JPH02196905A - 光学的薄膜体の膜厚測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学的薄膜体の膜厚測定方法、特に光学的薄膜
体の光学的厚さおよび屈折率を正確に測定する方法に関
するものである。

本発明の方法によって膜厚を測定すべき光学的薄膜体は
実質的に−様な厚さを有する。明確に言えば、この光学
的薄膜体は約０．５〜ｌＯμｍの範囲内の公称厚さを有
しうる。これら薄膜体の両面は互いにほぼ平行である。

その公称厚さの薄膜体間変化は約２％以下に限定されう
るが、好ましくは約１％以下となされうる。どの薄膜体
においても、その公称厚さの縁端量変化が約２％以下に
限定されうるが、好ましくは約１％となされうる。

これら薄膜体は高い光透過性を有する。明確に言えば、
これら薄膜体は入射光の約８４〜９９％を透過し、波長
が約２６０〜１１０００ｎの範囲内の予め定められたま
たはそれ以上の波長を有する入射光を少なくとも約９６
％、９８％あるいは９９％までも透過しうる。さらに、
これら薄膜体は入射光の焦点を薄膜体の厚さの三分の一
以下の光学距離内でシフトするようになされうる。何故
ならば、これら薄膜体は高い光透過性を有するので、入
射光の約３％以下を吸収し、回折し、かつ分散せしめる
が、波長が約２６０〜１０００　ｎｍの範囲内の１また
はそれ以上の特定波長を有する入射光の約１％以下を吸
収し、回折し、かつ分散せしめるようになされうる。

これら新規な薄膜体は多くの用途を有する。特にパーキ
ンエル？−（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｂｌｍｅｒ）２ＱＱ系プロ
ジエクタのような投影機における十字線（ｒｅｔｉｃｌ
ｅ）のための光学的透過性シールドとして有用である。

また、例えばこれら薄膜体をフォトマスク上に配置すれ
ば、そのフォトマスクを空気中に浮遊する微粒子あるい
は他の汚染体から保護する。これら薄膜体はアドバンス
ト、セミコンダクタ、プロダクツ（Ａｄｖａｎｃｅｄ　
５ｅｒｎｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）か
ら商品名ＢＢ−２，８５型広帯域フオトマスク膜皮およ
びＬＲ−１型紙反射性モノクロ膜皮として市販される。

８Ｂ−２，８５型膜皮はニトロセルロースで形成され２
．８５μｍの厚さを有する。単一の腹皮サンプルの厚さ
の変化は約０．０６μｍである。ＢＢ−２，８５型膜皮
は一人射光の波長が約３５０〜４５０　ｎｍの範囲内で
ある場合、平均して入射光の約０．３％以下を吸収およ
び分散し、入射光の焦点を約１μｍ以下の光学距離内で
シフトする。

この腹皮は典型的に７６．２ｍの外径と７２．４ＩＩＩ
Ｉ１１の内径を有する。腹皮は、０．５μｍのフィルタ
を備えかつこの腹皮から１０ｃ＋ａ（４インチ）離れた
位置に３　ｔｍ　（０，１２５インチ）の吹出口を備え
たホースからの２．８　ｋｇ／　ｃａ＋”（４０ポンド
／平方インチ）ノ空気圧に耐えうる。ＢＢ−２，８５型
膜皮は、高圧水銀アーク灯を用いた１：１プロジエクシ
ヨン　アライナ（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　ａｌｉｇｎｅ
ｒ）におけるフォトマスクを微粒子から保護するシステ
ムに特に有用である。

ＬＲ−１型膜皮もまたニトロセルロースで形成され０、
７２３±０．０１μｍの厚さを有する。光の最低透過率
は４３６〜５４０ｎｆｆｌの波長において約９８％であ
り、約３（ｉ５ｎｍの波長においては９６％である。こ
れら腹皮の入射光の反射は、典型的に４３６〜５４６　
ｎｍの波長において約２％であり、３６５ｎｌ１１の波
長において約３％である。入射光が約４３６〜５４６　
ｎｍの波長を有する場合、全体で入射光の約０．２５％
以下が分散または吸収され、入射光が３６５　ｎｍの場
合は全体で約１％以下である。ＬＲ−１型膜皮は強靭で
ある。

この腹皮は腹皮から少なくともｌＯｃｍ（４インチ）離
れた位置に吹出口を有する３−Ｈの９０２Ｆ型エアガン
からの２．１　ｋｇ／　ｃ＋ａ”　（３０ポンド／平方
インチ）ノ空気圧に耐えうる。ＬＲ−１型膜皮は入射光
の焦点を約ｌμ印以下の光学距離内でシフトするので、
ＬＲ−１型膜皮はＧＣ＾ステッパ（ｓｔｅｐｐｅｒ）　
のようなｌＯ：１ダイレクト、ウェーファ、ステッパ（
ｄｉｒｅｃｔ　ｗａｆｅｒｓｔｅｐｐｅｒ）に特に有用
である。

上述したような薄膜体は、部分的光学ビーム・スプリッ
タ（ｏｐｔｉｃａｌ　ｂｅａｍ　５ｐｌｉｔｔｅｒ）　
、モノクロ光学システムのための低反射性光学窓、部分
偏光器、音響振動フィルム、原子放射検出器の高透過性
窓、および輝いたクローム表面のようなこれら薄膜体よ
りも高い屈折率を有する反射性基体上の反射防止被膜と
して特に有用である。

これら薄膜体は、縁端支持されうる。また、フォトマス
ク、光学平面、鏡または他の剛直なあるいは可撓性の平
面のような全面的または部分的支持体面で共面支持され
うる。

これら薄膜体はすぐれた弾性と同質性とを有する。とり
わけ、これら薄膜体は、それらが特に機械的、熱的に安
定な枠体または他の支持体上に取付けられた場合、圧縮
された形の実大な量のデータを実質的に歪みを伴わずに
複写および再現するのに用′いられうる。かかる複写を
する場合、実大な量のデータを高度に圧縮された形で担
持する表面上に光学的薄膜体を形成するだけでよい。本
発明の薄膜体は、オリジナルから正確かつ精密な複製デ
ータを形成してデータの＊＊および貯蔵のためのオリジ
ナルとして用いうる。

１つの実施例にふいて、表面の実例としての実大な量の
データを担持する表面上にこの光学的薄膜体を形成する
。かかるデータの浮き彫りにされた表面上に光学的薄膜
体を形成することによって、浮き彫り面右よびその浮き
彫りデータが全く同じに複製される。

本発明の光学的薄膜体の膜厚測定方法においては、ｌま
たはそれ以上の既知の入射角をもって薄膜体に光を照射
し、この薄膜体が入射光を実質的に反射しないゼロ入射
角と呼ばれる少なくとも１つの角度を見出し、しかる後
かかる１またはそれ以上のゼロ入射角からこの薄膜体の
厚さおよびまたは屈折率を計算することよりなる。

光はヘリウム・イオンのような光源からのレーザ光とな
しうる。かかるレーザは約６３３　ｎｍの波長を有する
平行光線ビームを発生する。特にゼロ入射角の検出が肉
眼以外によってなされる場合は、他の高輝度または低輝
度光源をも用いうる。例えば、フィルタをかけた水銀ア
ーク灯、フィルタをかけた白熱灯およびフィルタをかけ
たキセノン灯である。

光源が、視覚で認めうる強度の反射光を生じるほど十分
な輝度を有する場合は、視覚によりゼロ入射角の検出が
なされる。例えばヘリウム・ネオンレーザ光は視覚で検
出可能な反射光を生じる。

さらに、ゼロ入射角の検出の正確性は入射角に依存しな
いため、ゼロ入射角の視覚による検出は高い信頼性を有
する。しかしながら、レーザ光または高輝度光以外の光
源が使用された場合、ゼロ入射角の検出は光増倍素子、
シリコンＰＩＮダイオード、右よび他の光電検出素子の
ような検出器が必要であろう。

本発明の方法は、単に光学的薄膜体の厚さおよび屈折率
を測定するためにのみではなく、光学的薄膜体の厚さを
監視するのにも用いられる。例えば、光学的薄膜体の厚
さを規定された限度内に収めようとする場合、本発明の
方法によって規格に応じた監視をなしうる。そうするた
めには、薄膜体がゼロ入射角を生じる規定された限度内
での入射角を決定しておき、しかる後その入射角が各薄
膜体にとってゼロ入射角であるか否かを試験すればよい
。

本発明の方法の一実施例にふいては、数種の異なる既知
の入射角をもって光学的薄膜体に平行レーザ光ビームの
照射がなされうる。光源を固定し、薄膜体を光ビームの
径路内で回動させて入射角を変えるようにするのが好ま
しい。薄膜体を回動させる手段に副尺のような装置を取
付けることにより、入射角を測定することができる。

測定作業を入射角ゼロで開始し、しかる後薄膜体が光を
反射しない１番目の角度を見出すまで薄膜体を回転させ
て入射角を変えるのが望ましい。

ある目的のためには１以上のゼロ入射角を見出すことが
必要になりうる。そうするためには、２番目のゼロ入射
角を見出すまで薄膜体を回転させればよい。

少なくとも１つのゼロ入射角が見出されたならば、薄膜
体の厚さを下記の（１）式により計算する。

Ｎｔ　＝　ｋλ／４　　−−−−−−−−−−−　　（
１）ここで、ｔは薄膜体の厚さ、λは入射光の波長で、
典型的にはｔと同一の単位であり、またｋは光の四分の
一波長を単位とする薄膜体の光学的厚さである。Ｎは薄
膜体の低減された屈折率と呼ばれる値で、下記の（２）
式から求められる。

Ｎ＝　　Ｎ”−（ｓｉｎ　［−（ｓｉｎＩ２）２］　　
−−−−−−−−（２）ここで、Ｎは薄膜体の屈折率、
Ｉはゼロ入射角である。（１）式から厚さｔを計算する
ためには、Ｎおよびｋを知らなければならない。

もし、薄膜体の屈折率が既知であって、ｋが未知である
場合は、その薄膜体の２つの連続したゼロ入射角１１お
よび１２を見出さなければならず、しかる後に厚さ「ｔ
」を下記の（３）式から計算する。

（Ｎｌ−Ｎ２）ｔ　＝　λ／２　　−一−−−（３）こ
こでＮｌはＮｌ　＝　　Ｎ”−（ｓｉｎｌｌ−（ｓｉｎ
Ｉ２）２］　　から計算され、またＮ２はＮ２　＝　　
Ｎ”−（ｓｉｎ１２戸　　から計算される。

また、薄膜体の屈折＄Ｎが未知であって、ｋが既知であ
る場合は、薄膜体の２つの連続したゼロ入射角１１およ
び１２を見出さなければならず、しかる後に厚さｔが下
記の（４）式から計算される。

ｔ５■口πＷ前Ｆ＝λ／２　Ｆ［■−−−　（４）厚さ
「ｔ」が計算されれば、屈折率は（１）式から計算され
うる。ｔが既知であれば、ｋは（４）式から計算されう
る。

このような本発明の膜厚測定方法を実施する装置は、光
ビームを光学的薄膜体に照射する手段、薄膜体に対する
光ビームの入射角を変える手段、および入射角特にゼロ
入射角を検出する手段を含む。

第１図は本発明による膜厚測定方法を実施する装置の一
実施例を概略的に示す。第１図にふいて、ヘリウム・ネ
オンレーザビーム発生器ｌから平行光線ビーム２が光学
的薄膜体・３に既知の入射角■をもって照射される。回
動可能な固定具４は薄膜体３を光線ビーム２の径路内に
保持しかつ薄膜体３をして複数の入射角をとらしめるべ
く回動する。

固定具４の近傍に設けられたスクリーン５は、薄膜体３
からの反射光を受ける反射性の内表面６を備えている。

内表面６上にマークされた副尺によって入射角が検出さ
れる。

本発明の膜厚測定方法は、分光測光法および楕円測光法
のような従来の光学的フィルムの厚さの測定法に勝る意
義深い利益を提供する。分光測光法は、入射光の波長を
関数とする垂直入射光の透過または反射の変化を測定す
るため、本発明の方法よりはるかに高価な機器を必要と
する。この透過または反射の変化から、ある波長におけ
る厚さが正確に測定されるが、分光測光法によっては屈
折率の測定は不可能である。楕円測光法もまた、本発明
の膜厚測定方法より高価な装置を必要とし、かつ光学的
薄膜体が支持されていないために、その測定結果は信頼
性に乏しい欠点がある。

本発明の膜厚測定方法は、分光測光法よりもはるかに安
価で、また楕円測光法に比較しても安価であり、光学的
薄膜体の厚さおよび屈折率の正確な測定を簡易に、迅速
にかつ安価になしうる。

本発明の方法によって膜厚を測定すべき薄膜体の形成方
法を次に説明する。ポリマーと溶剤の混合物をまず作成
し、次にこの混合物から回転可能な支持表面上で回転被
膜形成法によりポリマーフィルムを形成するのである。

この支持表面は、特にその上に離型剤が配されていない
ときには、薄膜体に対する共面支持体を構成しつる。も
し、薄膜体が離型剤の配された支持表面上に形成された
場合には、薄膜体は他の支持手段に取付けられうる。薄
膜体を取付ける他の支持手段を用いることにより、薄膜
体はそれが形成された支持表面上から除去されうる。例
えば、離型剤の配された回転可能な支持表面上に薄膜体
が形成された後に、閉リングまたは枠体がこの薄膜体に
接着されうる。

接着剤が乾燥した後に、薄膜体を接着により担持したリ
ングまたは枠体が支持表面から分離されうる。あるいは
、エアジェツト、液体ジェットまたは他の分離手段によ
っても、薄膜体は支持表面上から除去されうる。次にか
かる薄膜体は独立したリング、枠体または他の支持体に
取付けられうる。

本発明の光学的薄膜体の形成方法の一実施例においては
、ポリマーと溶剤の混合物を離型剤を配した回転可能な
支持表面上に分配し、しかる後その支持表面を所定の回
転速度に達するまで加速しながら回転せしめる。−旦所
定の回転速度に達したならば、所望の厚さと直径とを有
する薄膜体が形成されるまでその支持表面の回転を継続
する。

典型的には、回転可能な支持表面の回転は、約３〜６０
秒間の範囲内で約２０〜３０℃の温度において行なわれ
る。薄膜体の厚さ右よび直径は、ポリマーと溶剤の粘性
と、薄膜体が形成される回転可能な支持表面の回転の加
速度ふよび回転速度比と、最終回転速度とに一義的に依
存する。

薄膜体が形成されるのにつれて、溶剤はポリマーから雌
親し、ポリマーは、特にその形成されつつある薄膜体の
周縁部にふいて粘性が増大する。

回転する支持表面の外周縁に向って流動するポリマーと
溶剤の混合物は、回転中心からの距離に比例して大きい
加速に遭遇する。さらに、支持表面の回転速度が増大す
るのにつれて、ポリマーにより大きい加速が加えられる
。回転する支持表面上には、溶剤の蒸発の割合を減少さ
せるために、溶剤を充分に含んだ空気が導かれる。薄膜
体の厚さは上記蒸発の割合、およびもし必要ならば、薄
膜体の形成後に薄膜体に加えられる熱処理の種類および
量によって制御されつる。

形成が完了した薄膜体を回転可能な支持表面上から除去
するため、および特に縁端が支持された薄膜体を得るた
め、枠体の表面に接着剤が施される。あるいは接着剤を
薄膜体自身に適当な形状のステンシルを通して施しても
よい。しかる後に、枠体と薄膜体とは互いに接着され、
接着剤は固化し乾燥する。

適当な接着剤は、１部の５分間エポキシ樹脂、１部の５
分間エポキシ硬化剤、およびエポキシを希釈しかつその
ポットライフを公称３分から公称３０分に延長するため
の２部の３・ペンタノンの混合物よりなる。エポキシと
溶剤の混合物よりなる接着剤を枠体に施した後、溶剤は
急速に蒸発し、エポキシが硬化して薄膜体に接着する。

薄膜体の枠体に対する接着が完了した後、薄膜体は適当
な工具によって枠体の外周に沿って切断されうる。しか
る後に薄膜体を取付けた枠体は支持表面から分離されう
る。回転によって薄膜体に径方向の応力が加えられたた
め、また薄膜体の容積がその後の溶剤の蒸発により減少
したため、薄膜体はぴんと張った状態にありかつ実質的
に−様な張力を有する。

上述した光学的薄膜体は、アクリルやニトロセルロース
のようなｌまたはそれ以上のポリマーより・なるのが好
ましい。例えば、アルコールのような溶剤にニトロセル
ロースを溶かした。かかる溶剤としては、ケトンや１．
２グイメソキシエタンのようなポリグリコールをも用い
ろる。、ポリマーと溶剤の混合物はまたジェネラル、エ
レクトリック（Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｂｌｅｃｔｒｉｃ）の
５Ｐ−６９型シリコーン液のような平均化剤を含有する
のが好ましい。ポリマーと溶剤の混合物は、約５〜３０
重量％のポリマー約７０〜９５重量％の溶剤、および約
０．００１〜０．０１重量％の平均化剤からなる。ポリ
マーに対する溶剤の比率が増大すると、かかる混合物か
ら形成される薄膜体の厚さは一般に減少する。

また、支持表面を被うための適当な離型剤は、ハント、
ケミカル、カンパニ（Ｈｕｎｔ　Ｃｈｅａ＋１ｃａｌ　
Ｃｏｍｐａｎｙ）のスーパースリックス（Ｓｕｐｅｒｓ
ｌｉｘ）　　Ｉを含む。このような離型剤は、回転、浸
漬および塗布等の通常手段を用いて回転可能な支持表面
上に施される。ある種の離型剤は室温より高い温度で硬
化する必要がある。

上述した光学的薄膜体を形成するための装置は、ポリマ
ーと溶剤の混合物を回転可能な支持表面上に分配する手
段、支持表面を初速度から最終速度まで増大する速度で
回転する手段、および薄膜体を支持表面上から縁端支持
された状態または共面支持された状態で除去する手段を
含む。以下その実施例について第２図を参照して説明す
る。

第２図において、容器１３−内のポリマーと溶剤の混合
物は、ポンプ１５によってチエツク弁１１ａおよびｌｌ
ｂを通過せしめられる。モータ・歯車結合体１４はポン
プ１５のピストンを駆動する。ポリマーと溶剤の混合物
はフィルタ１１よび分配手段１７を通って回転可能な支
持表面１８上に分配される。

モータ２２は、初めは所定の速度で、次にそれより速い
第２の速度で、次に所望の薄膜体が形成されるまでその
第２の速度を維持するという態様をもって、チャック１
９フよび支持表面１８を回動する。

はね除は兼風防手段２０は、回転中に溶剤およびポリマ
ーが椀状体２１外へ飛散するのを最低限に抑える。排出
口２４は不用のポリマーおよび溶剤の排出手段を形成す
る。回転計２３はその一方の側においてモータ２２に連
結され、他方の側において適当なサーボ系２５に連結さ
れる。サーボ系２５は、支持表面１８の回転を始動し、
かつその回転速度を始動時より加速するが、その加速は
１秒間に約５０〜５００ｒｐａ＋の範囲内で行なわれ、
最終回転速度は約５００〜２５００ｒｐｒａの範囲内で
あることが好ましい。

支持表面１８は円形、正方形または長方形の剛直なまた
は幾分剛直な光学的に磨かれた表面となされうる。また
支持表面１８は、金属、ガラスで作成されるが、金属薄
層をガラス石英上に形成したものも支持表面に適する。

支持表面の質はその上に形成される薄膜体の質を決定す
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光学的薄膜体の膜厚測定方法を実
施する装置の概略図、 第２図は本発明の方法によって膜厚を測定すべき光学的
薄膜体の形成に適用される装置の概略図である。 ｌ・・・レーザビーム発生器 ２・・・光線ビーム　　　　３・・・薄膜体４・・・固
定具　　　　　　５・・・スクリーン１３・・・容器　
　　　　　　１４はモータ・歯車結合体１５・・・ポン
プ　　　　　　１８・・・支持表面２２・・・モータ　
　　　　　２３・・・回転計２５・・・サーボ 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光学的薄膜体に対して１またはそれ以上の既知の入
   射角をもって光を照射し、前記光学的薄膜体が入射光を
   実質的に反射しない少なくとも１つのゼロ入射角を見出
   し、￥Ｎ￥ｔ＝ｋλ／４という式から前記光学的薄膜体
   の厚さまたは前記光学的薄膜体の屈折率あるいはその両
   方を計算することよりなり、但し前記式において、ｔは
   前記光学的薄膜体の厚さ、λは入射光の波長、ｋは光の
   ４分の一波長を単位とする前記光学的薄膜体の光学的厚
   さ、￥Ｎ￥はＮ＾２−（ｓｉｎＩ）＾２という量の平方
   根に等しい値、Ｎは前記光学的薄膜体の屈折率、Ｉは前
   記少なくとも１つのゼロ入射角であるとする、光学的薄
   膜体の厚さを測定する方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の方法において、前記光
   学的薄膜体に対する２つの連続したゼロ入射角を見出し
   、（￥Ｎ￥１−￥Ｎ￥２）ｔ＝λ／２という式から前記
   光学的薄膜体の厚さｔを計算することをさらに含み、た
   だし前記式において、￥Ｎ￥１＝√［Ｎ＾２−（ｓｉｎ
   Ｉ１）＾２］であり、￥Ｎ￥２は√［Ｎ＾２−（ｓｉｎ
   Ｉ２）＾２］に等しく、Ｉ１は前記光学的薄膜体に対す
   る第１のゼロ入射角の場合の入射角、Ｉ２は前記光学的
   薄膜体に対する第２のゼロ入射角の場合の入射角である
   とする、前記方法。 ３、特許請求の範囲第１または２項記載の方法において
   、前記光学的薄膜体に対する２つの連続したゼロ入射角
   を見出し、次の式、 ｔ√［（ｓｉｎＩ２）＾２−（ｓｉｎＩ１）＾２］＝λ
   ／２√（ｋ−１）から厚さをまたは光学的厚さにあるい
   はその両方を計算することをさらに含み、ただし前記式
   において、Ｉ１およびＩ２はそれぞれ前記光学的薄膜体
   に対する第１および第２の連続したゼロ入射角であると
   する、前記方法。 ４、１またはそれ以上の既知の入射角をもって、約０．
   ５〜１０μｍの範囲内の公称厚さを有する第１の光学的
   薄膜体に光を照射し、前記光学的薄膜体が入射光を実質
   的に反射しないゼロ入射角と呼ばれる少なくとも１つの
   入射角を見出し、￥Ｎ￥ｔ＝ｋλ／４という式、ただし
   ￥Ｎ￥＝√［Ｎ＾２−（ｓｉｎＩ）＾２］、Ｎは前記第
   １の光学的薄膜体の屈折率、Ｉは前記少なくとも１つの
   ゼロ入射角、ｔは前記第１の光学的薄膜体の厚さ、ｋは
   光の四分の一波長を単位とする前記光学的薄膜体の光学
   的厚さ、λは入射光の波長；（￥Ｎ￥１−￥Ｎ￥２）ｔ
   ＝λ／２という式、ただし￥Ｎ￥１は√［Ｎ＾２−（ｓ
   ｉｎＩ１）＾２］に等しく、￥Ｎ￥２は√［Ｎ＾２−（
   ｓｉｎＩ２）＾２］に等しく、Ｉ１およびＩ２はそれぞ
   れ前記第１の光学的薄膜体に対する２つの連続したゼロ
   入射角、ｔは前記光学的薄膜体の厚さ；およびｔ√［（
   ｓｉｎＩ２）＾２−（ｓｉｎＩ１）＾２］＝λ／２√（
   ｋ−１）という式、ただしｔは前記光学的薄膜体の厚さ
   、λは入射光の波長、ｋは光の四分の一波長を単位とす
   る前記第１の光学的薄膜体の光学的厚さとして、前記３
   つの式のうちの少なくとも１つの式から前記光学的薄膜
   体の厚さを計算し、前記ゼロ入射角のうち少なくとも１
   つにおいて第２の光学的薄膜体に対して前記光を照射し
   て、前記第２の光学的薄膜体が前記第１の光学的薄膜体
   と実質的に同じ厚さを有するか否かを決定する方法。 ５、特許請求の範囲第１または２項記載の方法において
   、前記光学的薄膜体が約０．５〜１０μｍの範囲内の厚
   さを有している前記方法。 ６、特許請求の範囲第３項記載の方法において、前記光
   学的薄膜体が約０．５〜１０μｍの範囲内の厚さを有し
   ている前記方法。