JPH02199643A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH02199643A JPH02199643A JP1838389A JP1838389A JPH02199643A JP H02199643 A JPH02199643 A JP H02199643A JP 1838389 A JP1838389 A JP 1838389A JP 1838389 A JP1838389 A JP 1838389A JP H02199643 A JPH02199643 A JP H02199643A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光磁気記録媒体に関し特に記録層が改良され
た光磁気記録媒体に関する。
た光磁気記録媒体に関する。
(従来技術及びその問題点)
近年、光磁気記録媒体は、レーザー光による書き込み読
み出し可能光ディスクとして大容量データファイル等に
広く利用されている。
み出し可能光ディスクとして大容量データファイル等に
広く利用されている。
光磁気記録媒体は、遇明基板上に光磁気記録層を有し、
この光磁気記録層はスバフタ法等の成膜法で形成され、
磁性体の薄膜からなる記録層の上下に誘電体の薄膜から
なる誘電体保護層を設け、さらにその上にC/Nを高め
るために、金属反射層を設けて4層構成にすることによ
って、ファラデー効果とカー効果の双方が利用すること
がなされている。
この光磁気記録層はスバフタ法等の成膜法で形成され、
磁性体の薄膜からなる記録層の上下に誘電体の薄膜から
なる誘電体保護層を設け、さらにその上にC/Nを高め
るために、金属反射層を設けて4層構成にすることによ
って、ファラデー効果とカー効果の双方が利用すること
がなされている。
また、光磁気記録媒体の使用形態としては、ディスクを
片面記録再生用として単一で使用する場合と基板を外側
に向けて接着層を介して2枚貼り合わせた両面記録型の
形態で使用する場合とがある。後者の両面記録型のタイ
プは記録容量が大きいので広く使用されている。
片面記録再生用として単一で使用する場合と基板を外側
に向けて接着層を介して2枚貼り合わせた両面記録型の
形態で使用する場合とがある。後者の両面記録型のタイ
プは記録容量が大きいので広く使用されている。
上記光磁気記録層の記録層に用いる磁性体材料としては
、光磁気記録特性が優れていることがら希土類金属及び
遷移金属等を主体とする薄膜の記録層を設けたものが一
般的である。
、光磁気記録特性が優れていることがら希土類金属及び
遷移金属等を主体とする薄膜の記録層を設けたものが一
般的である。
中でも、希土類金属としてTbを、遷移金属としてはF
e及びCoを使用した、TbFeCo系の非晶質磁性合
金の薄膜は、θkが比較的大きくかつ、半導体レーザー
記録に適した適度のキュリー温度(Tc)を有するので
、比較的低エネルギーで書き込みができ、かつ、高いC
/Nを得ることができる等の理由から上記光磁気記録層
の記録層として最適である。
e及びCoを使用した、TbFeCo系の非晶質磁性合
金の薄膜は、θkが比較的大きくかつ、半導体レーザー
記録に適した適度のキュリー温度(Tc)を有するので
、比較的低エネルギーで書き込みができ、かつ、高いC
/Nを得ることができる等の理由から上記光磁気記録層
の記録層として最適である。
しかしながら、上記のTbFeCo系の非晶質磁性合金
の薄膜を記録層とする場合、記録した情報を消去して別
の情報を再記録しようとする際、消去磁界をかなり太き
(しないと充分に消去ができないという問題があった。
の薄膜を記録層とする場合、記録した情報を消去して別
の情報を再記録しようとする際、消去磁界をかなり太き
(しないと充分に消去ができないという問題があった。
そのため、再記録した信号を読み出す際、消去しきれて
いない情報が同時に再生されるためにそれが信号エラー
になることがあった。
いない情報が同時に再生されるためにそれが信号エラー
になることがあった。
この問題を解決するために、記録層の構成原子の組成比
をかえて消去磁界を小さくする方法等もあるが、そうす
るとC/Nが低下したりした。
をかえて消去磁界を小さくする方法等もあるが、そうす
るとC/Nが低下したりした。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、上記の従来技術の問題点に鑑がみなされたも
のであり、C/N比が良好でかつ適正な消去磁界を有し
た光磁気記録媒体を提供することを目的としている。
のであり、C/N比が良好でかつ適正な消去磁界を有し
た光磁気記録媒体を提供することを目的としている。
(問題点を解決するための手段)
本発明の目的は、基板上に、第1誘電体保護層、記録層
、第2誘電体保護層及び金属反射層の4層の薄膜がこの
順で成膜されている光磁気記録層を存する光磁気記録媒
体において、該記録層の組成が、Tb、Fe、Goより
なる非晶質磁性合金中にA1.Ti、Ptより選ばれた
少なくとも一種の元素を含むものであることを特徴とす
る光磁気記録媒体により達成される。
、第2誘電体保護層及び金属反射層の4層の薄膜がこの
順で成膜されている光磁気記録層を存する光磁気記録媒
体において、該記録層の組成が、Tb、Fe、Goより
なる非晶質磁性合金中にA1.Ti、Ptより選ばれた
少なくとも一種の元素を含むものであることを特徴とす
る光磁気記録媒体により達成される。
本発明の光磁気記録媒体は、光磁気記録層の記録層とし
て、Tb、Fe、Coよりなる希土類遷移金属の非晶質
磁性合金を用いているので、比較的低パワー記録が可能
であり、またθkが大きいのでC/Nが良好である。
て、Tb、Fe、Coよりなる希土類遷移金属の非晶質
磁性合金を用いているので、比較的低パワー記録が可能
であり、またθkが大きいのでC/Nが良好である。
そして、Tb、Fe、Coよりなる非晶質磁性合金中に
Aj!、Ti、Ptより選ばれた少なくとも一種の元素
を含有させることにより、C/Nに影響を与えることな
く消去磁界を低下させることができる。
Aj!、Ti、Ptより選ばれた少なくとも一種の元素
を含有させることにより、C/Nに影響を与えることな
く消去磁界を低下させることができる。
本発明の光磁気記録媒体における、上記の特徴は、上述
の如くその記録層の組成に由来するものであり、それは
適当量のAj+等の金属を添加してもθkが低下させる
ことなく、記録層の硬化を小さくできその結果記録、消
去時に働らく反磁界を小さ(できるためではないかと考
えられる。
の如くその記録層の組成に由来するものであり、それは
適当量のAj+等の金属を添加してもθkが低下させる
ことなく、記録層の硬化を小さくできその結果記録、消
去時に働らく反磁界を小さ(できるためではないかと考
えられる。
本発明の光磁気記録媒体の前記記録層の組成は、Tbx
C(FeCo)1−y My)1−xなる組成式で表
示され、Xは、0.12乃至0.21、望ましくは0.
18〜0.21であり、yは、0.04乃至0.15、
望ましくは0.08〜0.1)である。
C(FeCo)1−y My)1−xなる組成式で表
示され、Xは、0.12乃至0.21、望ましくは0.
18〜0.21であり、yは、0.04乃至0.15、
望ましくは0.08〜0.1)である。
Xがあまり小さいとMsが大きくなり、反磁界が大きく
消去がしにくくなる。
消去がしにくくなる。
となり、また余り大きくなるとTbが過剰となり記録に
多大のパワーを要するようになり、ともに本発明の目的
を充分に達成できなくなる。
多大のパワーを要するようになり、ともに本発明の目的
を充分に達成できなくなる。
一方、yがあまり小さいとMsが小さくならず、消去が
しにくくなり となり、また、余り太き(なるとθkが小さくなり、C
/Nが小さくなり、ともに本発明の目的を充分に達成で
きなくなる。
しにくくなり となり、また、余り太き(なるとθkが小さくなり、C
/Nが小さくなり、ともに本発明の目的を充分に達成で
きなくなる。
遷移金属のFeCo合金の組成比には特に制限はない。
Mは、ACTi、Ptの中から選ばれる少なくとも一種
の元素で在るが、中でも特にA1が好ましい。
の元素で在るが、中でも特にA1が好ましい。
また、Mとして、CrやCu等を使用しても本発明の目
的を達成することができる。
的を達成することができる。
前記記録層の成膜は、本発明の光磁気記録媒体の光磁気
記録層を構成する他の層と同様、通常スパッタ法により
成される。
記録層を構成する他の層と同様、通常スパッタ法により
成される。
単一のターゲットを使用して所定の組成の記録層とする
こともできるし、また複数のターゲット上に金属チップ
を配して多元同時スパッタ法で所定の組成の記!3Nを
得ることもできる。
こともできるし、また複数のターゲット上に金属チップ
を配して多元同時スパッタ法で所定の組成の記!3Nを
得ることもできる。
前記記録層の膜厚は、100〜400人であり、望まし
くは200〜300人である。
くは200〜300人である。
前記記録層の膜厚があまり小さいと垂直磁化膜を形成し
にり<、記録再生がうまくできなくなり、逆にあまり大
きくなると金属反射層にまで記録再生ビームが充分に至
らず見かけのθkがあまり大きくできなくなる。
にり<、記録再生がうまくできなくなり、逆にあまり大
きくなると金属反射層にまで記録再生ビームが充分に至
らず見かけのθkがあまり大きくできなくなる。
本発明の光磁気記録媒体における前記記録層の上下に誘
電体保護層を設けて、記録層の耐久性や光磁気特性を高
めている。
電体保護層を設けて、記録層の耐久性や光磁気特性を高
めている。
すなわち、Tb、Fe、Coよりなる希土類遷移金属合
金は、酸化され易く化学的に不安定であるので記録層を
保護する目的から、また記録層の光磁気特性を斉めるい
わゆるエンハンス効果をもたらすために、記録層と基板
との間に第1誘電体保護層を、記録層の上面には第2誘
電体保護層を設ける。
金は、酸化され易く化学的に不安定であるので記録層を
保護する目的から、また記録層の光磁気特性を斉めるい
わゆるエンハンス効果をもたらすために、記録層と基板
との間に第1誘電体保護層を、記録層の上面には第2誘
電体保護層を設ける。
前記誘電体保護層に使用される該誘電体としては、AI
N、 Sign 5i(h SiNx、 5iAION
等がある。中でもSiNx、 5iA1ONが望ましい
。
N、 Sign 5i(h SiNx、 5iAION
等がある。中でもSiNx、 5iA1ONが望ましい
。
前記第1誘電体保護層の膜厚は、通常800〜1200
人であり、第2誘電体層は200〜400人である。
人であり、第2誘電体層は200〜400人である。
さらに、本発明の光磁気記録媒体の光磁気記録層の最上
層に金属反射層を設けてファラデー効果とカー効果の双
方が利用できるようにして、光磁気記録媒体のC/Nを
高め、記録されたビット形状の対称性が良くなることと
、ビットシフトが生じにくく成っている。
層に金属反射層を設けてファラデー効果とカー効果の双
方が利用できるようにして、光磁気記録媒体のC/Nを
高め、記録されたビット形状の対称性が良くなることと
、ビットシフトが生じにくく成っている。
前記金属反射層は、通常反射率の高い金属の薄膜であり
、例えば、AJ、Au、Cu、Pt。
、例えば、AJ、Au、Cu、Pt。
Ta及びTi等の単体もしくは合金が使用され、中でも
特にコストが安価であること、反射率さらに熱伝導性が
比較的良好であること等の理由からAI、Cuが主に検
討されている。
特にコストが安価であること、反射率さらに熱伝導性が
比較的良好であること等の理由からAI、Cuが主に検
討されている。
前記金属反射層の厚さは、通常、200〜600Aであ
る。
る。
更に、本発明においては、光磁気記録層の上面及び側面
全体を有機樹脂保護層で被覆して保護することにより光
磁気記録媒体の保存安定性を高めることもできる。
全体を有機樹脂保護層で被覆して保護することにより光
磁気記録媒体の保存安定性を高めることもできる。
前記有機樹脂保護層としては、ホ7)メルト樹脂、電子
線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂等の用脂が使用でき、前述
したようにホントメルト樹脂、電子線硬化樹脂、紫外線
硬化樹脂が使用され、スピンコードもしくはロールコー
タ−により光磁気記録層上に形成される。
線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂等の用脂が使用でき、前述
したようにホントメルト樹脂、電子線硬化樹脂、紫外線
硬化樹脂が使用され、スピンコードもしくはロールコー
タ−により光磁気記録層上に形成される。
本発明の光磁気記録媒体に用いられる基板は、ガラス、
もしくはポリカーボネート、メチルメタクリレート、エ
ポキシ樹脂等の樹脂基板である。
もしくはポリカーボネート、メチルメタクリレート、エ
ポキシ樹脂等の樹脂基板である。
(発明の効果)
本発明の光磁気記録媒体においては、光磁気記録層の記
録層の組成をTb、Fe、Coよりなる非晶質合金中に
AI、Tj、Ptから選ばれた少な(とも一種の元素を
含有させたものとすることによって、C/Nを低下させ
ることなく消去磁界を小さくすることができ、そのため
消去に多大のエネルギーを必要としない。
録層の組成をTb、Fe、Coよりなる非晶質合金中に
AI、Tj、Ptから選ばれた少な(とも一種の元素を
含有させたものとすることによって、C/Nを低下させ
ることなく消去磁界を小さくすることができ、そのため
消去に多大のエネルギーを必要としない。
その他、本発明の前記記録層は、耐候性が高いという利
点がある。
点がある。
上記、本発明の新規な特徴を以下の実施例により、より
一層明確にする。
一層明確にする。
(実施例−1)
8インチφの3カソードのマグネトロンスパッタ装置に
おいて、SiAIONm結体、(F e85Co15)
90 Al 10. AIの三種のターゲットを取り付
けた。
おいて、SiAIONm結体、(F e85Co15)
90 Al 10. AIの三種のターゲットを取り付
けた。
そして、(F e85c o15) 90AI 10の
ターゲット上に581)1角のTbのチップを30乃至
55枚そのエロジョンゾーンに配置した。
ターゲット上に581)1角のTbのチップを30乃至
55枚そのエロジョンゾーンに配置した。
スパッタ室内の回転型基板ホルダーには、130φのポ
リカーボネート基板と組成測定用のスライドガラスを取
り付けた。
リカーボネート基板と組成測定用のスライドガラスを取
り付けた。
次いで、スパッタ室内を2X10−’Torrの真空度
となるまで排気して、しかる後Arガスを真空度がlX
10−”Torrとなるまで導入した。
となるまで排気して、しかる後Arガスを真空度がlX
10−”Torrとなるまで導入した。
まず、前記5tA1ON 焼結体のターゲットに1kW
のRF電力を印加し、3Qrpmで回転する前記ポリカ
ーボネート基板上に第1誘電体保護層として900Aの
5tA1ONの薄膜を成膜した。
のRF電力を印加し、3Qrpmで回転する前記ポリカ
ーボネート基板上に第1誘電体保護層として900Aの
5tA1ONの薄膜を成膜した。
続いて、5IllI角のTbのチップをそのエロジョン
ゾーンに配した(Fe85Co15)90AII Oの
ターゲットに1200WのRFiit力を印加して、記
録層として厚さ25OAのTbFeCoA1合金の薄膜
を成膜した。
ゾーンに配した(Fe85Co15)90AII Oの
ターゲットに1200WのRFiit力を印加して、記
録層として厚さ25OAのTbFeCoA1合金の薄膜
を成膜した。
再び、前記5iAIO)JjJ結体のターゲ7)lkw
のRF電力を印加して、第1誘電体保護層と同じように
して第2誘電体保護層として厚さ300Aの薄膜を成膜
した。
のRF電力を印加して、第1誘電体保護層と同じように
して第2誘電体保護層として厚さ300Aの薄膜を成膜
した。
さらに、前記、lターゲットにlkwのDCt力を印加
して金属反射層として厚さ400人の、lの薄膜を前記
第2誘電体保護層の上に成膜して、前記ポリカーボネー
ト基板上に第1誘電体保護層、記録層、第2誘電体保護
層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜された4層構成
の光磁気記録層を有する光磁気記録媒体の試料A、B、
C及びDを得た。
して金属反射層として厚さ400人の、lの薄膜を前記
第2誘電体保護層の上に成膜して、前記ポリカーボネー
ト基板上に第1誘電体保護層、記録層、第2誘電体保護
層及び金属反射層の薄膜がこの順で成膜された4層構成
の光磁気記録層を有する光磁気記録媒体の試料A、B、
C及びDを得た。
前記スライドガラス上に成膜した記録層と同じ組成の薄
膜の組成分析を蛍光X線法で行った。
膜の組成分析を蛍光X線法で行った。
光磁気記録媒体の各試料の記録層の組成は、第1表に示
すとおりであった。
すとおりであった。
第1表
上記のようにして得られた光磁気記録媒体を磁気光学特
性測定装置による測定から得たカーループによりHcを
求めた。
性測定装置による測定から得たカーループによりHcを
求めた。
動特性評価として、1800rpm、キャリヤー周波数
3.7MHzの条件で測定してC/Mを求めた。
3.7MHzの条件で測定してC/Mを求めた。
また、消去磁界を変化させた時のC/Nの変化を求め飽
和C/Nから1dB低下したときの消去磁界をHbとし
た。
和C/Nから1dB低下したときの消去磁界をHbとし
た。
以上の測定結果を、第2表に示す。
第2表
第3表(続き)
(実施例−2)
(F e85Co15) 90Al 10のターゲット
に替えて、(F e85Co15) 85AI 15の
ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件
で光磁気記録媒体の試料E、 F、 G及びHを作成
した。
に替えて、(F e85Co15) 85AI 15の
ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件
で光磁気記録媒体の試料E、 F、 G及びHを作成
した。
記録層の組成、光磁気記録媒体の特性は、第3表及び第
4表に示すとおりであった。
4表に示すとおりであった。
第4表
(実施例−3)
(F e85Co15) 90A1)0のターゲットに
替えて、(F e85c o15) 95A15のター
ゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件で光
磁気記録媒体の試料1.J、K及びLを作成した。
替えて、(F e85c o15) 95A15のター
ゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件で光
磁気記録媒体の試料1.J、K及びLを作成した。
記録層の組成、光磁気記録媒体の特性は、第5表及び第
6表に示すとおりであった。
6表に示すとおりであった。
第5表
記録層の組成、光磁気記録媒体の特性は、第7表及び第
8表に示すとおりであった。
8表に示すとおりであった。
第6表
第8表
(実施例−4)
(F e85Co 15) 90AI 10のターゲッ
トに替えて、(F e85Co15) 85A1)5の
ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件
で光磁気記録媒体の試料M、N、O及びPを作成した。
トに替えて、(F e85Co15) 85A1)5の
ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一の条件
で光磁気記録媒体の試料M、N、O及びPを作成した。
(比較例)
(F e85Co15) 90A+ 10のターゲット
に替えて、AIのないFe85Co15希土類遷移金属
の合金ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一
の条件で光磁気記録媒体の試料Q、R,S及びTを作成
した。
に替えて、AIのないFe85Co15希土類遷移金属
の合金ターゲットを使用した以外は、実施例−1と同一
の条件で光磁気記録媒体の試料Q、R,S及びTを作成
した。
記録層の組成、光磁気記録媒体の特性は、第9表及び第
10表に示すとおりであった。
10表に示すとおりであった。
第9表
実施例−1から実施例−4の記録層中にAlが含有され
ている本発明の光磁気記録媒体の試料A〜Pにおいては
、いずれも消去磁界が小さく、そしてC/Nも比較的良
好な値であった。
ている本発明の光磁気記録媒体の試料A〜Pにおいては
、いずれも消去磁界が小さく、そしてC/Nも比較的良
好な値であった。
それに対して、記録層にA1がない比較例の光磁気記録
媒体の試料Q−Tではいずれも消去磁界がかなり大きく
なってしまった。
媒体の試料Q−Tではいずれも消去磁界がかなり大きく
なってしまった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社第10表
手続補正書
4.補正の対象 明細書の
の欄
「発明の詳細な説明J
Claims (2)
- (1)基板上に、第1誘電体保護層、記録層、第2誘電
体保護層及び金属反射層の4層の薄膜がこの順で成膜さ
れている光磁気記録層を有する光磁気記録媒体において
、該記録層の組成が、Tb、Fe、Coよりなる非晶質
磁性合金中にAl、Ti、Ptより選ばれた少なくとも
一種の元素を含むものであることを特徴とする光磁気記
録媒体。 - (2)記録層の組成が、 Tbx〔(FeCo)1−yMy〕1−x(ただし、x
=0.12〜0.21、y=10.04〜0.15)な
る組成式で表されることを特徴とする請求項1記載の光
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1838389A JPH02199643A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1838389A JPH02199643A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02199643A true JPH02199643A (ja) | 1990-08-08 |
Family
ID=11970192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1838389A Pending JPH02199643A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02199643A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100471976C (zh) | 2005-07-22 | 2009-03-25 | 中国科学院物理研究所 | 一种铽基非晶合金及其制备方法 |
-
1989
- 1989-01-27 JP JP1838389A patent/JPH02199643A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100471976C (zh) | 2005-07-22 | 2009-03-25 | 中国科学院物理研究所 | 一种铽基非晶合金及其制备方法 |
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