JPH0218574B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0218574B2 JPH0218574B2 JP58076003A JP7600383A JPH0218574B2 JP H0218574 B2 JPH0218574 B2 JP H0218574B2 JP 58076003 A JP58076003 A JP 58076003A JP 7600383 A JP7600383 A JP 7600383A JP H0218574 B2 JPH0218574 B2 JP H0218574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- powder
- plating
- silver
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Description
(イ) 発明の技術分野
この発明は硫酸銅−硫酸浴を用いる銅メツキ、
アルカノールスルホン酸鉛、アルカノールスルホ
ン酸錫系の半田メツキ液などの強酸性電解メツキ
液に耐え、しかも磁器コンデンサとして良好な電
気的特性、特にtanδ値、Q値およびIR値を満足
できる導電性塗料に関するものである。 (ロ) 従来技術と問題点 従来より一般の円板型、楔型、円筒形などのセ
ラミツクコンデンサの電極には銀を主体とした導
電性塗料が用いられてきた。この導電性塗料を端
子電極用として用いた場合は、第1図の如き焼成
プロフイルが一般的で、普通最高温度750℃にて
焼成が行なわれている。一般市販品銀塗料中には
融点400〜600℃のガラス質が含まれており、これ
を850℃で焼成すると、第2図に示すように内部
電極2の膨張、突上げにより素体1と端子電極3
との間に空隙4が発生し、極端な場合には端子電
極3が突破られてしまうという不具合がある。こ
のためメツキ工程において、電解質が染込み、
tanδ、Q値が著しく劣化し、安定した製品を得る
ことができなかつた。また、最近の傾向として半
田喰われ耐性を高めるため、パラジウム粉末の添
加、ニツケルメツキ、銅メツキ加工などの対策が
試みられている。特に積層チツプコンデンサの端
子電極は、銀−パラジウム比が80〜20乃至63〜35
のものが用いられ、電極の厚みも30〜80μmと厚
い。また、銀、パラジウムは共に高価であり、内
部電極剤を含めて積層チツプコンデンサの価格中
に占める割合は50〜60%に達している。しかも、
パラジウム含有率の高い塗料を用いても半田喰わ
れを防止することは不可能であり、市場の動向も
自動化ラインで直接半田付けが多くなつてきたの
で、半田喰われについて心配のない積層チツプコ
ンデンサへの要望が極めて高くなつている。 (ハ) 発明の目的 この発明はかかる要望に応えるために為された
ものであり、半田乗りが良く、半田喰われがな
く、かつ電気的特性の優れたコンデンサを製造す
るのに好適なメツキ下地用導電性塗料を提供する
ことを目的とするものである。 (ニ) 発明の構成 この発明はかかる目的を達成するために、銀粉
あるいは銀粉に対して1〜10重量%のパラジウム
粉末を含有する貴金属粉体50〜80重量%と、融点
600〜900℃の耐酸性ガラス粉末1〜5重量%と、
有機ビヒクル15〜49重量%とからなる構成とし
た。 (ホ) 発明の実施例 この発明の第1の成分である銀粉あるいは銀粉
に対して1〜10重量%のパラジウム粉末を含有す
る貴金属粉体は、この発明の基材となるものであ
り、この発明の塗料中50〜80重量%の範囲で用い
られる。この第1の成分が50重量%以下ではコン
デンサの端子電極の厚みが薄くなりすぎ、逆に80
重量%を越える領域では実際に良好な塗料物性を
保持することがむづかしい。実験結果によると、
この割合は65〜75重量%が実用的な範囲であるこ
とが判明している。 また、第1の成分としては、原価計算上銀粉末
単独使用が望ましく、塗料コストが最低となるば
かりでなく、この発明のメツキ下地用導電塗料と
しての特性を十分に発揮することができる。 しかし、半田喰われ耐性を高めるためにはパラ
ジウム粉末を添加することが好ましい。そこで、
このパラジウム粉末の添加量について種々実験し
たところ、銀粉に対し1〜10重量%の添加にする
と、コンデンサに適用した場合に、半田付け性が
改善され、内部、外部電極の相互拡散が促進され
ることが判つた。また、従来の銀−パラジウム塗
料の銀に対するパラジウム粉末添加量(25〜45重
量%)に比し、少量ですむので、コスト低減が図
れる。 また、第1の成分である銀粉の粒子は平均粒径
1〜3μmが望ましい。銀粉は粒径が小さいほど
良好な焼結銀面が得られるが、40〜70μmの焼成
厚みでは割れ、脹みなどを起こし易い。したがつ
て、実際には1〜2μm粒径のものが配合される。
また、粒子の形状としては厚みのある盤状結晶が
良い。 一方、パラジウム粉末の粒子は平均粒径で0.1μ
m以下が望ましく、特にパラジウム黒と称する極
微粒子のものが好ましい。 この発明の第2の成分である耐酸性ガラス粉末
は、コンデンサの焼成温度(一般に850℃)で必
ず溶融し、素子と端子電極とを密着結合させるた
めに添加される。 この耐酸性ガラス粉末は、普通、融点700〜800
℃のものが用いられ、融点850℃以上のものを用
いる場合には融点600〜800℃のガラスを任意混合
し、850℃焼成においても必ず溶融し、素体と端
子電極を密着結合させるように組成を定める。 この第2の成分である耐酸性ガラス粉末の配合
割合を1〜5重量%としたのは、この範囲内であ
れば、メツキの析出も良好で剥離が見られず、メ
ツキ物のQ値が十分に保証されるからである。こ
れに反し、この割合が1重量%未満では十分な接
着強度が得られず、またメツキによるQ値劣化を
もたらし、逆に5重量%を越える場合には焼成さ
れた電極表面にガラスの析出が多くなり、メツキ
を阻害するばかりでなく、電極面とメツキ層間の
剥離を起こす原因となる。 この発明における耐酸性ガラス粉末の選別法は
次の如く行なつた。 検体ガラス粉末をチタン酸バリウム円板に薄く
乗せ、加熱溶融しガラス化させた。これを1規定
硫酸(40℃)中に5時間浸漬した後、残つたガラ
スの状態を観察すると共に溶解減量を測定した。
これを第1表に示す。残存ガラス層を超音波洗浄
によりチタン酸バリウム基板から剥離させたとこ
ろ、No.2、No.8のガラス皮膜は高い融点を持つた
にも拘らず剥離したが、この発明に規定されるNo.
5、No.12の各ガラスは全く変化を示さなかつた。
また、No.5、No.12の各ガラスは、強酸性メツキ浴
においても侵されることがなく、極めて有効なも
のであることが判つた。 また、この耐酸性ガラス粉末の粒径は、特にメ
ツキ下地用導電性塗料において重要な意味を持つ
ている。もし第1の成分である銀粉、パラジウム
粉より著しく大きな粒径、たとえば10μmの場
合、端子電極の焼成に際し、ガラス粒子の存在位
置はガラス粒子の溶融と素体方向への流動、染込
みにより10μmそのままの大きな空胴となる(第
3図のB参照)。その後、銀、パラジウム粒子の
焼結によつて空洞が多少埋められるにしても、大
きな穴として残る。したがつて、メツキ液の染込
みを許すことになる。第4図はニツケルメツキに
おけるニツケルNiの染込み析出を示す。しかし、
用いるガラス粒径が微少であれば、メタライジン
グにより穴は埋まり電極は耐酸性ガラスの分布し
た安定なものとなる。 かかる条件からこの発明における耐酸性ガラス
粉末の粒径は、用いる銀粒子より小さい、平均粒
径1μm以下とした。 また、耐酸性ガラスの組成は、TiO210〜30重
量%を基本とし、SiO230〜60重量%と、残余物
質としてAl2O3、B2O3、PbO、Pb3O4、PbF2、
CaF2、MgO、CaO、BaO、ZrO2、CdO、Bi2O3、
Na2O、K2Oなどが含まれる。この他に融点調整
用としてBORAX、長石粉末などを用いてもよ
い。 この発明の第3の成分である有機ビヒクルは、
塗料としての形態を保持するためのものである。
スクリーン印刷用、デイツプ用としてはブチルカ
ルビトール、カルビトールアセテート、石油ナフ
サ、ターピネオールなどの溶剤にエチルセルロー
ズ、オイルアルキツド樹脂、ロジンエステル樹脂
などを加える。吹付、筆塗り用としてはトルエ
ン、キシレン、セロソルブ系の沸点の低い溶剤群
を用いればよい。
アルカノールスルホン酸鉛、アルカノールスルホ
ン酸錫系の半田メツキ液などの強酸性電解メツキ
液に耐え、しかも磁器コンデンサとして良好な電
気的特性、特にtanδ値、Q値およびIR値を満足
できる導電性塗料に関するものである。 (ロ) 従来技術と問題点 従来より一般の円板型、楔型、円筒形などのセ
ラミツクコンデンサの電極には銀を主体とした導
電性塗料が用いられてきた。この導電性塗料を端
子電極用として用いた場合は、第1図の如き焼成
プロフイルが一般的で、普通最高温度750℃にて
焼成が行なわれている。一般市販品銀塗料中には
融点400〜600℃のガラス質が含まれており、これ
を850℃で焼成すると、第2図に示すように内部
電極2の膨張、突上げにより素体1と端子電極3
との間に空隙4が発生し、極端な場合には端子電
極3が突破られてしまうという不具合がある。こ
のためメツキ工程において、電解質が染込み、
tanδ、Q値が著しく劣化し、安定した製品を得る
ことができなかつた。また、最近の傾向として半
田喰われ耐性を高めるため、パラジウム粉末の添
加、ニツケルメツキ、銅メツキ加工などの対策が
試みられている。特に積層チツプコンデンサの端
子電極は、銀−パラジウム比が80〜20乃至63〜35
のものが用いられ、電極の厚みも30〜80μmと厚
い。また、銀、パラジウムは共に高価であり、内
部電極剤を含めて積層チツプコンデンサの価格中
に占める割合は50〜60%に達している。しかも、
パラジウム含有率の高い塗料を用いても半田喰わ
れを防止することは不可能であり、市場の動向も
自動化ラインで直接半田付けが多くなつてきたの
で、半田喰われについて心配のない積層チツプコ
ンデンサへの要望が極めて高くなつている。 (ハ) 発明の目的 この発明はかかる要望に応えるために為された
ものであり、半田乗りが良く、半田喰われがな
く、かつ電気的特性の優れたコンデンサを製造す
るのに好適なメツキ下地用導電性塗料を提供する
ことを目的とするものである。 (ニ) 発明の構成 この発明はかかる目的を達成するために、銀粉
あるいは銀粉に対して1〜10重量%のパラジウム
粉末を含有する貴金属粉体50〜80重量%と、融点
600〜900℃の耐酸性ガラス粉末1〜5重量%と、
有機ビヒクル15〜49重量%とからなる構成とし
た。 (ホ) 発明の実施例 この発明の第1の成分である銀粉あるいは銀粉
に対して1〜10重量%のパラジウム粉末を含有す
る貴金属粉体は、この発明の基材となるものであ
り、この発明の塗料中50〜80重量%の範囲で用い
られる。この第1の成分が50重量%以下ではコン
デンサの端子電極の厚みが薄くなりすぎ、逆に80
重量%を越える領域では実際に良好な塗料物性を
保持することがむづかしい。実験結果によると、
この割合は65〜75重量%が実用的な範囲であるこ
とが判明している。 また、第1の成分としては、原価計算上銀粉末
単独使用が望ましく、塗料コストが最低となるば
かりでなく、この発明のメツキ下地用導電塗料と
しての特性を十分に発揮することができる。 しかし、半田喰われ耐性を高めるためにはパラ
ジウム粉末を添加することが好ましい。そこで、
このパラジウム粉末の添加量について種々実験し
たところ、銀粉に対し1〜10重量%の添加にする
と、コンデンサに適用した場合に、半田付け性が
改善され、内部、外部電極の相互拡散が促進され
ることが判つた。また、従来の銀−パラジウム塗
料の銀に対するパラジウム粉末添加量(25〜45重
量%)に比し、少量ですむので、コスト低減が図
れる。 また、第1の成分である銀粉の粒子は平均粒径
1〜3μmが望ましい。銀粉は粒径が小さいほど
良好な焼結銀面が得られるが、40〜70μmの焼成
厚みでは割れ、脹みなどを起こし易い。したがつ
て、実際には1〜2μm粒径のものが配合される。
また、粒子の形状としては厚みのある盤状結晶が
良い。 一方、パラジウム粉末の粒子は平均粒径で0.1μ
m以下が望ましく、特にパラジウム黒と称する極
微粒子のものが好ましい。 この発明の第2の成分である耐酸性ガラス粉末
は、コンデンサの焼成温度(一般に850℃)で必
ず溶融し、素子と端子電極とを密着結合させるた
めに添加される。 この耐酸性ガラス粉末は、普通、融点700〜800
℃のものが用いられ、融点850℃以上のものを用
いる場合には融点600〜800℃のガラスを任意混合
し、850℃焼成においても必ず溶融し、素体と端
子電極を密着結合させるように組成を定める。 この第2の成分である耐酸性ガラス粉末の配合
割合を1〜5重量%としたのは、この範囲内であ
れば、メツキの析出も良好で剥離が見られず、メ
ツキ物のQ値が十分に保証されるからである。こ
れに反し、この割合が1重量%未満では十分な接
着強度が得られず、またメツキによるQ値劣化を
もたらし、逆に5重量%を越える場合には焼成さ
れた電極表面にガラスの析出が多くなり、メツキ
を阻害するばかりでなく、電極面とメツキ層間の
剥離を起こす原因となる。 この発明における耐酸性ガラス粉末の選別法は
次の如く行なつた。 検体ガラス粉末をチタン酸バリウム円板に薄く
乗せ、加熱溶融しガラス化させた。これを1規定
硫酸(40℃)中に5時間浸漬した後、残つたガラ
スの状態を観察すると共に溶解減量を測定した。
これを第1表に示す。残存ガラス層を超音波洗浄
によりチタン酸バリウム基板から剥離させたとこ
ろ、No.2、No.8のガラス皮膜は高い融点を持つた
にも拘らず剥離したが、この発明に規定されるNo.
5、No.12の各ガラスは全く変化を示さなかつた。
また、No.5、No.12の各ガラスは、強酸性メツキ浴
においても侵されることがなく、極めて有効なも
のであることが判つた。 また、この耐酸性ガラス粉末の粒径は、特にメ
ツキ下地用導電性塗料において重要な意味を持つ
ている。もし第1の成分である銀粉、パラジウム
粉より著しく大きな粒径、たとえば10μmの場
合、端子電極の焼成に際し、ガラス粒子の存在位
置はガラス粒子の溶融と素体方向への流動、染込
みにより10μmそのままの大きな空胴となる(第
3図のB参照)。その後、銀、パラジウム粒子の
焼結によつて空洞が多少埋められるにしても、大
きな穴として残る。したがつて、メツキ液の染込
みを許すことになる。第4図はニツケルメツキに
おけるニツケルNiの染込み析出を示す。しかし、
用いるガラス粒径が微少であれば、メタライジン
グにより穴は埋まり電極は耐酸性ガラスの分布し
た安定なものとなる。 かかる条件からこの発明における耐酸性ガラス
粉末の粒径は、用いる銀粒子より小さい、平均粒
径1μm以下とした。 また、耐酸性ガラスの組成は、TiO210〜30重
量%を基本とし、SiO230〜60重量%と、残余物
質としてAl2O3、B2O3、PbO、Pb3O4、PbF2、
CaF2、MgO、CaO、BaO、ZrO2、CdO、Bi2O3、
Na2O、K2Oなどが含まれる。この他に融点調整
用としてBORAX、長石粉末などを用いてもよ
い。 この発明の第3の成分である有機ビヒクルは、
塗料としての形態を保持するためのものである。
スクリーン印刷用、デイツプ用としてはブチルカ
ルビトール、カルビトールアセテート、石油ナフ
サ、ターピネオールなどの溶剤にエチルセルロー
ズ、オイルアルキツド樹脂、ロジンエステル樹脂
などを加える。吹付、筆塗り用としてはトルエ
ン、キシレン、セロソルブ系の沸点の低い溶剤群
を用いればよい。
【表】
次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 塗料組成(A): Ag粒子(平均粒径2μm) 40重量% Ag粒子(平均粒径1μm) 30重量% Pd粒子(平均粒径0.1μm以下) 2重量% 耐酸性ガラス粉末(第1表No.5) 2重量% 有機ビヒクル 26重量% (エチルセルローズ 10重量% ターピネオール 40重量% ブチルカルビトール 30重量% ロジンエステル樹脂 20重量%) 塗料組成(B): Ag粒子(平均粒径2μm) 40重量% Ag粒子(平均粒径1μm) 30重量% Pd粒子(平均粒径0.1μm以下) 2重量% 耐酸性ガラス粉末(第1表No.6) 2重量% 有機ビヒクル(塗料(A)と同じ組成) 26重量% 上述の塗料組成(A)、(B)をTC系チツプコンデン
サの端子電極として夫々塗布し、850℃で焼成し
た後、バレルを用いてニツケル、半田の通電メツ
キを行ない第5図の如き3層構造の端子電極を得
た。図中、5は素体、6は内部電極、7は銀電極
層、8はニツケル層、9は半田層である。 得られたチツプコンデンサをHP4275A、1MHz
でQ値を測定した。その結果を第2表に示す。 また、上述の塗料組成(A)、(B)をHiK系チツプ
コンデンサについても同様に3層構造の端子電極
を得た。得られたHi系チツプコンデンサを
HP4275A、10KHzでtanδ値を測定した。その結
果を第3表に示す。
る。 実施例 1 塗料組成(A): Ag粒子(平均粒径2μm) 40重量% Ag粒子(平均粒径1μm) 30重量% Pd粒子(平均粒径0.1μm以下) 2重量% 耐酸性ガラス粉末(第1表No.5) 2重量% 有機ビヒクル 26重量% (エチルセルローズ 10重量% ターピネオール 40重量% ブチルカルビトール 30重量% ロジンエステル樹脂 20重量%) 塗料組成(B): Ag粒子(平均粒径2μm) 40重量% Ag粒子(平均粒径1μm) 30重量% Pd粒子(平均粒径0.1μm以下) 2重量% 耐酸性ガラス粉末(第1表No.6) 2重量% 有機ビヒクル(塗料(A)と同じ組成) 26重量% 上述の塗料組成(A)、(B)をTC系チツプコンデン
サの端子電極として夫々塗布し、850℃で焼成し
た後、バレルを用いてニツケル、半田の通電メツ
キを行ない第5図の如き3層構造の端子電極を得
た。図中、5は素体、6は内部電極、7は銀電極
層、8はニツケル層、9は半田層である。 得られたチツプコンデンサをHP4275A、1MHz
でQ値を測定した。その結果を第2表に示す。 また、上述の塗料組成(A)、(B)をHiK系チツプ
コンデンサについても同様に3層構造の端子電極
を得た。得られたHi系チツプコンデンサを
HP4275A、10KHzでtanδ値を測定した。その結
果を第3表に示す。
【表】
【表】
実施例 2
塗料組成(C):
Ag粒子(平均粒径3μm) 35重量%
Ag粒子(平均粒径1μm) 35重量%
耐酸性ガラス(第1表No.5) 1重量%
耐酸性ガラス(第1表No.12) 1重量%
有機ビヒクル(塗料(A)と同じ組成) 28重量%
上述の塗料組成(C)を積層チツプコンデンサの端
子電極として塗布し、850℃で焼成したところ、
第2図の如き空隙の発生は見られず、良好な接着
状態を示しており、ニツケル−半田メツキを施し
た3層構造においても第4表に示すように良好な
電気的特性を示した。
子電極として塗布し、850℃で焼成したところ、
第2図の如き空隙の発生は見られず、良好な接着
状態を示しており、ニツケル−半田メツキを施し
た3層構造においても第4表に示すように良好な
電気的特性を示した。
【表】
実施例 3
塗料組成(D):
Ag粒子(平均粒径1.0μm) 50重量%
耐酸性ガラス(第1表No.5) 1重量%
有機ビヒクル 49重量%
(エチルセルローズ 5重量%
ブチルセロソルブ 20重量%
キシレン 20重量%
トルエン 30重量%
オイルアルキツド樹脂 15重量%)
上記塗料組成(D)(吹付け又は筆塗り用、粘度1
〜5POISE)をチタン酸バリウム円板に筆で塗布
し、850℃で焼成して厚み約5μmの電極層を形成
し、この上にニツケルメツキ、半田メツキを施し
た。 本品はCap(PF)、tanδ、IRなどの諸特性は銀
電極による通常品と変わりがなく、270℃、60/
40共晶半田浴においても30秒デイツプによる半田
喰われが見られなかつた。半田付け後の引張強度
もメツキを施さない銀電極の場合と同等で素体の
破断を示し、十分な強度を持つことが証明され
た。 上述の各実施例において、専ら積層チツプコン
デンサの端子電極への適用について詳述したが、
この発明にかかるメツキ下地用導電性塗料はリー
ドレスコンデンサの電極形成用としても有効であ
る。 すなわち、塗料組成(A)、(C)、(D)をスクリーン印
刷、筆塗り、吹付けなどの方法でリードレスコン
デンサに塗布、焼成を行なつた後、得られた電極
上にバレルを用い通電メツキ(ニツケル−銅−半
田メツキ又は錫メツキ、ニツケル−半田メツキ又
は錫メツキ、ニツケル−銅−銀メツキ)を行なつ
た。この結果、半田付け性が良好で半田喰われに
強く、しかも電気的特性に優れたリードレスセラ
ミツクコンデンサを得ることができた。 また、この発明は円筒型セラミツク、IC基板
などに利用することが可能であり、特に半田喰わ
れ防止の点で有効である。 (ヘ) 発明の効果 上述の如くこの発明は、TiO2とSiO2を含有す
る耐酸性高融点ガラス粉末を1μm以下の微粒と
して銀又は銀−パラジウム塗料に添加するもので
あるから、優れたメツキ下地用塗料を製造するこ
とが可能となつた。これによつて、HiK系、TC
系いづれのセラミツクコンデンサについてもニツ
ケル、半田、錫、銅、銀メツキなどが可能とな
り、電気的特性の良好なしかも半田喰われに対し
極めて強いセラミツク電子部品を得ることが可能
となるばかりでなく、特に高価なパラジウムの除
外又は減少が達成され、チツプコンデンサのコス
ト低減に大きく寄与する等の利点を有する。
〜5POISE)をチタン酸バリウム円板に筆で塗布
し、850℃で焼成して厚み約5μmの電極層を形成
し、この上にニツケルメツキ、半田メツキを施し
た。 本品はCap(PF)、tanδ、IRなどの諸特性は銀
電極による通常品と変わりがなく、270℃、60/
40共晶半田浴においても30秒デイツプによる半田
喰われが見られなかつた。半田付け後の引張強度
もメツキを施さない銀電極の場合と同等で素体の
破断を示し、十分な強度を持つことが証明され
た。 上述の各実施例において、専ら積層チツプコン
デンサの端子電極への適用について詳述したが、
この発明にかかるメツキ下地用導電性塗料はリー
ドレスコンデンサの電極形成用としても有効であ
る。 すなわち、塗料組成(A)、(C)、(D)をスクリーン印
刷、筆塗り、吹付けなどの方法でリードレスコン
デンサに塗布、焼成を行なつた後、得られた電極
上にバレルを用い通電メツキ(ニツケル−銅−半
田メツキ又は錫メツキ、ニツケル−半田メツキ又
は錫メツキ、ニツケル−銅−銀メツキ)を行なつ
た。この結果、半田付け性が良好で半田喰われに
強く、しかも電気的特性に優れたリードレスセラ
ミツクコンデンサを得ることができた。 また、この発明は円筒型セラミツク、IC基板
などに利用することが可能であり、特に半田喰わ
れ防止の点で有効である。 (ヘ) 発明の効果 上述の如くこの発明は、TiO2とSiO2を含有す
る耐酸性高融点ガラス粉末を1μm以下の微粒と
して銀又は銀−パラジウム塗料に添加するもので
あるから、優れたメツキ下地用塗料を製造するこ
とが可能となつた。これによつて、HiK系、TC
系いづれのセラミツクコンデンサについてもニツ
ケル、半田、錫、銅、銀メツキなどが可能とな
り、電気的特性の良好なしかも半田喰われに対し
極めて強いセラミツク電子部品を得ることが可能
となるばかりでなく、特に高価なパラジウムの除
外又は減少が達成され、チツプコンデンサのコス
ト低減に大きく寄与する等の利点を有する。
第1図は積層チツプコンデンサの端子電極の焼
成プロフイルを示すグラフ、第2図は積層チツプ
コンデンサの内部電極の突上げと空隙を示す拡大
断面図、第3図は積層チツプコンデンサの端子電
極におけるガラス質の溶出によるボイドの発生を
示す拡大断面図、第4図は積層チツプコンデンサ
の端子電極におけるニツケルメツキによるニツケ
ルの染込み析出を示す拡大断面図、第5図は積層
チツプコンデンサの端子電極に本発明にかかる塗
料(塗料組成(A))を塗布後にニツケル−半田メツ
キを施した試料の拡大断面図である。 1,5……素体、2,6……内部電極、3……
端子電極、4……空隙、7……銀電極層、8……
ニツケル層、9……半田層。
成プロフイルを示すグラフ、第2図は積層チツプ
コンデンサの内部電極の突上げと空隙を示す拡大
断面図、第3図は積層チツプコンデンサの端子電
極におけるガラス質の溶出によるボイドの発生を
示す拡大断面図、第4図は積層チツプコンデンサ
の端子電極におけるニツケルメツキによるニツケ
ルの染込み析出を示す拡大断面図、第5図は積層
チツプコンデンサの端子電極に本発明にかかる塗
料(塗料組成(A))を塗布後にニツケル−半田メツ
キを施した試料の拡大断面図である。 1,5……素体、2,6……内部電極、3……
端子電極、4……空隙、7……銀電極層、8……
ニツケル層、9……半田層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 銀粉あるいは銀粉に対して1〜10重量%のパ
ラジウム粉末を含有する貴金属粉体50〜80重量%
と、融点600〜900℃の耐酸性ガラス粉末1〜5重
量%と、有機質ビヒクル15〜49重量%とからなる
メツキ下地用導電性塗料。 2 耐酸性ガラス粉末の平均粒径が1μm以下で
ある特許請求の範囲第1項記載のメツキ下地用導
電性塗料。 3 耐酸性ガラス粉末が主成分としてTiO210〜
30重量%、SiO230〜50重量%を含有する特許請
求の範囲第1項記載のメツキ下地用導電性塗料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7600383A JPS59200792A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | メツキ下地用導電性塗料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7600383A JPS59200792A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | メツキ下地用導電性塗料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200792A JPS59200792A (ja) | 1984-11-14 |
| JPH0218574B2 true JPH0218574B2 (ja) | 1990-04-26 |
Family
ID=13592624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7600383A Granted JPS59200792A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | メツキ下地用導電性塗料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59200792A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4806159A (en) * | 1987-07-16 | 1989-02-21 | Sprague Electric Company | Electro-nickel plating activator composition, a method for using and a capacitor made therewith |
| JP2618019B2 (ja) * | 1988-09-22 | 1997-06-11 | 住友金属鉱山株式会社 | メッキ下地用導電性塗料およびそれを用いるメッキ方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5811565A (ja) * | 1981-07-14 | 1983-01-22 | Murata Mfg Co Ltd | 導電塗料 |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP7600383A patent/JPS59200792A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59200792A (ja) | 1984-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4172919A (en) | Copper conductor compositions containing copper oxide and Bi2 O3 | |
| KR100866220B1 (ko) | 도체 조성물 및 그 제조방법 | |
| US5781402A (en) | Conducting thick film composition, thick film electrode, ceramic electronic component and laminated ceramic capacitor | |
| JP5426241B2 (ja) | チップ抵抗器の表電極および裏電極 | |
| US6436316B2 (en) | Conductive paste and printed wiring board using the same | |
| JPS6115523B2 (ja) | ||
| JP2658509B2 (ja) | 電子部品と電極ペーストおよび端子電極の形成方法 | |
| JPH0817671A (ja) | 導電性ペースト | |
| JPS6310887B2 (ja) | ||
| JP2002163928A (ja) | ガラス組成物およびこれを用いた厚膜ペースト | |
| JP3257036B2 (ja) | チップ型電子部品用導電性ペースト | |
| JP3548775B2 (ja) | 導電ペースト及びセラミック電子部品 | |
| JPH0423308A (ja) | セラミックコンデンサ | |
| JP2973558B2 (ja) | チップ型電子部品用導電性ペースト | |
| JP2618019B2 (ja) | メッキ下地用導電性塗料およびそれを用いるメッキ方法 | |
| JPH0218574B2 (ja) | ||
| JPH097879A (ja) | セラミック電子部品及びその製造方法 | |
| JPH0136243B2 (ja) | ||
| JPH0834168B2 (ja) | セラミックコンデンサ端子電極用導電性組成物 | |
| JPH0817140B2 (ja) | セラミックコンデンサ端子電極用導電性組成物 | |
| JP3291831B2 (ja) | チップ型電子部品用導電性ペースト | |
| JPS6127003A (ja) | 導電性ペ−スト組成物 | |
| JP2996016B2 (ja) | チップ型電子部品の外部電極 | |
| JPS635842B2 (ja) | ||
| JPH0878279A (ja) | チップ型電子部品の外部電極形成方法 |