオンを質量分析するのに適したイオンの質量
分析法および装置に関する。
試料をイオンビームまたは中性粒子ビーム（１次ビーム
）で衝撃しそれによって試料から発生する２次イオンを
質量分析する装置において試料の深さ方向の元素濃度分
布を高精度をもって測定する技法としてエレクトロニッ
クアパーチャ法が知られている（たとえば特許第９２５
，３９６号）、この技法では、第２図に示す如く、ビー
ム径ｄの一次ビームで試料をＸ方向にＱｘ 、Ｙ方向に
Ｊｌｙだけラスター走査する。このラスター走査により
、試料が第２図（ｂ）に示す如く走査幅ρにの範囲内で
、均一にスパッタされる。このラスター走査範囲の中央
部ＱｘとＱｙの領域から放出する二次イオンのみデータ
として収集される。この技法の採用により高精度の深さ
方向分析を実現することができる。
）で衝撃しそれによって試料から発生する２次イオンを
質量分析する装置において試料の深さ方向の元素濃度分
布を高精度をもって測定する技法としてエレクトロニッ
クアパーチャ法が知られている（たとえば特許第９２５
，３９６号）、この技法では、第２図に示す如く、ビー
ム径ｄの一次ビームで試料をＸ方向にＱｘ 、Ｙ方向に
Ｊｌｙだけラスター走査する。このラスター走査により
、試料が第２図（ｂ）に示す如く走査幅ρにの範囲内で
、均一にスパッタされる。このラスター走査範囲の中央
部ＱｘとＱｙの領域から放出する二次イオンのみデータ
として収集される。この技法の採用により高精度の深さ
方向分析を実現することができる。
しかしながら、この技法で数１００μｍ以上の比較的広
範囲の走査をする場合、走査中心部より離れた領域では
２次イオン収集効率が低下し感度的に限界があることが
分かった。第３図（ａ）に２次イオン質量分析装置の物
点スリットの形状を、第３図（ｂ）にスリットのＸ方向
に１次ビームを走査したときの検出２次イオン強度変化
を、第３図（ｃ）にＹ方向の検出２次イオン強度変化を
各各示す、これらのデータは試料がｘ、Ｙ方向に濃度が
一定である場合のもので検出２次イオン強度の変化はＸ
方向において顕著であることがわかる。
範囲の走査をする場合、走査中心部より離れた領域では
２次イオン収集効率が低下し感度的に限界があることが
分かった。第３図（ａ）に２次イオン質量分析装置の物
点スリットの形状を、第３図（ｂ）にスリットのＸ方向
に１次ビームを走査したときの検出２次イオン強度変化
を、第３図（ｃ）にＹ方向の検出２次イオン強度変化を
各各示す、これらのデータは試料がｘ、Ｙ方向に濃度が
一定である場合のもので検出２次イオン強度の変化はＸ
方向において顕著であることがわかる。
特に高分解能測定のため物点スリット輻Ｓｏを狭くする
とこの傾向はよりいっそう顕著となる欠点がある。
とこの傾向はよりいっそう顕著となる欠点がある。
以上のように従来技術では一次イオンビームを走査した
場合の２次イオン収集効率については配慮がされておら
ず、感度的に不十分であった。また元素分布像において
は、中央部が明るく、周辺部では暗くなるという問題点
があった。
場合の２次イオン収集効率については配慮がされておら
ず、感度的に不十分であった。また元素分布像において
は、中央部が明るく、周辺部では暗くなるという問題点
があった。
本発明の目的は２次元領域から得られる２次イオンの収
集効率を一様にするのに適したイオンの質量分析法およ
び装置を提供することにある。
集効率を一様にするのに適したイオンの質量分析法およ
び装置を提供することにある。
本発明によれば、試料および該試料を衝撃すべき１次ビ
ームのうちの一方が他方に対して第１の方向に、他方が
一方に対して前記第１の方向に対して実質的に直角な第
２の方向にそれぞれ移動される。
ームのうちの一方が他方に対して第１の方向に、他方が
一方に対して前記第１の方向に対して実質的に直角な第
２の方向にそれぞれ移動される。
このような本発明によれば、２次イオンの収集効率の一
様性に乏しい方向における従来の試料の１次ビームによ
る走査を試料の移動で置き換えることができる。そうす
れば、その方向においては１次ビームを移動させる必要
がなくなるから、その方向においても２次イオンの収集
効率の一様性はそこなわれなくなり、したがって２次イ
オンが発生されるべき２次元領域全体にわたって２次イ
オンの収集効率が一様となる。
様性に乏しい方向における従来の試料の１次ビームによ
る走査を試料の移動で置き換えることができる。そうす
れば、その方向においては１次ビームを移動させる必要
がなくなるから、その方向においても２次イオンの収集
効率の一様性はそこなわれなくなり、したがって２次イ
オンが発生されるべき２次元領域全体にわたって２次イ
オンの収集効率が一様となる。
以下、本発明の一実施例を第１図および第４図により説
明する。第１図に、本発明の基本動作原理図を示す。イ
オン源１で生成され、加速された１次イオンビーム２は
レンズ系３および偏向器４を介して試料５を衝撃する。
明する。第１図に、本発明の基本動作原理図を示す。イ
オン源１で生成され、加速された１次イオンビーム２は
レンズ系３および偏向器４を介して試料５を衝撃する。
１次ビームは高速中性粒子ビームであってもよい。試料
５より放出した２次イオン７は、引出電極６により引出
され、レンズ８によって物点スリット９に収束される。
５より放出した２次イオン７は、引出電極６により引出
され、レンズ８によって物点スリット９に収束される。
スリット９を出た２次イオンは質量分析計１０に導入さ
れ、質量分析される。質量分析計１０は質量分散用の磁
場を発生する磁石を含み、更に多くの場合、速度分散用
の電場を発生する電極を含む。
れ、質量分析される。質量分析計１０は質量分散用の磁
場を発生する磁石を含み、更に多くの場合、速度分散用
の電場を発生する電極を含む。
電場および磁場により二重収束された２次イオンは検出
器によって検出される。一方、１次イオンビーム偏向器
４と試料微動装置１１には偏向走査装置１２が接続され
、これは偏向制御信号１３および試料移動制御信号１４
を偏向器４および試料微動装置１１に与える。一般に１
次イオンビームの偏向器４としては、平行平板形の静電
偏向器が用いられる。
器によって検出される。一方、１次イオンビーム偏向器
４と試料微動装置１１には偏向走査装置１２が接続され
、これは偏向制御信号１３および試料移動制御信号１４
を偏向器４および試料微動装置１１に与える。一般に１
次イオンビームの偏向器４としては、平行平板形の静電
偏向器が用いられる。
加速電圧ｖ１で加速された一次イオンビームを試料上で
ｄｌの偏向をする時、静電偏向器の印加電圧Ｖ−と偏向
量ｄ１の関係は次式となる。
ｄｌの偏向をする時、静電偏向器の印加電圧Ｖ−と偏向
量ｄ１の関係は次式となる。
ｄ１＝Ｋｚ−Ｖａ／Ｖａ −（１）ここ
でに１は、偏向器の寸法によって決まる定数である。
でに１は、偏向器の寸法によって決まる定数である。
一方、試料微動装置の駆動源としてパルスモータが用い
られる。この場合、試料の微動量ｄ２とパルス数Ｎｐの
間には次の関係がある。
られる。この場合、試料の微動量ｄ２とパルス数Ｎｐの
間には次の関係がある。
ｄ２＝：Ｋｔ・Ｎｐ ・・・（２
）ここでＫｚは、パルスモータ試料微動装置のパルス１
ヶ当りの微動量である。Ｋｚとしては１〔μｍ／パルス
〕となるように設計している場合、パルス数が１μｍ単
位での微動量となる。
）ここでＫｚは、パルスモータ試料微動装置のパルス１
ヶ当りの微動量である。Ｋｚとしては１〔μｍ／パルス
〕となるように設計している場合、パルス数が１μｍ単
位での微動量となる。
２次イオン質量分析法で深さ方向分析をする場合、（１
）式のｄａ と（２）式のｄｚを変え得ることが望まし
い。ｄｌは偏向器の印加電圧Ｖａによって、ｄｚはパル
ス数Ｎｐによって変えられることになる。ｄｌとｄｚを
等しくする場合、（１）式と（２）式より次式の如く、
ＮｐはＶｍに比例させることが必要である。
）式のｄａ と（２）式のｄｚを変え得ることが望まし
い。ｄｌは偏向器の印加電圧Ｖａによって、ｄｚはパル
ス数Ｎｐによって変えられることになる。ｄｌとｄｚを
等しくする場合、（１）式と（２）式より次式の如く、
ＮｐはＶｍに比例させることが必要である。
Ｎｐ＝Ｋｌ−Ｖｄ／に２・Ｖａ＝ Ｋ３・Ｖａ −（
３）一方、電気的走査時間は一般に数１０〜数１０００
〔！ｌ５ｅｃＺフレーム〕である。Ｘ走査本数すなわち
試料の移動ステップ数を１００とすると１ステップ当り
のＹ走査の時間は０．１〜数１０ （ｍｓｅｃ）となる
。これに対しパルスモータの応答は２５０〜１０００［
パルス／ｓｅｅ］であるので、１パルス当り１〜４〔ｌ
ｌｌ５ｅｃ〕 となる。
３）一方、電気的走査時間は一般に数１０〜数１０００
〔！ｌ５ｅｃＺフレーム〕である。Ｘ走査本数すなわち
試料の移動ステップ数を１００とすると１ステップ当り
のＹ走査の時間は０．１〜数１０ （ｍｓｅｃ）となる
。これに対しパルスモータの応答は２５０〜１０００［
パルス／ｓｅｅ］であるので、１パルス当り１〜４〔ｌ
ｌｌ５ｅｃ〕 となる。
以上述べた如く、電気的走査すなわち試料の１次イオン
ビームによる走査と機械的走査すなわち試料の移動の各
特性を考慮した偏向走査装置１２が必要である。
ビームによる走査と機械的走査すなわち試料の移動の各
特性を考慮した偏向走査装置１２が必要である。
本発明の偏向走査装置１２の一実施例を第４図に示す、
第４図の説明の前に、第５図に示す従来の電気的走査法
の一例について説明する。
第４図の説明の前に、第５図に示す従来の電気的走査法
の一例について説明する。
走査開始停止設定器２１より走査開始信号２１Ａが出る
と、Ｘ方向ゲート回路２３は発振器２２からのパルス２
２Ａをアップダウンカウンタ２４のアップカウント入力
端子に入力する。アップダウンカウンタ２４の計数値２
４ＣはＤ／Ａ変換器２５でアナログ値に変換される。こ
のアナログ値は走査幅設定回路２６で走査幅に応じた値
に設定される。この電圧を偏向電源２７へ入力して偏向
電圧を出力し一次イオン偏向装置１２のＸ方向偏向器２
８に印加する。
と、Ｘ方向ゲート回路２３は発振器２２からのパルス２
２Ａをアップダウンカウンタ２４のアップカウント入力
端子に入力する。アップダウンカウンタ２４の計数値２
４ＣはＤ／Ａ変換器２５でアナログ値に変換される。こ
のアナログ値は走査幅設定回路２６で走査幅に応じた値
に設定される。この電圧を偏向電源２７へ入力して偏向
電圧を出力し一次イオン偏向装置１２のＸ方向偏向器２
８に印加する。
アップダウンカウンタ２４の計数値が飽和値に達すると
カウンタ２４はキャリー信号２４Ａ（単一走査終了信号
）を出力する。ゲート回路２９はキャリー信号２４Ａを
受信すると状態信号２９Ａをゲート回路２３へ送る。ゲ
ート回路２３は、カウンタ２４のダウンカウント入力端
子へパルス２３Ｂを入力する。これによりカウンタ２４
の飽和計数値は１カウントずつ減少する。このようにし
てカウンタ２４の計数値が０になるとボロウ信号（単一
走査終了信号）２４Ｂを出力しゲート回路２９．ゲート
回路２３はカウンタ２４をアップカウント入力へ切替え
る。このようにしてＸ走査は三角波走査となる。
カウンタ２４はキャリー信号２４Ａ（単一走査終了信号
）を出力する。ゲート回路２９はキャリー信号２４Ａを
受信すると状態信号２９Ａをゲート回路２３へ送る。ゲ
ート回路２３は、カウンタ２４のダウンカウント入力端
子へパルス２３Ｂを入力する。これによりカウンタ２４
の飽和計数値は１カウントずつ減少する。このようにし
てカウンタ２４の計数値が０になるとボロウ信号（単一
走査終了信号）２４Ｂを出力しゲート回路２９．ゲート
回路２３はカウンタ２４をアップカウント入力へ切替え
る。このようにしてＸ走査は三角波走査となる。
一方、ゲート回路２９はキャリー信号２４Ａとボロウ信
号２４Ｂを入力パルス信号としてＹ走査回路のゲート回
路３０へ送る。ゲート回路３０はアップダウンカウンタ
３１のアップカウント入力端子へパルス３０Ａを送る。
号２４Ｂを入力パルス信号としてＹ走査回路のゲート回
路３０へ送る。ゲート回路３０はアップダウンカウンタ
３１のアップカウント入力端子へパルス３０Ａを送る。
カウンタ３１はＸ走査の場合と同じように、計数値３１
ＣをＤ／Ａ変換器３２でアナログ値に変換し、走査幅設
定回路３３で走査幅に応じた値に設定する。この電圧を
偏向電源３４へ入力し偏向電圧をＹ方向の偏向器３５へ
印加する。
ＣをＤ／Ａ変換器３２でアナログ値に変換し、走査幅設
定回路３３で走査幅に応じた値に設定する。この電圧を
偏向電源３４へ入力し偏向電圧をＹ方向の偏向器３５へ
印加する。
この偏向走査装置ではＸおよびＹの走査幅設定回路２６
．３３を連動させることにより容易に走査幅の設定が出
来る。また前述の走査時間に対して十分に応答出来る。
．３３を連動させることにより容易に走査幅の設定が出
来る。また前述の走査時間に対して十分に応答出来る。
次に本発明の電気的走査と機械的走査の併用走査の偏向
走査装置の一実施例を第４図により説明する。
走査装置の一実施例を第４図により説明する。
走査開始停止設定器２１より走査開始信号２１Ａが出る
とＸ方向ゲート回路３０は、発振器２２からのパルス２
２Ａをアップダウンカウンタ３１のアップカウント入力
端子に入力する。アップダウンカウンタ３１の計数値３
１ＣはＤ／Ａ変換器３２でアナログ値に変換される。こ
のアナログ値は走査幅設定回路３３で走査幅に応じた値
に設定される。この電圧を偏向電源３４へ入力し、出力
偏向電圧を一次イオン偏向装置１２のＹ方向偏向電極３
５へ印加する。ここでＸ方向偏向電極は接地または取外
しして動作しなくする。
とＸ方向ゲート回路３０は、発振器２２からのパルス２
２Ａをアップダウンカウンタ３１のアップカウント入力
端子に入力する。アップダウンカウンタ３１の計数値３
１ＣはＤ／Ａ変換器３２でアナログ値に変換される。こ
のアナログ値は走査幅設定回路３３で走査幅に応じた値
に設定される。この電圧を偏向電源３４へ入力し、出力
偏向電圧を一次イオン偏向装置１２のＹ方向偏向電極３
５へ印加する。ここでＸ方向偏向電極は接地または取外
しして動作しなくする。
アップダウンカウンタ３１の計数値が飽和値に達すると
カウンタ３１はキャリー信号３１Ａ（単一走査終了信号
）を出力する。ゲート回路３６はキャリー信号３１Ａを
受信すると状態信号３６Ａをゲート回路３０へ送る。ゲ
ート回路３０はカウンタ３１のダウンカウント入力端子
へパルス２２Ａを入力する。これによりカウンタ３１の
飽和計数値は１カウントずつ減少する。このようにして
カウンタ３１の計数値がＯになるとボロウ信号（単一走
査終了信号）３１Ｂを出力しゲート回路３６゜ゲート回
路３０はカウンタ３１をアップカウント入力へ切替える
。このようにしてＹ走査は三角波走査となる。
カウンタ３１はキャリー信号３１Ａ（単一走査終了信号
）を出力する。ゲート回路３６はキャリー信号３１Ａを
受信すると状態信号３６Ａをゲート回路３０へ送る。ゲ
ート回路３０はカウンタ３１のダウンカウント入力端子
へパルス２２Ａを入力する。これによりカウンタ３１の
飽和計数値は１カウントずつ減少する。このようにして
カウンタ３１の計数値がＯになるとボロウ信号（単一走
査終了信号）３１Ｂを出力しゲート回路３６゜ゲート回
路３０はカウンタ３１をアップカウント入力へ切替える
。このようにしてＹ走査は三角波走査となる。
一方、ゲート回路４４はキャリー信号３１Ａとボロウ信
号３１Ｂを入力パルス３６Ａとして、パルスモータ電源
４５の時計方向回転入力端子（または反時計方向入力端
子）へ入力する。パルスモータ電源４５は試料微動装置
１１のＸ方向駆動パルスモータ４６ヘパルス４５Ａを入
力する。これによりパルスモータ４６は所定の角度回転
し、試料台４７を微動する。
号３１Ｂを入力パルス３６Ａとして、パルスモータ電源
４５の時計方向回転入力端子（または反時計方向入力端
子）へ入力する。パルスモータ電源４５は試料微動装置
１１のＸ方向駆動パルスモータ４６ヘパルス４５Ａを入
力する。これによりパルスモータ４６は所定の角度回転
し、試料台４７を微動する。
また、カウンタ４０は前記キャリー信号３１Ａとボロウ
信号３１Ｂを計数する。この計数値をＤ／Ａ変換器４１
でアナログ信号に変換し、電圧設定器４２で所定の電圧
にした後、比較器４３へ入力する。比較器４３は、Ｙ走
査幅設定器３３の出力電圧３３Ａと同じ電圧になるとパ
ルス４３Ａを出力し、ゲート回路４４へ送る。ゲート回
路４４はパルス４３Ａを受信するとパルスモータ電源４
５の反時計方向回転入力端子（または時計方向入力端子
）へパルス３６Ａを入力する。
信号３１Ｂを計数する。この計数値をＤ／Ａ変換器４１
でアナログ信号に変換し、電圧設定器４２で所定の電圧
にした後、比較器４３へ入力する。比較器４３は、Ｙ走
査幅設定器３３の出力電圧３３Ａと同じ電圧になるとパ
ルス４３Ａを出力し、ゲート回路４４へ送る。ゲート回
路４４はパルス４３Ａを受信するとパルスモータ電源４
５の反時計方向回転入力端子（または時計方向入力端子
）へパルス３６Ａを入力する。
これによりパルスモータ４６は反転し試料台４７は逆方
向に微動する。このように試料台４７は所定の走査幅の
往復微動を繰返す。
向に微動する。このように試料台４７は所定の走査幅の
往復微動を繰返す。
以上の結果、電気的走査と機械的走査のマツチングがと
れ、高感度分析を実現できる。
れ、高感度分析を実現できる。
本実施例による走査法を第６図（ｂ）に示す。
ΩＹの走査が電気的に行なわれ、ＱＸの走査が機械的に
行なわれる。ｄは１次イオンビーム径である。また、第
６図（ａ）は第３図（ａ）と同様に物点スリットを示し
、第６図（ｃ）、（ｄ）は第３図（ｂ）、（ｃ）に対応
するものである。
行なわれる。ｄは１次イオンビーム径である。また、第
６図（ａ）は第３図（ａ）と同様に物点スリットを示し
、第６図（ｃ）、（ｄ）は第３図（ｂ）、（ｃ）に対応
するものである。
第６図（Ｑ）、（ｄ）から明らかなように、ＱｘＸＱｖ
の２次元領域内で得られる２次イオンの収集効率は実質
的に一様である。
の２次元領域内で得られる２次イオンの収集効率は実質
的に一様である。
なお、実施例では省略したが１以上の実施例に知られて
いるエレクトロニックアパーチャ法を適用し、深さ方向
分析の精度を向上させることができる。
いるエレクトロニックアパーチャ法を適用し、深さ方向
分析の精度を向上させることができる。
（発明の効果〕
本発明によれば、２次元領域から得られる２次イオンの
収集効率を一様にするのに適したイオンの質量分析法お
よび装置が提供される。
収集効率を一様にするのに適したイオンの質量分析法お
よび装置が提供される。
第１図は本発明の一実施例の原理説明図、第２図は従来
の電気的走査法の原理説明図、第３図は従来の走査法に
よる検出電流特性図、第４図は本発明の要部の一実施例
のブロック図、第５図は従来例のブロック図、第６図は
本発明の一実施例による検出電流特性図である。 １・・・イオン源、５・・・試料、１０・・・質量分析
計、第１図 ふフ ｍ−ｌ／ 第２図
の電気的走査法の原理説明図、第３図は従来の走査法に
よる検出電流特性図、第４図は本発明の要部の一実施例
のブロック図、第５図は従来例のブロック図、第６図は
本発明の一実施例による検出電流特性図である。 １・・・イオン源、５・・・試料、１０・・・質量分析
計、第１図 ふフ ｍ−ｌ／ 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃すること、前記２次的イオンを質量
分析すること、前記試料を前記１次ビームで第１の方向
に走査すること、前記試料を前記第１の方向に対して実
質的に直角な第２の方向に移動させることからなり、そ
れによつて前記２次的イオンは前記試料の走査および移
動により決定される前記試料の２次元領域から引出され
ることを特徴とするイオンの質量分析法。 ２、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃すること、前記２次イオンを質量分
析すること、前記試料および１次ビームのうちの一方を
他方に対して第１の方向に、他方を一方に対して前記第
１の方向に対して実質的に直角な方向にそれぞれ移動さ
せることからなり、それによつて前記試料は前記１次ビ
ームで事実上２次元的に走査されることを特徴とするイ
オンの質量分析法。 ３、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃すること、前記２次的イオンを質量
分析すること、前記試料を前記１次ビームで第１の方向
にくり返し走査すること、その走査ごとに前記試料を前
記第１の方向に対して実質的に直角な第２の方向に移動
させることからなるイオンの質量分析法。 ４、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃すること、前記２次的イオンを質量
分散すること、その分散された２次的イオンを検出する
こと、前記試料を前記質量分散の方向にステップ状に移
動させること、その試料のステップ移動ごとにその試料
をその試料の移動方向に対して実質的に直角な方向に前
記１次ビームで走査することからなるイオンの質量分析
法。 ５、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃すること、前記２次イオンを物点ス
リットにその幅方向において収束させること、その収束
された２次的イオンを前記物点スリットの幅方向におい
て質量分散すること、前記試料を前記物点スリットの幅
方向にステップ状に移動させること、その試料のステッ
プ移動ごとにその試料をその試料の移動方向に対して実
質的に直角な方向に１次ビームで走査することからなる
イオンの質量分析法。 ６、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃する手段と、前記２次イオンを質量
分析する手段と、前記試料および１次ビームのうちの一
方を他方に対して第１の方向に、他方を一方に対して前
記第１の方向に対して実質的に直角な第２の方向にそれ
ぞれ移動させる手段とを備え、それによつて前記試料は
前記１次ビームで事実上２次元的に走査されることを特
徴とするイオンの質量分析装置。 ７、試料を、該試料から２次的イオンを発生させるよう
に１次ビームで衝撃する手段、前記２次的イオンを質量
分散する手段と、その分散された２次的イオンを検出す
る手段と、前記試料を前記質量分散の方向に移動させる
手段と、その試料の移動に関連してその試料を前記１次
ビームで前記試料の移動方向に対して実質的に直角な方
向に走査する手段とを備えているイオンの質量分析装置
。 ８、前記試料移動手段は前記試料をステップ状に移動す
るように構成され、前記試料走査手段は前記試料のステ
ップ移動ごとにその試料を前記１次ビームで走査するよ
うに構成されている特許請求の範囲第７項にもとづくイ
オンの質量分析装置。 ９、前記試料と前記質量分散手段との間に配置された物
点スリットと、前記試料からの２次的イオンを前記物点
スリットに前記質量分散方向において収束する手段とを
備え、前記物点スリットはこれを通る２次的イオン量を
前記質量分散方向において制限するのに十分な幅をもつ
ている特許請求の範囲第８項にもとづくイオンの質量分
析装置。 １０、前記試料走査手段は前記走査ごとに走査終了信号
を発生する手段を含み、前記試料移動手段は前記走査終
了信号により前記試料をステップ移動させるように構成
されている特許請求の範囲第９項にもとづくイオンの質
量分析装置。 １１、前記１次ビームによる前記試料の走査幅に対応す
る信号を発生する手段と、前記試料の移動量に対応する
信号を発生する手段と、前記両信号を比較して前記試料
の走査幅と前記試料の移動量が実質的に等しくなつたと
きに前記試料の移動を停止させる信号を発生する手段を
備えている特許請求の範囲第１０項にもとづくイオンの
質量分析装置。 １２、前記試料移動停止信号にもとづいて前記試料の移
動を反転させる手段を含む特許請求の範囲。 第１１項にもとづくイオンの質量分析装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1001318A JPH02183150A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | イオンの質量分析法および装置 |
| EP19900100044 EP0378077A3 (en) | 1989-01-09 | 1990-01-02 | Ion mass-spectroscopic analysis method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1001318A JPH02183150A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | イオンの質量分析法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02183150A true JPH02183150A (ja) | 1990-07-17 |
Family
ID=11498149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1001318A Pending JPH02183150A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | イオンの質量分析法および装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0378077A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02183150A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7188031B1 (en) | 2002-06-28 | 2007-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for acquiring information of a biochip using time of flight secondary ion mass spectrometry and an apparatus for acquiring information for the application thereof |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108089064B (zh) * | 2016-11-21 | 2020-04-28 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种测量脉冲离子束脉冲宽度的装置及方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS532599B2 (ja) * | 1972-10-30 | 1978-01-30 | ||
| US3878392A (en) * | 1973-12-17 | 1975-04-15 | Etec Corp | Specimen analysis with ion and electrom beams |
-
1989
- 1989-01-09 JP JP1001318A patent/JPH02183150A/ja active Pending
-
1990
- 1990-01-02 EP EP19900100044 patent/EP0378077A3/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7188031B1 (en) | 2002-06-28 | 2007-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for acquiring information of a biochip using time of flight secondary ion mass spectrometry and an apparatus for acquiring information for the application thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0378077A2 (en) | 1990-07-18 |
| EP0378077A3 (en) | 1991-04-24 |
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