JPH02198004A - 磁気記録方法 - Google Patents
磁気記録方法Info
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- JPH02198004A JPH02198004A JP1707489A JP1707489A JPH02198004A JP H02198004 A JPH02198004 A JP H02198004A JP 1707489 A JP1707489 A JP 1707489A JP 1707489 A JP1707489 A JP 1707489A JP H02198004 A JPH02198004 A JP H02198004A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 10
- -1 Iron ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract description 2
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 24
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001669 Mossbauer spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 1
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録方法に関し、より詳細にはオーステナ
イト系ステンレス鋼の表面に局所的にマルテンサイト相
を誘起させることを利用して情報を記録する磁気記録方
法に関するものである。
イト系ステンレス鋼の表面に局所的にマルテンサイト相
を誘起させることを利用して情報を記録する磁気記録方
法に関するものである。
[従来の技術]
2)オーステナイト系のステンレス鋼の表面に、鉄イオ
ンをIKeV〜5MeVの加速エネルギでlXl0”〜
1 x 10”個/cm2打込んで、前記ステンレス鋼
の表層に特定のパターンのマルテンサイト相を誘起形成
させることにより、情報を記録させることを特徴とする
磁気記録方法。
ンをIKeV〜5MeVの加速エネルギでlXl0”〜
1 x 10”個/cm2打込んで、前記ステンレス鋼
の表層に特定のパターンのマルテンサイト相を誘起形成
させることにより、情報を記録させることを特徴とする
磁気記録方法。
に用いる磁気記録媒体の記録密度は著しい向上を遂げて
いる。
いる。
この磁気記録媒体としては各種のものが知られているが
、その中にテープを用いるものがある。
、その中にテープを用いるものがある。
テープを用いるものとしては酸化鉄テープ、 Co系酸
化物または二酸化クロム等の高磁化エネルギー材を塗布
したテープ、金属系テープ等がある。この金属系テープ
には、Fe、Co、Ni等の強磁性金属あるいはそれら
の合金の微粉末を有機バインダと共に塗布したメタルテ
ープと、極めて平滑なポリエステルフィルムに、電子ビ
ーム等で加熱溶融したCo−Ni合金等の強磁性金属を
真空蒸着し、膜構造の磁性層を形成した蒸着テープとが
ある。
化物または二酸化クロム等の高磁化エネルギー材を塗布
したテープ、金属系テープ等がある。この金属系テープ
には、Fe、Co、Ni等の強磁性金属あるいはそれら
の合金の微粉末を有機バインダと共に塗布したメタルテ
ープと、極めて平滑なポリエステルフィルムに、電子ビ
ーム等で加熱溶融したCo−Ni合金等の強磁性金属を
真空蒸着し、膜構造の磁性層を形成した蒸着テープとが
ある。
ことは避けられない。
そこで、本発明の目的は、上述した問題点を解消し、耐
熱性、耐腐食性、耐摩耗性を有するステンレス鋼C書き
込み記録することのできる磁気記録方法を提供すること
にある。
熱性、耐腐食性、耐摩耗性を有するステンレス鋼C書き
込み記録することのできる磁気記録方法を提供すること
にある。
[発明が解決しようとする課題]
上述の磁気記録方法は、テープを用いているた[課題を
解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明の第れている
。
解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明の第れている
。
機械的強度、耐環境性、保存性を満足するものとして、
鋼表面における記録または刻印等が挙げられるが、放電
作用、または化学作用等による切削・研磨等を伴うもの
であり、精度または記録密度は著しく悪い、ステンレス
鋼は耐熱性、耐腐食性、耐摩耗性を有する優れた高強度
の材料であるが、この材料への直接記録はほとんど不可
能であった。この材料へ記録するにしても、損耗を伴う
テンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテンサイト相
を8起形成させることにより、情報を記録させることを
特徴とする。
鋼表面における記録または刻印等が挙げられるが、放電
作用、または化学作用等による切削・研磨等を伴うもの
であり、精度または記録密度は著しく悪い、ステンレス
鋼は耐熱性、耐腐食性、耐摩耗性を有する優れた高強度
の材料であるが、この材料への直接記録はほとんど不可
能であった。この材料へ記録するにしても、損耗を伴う
テンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテンサイト相
を8起形成させることにより、情報を記録させることを
特徴とする。
本発明の第2の態様は、オーステナイト系のステンレス
鋼の表面に、鉄イオンをlにeV〜5MeVの加速エネ
ルギでI X 10′6〜I X 10”個/cm2打
込んで、ステンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテ
ンサイト相な誘起形成させることにより、情報を記録さ
せることを特徴とする。
鋼の表面に、鉄イオンをlにeV〜5MeVの加速エネ
ルギでI X 10′6〜I X 10”個/cm2打
込んで、ステンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテ
ンサイト相な誘起形成させることにより、情報を記録さ
せることを特徴とする。
[作 用]
本発明によれば、オーステナイト系ステンレス鋼に希ガ
スイオンをまたは鉄イオンをIKeV〜5MeVの加速
エネルギでそれぞれ0.I XlG16〜IOX to
17(個/イオン) 、 1.x1glel〜1o1
7 (個/イオン)打込むことにより、オーステナイト
系ステンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテンサイ
ト相をにオーステナイト系ステンレス鋼に書き込み・記
録を行うためには、イオンとして発生し易い希ガスイオ
ンを用い、また高精密に記録を行うためには鉄イオンを
用いる。鉄のように固相の物質をイオン化する場合には
塩化物にするか、またはスパッタリング法を用いるなど
特別な工夫が必要である。イオン注入装置に用いられる
代表的なイオン[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例をより詳細に説明
する。
スイオンをまたは鉄イオンをIKeV〜5MeVの加速
エネルギでそれぞれ0.I XlG16〜IOX to
17(個/イオン) 、 1.x1glel〜1o1
7 (個/イオン)打込むことにより、オーステナイト
系ステンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテンサイ
ト相をにオーステナイト系ステンレス鋼に書き込み・記
録を行うためには、イオンとして発生し易い希ガスイオ
ンを用い、また高精密に記録を行うためには鉄イオンを
用いる。鉄のように固相の物質をイオン化する場合には
塩化物にするか、またはスパッタリング法を用いるなど
特別な工夫が必要である。イオン注入装置に用いられる
代表的なイオン[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例をより詳細に説明
する。
第1図は、イオン加速装置とオーステナイト系ステンレ
ス鋼からなる試料との位置関係を示す説明図である。
ス鋼からなる試料との位置関係を示す説明図である。
第1図において、イオン源1はガス源2から導入された
原子あるいは分子をイオン化する。簡便ンビームとして
引き出される。このイオンビームは広がる傾向にあるの
で、場合により不図示の静電レンズ等によって収束させ
る。この収束系は、装置全体のバランスによりターゲツ
ト室9のオーステナイト系ステンレス鋼からなる試料1
0上に収束するように設計する。
原子あるいは分子をイオン化する。簡便ンビームとして
引き出される。このイオンビームは広がる傾向にあるの
で、場合により不図示の静電レンズ等によって収束させ
る。この収束系は、装置全体のバランスによりターゲツ
ト室9のオーステナイト系ステンレス鋼からなる試料1
0上に収束するように設計する。
イオン源1から引き出されたイオンは、加速電源4から
供給される高電圧によって加速される。
供給される高電圧によって加速される。
イオン源からは多種のイオンが放出されるので、質量分
析器5を用いて必要なイオンのみ&選択して加速する。
析器5を用いて必要なイオンのみ&選択して加速する。
このようにして選択されたイオンはスリット6を通り、
主加速器7で所望のエネルギに加速される。質量分析器
5で選択されたイオンビームは収束しているため、ター
ゲツト室9内の試料lO土を均一に照射することが一般
にはできない、従って、イオンビームが収束しているこ
と即ルチンサイト相が誘起される。鉄イオンを注入する
のは、鉄原子がマルテンサイト相銹起元素であることが
状態図から知られているからである。なターン化を行う
ことができる。現在のイオンビームの走査技術を考える
と、μmのオーダの分解能でこのパターン化は可能であ
る。勿論、簡便な方式としては、試料】O上に予め所定
のパターンを設置してマスクとする方法も可能である4
tg’l+a排気装置llにより排気される。
主加速器7で所望のエネルギに加速される。質量分析器
5で選択されたイオンビームは収束しているため、ター
ゲツト室9内の試料lO土を均一に照射することが一般
にはできない、従って、イオンビームが収束しているこ
と即ルチンサイト相が誘起される。鉄イオンを注入する
のは、鉄原子がマルテンサイト相銹起元素であることが
状態図から知られているからである。なターン化を行う
ことができる。現在のイオンビームの走査技術を考える
と、μmのオーダの分解能でこのパターン化は可能であ
る。勿論、簡便な方式としては、試料】O上に予め所定
のパターンを設置してマスクとする方法も可能である4
tg’l+a排気装置llにより排気される。
イオン照射された試料内部では、希ガスイオン注入の場
合には、2次欠陥集積効果、すなわち空格子点の集合体
であるボイドまたは注入ガス原子る。
合には、2次欠陥集積効果、すなわち空格子点の集合体
であるボイドまたは注入ガス原子る。
ここで、イオン加速電圧としては、イオン侵入の深さが
有意の厚み(nm以上)を持つために、1KeV以上の
エネルギを有することが必要である。
有意の厚み(nm以上)を持つために、1KeV以上の
エネルギを有することが必要である。
一方、5MeV以上では侵入深さが深くなりすぎて、前
述したパターンの検出が困難となる恐れがある。なお、
注入深さは理論的に確立されており、注入方向Xにおけ
る注入イオン密度分布n(x)はn (x) −N/
(2rcΔRp) ””exp(−(x−Rp)”/
2ΔRP”)で与えられる。ここで、Nは単位面積での
注入イオン数であり、 N−6,25x 10”x 夏 xt(個/cm’
)によって定まる。この式を用いて正確に注入イオン数
を計測・制御することができる。Iは注入イオン電流密
度(A/cm2) 、tは注入時間(sec)であるマ
ルテンサイト相(fcc、α相)の収率との関係を求め
、得られた結果を第2図に示す。
述したパターンの検出が困難となる恐れがある。なお、
注入深さは理論的に確立されており、注入方向Xにおけ
る注入イオン密度分布n(x)はn (x) −N/
(2rcΔRp) ””exp(−(x−Rp)”/
2ΔRP”)で与えられる。ここで、Nは単位面積での
注入イオン数であり、 N−6,25x 10”x 夏 xt(個/cm’
)によって定まる。この式を用いて正確に注入イオン数
を計測・制御することができる。Iは注入イオン電流密
度(A/cm2) 、tは注入時間(sec)であるマ
ルテンサイト相(fcc、α相)の収率との関係を求め
、得られた結果を第2図に示す。
希ガスイオンの場合、注入イオン数を増加させると注入
量がI X 10” (個/c@”)あたりから次第に
マルテンサイト相が増加し、2.5 X 10” (個
/cm2)のイオン注入量では約77%のマルテンサイ
ト相が誘起されているのがわかる。ステンレス鋼種具体
的な実施例として、17/7オーステナイト系ステンレ
ス鋼(18!kCr、7!I;Ni、75kFe)試料
の各々に、と、注入量が4.5 X to” (個/c
m2)あたりから急速にマルテンサイト相が誘起されて
、約IXIG”(個/cm”)のイオン注入量では10
096のマルテンサイト相が誘起されているのがわかる
。これより、鉄イオンの注入量は1×1016〜I X
10” (個/cm2)であれば十分である。
量がI X 10” (個/c@”)あたりから次第に
マルテンサイト相が増加し、2.5 X 10” (個
/cm2)のイオン注入量では約77%のマルテンサイ
ト相が誘起されているのがわかる。ステンレス鋼種具体
的な実施例として、17/7オーステナイト系ステンレ
ス鋼(18!kCr、7!I;Ni、75kFe)試料
の各々に、と、注入量が4.5 X to” (個/c
m2)あたりから急速にマルテンサイト相が誘起されて
、約IXIG”(個/cm”)のイオン注入量では10
096のマルテンサイト相が誘起されているのがわかる
。これより、鉄イオンの注入量は1×1016〜I X
10” (個/cm2)であれば十分である。
実際にマルテンサイト相が誘起されていることを示す実
験結果を第3図および第4図に示す。
験結果を第3図および第4図に示す。
第3図は、イオン照射によるX線回折パターンの変化を
示す。2 x tg16 (個/c+l+’)のFe”
の注入ではオーステナイト系ステンレス鋼(fcc、γ
相)のピークのみしか観察されず、2 x lo” (
個/cm2)のKr“の注入では、マルテンサイトのα
相のピークが観察され、また1 x to” (個/c
m2)の^r3注入では、マルテンサイト相のピークが
顕著に観察される。
示す。2 x tg16 (個/c+l+’)のFe”
の注入ではオーステナイト系ステンレス鋼(fcc、γ
相)のピークのみしか観察されず、2 x lo” (
個/cm2)のKr“の注入では、マルテンサイトのα
相のピークが観察され、また1 x to” (個/c
m2)の^r3注入では、マルテンサイト相のピークが
顕著に観察される。
ステナイト系ステンレス鋼に強磁性であるマルテンサイ
ト相が出現すると、その部位を走査する磁気ヘッドに対
してパターンに相当する磁場を生じる。磁気ヘッドのコ
イルを通過する磁束の変化によってコイルに話導電圧を
生じ、これを増幅して電気信号として取り出すことかで
ざる。また、磁気ヘッドとステンレス鋼の相対運動によ
り鋼中のγ相の単独ピークのみが現れるが、lXl0”
(個/cm’)のFe”の注入では強磁性マルテンサイ
ト相(α相)が出現したことによる原子核準位のゼーマ
ン分裂を生じ、6本のサイドピークが出現している。こ
のゼーマン分裂の大きさからみて、照射誘起相の磁化の
強さは、磁気テープなどに用いられる酸化鉄の273程
度と見積もられる。
ト相が出現すると、その部位を走査する磁気ヘッドに対
してパターンに相当する磁場を生じる。磁気ヘッドのコ
イルを通過する磁束の変化によってコイルに話導電圧を
生じ、これを増幅して電気信号として取り出すことかで
ざる。また、磁気ヘッドとステンレス鋼の相対運動によ
り鋼中のγ相の単独ピークのみが現れるが、lXl0”
(個/cm’)のFe”の注入では強磁性マルテンサイ
ト相(α相)が出現したことによる原子核準位のゼーマ
ン分裂を生じ、6本のサイドピークが出現している。こ
のゼーマン分裂の大きさからみて、照射誘起相の磁化の
強さは、磁気テープなどに用いられる酸化鉄の273程
度と見積もられる。
このようにしてオーステナイト系ステンレス鋼中に磁化
した部位については、磁気ヘッドを用いて検出すること
ができる。すなわち、常6i1性オー部位での磁化の方
向に依存するので、これを検知して鋼中の強磁性部位の
パターンを認識することができる。
した部位については、磁気ヘッドを用いて検出すること
ができる。すなわち、常6i1性オー部位での磁化の方
向に依存するので、これを検知して鋼中の強磁性部位の
パターンを認識することができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、オーステナイト
系ステンレス鋼に希ガスイオンをまたは鉄イオンを1K
eV〜5MeVの加速エネルギでそれぞれ0.1 x
1G”’−10x 10” (個/イオン)、 I
Xl0III〜1o17 (個/イオン)打込むことに
より、常磁性オーステナイト系ステンレス鋼の表層に特
定のパターンのマルテンサイト相を誘起させることによ
り、ステンレス鋼中に強磁性部位のパターンを任意形状
に形成することができるため、非破壊的かつ高精度な磁
気書き込み記録を行うことができる。
系ステンレス鋼に希ガスイオンをまたは鉄イオンを1K
eV〜5MeVの加速エネルギでそれぞれ0.1 x
1G”’−10x 10” (個/イオン)、 I
Xl0III〜1o17 (個/イオン)打込むことに
より、常磁性オーステナイト系ステンレス鋼の表層に特
定のパターンのマルテンサイト相を誘起させることによ
り、ステンレス鋼中に強磁性部位のパターンを任意形状
に形成することができるため、非破壊的かつ高精度な磁
気書き込み記録を行うことができる。
第1図は本発明の実施例に用いられるイオン加速装置と
オーステナイト系ステンレス鋼試料との位置関係を示す
説明図、 第2図はイオン注入量と誘起されたマルテンサイト相、
すなわちα相の収率との関係を示す特性図、 第3図はイオン照射によるXM回折パターンの変化を示
す特性図、 第4図はイオン照射によるメスバウアースペクトルを示
す特性図である。 1・・・イオン源、 2・・・ガス源、 3・・・引出し電源、 4・・・加速電源、 5・・・質量分析器、 6・・・スリット、 7・・・主加速器、 8・・・X、Y(ji向電極、 9・・・ターゲツト室、 lO・・・試料、 ll・・・排気装置。 第 図 第 図
オーステナイト系ステンレス鋼試料との位置関係を示す
説明図、 第2図はイオン注入量と誘起されたマルテンサイト相、
すなわちα相の収率との関係を示す特性図、 第3図はイオン照射によるXM回折パターンの変化を示
す特性図、 第4図はイオン照射によるメスバウアースペクトルを示
す特性図である。 1・・・イオン源、 2・・・ガス源、 3・・・引出し電源、 4・・・加速電源、 5・・・質量分析器、 6・・・スリット、 7・・・主加速器、 8・・・X、Y(ji向電極、 9・・・ターゲツト室、 lO・・・試料、 ll・・・排気装置。 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)オーステナイト系のステンレス鋼の表面に、希ガス
イオンを1KeV〜5MeVの加速エネルギで0.1×
10^1^6〜10×10^1^7個/cm^2打込ん
で、前記ステンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテ
ンサイト相を誘起形成させることにより、情報を記録さ
せることを特徴とする磁気記録方法。 2)オーステナイト系のステンレス鋼の表面に、鉄イオ
ンを1KeV〜5MeVの加速エネルギで1×10^1
^6〜1×10^1^7個/cm^2打込んで、前記ス
テンレス鋼の表層に特定のパターンのマルテンサイト相
を誘起形成させることにより、情報を記録させることを
特徴とする磁気記録方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1017074A JPH0752488B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1017074A JPH0752488B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気記録方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02198004A true JPH02198004A (ja) | 1990-08-06 |
| JPH0752488B2 JPH0752488B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=11933835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1017074A Expired - Lifetime JPH0752488B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0752488B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02179902A (ja) * | 1988-12-31 | 1990-07-12 | Mikio Takai | 磁気検出装置 |
-
1989
- 1989-01-26 JP JP1017074A patent/JPH0752488B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02179902A (ja) * | 1988-12-31 | 1990-07-12 | Mikio Takai | 磁気検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0752488B2 (ja) | 1995-06-05 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |