JPH0218707A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0218707A JPH0218707A JP16735688A JP16735688A JPH0218707A JP H0218707 A JPH0218707 A JP H0218707A JP 16735688 A JP16735688 A JP 16735688A JP 16735688 A JP16735688 A JP 16735688A JP H0218707 A JPH0218707 A JP H0218707A
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- filmed
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、磁気ディスク装置などにおいて磁気記憶媒
体との間で信号の授受を行うための薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関する。
体との間で信号の授受を行うための薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関する。
「従来の技術］
薄膜磁気ヘッドは、従来のバルクのコアを用いた磁気ヘ
ッドに比較して小型であるので、トラック幅を小さくす
ることができるとともに、高周波数帯域での記録が可能
となるから、いずれの場合にも記録の高密度化ができる
。従って、磁気ディスク装置の浮動式磁気ヘッドなどに
おいてその利点を生かして使用されている。
ッドに比較して小型であるので、トラック幅を小さくす
ることができるとともに、高周波数帯域での記録が可能
となるから、いずれの場合にも記録の高密度化ができる
。従って、磁気ディスク装置の浮動式磁気ヘッドなどに
おいてその利点を生かして使用されている。
その構造の一例を第３図に示すが、これは、非磁性基板
１の上に下部磁性体層２を成膜し、その」二にギャップ
層３を介在させてコイル４を構成する導体層を二重に成
膜し、これを絶縁体層５により囲繞するようにした後上
部磁性体層７を成膜している。コイル４は、下部磁性体
Ｒ２と上部磁性体層７との間のバックギャップ部（図示
略）を中心に同心的に位置しており、下部磁性体Ｍ２と
上部磁性体層７との面部ギャップ８に挟着された上記ギ
ャップ層が磁気ギャップ８を構成している。
１の上に下部磁性体層２を成膜し、その」二にギャップ
層３を介在させてコイル４を構成する導体層を二重に成
膜し、これを絶縁体層５により囲繞するようにした後上
部磁性体層７を成膜している。コイル４は、下部磁性体
Ｒ２と上部磁性体層７との間のバックギャップ部（図示
略）を中心に同心的に位置しており、下部磁性体Ｍ２と
上部磁性体層７との面部ギャップ８に挟着された上記ギ
ャップ層が磁気ギャップ８を構成している。
このようなパターンの形成の方法は、周知のとおり、ス
パッタリングや蒸着により一たん全面に成膜した後に不
要部分を除去する方法と、予め不要部分をマスキングし
ておき必要部分のみにめっきなどにより成膜する方法と
がある。
パッタリングや蒸着により一たん全面に成膜した後に不
要部分を除去する方法と、予め不要部分をマスキングし
ておき必要部分のみにめっきなどにより成膜する方法と
がある。
そして、上記のような成膜工程が終了した後、切断及び
研磨を行なって磁気ギャップ８を露出させる工程となる
。
研磨を行なって磁気ギャップ８を露出させる工程となる
。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、上記のような磁気ヘッドにおいてはギャップ
長すなわちギャップ層３の厚さを周波数に対応した適当
な値に設定することが記録密度や精度を向上する上で重
要となる。従って、ギャップ層３を成膜する際に、スパ
ッタリング、蒸着あるいはめっきなどの成膜条件を厳密
に制御することによりギャップ層３の模りが一定の範囲
に収まるように管理している。しかしながら、上述した
ように、ギャップ層３を形成した後」二部磁性体層７を
成膜する間にコイル４や絶縁体層５を成膜する工程が入
るから、その工程でギャップ層３がエツチングやマスキ
ング、スパッタリングや蒸着にさらされる。そこで、ギ
ャップ層３は全面的にあるいは部分的に厚さが変化する
可能性があり、その厚さの精度が低下する結果、ギャッ
プ長が所定の値とならずヘッドの磁気特性が低下する。
長すなわちギャップ層３の厚さを周波数に対応した適当
な値に設定することが記録密度や精度を向上する上で重
要となる。従って、ギャップ層３を成膜する際に、スパ
ッタリング、蒸着あるいはめっきなどの成膜条件を厳密
に制御することによりギャップ層３の模りが一定の範囲
に収まるように管理している。しかしながら、上述した
ように、ギャップ層３を形成した後」二部磁性体層７を
成膜する間にコイル４や絶縁体層５を成膜する工程が入
るから、その工程でギャップ層３がエツチングやマスキ
ング、スパッタリングや蒸着にさらされる。そこで、ギ
ャップ層３は全面的にあるいは部分的に厚さが変化する
可能性があり、その厚さの精度が低下する結果、ギャッ
プ長が所定の値とならずヘッドの磁気特性が低下する。
この発明は、ギャップ長の値を一定として再現性の良い
薄膜磁気ヘッドを製造することができるような薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
薄膜磁気ヘッドを製造することができるような薄膜磁気
ヘッドの製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
［課題を解決するための手段］
上記のような課題を解決するために、この発明は、上部
磁性体層を成膜する的にギャップ層の厚さを測定し、ギ
ャップ層の上に測定値に応じた厚さを持つギャップ調整
層を重ねて成膜することにより、ギャップ層の厚さを正
確にするようにしたしのである。厚さの測定方法は、分
光反射干渉法等の原理による非接触型膜厚計の採用が好
適である。
磁性体層を成膜する的にギャップ層の厚さを測定し、ギ
ャップ層の上に測定値に応じた厚さを持つギャップ調整
層を重ねて成膜することにより、ギャップ層の厚さを正
確にするようにしたしのである。厚さの測定方法は、分
光反射干渉法等の原理による非接触型膜厚計の採用が好
適である。
［作用］
このような薄膜磁気ヘッドの製造方法においては、ギヤ
ツブ層を形成した後、コイル層や絶縁体層を成膜形成す
る過程でギャップ層が減厚されるが、」二部磁性体層を
成膜する曲にギャップ層の厚さを測定し、その測定値に
応じて目的とする厚さに満たない厚さだけ新たに成膜を
行なうことにより、細かい厚さの微調整がなされる。
ツブ層を形成した後、コイル層や絶縁体層を成膜形成す
る過程でギャップ層が減厚されるが、」二部磁性体層を
成膜する曲にギャップ層の厚さを測定し、その測定値に
応じて目的とする厚さに満たない厚さだけ新たに成膜を
行なうことにより、細かい厚さの微調整がなされる。
［実施例ｊ
以下、第１図（イ）ないしくチ）の図面を参照してこの
発明の詳細な説明する。
発明の詳細な説明する。
第１図（イ）は、基板１の」二に磁性体からなる下部磁
性体層２を形成し、次に絶縁体からなるギヤ、ツブ層３
を順次成膜形成した状態を示している。
性体層２を形成し、次に絶縁体からなるギヤ、ツブ層３
を順次成膜形成した状態を示している。
ここで、コイル４を囲繞する絶縁体層５の最下層５ａを
成膜しく同図（ロ））、コイル４の第１導体層４ａを成
膜しく同図（ハ））、さらに第２絶縁体層５ｂ（同図（
ニ））、第２導体層４ｂ（同図（ホ））、第３絶縁体層
５ｃ（同図（へ））を順次成膜形成する。これらの工程
は、スパッタリングや蒸着などの成膜工程と、エツチン
グやマスキングなどのパターン形成工程とを交互に行な
うことによりなされる。
成膜しく同図（ロ））、コイル４の第１導体層４ａを成
膜しく同図（ハ））、さらに第２絶縁体層５ｂ（同図（
ニ））、第２導体層４ｂ（同図（ホ））、第３絶縁体層
５ｃ（同図（へ））を順次成膜形成する。これらの工程
は、スパッタリングや蒸着などの成膜工程と、エツチン
グやマスキングなどのパターン形成工程とを交互に行な
うことによりなされる。
本発明では、ここでギャップ層３の厚さを分光反射干渉
法等の原理による非接触型膜厚計で測定する。そして、
この測定値と目標とするギャップ厚との差を算出し、そ
れと同じ厚さになるように成膜を行ない（同図（ト））
、ギャップ調整層６とする。このギャップ調整層６は当
然にコイル４を囲繞する絶縁体層５を覆っている。次に
、このギャップ調整層６の−Ｆに上部磁性体層７を成膜
形成Ｌ （同図（ヂ））、さらにその上に所定の保護膜
（図示路）を形成した後、基板１を所定の位置で切断す
るとともにその切断面を研磨して、磁気媒体に摺接する
ギャップ面（図示路）を形成する。
法等の原理による非接触型膜厚計で測定する。そして、
この測定値と目標とするギャップ厚との差を算出し、そ
れと同じ厚さになるように成膜を行ない（同図（ト））
、ギャップ調整層６とする。このギャップ調整層６は当
然にコイル４を囲繞する絶縁体層５を覆っている。次に
、このギャップ調整層６の−Ｆに上部磁性体層７を成膜
形成Ｌ （同図（ヂ））、さらにその上に所定の保護膜
（図示路）を形成した後、基板１を所定の位置で切断す
るとともにその切断面を研磨して、磁気媒体に摺接する
ギャップ面（図示路）を形成する。
第２図はこの発明の他の実施例であり、絶縁体層５のエ
ツチングが過剰でコイル４の導体層＝１ ｂが絶縁体層
５より突出している場合を示している。
ツチングが過剰でコイル４の導体層＝１ ｂが絶縁体層
５より突出している場合を示している。
このような場合には、ギャップ調整層６が無いときは上
部磁性体層７とコイル４とが直接接触して短絡してしま
うが、本発明の場合にはギャップ調整層６が電気的絶縁
層として作用するので製品として採用でき、歩留りを向
−卜させろことができる。
部磁性体層７とコイル４とが直接接触して短絡してしま
うが、本発明の場合にはギャップ調整層６が電気的絶縁
層として作用するので製品として採用でき、歩留りを向
−卜させろことができる。
「発明の効果」
以十詳述したように、この発明は、下部磁性体層の」二
に非磁性体からなるキャップ層、導体からなるコイル層
、絶縁体からなる絶縁層皮び上部磁性体層を順次成膜形
成するようにした薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
上記上部磁性体層を成膜する前にギャップ層の厚さを測
定し、ギャップ層の上に測定値に応じた厚さを持つギャ
ップ調整層を重ねて成膜するようにしたことにより、そ
れぞれのギャップ厚を厳密に精度良く設定することがで
き、それにより、記録及び再生機能の高い磁気ヘッドを
安定的？こ製造せしめるという優れた効果を奏するもの
である。
に非磁性体からなるキャップ層、導体からなるコイル層
、絶縁体からなる絶縁層皮び上部磁性体層を順次成膜形
成するようにした薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
上記上部磁性体層を成膜する前にギャップ層の厚さを測
定し、ギャップ層の上に測定値に応じた厚さを持つギャ
ップ調整層を重ねて成膜するようにしたことにより、そ
れぞれのギャップ厚を厳密に精度良く設定することがで
き、それにより、記録及び再生機能の高い磁気ヘッドを
安定的？こ製造せしめるという優れた効果を奏するもの
である。
第１図（イ）ないしくヂ）はこの発明の一実施例の工程
を示す断面図、第２図はこの発明の他の実施例を示す断
面図、第３図は従来例を示す断面図である。 ２・・・・・・下部磁性体層、３・・・・・・ギャップ
層、４・・・・・・コイル、５・・・・・絶縁体層、６
・・・・・ギャップ調整層、７・・・・・・上部磁性体
層。
を示す断面図、第２図はこの発明の他の実施例を示す断
面図、第３図は従来例を示す断面図である。 ２・・・・・・下部磁性体層、３・・・・・・ギャップ
層、４・・・・・・コイル、５・・・・・絶縁体層、６
・・・・・ギャップ調整層、７・・・・・・上部磁性体
層。
Claims (1)
- 下部磁性体層の上に非磁性体からなるギャップ層、導体
からなるコイル層、絶縁体からなる絶縁層及び上部磁性
体層を順次成膜形成するようにした薄膜磁気ヘッドの製
造方法において、上記上部磁性体層を成膜する前にギャ
ップ層の厚さを測定し、ギャップ層の上に測定値に応じ
た厚さを持つギャップ調整層を重ねて成膜することを特
徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16735688A JPH0218707A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16735688A JPH0218707A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0218707A true JPH0218707A (ja) | 1990-01-23 |
Family
ID=15848203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16735688A Pending JPH0218707A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0218707A (ja) |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP16735688A patent/JPH0218707A/ja active Pending
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