JPH02188576A - エポキシ化された(メタ)アクリレート化合物を含む組成物 - Google Patents

エポキシ化された(メタ)アクリレート化合物を含む組成物

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JPH02188576A
JPH02188576A JP581689A JP581689A JPH02188576A JP H02188576 A JPH02188576 A JP H02188576A JP 581689 A JP581689 A JP 581689A JP 581689 A JP581689 A JP 581689A JP H02188576 A JPH02188576 A JP H02188576A
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福家 一昭
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はエポキシ化された(メタ)アクリレート組成物
に関するものである。
(メタ)アクリレート化合物は熱、紫外線、イオン化放
射線、ラジカル重合開始剤の存在下で容易に単独重合ま
たは他の不飽和基含有化合物と共重合することが可能で
、また塗料用樹脂の中間原料としても有用である。
(従来の技術) 従来より各種のアクリル酸エステル類モノマーが知られ
ている。
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル。
アクリル酸2−エチルヘキシル等の単官能モノマーおよ
びトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート等の多官能モノマーが一
般的に知られている。
しかしながら、単官能モノマーは印刷インキお・よび塗
料に用いた場合には硬化後の未反応モノマーの臭気がは
なはだしく問題となる。
また多官能モノマーは塗料および印刷インキの希釈剤と
して用いる場合には、樹脂に対して多量に使用する必要
があり、したがって樹脂が有する特性が失われるという
欠点を有している。
その点 (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れるシクロへキセニル(メタ)アクリレート化合物を酸
化剤でエポキシ化して得られる(式中Rは水素原子また
はメチル基を表わす)は低粘度で、かつ、低臭気で広範
囲に亘る樹脂への溶解性を有しており、このものはイン
キ、塗料、接着剤、被覆剤、成型用樹脂の原料あるいは
改質剤として有用である。
しかし、この一般式(11)で示されるエポキシ化され
た(メタ)アクリル酸エステル(以下Rが水素原子の時
はAETHB、Rがメチル基の時はMETHBと略す)
は極めて重合し易く製造工程。
貯蔵及び輸送中に熱、光およびその他の要因によってし
ばしば重合することが知られている。
これを防ぐために特願昭62−10083号出願におい
ては、アクリルモノマーの一般的な禁止剤では当該(メ
タ)アクリル酸エステル、すなわちAETHB (ME
THB)に対しては重合禁止能は十分ではないとした上
で、アミン顕、とりわけとへリジンが好ましいというこ
とが開示されている。また特願昭62−252217号
出願においても重合禁止剤についての記載はあるが、そ
の効果については全く触れられてないため、前記特願昭
63−10083号出願がAETHB (METHB)
の重合防止方法に関す′る実質的に唯一の従来技術であ
った。
(発明が解決しようとする課題) これに対して、本発明者らは、前記特願昭63−100
83号出願において述べられているピペリジン単独ある
いはとへリジンとハイドロキノン等のいわゆる通常の禁
止剤との併用ではAETHB(M、ETHB)の重合防
止効果は、まだ十分とは言えないことを確かめた。
この理由の一つは特願昭63−10083号が出願され
た当時においては、AETHB (METHB)が未だ
工業的規模で生産されていなかったため製品として具備
すべき品質が十分予見できなかったことにある。
すなわち、j1金防止効果をある程度有しているとして
も工業的規模で生産するためには、得られた製品が目的
とする品質に合致するかどうかが重要になるのである。
この点に関してその後開発が進み、製品中に微量の重合
物が含まれると問題があることが明らかになっている。
例えば塗料用樹脂の中間原料を合成する際に、重合物を
含むAETHB (METHB>を使うと・重合物が粘
着性の不溶解物として析出し、プロセス上程々の問題を
生じるとともに塗料の商品価値を著しく低下せしめてし
まう。
製品AETHB (METHB)中に含まれる微量の重
合物はAETHB (MBTHB)自体の低分子量重合
物が主成分と考えられるが、これらの重合物の含有量は
n−ヘキサンあるいはn−へブタンに製品を少量溶解し
た時に白濁するかどうかで明瞭に確認することができる
(n−へブタンを使ったこのような溶解性試験を以下H
Tと呼ぶ)。
製品として使えるAETHB (ME、THB)はHT
が透明あるいはわずかに白濁する程度でなければならな
いことがわかっている。
旧って、特願昭63−10083号出願の方法を追試し
て得られたAETHB (METHB>のHTt!−調
べると白濁もしくは沈殿物が析出する程の強い白濁であ
るため、品質的には十分ではないと判断される。
すなわち、AETHB (METHB)を工業的に生産
するためには、さらに効果的な重合抑制力′法を確立す
る必要があり、本発明者らが出願した当時は依然として
、それを可能にする技術は存在しなかったのである。
本発明者らは、このような課題に対して鋭意研究を行い
、特定の重合防止剤を組み合わせてAETHB (ME
THB)組成物として用いれば上記目的に極めて合致す
ることを見い出し本発明を完成するに至った。
(発明の構成) すなわち1本発明は 「一般式(I) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす→で表わさ
れるシクロへキセニル(メタ)アクリレート化合物を酸
化剤でエポキシ化して 一般式(II) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる化合物および下記の[A群]および[B群]から選
ばれる各々少くとも1種の化合物を共存せしめたことを
特徴とするエポキシ化された(メタ)アクリレート組成
物: [A群] ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、
P−ベンゾキノン、クレゾール、t−ブチルカテコール
、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−
t−ブチル−4−メトキシフェノール、3−t−ブチル
−4−メトキシフェノール、2,6−ジーt−ブチル−
P−クレゾール、2.5−ジヒドロキシ−P−キノン、
ピペリジン、エタノールアミン、α−ニトロソ−β−ナ
フトール、ジフェニルアミン、フェノチアジン、N−ニ
トロンフェニルヒドロキシルアミン、N、N−ジエチル
ヒドロキシルアミン [B群] リン酸、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、す・ン酸
水素アンモニウム、ピロリン酸、ピロリン酸カリウム、
ピロリン酸ナトリウム、ビロリン酸2−エチルヘキシル
エステル、ビロリン酸カリウム2−エチルヘキシルエス
テル、ビロリン酸ナトリウム−2−エチルヘキシルエス
テル、トリポリリン酸、トリポリリン酸カリウム、トリ
ポリリン酸ナトリウム」 である。
以下に本発明のAETHB (METHB)組成物につ
いて詳しく説明する。
先ずAETHB (MBTHB)組成物中の主成物であ
るエポキシ化合物を製造する反応工程について説明する
すなわち、一般式(I)で表わされる(メタ)アクリレ
ート化合物を酸化剤でエポキシ化することにより一般式
(II)で表わされるAETHB< M E T’ H
B )が得られる。
この除用いる酸化剤は不飽和結合をエポキシ化できるも
のなら何でもよく過ギ酸、過酢酸、過プロピオン酸、m
−クロロ過安息香酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸
、ターシャリブチルハイドロパーオキサイド、クミルハ
イド・ロバ−オキサイド、テトラリルハイドロバーオキ
サイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロバーオキサイ
ドなどの各種ハイドロパーオキサイド類、過酸化水素な
どを例として挙げることができる。
酸化剤は触媒と併用してもよく、例えば、有機過酸を用
いる場合なら炭酸ソーダなどのアルカリや[Mなどの酸
を触媒として併用しうる。
同じく上記各種のハイドロパーオキサ、イド類を用いる
場合ならモリブデンヘキサカルボニルなど公知の触媒能
を有するものを、また、過酸化水素を用いる場合ならタ
ングステン酸と苛性ソーダの混合物を併用することがで
きる。
反応をバッチで行なう場合は先ず1反応容器内にシクロ
へキセニル(メタ)アクリレートを所定量仕込み、この
中に必要に応じて触媒、安定剤を溶解させ、この中に前
記酸化剤を滴下して行なう・。
酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートとの反
応モル比は理論的には1/1であるが、本発明の方法で
は0.1〜10の範囲、好ましくは、0.5〜10の範
囲、さらに好ましくは0゜8〜1.5の範囲である。
酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートとのモ
ル比が10を越える場合はシクロへキセニル(メタ)ア
クリレートの転化率および反応時間短縮、(メタ)アク
リレートの重合によるロスの減少という点で好ましいが
、過剰の酸化剤による副反応や酸化剤の選択率および未
反応の酸化剤を回収回収する場合に多大の費用を要する
。などの欠点がある。
逆に酸化剤とシクロへキセニル(メタ)アクリレートと
の反応のモル比が0.1以下の場合は酸化剤の選択率、
転化率、酸化剤による副反応を抑制するという点で好ま
しいが、(メタ)アクリレートの重合によるロス、未反
応のシクロへキセニル(メタ)アクリレートを回収する
場合に多大の費用を要する。などの欠点がある。
反応温度はエポキシ化反応が酸化剤の分解反応に優先す
るような上限値以下で行ない、たとえば、。
過酢酸を用いる場合なら70℃以下で、ターシャリブチ
ルハイドロパーオキサイドを用いる場合なら150℃以
下が好ましい。
反応温度が低いと反応の完結までに長時間を要するので
、過酢酸を用いる場合なら0℃、ターシャリブチルハイ
ドロパーオキサイドを用いる場合なら20℃という下限
値以上で行うことが好ましい。
また、エポキシ化反応の際、酸化剤からの副生などによ
る有機酸、アルコール、水でエポキシ基が開環してしま
う副反応が生じるので、副反応量が少なくなるような温
度を前記したような温度領域から選定して実施する。
反応圧力は一般的には常圧下で操作されるが、加圧また
は低圧下でも実施できる。
また1反応は溶媒存在下でも実施できる。
溶媒存在下での反応は反応粗液の粘度低下、酸化剤を希
しやくすることによる安定化などの効果があるなめ好ま
しい。
使用される溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン
など芳香族化合物、クロロフォルム、ジメチルクロライ
ド、四塩化炭素、クロルベンゼンなどのハロゲン化物、
酢酸エチル、酢酸ブチル、などのエステル化物、アセト
ン、メチルエチルゲトンなどのケトン化合物、1.2−
ジメトキシエタンなどのエーテル化合物などを用いるこ
とができる。
溶媒の使用量はシクロへキセニル(メタ)アクリレート
に対して0.5〜5倍量が好ましい。
0.5倍量より少ない場合は酸化剤を希しやくすること
による安定化などの効果が少なく、逆に5倍量より多く
しても安定化効果はそれ程アップせず溶媒の回収に多大
の費用を要するので無駄となる。
本発明のポイントは特定の重合防止剤を混合した組成物
としたことにある。
ところでエポキシ化反応時に特願昭63−10083号
出願に記載された禁止剤を添加しただけ・ではHTで白
濁する。
これはわずかではあるが反応中に重合が起きる。
ためであると考えられている。
しかしながら、このような現象は軽微であるため、例え
ば液体クロマトグラフィーのような分析機器でも明瞭に
検知できないため見逃してしまう。
HTで白濁した反応粗液は後の精製工程を経て製品化さ
れる間にさらに重合が進み、製品のHTは沈殿物を伴う
程の濁りとなる。
このような現象に対し、て本発明者らは前記[A。
B群]から選ばれた少くとも1種以上の化合物を共存せ
しめた組成物として製造工程、保管、流通過程に供する
ことにより解決できることを見出した。このとき組成物
に分子状酸素を共存させることにより効果を十分に発揮
させることができるが。
具体的には、運搬または保管中のタンクに空気を存在さ
せていればよい。
通常、液体を容器中に5A、管する場合には特に意識し
なくても容器の上部の空間に空気が存在する状態になる
ので共存状態が必然的に形成される。
但し、事前に空気を吹き込む操作を行なっておいてもて
もよい。
吹込量は任意に選べるが、多過ぎると、溶媒ロスとなる
ので好ましくない。
また、系内での爆発混合気形成を回避するため空気とと
もに系内に窒素を共存させるのが通常であるが、その場
合の吹込みガス中の酸素濃度は0゜01%(容量)以上
、好ましくは3%(容量)以上である。酸素濃度は高い
程効果があるが上限値は系での爆発下限界酸素濃度とな
り、その値は使用溶媒により興なるものである。
特に本発明で規程する2種以上の化合物の絹合わせで使
用した場合は各群の化合物の単独使用あるいは各群から
の2種のみによる併用にかがる効果よりはるかに優れ、
その相乗効果も極めて大きいことは特筆すべきものであ
る。
次に本発明のエポキシ化された(メタ)アクリレート組
成物を製造する際の情況を具体的に説明する。
本発明のエポキシ化された(メタ)アクリレート組成物
に対して用いられる[A群]の化合物の一部、例えばハ
イドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルと分
子状酸素の組合わせが、いわゆるアクリル酸やアクリル
酸エステルの重合防止に効果があることは公知であり、
特願昭63−10083号出願の実施例でも空気雰囲気
下で禁止効果を比較している。
本発明のエポキシ化された(メタ)アクリレート組成物
に対して[B群]の少くとも1種の化合物を必須の成分
として添加する理由は用いる酸化剤が微量とはいえ分解
しラジカル源を発生するのを抑制することに効果がある
と考えられるためである。
次に重合防止剤の使用量は対象とする化合物の種類、製
造工程上の条件によって任意に変えられるが、[A群〕
の化合物としては反応原料であるシクロへキセニルメチ
ル(メタ)アクリレートに対して0.005〜5重量%
、より好ましくは0゜001〜O,1ffi量%、[B
r1]の化合物とじてo、ooi〜1重量%、より好ま
しくは0.01〜0.2重量%の範囲で添加するのがよ
い。
添加方法は粉末のままでも良いし、溶媒に溶解し、て添
加してもよい。
反応は連続もしくはバッチで行うが、連続の場合はピス
トンフロー型式が好ましい。
この時用いる重合防止剤は各々単独で仕込んでも良いが
粉末状のものの場合は溶媒に溶解してから仕込むのが良
い。
また2M料エステルに溶解して仕込んでも良い。
また、バッチ方式の場合も同様であるが、酸化剤は逐次
的に仕込むセミバッチ方式が望ましい。
本発明のポイントは、[A群]および[B群]から選ば
れる各々少くとも1種を共存せしめて重合を防止する点
にあるが、本発明はそのまま精製1看にも有効に活用で
きるのである。
反応終了後のエポキシ化反応粗液は溶媒、低沸点物質、
未反応原料、触媒などの除去、中和、吸着剤やイオン交
換樹脂処理などによってW製することができる。
特に酸化剤として有機過酸を用いる場合は反応粗液の中
和水洗を行うのが好ましい。
これは、中和せずに溶媒等の低沸点成分を除去しようと
すると極めて重合し易いためである。
中和に用いるアルカリ水溶液としては例えば、N aO
H%KOH、K  CO、N a2 CO3、NaHC
O3、KHCO3、NH3などのようなアルカリ性物質
の水溶液を使用することができる。
使用する際の濃度はひろい範囲で自由に泗択することが
できる。
N a HCO3水溶液を用いるのが好ましい。
中和および水洗は10〜90℃、好ましくは10〜50
°Cの温度範囲で行うのが良い。
中和あるいは水洗を行った反応粗液から低沸点成分を除
去するには重合禁止剤を添加した後薄膜式蒸発器などを
用いるのが良い。
特に反応粗液中に含まれる[A、B群]から選ばれた化
合物が下層水中に抽出され中和上層液中の含量が減少す
る場合もあるが、その際は、中和終了後各群の化合物を
適当量補充するのが好ましい、また、中和水洗時にも分
子状酸素を系内に吹込むことが望ましい。
中和水洗工程では、有機酸の中和除去とともに残存有機
過酸を除去することが重要である0次の低沸点成分除去
工程を安定に操作するためには、中和上層液中の残存有
機過酸含量を0.1%以下。
、好ましくは0.01%以下になるまで繰り返し中和水
洗する必要がある。
従って連続式に中和水洗する場合は多段式になるが、通
常3〜5段にすれば有機過酸濃度を規定値以下に下げる
ことができる。
多段式の場合は最終段階は完全な水洗もしくはせいぜい
1%程度のアルカリ水溶液を使うのが好ましい。
これは低沸点成分を除去したのちの塔底液をそのまま製
品にするよ、うな場合にはアルカリ金属が製品に混入し
品質に影響を及ぼすためである。
これはバッチで繰返し中和する場合も同様である。なお
、連続式で中和水洗した場合、下層水を向流式に前中和
に使うことは何ら問題なく、またその方が経済的である
中和水洗に使用するアルカリ量は反応粗液中の有機過酸
と有機酸の合計量に対して当量比で0゜5〜3倍量、好
ましくは1.1”1.5ft!を量使用するのがよく必
要以上に量を増やすのは経済的ではない、また当量比を
必要以上に下げた場合有機過酸あるいは有機酸を除去す
るのに多量の水を要するため、得策ではないし、また、
溶媒等の下層水中への溶解ロスも増加する。
中和水洗工程の次に溶媒を除去する。
(脱低沸工程) 脱低沸には通常薄膜式蒸発器を用いるが、加熱温度は重
合防止の点から50〜180℃、好ましくは、60〜1
00℃で行うのがよい。
圧力は低沸点成分の物性によって任意に選べるが加熱温
度との関係で減圧で操作するのが一般的である。
分子状酸素を蒸発器に導入する場所は任意に運べるが塔
底液が留出するラインから吹込むのが普通である。
吹込み量は任意に選べるが上限量は真空系の能力、ある
いは塔底液が安定に流下するかどうか、あるいは留出し
た低沸点成分をコンデンサーで補集する際の回収ロスを
いう観点から自ずと制限される。脱低沸工程で得られる
塔底液は純度的には94〜96%までしか達していない
が、本発明の成果として、HTが透明もしくはわずかに
白濁する程度の品質である。
したがって1通常の用途ではこのまま製品として十分通
用するものである。
さらに高純度の製品を得るためには次に製品化工程を行
う、製品化工程は、残存低沸点成分を完全に除去するも
ので脱低沸工程と同様に行うが、更に減圧度を増して高
真空下で行うのが一般的である。
以下実施例をさらに詳しく説明する。
実施例−1 攪拌機および冷却用ジャケットが付いた内容量200j
のガラス反応器にシクロへキセニルメチルメタクリレー
ト14.4kg、酢酸エチル52−18kg、ハイドロ
キノンモノメチルエーテル12gr、ピロリン酸12g
を加え、かつ反応器に挿入管から酸素/チッ素(10/
90容量%)の混合ガスを100Nj/Hrで吹込んだ
次いで反応温度を50゛Cに保ち、30%過酢酸溶液2
4.8kgを定量ポンプで4時間かけて仕込んだ、仕込
み終了後、更に4時間熟成後反応を終了させた0反応粗
液1gを採取しn−へブタンLogに溶解したところ透
明であった。
反応粗液を室温まで冷却後10%Na2CO350kg
を加え30分攪拌後、30分間静置して分液させる。下
層水を除去後更に10%N a 2 C0350kgを
加え同様な操作を行う。
この時上層液中の残存過酢酸濃度は0.02%で酢酸は
完全に消失していた。
次いで、1%Na  CO350k gを加え同様な操
作を行ったところ過酢酸濃度は0.01%以下であった
次に、中和上層液、70.5kgにハイドロキノンモノ
メチルエーテル12gビロリン酸12 gを加え、ガラ
ス製スミス式薄膜蒸発器で脱低沸処理した。操作条件は
加熱温度80℃、圧力150mmHgで、塔底液留出ラ
インから酸素/窒素< 10/90容量%)の混合ガス
を100Nj/Hrで吹込んだ。
塔底液の取得量は14.2kgであった。
またガスクロマトグラフィー分析で組成を調べたところ
METH894,7%、酢酸エチル1.8%、シクロへ
キセニルメチルメタクリレート1゜0%、その他2.5
%であった。
塔底液1gをn−へブタン10gに溶かしなところ、透
明であった。
実施例−2 攪拌機および冷却用ジャケットが付いた内容量200J
のガラス反応器にシクロへキセニルメチルメタクリレー
ト14.4kg、酢酸エチル52゜8kg、ハイドロキ
ノン12g、2−エチルヘキシルトリポリリン酸ナトリ
ウムi2gを加え、かつ反応器に挿入管から酸素/チッ
素(10/90容量%)の混合ガスを100NJ/Hr
で吹込ん−だ0次いで反応温度を40°Cに保ち、30
%過酢酸溶液24.8kgを定量ポンプで4時間かけて
仕込んだ。
仕込み終了後、更に6時間熟成後反応を終了させた0反
応粗液1gを採取しn−へブタン10gに溶解したとこ
ろ透明であった。
反応粗液を室温まで冷却後、10%NaOH40kgを
加え30分攪拌後、30分間静置して分液させる。下層
水を除去後更に10%N a 2 C0340kgを加
え同様な操作を行う。
この時上層液中の残存過酢酸濃度は0.03%で酢酸は
完全に消失していた8次いで、1%NaOH40k g
を加え同様な操作を行ったところ過酢酸濃度は0.01
%以下であった。
次に、中和上NJ液69.6kgにハイドロキノン12
g、2−エチルヘキシルトリポリリン酸ナトリウム12
gを加え、ガラス製スミス式薄膜蒸発器で脱低沸処理し
た。
操作条件は加熱温度100℃、圧力150mmHgで塔
底液留出ラインから、酸素/窒素(1〇−/9090容
量の混合ガスを100Nj/Hrで吹込んだ、塔底液の
取得量は13.9kgであった。またガスクロマトグラ
フィー分析で組成を調べたところMETH895,5%
、酢酸エチル1゜7%、シクロへキセニルメチルメタク
リレート1゜2%、そのfl!!1.6%であった。
塔底液1grをn−ヘプタン10gに溶かしたところわ
ずかに白濁したが沈殿物は認められなかった。続いて、
同じ装置で加熱温度80℃、圧力2〜3mmHHの条件
下でさらに脱低沸して高純度品を得た。
この時塔底からは微量の空気を系内に導入した。
塔底液の取得量は9.6kgであった。
ガスクロマトグラフィー分析したところM E ’I’
HB純度は98.1%であった0、− 塔底液1grをn−へブタン10gに溶かしなどこる白
濁したが、製品として使えるものであった。
比鮫例 攪拌機および冷却用ジャケットが付いた内容量−200
jのガラス反応器にシクロへキセニルメチルメタクリレ
ート14.4kg、酢酸エチル52.。
8kg、ハイドロキノンモノメチルエーテル12g、ピ
ロリン酸12gを加え、かつ反応器に挿入管から酸素/
チッ素(10/90容量%)の混合ガスを100Nj/
Hrで吹込んだ。
次いで反応温度を50℃に保ち、30%過酢酸溶液24
.8kgを定量ポンプで4時間かけて仕込んだ。
仕込み終了後、さらに4時間熟成後反応を終了させた9
反応粗液1gを採取しn−へブタン10gに溶解したと
ころ透明であった。
反応粗液を室温まで冷却後、10%N a 2 C03
50kgを加え30分撹拌後、30分間静置して分液さ
せる。
下層水を除去後更に10%Na2CO350kgを加え
同様な操作を行う。
この時上層液中の残存過酢酸濃度は0.02%で酢酸は
完全に消失していた。
次いで、1%N a  CO350k gを加え同様な
操作を行ったところ過酢酸濃度は0.01%以下であり
な。
次に、中和上層液71.1kgをガラス製スミス式薄膜
蒸発器で脱低沸処理した。
操作条件は加熱温度100℃圧力150mmHgで塔底
液ラインから酸素/窒素(10/90容量%)の混合ガ
スを100Nj/Hrで吹き込んだ、塔底液を3.3k
g取得したが蒸発器の振動異音が発生したため、操作を
中断した。
蒸゛発器を解体したところ樹脂状の重合物が壁面および
攪拌羽根に付着していた。得られた塔底液1gをn−へ
ブタン10grに溶解したところ多量の白色沈殿物が析
出した。
特許出願人 ダイセル化学工業株式会社1゜ 2゜ 手続補正書(自発) 事件の表示 平成1年特許願第581、 発明の名称 エポキシ化された (メタ)アクリレート組成物 名  称 (290)ダイセル化学工業株式会社 5、補正の内容 (1)特許請求の範囲を添付別紙の通りに補正する。
(2)明細書の第4ページ13行目、第8ページ下から
2行目、第11ページ下から2行目、第12ページ2行
目、第12ページ7行目、第12ページ8〜9行目、第
12ページ15行目、第12ページ19〜20行目 「−・−へキセニル(メタ)・・・」 を r会・・ヘキセニルメチル(メタ)−@−Jに修正する
(3)明細書の第10ページ4行目 「・や・水素アンモニウム・・・」 を 「φ・・水素アンモニウムナトリウム・・・」に修正す
る。(以下余白) 明細書の特許請求の範囲の欄および 発明の詳細な説明の欄 (4)明細書の第10ページ9行目 「ン酸、トリポリリン酸カリウム トリポリリン酸」 を 「ン酸、2−エチルヘキシルトリポリリン酸カリウム、
2−エチルヘキシルトリポリリン酸」に修正する。(以
下余白) 別紙 2、特許請求の範囲 一般式(I) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れるシクロへキセニルメチル(メタ)アクリレート化合
物を酸化剤でエポキシ化して一般式(11) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
れる化合物および下記の[A群]および[B群]から選
ばれる各々少くとも1種の化合物を共存せしめたことを
特徴とするエポキシ化された(メタ)アクリレート組成
物: [A群] ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、
P−ベンゾキノン、クレゾール、t−ブチルカテコール
、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−
t−ブチル−4−メトキシフェノール、3−t−ブチル
−4−メトキシフェノール、2,6−ジーt−ブチル−
P−クレゾール、2.5−ジヒドロキシ−P−キノン、
ピペリジン、エタノールアミン、α−ニトロソ−β−ナ
フトール、ジフェニルアミン、フェノチアジン、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミン、N、N−ジエチル
ヒドロキシルアミン [B群] リン酸、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水
素アンモニウムナトリウム、ピロリン酸、ピロリン酸カ
リウム、ピロリン酸ナトリウム、ビロリン酸2−エチル
ヘキシルエステル、ビロリン酸カリウム2−エチルヘキ
シルエステル、ピロリン酸ナトリウム−2−エチルヘキ
シルエステル、トリポIJ リン酸、2−エチルヘキシ
ルトリポリリン酸カリウム、2−エチルヘキシルトリポ
リリン酸ナトリウム、2−エチルへキシルテトラポリリ
ン酸ナトリウム、2−エチルへキシルテトラポリリン酸
カリウム。(以下余白)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
    れるシクロヘキセニル(メタ)アクリレート化合物を酸
    化剤でエポキシ化して 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)で表わさ
    れる化合物および下記の[A群]および[B群]から選
    ばれる各々少くとも1種の化合物を共存せしめたことを
    特徴とするエポキシ化された(メタ)アクリレート組成
    物: [A群] ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、
    P−ベンゾキノン、クレゾール、t−ブチルカテコール
    、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2−
    t−ブチル−4−メトキシフェノール、3−t−ブチル
    −4−メトキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−
    P−クレゾール、2,5−ジヒドロキシ−P−キノン、
    ピペリジン、エタノールアミン、α−ニトロソ−β−ナ
    フトール、ジフェニルアミン、フェノチアジン、N−ニ
    トロソフェニルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチル
    ヒドロキシルアミン [B群] リン酸、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水
    素アンモニウム、ピロリン酸、ピロリン酸カリウム、ピ
    ロリン酸ナトリウム、ピロリン酸2−エチルヘキシルエ
    ステル、ピロリン酸カリウム2−エチルヘキシルエステ
    ル、ピロリン酸ナトリウム−2−エチルヘキシルエステ
    ル、トリポリリン酸、トリポリリン酸カリウム、トリポ
    リリン酸ナトリウム。
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