JPH02200689A - 有機珪素化合物の蒸留方法 - Google Patents
有機珪素化合物の蒸留方法Info
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- JPH02200689A JPH02200689A JP1018749A JP1874989A JPH02200689A JP H02200689 A JPH02200689 A JP H02200689A JP 1018749 A JP1018749 A JP 1018749A JP 1874989 A JP1874989 A JP 1874989A JP H02200689 A JPH02200689 A JP H02200689A
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- JP
- Japan
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- distillation
- compound
- liquid
- boiling point
- thin film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は高沸点を有する重合性有機珪素化合物の蒸留精
製方法に関する。詳しくは、該化合物より更に高沸点の
液体の存在下に薄膜式蒸発装置を用いて該化合物を蒸留
精製する方法に関する。
製方法に関する。詳しくは、該化合物より更に高沸点の
液体の存在下に薄膜式蒸発装置を用いて該化合物を蒸留
精製する方法に関する。
（従来の技術）
本発明者等は
下記の一般式
［但し、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は加
水分解可能な基を示し、Ｒ３は炭素数１ないし６の炭化
水素基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、ｍ
は１から３の整数を示し、ｎは８から２０の整数を示す
］ で表現される有機珪素化合物がソランカップリング剤と
して好ましいものであることを見い出した。
水分解可能な基を示し、Ｒ３は炭素数１ないし６の炭化
水素基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、ｍ
は１から３の整数を示し、ｎは８から２０の整数を示す
］ で表現される有機珪素化合物がソランカップリング剤と
して好ましいものであることを見い出した。
これらの化合物をシランカップリング剤として使用する
場合、合成後に精製を行うことが必要であ＝２ るが、（Ａ）式で表現される化合物［以下、化合物（Ａ
）と称することがある］で精製法が知られているものは
下記の化合物 Ｈ２Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−（−ＣＩ１２→ Ｓ ｉ ＋Ｏ
ＣＨ３） ３のみである。該化合物は坂梨ら［坂梨、西
山著、歯科材料・器械横笛３巻２号２ａ４−２９４頁（
，１９８４年）］により、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーを用いて精製されることが示されている。
場合、合成後に精製を行うことが必要であ＝２ るが、（Ａ）式で表現される化合物［以下、化合物（Ａ
）と称することがある］で精製法が知られているものは
下記の化合物 Ｈ２Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−（−ＣＩ１２→ Ｓ ｉ ＋Ｏ
ＣＨ３） ３のみである。該化合物は坂梨ら［坂梨、西
山著、歯科材料・器械横笛３巻２号２ａ４−２９４頁（
，１９８４年）］により、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーを用いて精製されることが示されている。
（発明が解決しようとする課題）
ところが、カラムクロマトグラフィーを用いる精製方法
は少量の試料の精製には適しているが、多量の試料を短
時間に精製するには到底現実的な方法とは言えない。こ
の目的には蒸留法が適当と考えられるが、化合物（Ａ）
を蒸留しようとすると大きな困難に直面した。即ち、化
合物（Ａ）は高沸点でかつ重合性を有するため、通常の
真空蒸留では留出温度まで加熱すると蒸留器内て重合が
起きてしまった。
は少量の試料の精製には適しているが、多量の試料を短
時間に精製するには到底現実的な方法とは言えない。こ
の目的には蒸留法が適当と考えられるが、化合物（Ａ）
を蒸留しようとすると大きな困難に直面した。即ち、化
合物（Ａ）は高沸点でかつ重合性を有するため、通常の
真空蒸留では留出温度まで加熱すると蒸留器内て重合が
起きてしまった。
そこで、高沸点でかつ不安定な有機化合物を効集的に蒸
留できるとされている薄膜式蒸留装置を用いたが、以下
の不都合が生じた。即ち、粗製の化合物（Ａ）から目的
とする化合物（Ａ）が蒸留されるものの、蒸留の進行に
伴って、合成時に副成した高分子量の不純分が残香とな
って該装置の加熱面（蒸発面）に固形物として付着する
。その結果、加熱面における薄膜の形成がてきなくなつ
ｋす、留出ラインが詰まったりして、長時間連続運転が
困難になることが明らかになった。
留できるとされている薄膜式蒸留装置を用いたが、以下
の不都合が生じた。即ち、粗製の化合物（Ａ）から目的
とする化合物（Ａ）が蒸留されるものの、蒸留の進行に
伴って、合成時に副成した高分子量の不純分が残香とな
って該装置の加熱面（蒸発面）に固形物として付着する
。その結果、加熱面における薄膜の形成がてきなくなつ
ｋす、留出ラインが詰まったりして、長時間連続運転が
困難になることが明らかになった。
従って本発明の目的は化合物（Ａ）を薄膜式蒸留装置を
用いて蒸留精製するに際し、蒸留中に加熱面や留出ライ
ンに前記固形物を付着残留させることなく、長時間の連
続運転を可能ならしめる方法を提供することにある。
用いて蒸留精製するに際し、蒸留中に加熱面や留出ライ
ンに前記固形物を付着残留させることなく、長時間の連
続運転を可能ならしめる方法を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
本発明者らは上記の問題点を解決すべく鋭意検討を重ね
た結果、化合物（Ａ）よりも沸点の高い液体を粗製の化
合物（Ａ）と混合して、加熱面上ヘフイードし蒸留を行
えば、化合物（Ａ）の蒸発につれて析出する固形物が高
沸点液体の存在により、高沸点液体に溶解又は懸濁した
状態で蒸留装置外に排出されるので加熱面ての該固形物
の蓄積が防止され、長時間の蒸留運転が可能となること
を見い出した。
た結果、化合物（Ａ）よりも沸点の高い液体を粗製の化
合物（Ａ）と混合して、加熱面上ヘフイードし蒸留を行
えば、化合物（Ａ）の蒸発につれて析出する固形物が高
沸点液体の存在により、高沸点液体に溶解又は懸濁した
状態で蒸留装置外に排出されるので加熱面ての該固形物
の蓄積が防止され、長時間の蒸留運転が可能となること
を見い出した。
即ち本発明は
下記の一般式
［但し、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２は加
水分解可能な基を示し、Ｒ３は炭素数１ないし６の炭化
水素基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、ｍ
は１から３の整数を示し、ｎは８から２０の整数を示す
コ で表現される有機珪素化合物を該化合物に対して不活性
でかつ高沸点をもつ液体の存在下に薄膜式蒸留装置を用
いて無届する方法であって、蒸留温度での該液体の蒸気
圧が該有機珪素化合物の蒸気圧の１７１０以下である液
体を用いることを特徴とする有機珪素化合物の蒸留方法
である。
水分解可能な基を示し、Ｒ３は炭素数１ないし６の炭化
水素基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、ｍ
は１から３の整数を示し、ｎは８から２０の整数を示す
コ で表現される有機珪素化合物を該化合物に対して不活性
でかつ高沸点をもつ液体の存在下に薄膜式蒸留装置を用
いて無届する方法であって、蒸留温度での該液体の蒸気
圧が該有機珪素化合物の蒸気圧の１７１０以下である液
体を用いることを特徴とする有機珪素化合物の蒸留方法
である。
本発明の最大の特徴は、粗製の化合物（Ａ）をこれより
も沸点の高い液体と共に薄膜式蒸留装置ヘフイードし、
化合物（Ａ）を選択的に蒸留することにある。この方法
に上れば、化合物（ム）は該装置の加熱面上で蒸発され
た後、凝縮器により集められて蒸留精製が完了する。一
方、高沸点液体は蒸発することなく、粗製の化合物（Ａ
）中に含まれる不揮発性物質を溶解させた状態または微
粒子として懸濁させた状態で加熱面から洗い流し、蒸発
残渣として回収される。
も沸点の高い液体と共に薄膜式蒸留装置ヘフイードし、
化合物（Ａ）を選択的に蒸留することにある。この方法
に上れば、化合物（ム）は該装置の加熱面上で蒸発され
た後、凝縮器により集められて蒸留精製が完了する。一
方、高沸点液体は蒸発することなく、粗製の化合物（Ａ
）中に含まれる不揮発性物質を溶解させた状態または微
粒子として懸濁させた状態で加熱面から洗い流し、蒸発
残渣として回収される。
なお粗製化合物（Ａ）中に含まれる低沸点の不純物は、
本発明の蒸留を実施する前に減圧留去しておくのが望ま
しい。
本発明の蒸留を実施する前に減圧留去しておくのが望ま
しい。
次に、化合物（Ａ）について以下に説明する。（Ａ）式
における加水分解可能な基、Ｒ２とは具体的にはアルコ
キシ基、塩素原子、イソシアナート基、アルコキシ基、
イミノキシ基である。Ｒ３は狭義の炭化水素基またはハ
ロゲン化炭化水素基を意味する。
における加水分解可能な基、Ｒ２とは具体的にはアルコ
キシ基、塩素原子、イソシアナート基、アルコキシ基、
イミノキシ基である。Ｒ３は狭義の炭化水素基またはハ
ロゲン化炭化水素基を意味する。
化合物（Ａ）の具体例としては以下に示すものが列挙さ
れる。
れる。
ＣＩ（３
１（、Ｃ＝ Ｃ−Ｃ’０Ｏ−（−ＣＩｌ ２→Ｓ ｉ
−（−ＯＣＩＩ ３）ＣＩ（３ ＋１ 、Ｃ＝ Ｃ−ＣＯＯ−＋ＣＨ、→ Ｓｉ−＋−０
ＣＨ３）ＩＬ ＣＨ３ＣＨ２ Ｏ、Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−（−Ｃ１ｌ 、→ ５ｉＣＩ２
ｚ■、σ＝ ｃ−ｃｏｏ−←ＣＨ２→ ５ｉＣ１２ｓＣ
Ｈ３ＣＨ。
−（−ＯＣＩＩ ３）ＣＩ（３ ＋１ 、Ｃ＝ Ｃ−ＣＯＯ−＋ＣＨ、→ Ｓｉ−＋−０
ＣＨ３）ＩＬ ＣＨ３ＣＨ２ Ｏ、Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−（−Ｃ１ｌ 、→ ５ｉＣＩ２
ｚ■、σ＝ ｃ−ｃｏｏ−←ＣＨ２→ ５ｉＣ１２ｓＣ
Ｈ３ＣＨ。
ＬＣ＝ Ｃ−Ｃ０Ｏ−（−Ｃ）ｌ、→ Ｓ ｉ ＋ＯＣ
ｌ（３） −φ ＣＨ３ ＩＩ 、 Ｃ＝ Ｃ−Ｃ０Ｏ−（−ＣＩｌ 、→ ５ｉ
−（−ＮＧＯ）３■ ＣＩｌ、 ＣＦ。
ｌ（３） −φ ＣＨ３ ＩＩ 、 Ｃ＝ Ｃ−Ｃ０Ｏ−（−ＣＩｌ 、→ ５ｉ
−（−ＮＧＯ）３■ ＣＩｌ、 ＣＦ。
ＩＩ 、 Ｃ＝ Ｃ−Ｃ０Ｏ−（−ＣＩｌ ２→ ３
ｉ −＋ＯＣＩＩ ３） ２Ｈｖ Ｃ＝ ＣＣＯ３Ｈ（
ＩＩ ２→ Ｓｉ上ＣＨ３）３ＣＩ＋。
ｉ −＋ＯＣＩＩ ３） ２Ｈｖ Ｃ＝ ＣＣＯ３Ｈ（
ＩＩ ２→ Ｓｉ上ＣＨ３）３ＣＩ＋。
Ｈ，Ｃ＝ ｆ、−Ｃ０Ｏ−（−ＣＨ２→ Ｓｌ−＋０Ｏ
ＣＣＩＩ３）３？１１３ Ｈ２Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ→３ｏ２→ Ｓｉ−＋０ＣＨ３）
３Ｈ３ １１、Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−１−ＣＩＩ２→ ５ｉＣＱ。
ＣＣＩＩ３）３？１１３ Ｈ２Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ→３ｏ２→ Ｓｉ−＋０ＣＨ３）
３Ｈ３ １１、Ｃ＝ Ｃ−Ｃｏｏ−１−ＣＩＩ２→ ５ｉＣＱ。
？１・
Ｈ２Ｃ二ｃ−ｃｏｏ→１＋２→ Ｓｉ→■Ｃ１ｌ＊：Ｌ
＋？１１３ ＩＬＣ＝ Ｃ−Ｃ００−（−（：Ｉ（２→ ５ｉ−（（
）Ｃ１１３）３次に、本発明で用いられる高沸点液体に
ついて説明する。化合物（Ａ）を蒸留中に該高沸点液体
が留分の中に混入してくることを極力抑制する必要があ
り、そのためには蒸留温度での該高沸点液体の蒸気圧は
化合物（Ａ）の蒸気圧の１７１０以下であることが望ま
しい。蒸気圧が１７１Ｏ以下である高沸点液体の沸点は
化合物（Ａ）のそれよりも４０℃以上高くなるのが通常
であり、高沸点液体の混入による化合物（Ａ）の純度低
下を実質的に引き起こすことなく蒸留精製が可能である
。
＋？１１３ ＩＬＣ＝ Ｃ−Ｃ００−（−（：Ｉ（２→ ５ｉ−（（
）Ｃ１１３）３次に、本発明で用いられる高沸点液体に
ついて説明する。化合物（Ａ）を蒸留中に該高沸点液体
が留分の中に混入してくることを極力抑制する必要があ
り、そのためには蒸留温度での該高沸点液体の蒸気圧は
化合物（Ａ）の蒸気圧の１７１０以下であることが望ま
しい。蒸気圧が１７１Ｏ以下である高沸点液体の沸点は
化合物（Ａ）のそれよりも４０℃以上高くなるのが通常
であり、高沸点液体の混入による化合物（Ａ）の純度低
下を実質的に引き起こすことなく蒸留精製が可能である
。
高沸点液体の別の要件は、蒸留中に化合物（Ａ）を変質
させるものであってはならないことである。
させるものであってはならないことである。
そのためには、高沸点液体は水酸基、カルボキシル基、
チオール基、アミノ基、エポキシ基、スルホン酸基、ホ
スホン酸基等の官能基を持っていないものでなければな
らない。
チオール基、アミノ基、エポキシ基、スルホン酸基、ホ
スホン酸基等の官能基を持っていないものでなければな
らない。
ところで本発明に言う高沸点液体とは、常温において液
体であるもののみに限定されない。その目的からして、
化合物（Ａ）の蒸留温度において液体状態にあれば良い
。
体であるもののみに限定されない。その目的からして、
化合物（Ａ）の蒸留温度において液体状態にあれば良い
。
かかる高沸点液体としては、例えばポリジメチルシロキ
サン、ポリオクチルメチルンロキサン、ポリメチルデシ
ル−ジフェニルシロキサンコポリマー ポリジメチル−
ジフェニルシロキサンコポリマー ポリメチルフェニル
ンロキサン、ポリジメヂルーフェニルメチルシロキサン
コポリマー等に代表されるンリコーンオイル（末端のン
ラノール基はトリメチルシリル基等で保護されたものが
望ましい）、ポリエチレングリクールの両末端水酸基を
アルキルエーテル化あるいはアルキルエステル化したも
の、アルキル化ジフェニルエーテルや一般式 （ただし、Ｑは１ないし４の整数、ｎは０ないし２の整
数、ｍは１または０を表し、Ｒはアルキル基を表す）で
表されるポリフェニルエーテル類、流動パラフィン、潤
滑油、プロセス油などの石油留分などが用いられる。
サン、ポリオクチルメチルンロキサン、ポリメチルデシ
ル−ジフェニルシロキサンコポリマー ポリジメチル−
ジフェニルシロキサンコポリマー ポリメチルフェニル
ンロキサン、ポリジメヂルーフェニルメチルシロキサン
コポリマー等に代表されるンリコーンオイル（末端のン
ラノール基はトリメチルシリル基等で保護されたものが
望ましい）、ポリエチレングリクールの両末端水酸基を
アルキルエーテル化あるいはアルキルエステル化したも
の、アルキル化ジフェニルエーテルや一般式 （ただし、Ｑは１ないし４の整数、ｎは０ないし２の整
数、ｍは１または０を表し、Ｒはアルキル基を表す）で
表されるポリフェニルエーテル類、流動パラフィン、潤
滑油、プロセス油などの石油留分などが用いられる。
これらの液体は単独あるいは適宜に２種以上混合して用
いられる。
いられる。
これらの高沸点液体は粗製の化合物（Ａ）１００重量部
に対し、１０ないし１０００重量部用いられる。１０重
量部より少いと固形物が塊状になって蒸留装置の加熱面
に付着するのを防止する効果が不足し好ましくない。一
方、１０００重量部を越えると、蒸留速度が遅く、蒸留
のエネルギー効率も著しく悪い。
に対し、１０ないし１０００重量部用いられる。１０重
量部より少いと固形物が塊状になって蒸留装置の加熱面
に付着するのを防止する効果が不足し好ましくない。一
方、１０００重量部を越えると、蒸留速度が遅く、蒸留
のエネルギー効率も著しく悪い。
なお高沸点液体は粗製の化合物（Ａ）と予め混合して加
熱面ヘフイードされるのが好ましい。
熱面ヘフイードされるのが好ましい。
該粗製の化合物（Ａ）中には、蒸留中の（メタ）アクリ
ロイル基の変質を防ぐため、あらかじめ重合禁止剤が通
常添加される。かかる重量禁止剤としては、例えば２．
６−ジーし一ブチルーｐ−クレゾール、ハイドロキノン
モノメチルエーテル、２．２°−メチレン−ビス−（４
−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−
［メチレン−３（３°、５°−ジ−ｔ−ブチル−４°−
ヒドロキシフェニル）プロピオネートコメタン、Ｎ、Ｎ
’−へキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド） 、２− （３，
５−ジーし−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）２−ｎ
−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ベンタメ
チルー４−ピペリジル）、α−トコフェロールのような
フェノール系、Ｎ、Ｎ’−ジ−β−ナフチル−ｐ−フェ
ニレン−ジアミンフェノチアジン、オクチル化ジフェニ
ルアミン等のアミン系の他、塩化鉄、塩化銅等も用いる
ことができる。これらの重合禁止剤は単独あるいは２種
以上を組みあわせて用いられ、添加量は通常粗製の化合
物（Ａ）１００重量部に対し０．０１ないし１０重量部
の範囲である。
ロイル基の変質を防ぐため、あらかじめ重合禁止剤が通
常添加される。かかる重量禁止剤としては、例えば２．
６−ジーし一ブチルーｐ−クレゾール、ハイドロキノン
モノメチルエーテル、２．２°−メチレン−ビス−（４
−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−
［メチレン−３（３°、５°−ジ−ｔ−ブチル−４°−
ヒドロキシフェニル）プロピオネートコメタン、Ｎ、Ｎ
’−へキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド） 、２− （３，
５−ジーし−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）２−ｎ
−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ベンタメ
チルー４−ピペリジル）、α−トコフェロールのような
フェノール系、Ｎ、Ｎ’−ジ−β−ナフチル−ｐ−フェ
ニレン−ジアミンフェノチアジン、オクチル化ジフェニ
ルアミン等のアミン系の他、塩化鉄、塩化銅等も用いる
ことができる。これらの重合禁止剤は単独あるいは２種
以上を組みあわせて用いられ、添加量は通常粗製の化合
物（Ａ）１００重量部に対し０．０１ないし１０重量部
の範囲である。
本発明で用いられる薄膜式蒸留装置としては、種々の形
式のものが挙げられる。例えば流下膜型、カスケード式
、濡れ壁式、短径略式、遠心式、ローター回転式（ルー
ワ薄膜式）、液柱流過式、液膜移動式等がある。いずれ
の場合も蒸留操作は、通常これらの操作方法として一般
的に行なわれている方法により行なわれる。
式のものが挙げられる。例えば流下膜型、カスケード式
、濡れ壁式、短径略式、遠心式、ローター回転式（ルー
ワ薄膜式）、液柱流過式、液膜移動式等がある。いずれ
の場合も蒸留操作は、通常これらの操作方法として一般
的に行なわれている方法により行なわれる。
（実施例）
次に本発明を実施例により説明するが、本発明はかかる
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
製造例１（８−メタクリロイルオキシオクチルトリメト
キシンランの合成） 撹拌器を備えた反応容器へ、７−オクチニルメタクリレ
ート３００ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇ
及び塩化白金酸６水塩の１％テトラヒドロフラン溶液４
ｍＱを加えこの混合物を４０℃に加熱し＝１１ −１ま た。ここへ窒素雰囲気下トリクロロシラン２５０ｇを攪
拌しながら徐々に滴下し、この間反応混合物の温度は４
５℃を超えないように調節した。滴下終了後該混合物を
６０℃まで加熱し、この温度でさらに６時間反応を行い
、８−メタクリロイルオキシオクチルトリクロロシラン
を合成した。
キシンランの合成） 撹拌器を備えた反応容器へ、７−オクチニルメタクリレ
ート３００ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇ
及び塩化白金酸６水塩の１％テトラヒドロフラン溶液４
ｍＱを加えこの混合物を４０℃に加熱し＝１１ −１ま た。ここへ窒素雰囲気下トリクロロシラン２５０ｇを攪
拌しながら徐々に滴下し、この間反応混合物の温度は４
５℃を超えないように調節した。滴下終了後該混合物を
６０℃まで加熱し、この温度でさらに６時間反応を行い
、８−メタクリロイルオキシオクチルトリクロロシラン
を合成した。
次に撹拌器を備えた反応容器にメタノール１０００ＩＩ
ＩＱ及びトリエチルアミン３００ｇを入れ０℃まで冷却
した。この混合物へ先に合成した８−メタクリロイルオ
キシオクチルトリクロロシランを滴下ロートよりゆっく
り滴下した。滴下終了後室温でさらに１２時間撹拌した
。この反応混合物の溶媒を減圧留去し、残留物に多量の
ジエチルエーテルを加え、不溶物を濾別した後エーテル
を減圧留去し、８−メタクリロイルオキシオクチルトリ
メトキシシランの粗製物４３０ｇを得た。
ＩＱ及びトリエチルアミン３００ｇを入れ０℃まで冷却
した。この混合物へ先に合成した８−メタクリロイルオ
キシオクチルトリクロロシランを滴下ロートよりゆっく
り滴下した。滴下終了後室温でさらに１２時間撹拌した
。この反応混合物の溶媒を減圧留去し、残留物に多量の
ジエチルエーテルを加え、不溶物を濾別した後エーテル
を減圧留去し、８−メタクリロイルオキシオクチルトリ
メトキシシランの粗製物４３０ｇを得た。
製造例２（１１−メタクリロイルオキシウンデシルトリ
メトキシシランの合成） １１−ウンデセニルメタクリレート３６０ｇを用い製造
例１と同じ方法により合成を行ったところ、１１−メタ
クリロイルオキシウンデシルトリメトキシシランの粗生
成物４５０ｇを得た。
メトキシシランの合成） １１−ウンデセニルメタクリレート３６０ｇを用い製造
例１と同じ方法により合成を行ったところ、１１−メタ
クリロイルオキシウンデシルトリメトキシシランの粗生
成物４５０ｇを得た。
製造例３（１６−メタクリロイルオキシヘキサデシルト
リメトキシシランの合成） １６−へキサデセニルメタクリレート４１５ｇを用い製
造例２と同じ方法により合成を行ったところ、１６−メ
タクリロイルオキシヘキサデシルトリメトキシシランの
粗生成物４８０ｇを得た。
リメトキシシランの合成） １６−へキサデセニルメタクリレート４１５ｇを用い製
造例２と同じ方法により合成を行ったところ、１６−メ
タクリロイルオキシヘキサデシルトリメトキシシランの
粗生成物４８０ｇを得た。
実施例１
製造例１で合成された粗８−メタクリロイルオキシオク
チルトリメトキシシランｌｏｏｇ、ポリジメチル−ジフ
ェニルシロキサンコポリマ−［信ＭシリコーンＫ Ｆ
−５４０、沸点＝２００℃以上（２００℃における蒸気
圧４Ｘ １０−３ｍｍＨｇ以下）コ１００ｇ及び重合禁
止剤としてテトラキス−［メチレン−３（３’、５°−
ジ−ｔ−ブチル−４°−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネートコメタン（チバガイギーＩｒｇａｎｏｘ１０４０
■） Ｉｇを混合溶解した。この混合溶液を回転薄膜式
蒸留装置（柴田科学器械工業製分子蒸留装置Ｍ、Ｓ −
３００型）を用い、圧力０．Ｏ３ｍｍＨｇ。
チルトリメトキシシランｌｏｏｇ、ポリジメチル−ジフ
ェニルシロキサンコポリマ−［信ＭシリコーンＫ Ｆ
−５４０、沸点＝２００℃以上（２００℃における蒸気
圧４Ｘ １０−３ｍｍＨｇ以下）コ１００ｇ及び重合禁
止剤としてテトラキス−［メチレン−３（３’、５°−
ジ−ｔ−ブチル−４°−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネートコメタン（チバガイギーＩｒｇａｎｏｘ１０４０
■） Ｉｇを混合溶解した。この混合溶液を回転薄膜式
蒸留装置（柴田科学器械工業製分子蒸留装置Ｍ、Ｓ −
３００型）を用い、圧力０．Ｏ３ｍｍＨｇ。
蒸留温度９０℃で、常法に従い約２時間にわたり薄膜式
蒸留を行った。その結果Ｈｇの８−メタクリロイルオキ
シオクチルトリメトキシシランが蒸留された。また蒸留
中に蒸発面に重合物が塊状に析出することがなく、薄膜
式蒸留は終始良好に行なわれた。１１４ｇの不揮発成分
が液体残渣として集められ、残渣流出ライン上にも固形
物が析出することはなかった。
蒸留を行った。その結果Ｈｇの８−メタクリロイルオキ
シオクチルトリメトキシシランが蒸留された。また蒸留
中に蒸発面に重合物が塊状に析出することがなく、薄膜
式蒸留は終始良好に行なわれた。１１４ｇの不揮発成分
が液体残渣として集められ、残渣流出ライン上にも固形
物が析出することはなかった。
ガスクロマトグラフィーによる分析では、蒸留８−メタ
クリロイルオキシオクチルトリメトキシシランの純度は
９１，５％であり、’Ｈ−ＮＭＲ分析よりＫＦ−５４の
成分は混入していなかった。また残渣のガスクロマトグ
ラフィー及び’）ｌ−Ｎ Ｍ Ｒ分析より残渣中に８−
メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシランは殆
んど残存していなかった。
クリロイルオキシオクチルトリメトキシシランの純度は
９１，５％であり、’Ｈ−ＮＭＲ分析よりＫＦ−５４の
成分は混入していなかった。また残渣のガスクロマトグ
ラフィー及び’）ｌ−Ｎ Ｍ Ｒ分析より残渣中に８−
メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシランは殆
んど残存していなかった。
比較例１
実施例１において、Ｋ Ｆ −５４を用いないで粗１１
メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン１０
０ｇ及びＩｒｇａｎｏｘｌＯ１Ｏ■Ｉｇの混合溶液を実
施例１と同様な方法で薄膜式蒸留を行ったところ、徐々
に蒸発面上に固形物が析出し、また蒸留塔下部に該固形
物が塊状となって滞留し、約４０ｇをフィードした段階
で薄膜生成が困難となり、仕込んだすべてを蒸留するこ
とができなかった。
メタクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン１０
０ｇ及びＩｒｇａｎｏｘｌＯ１Ｏ■Ｉｇの混合溶液を実
施例１と同様な方法で薄膜式蒸留を行ったところ、徐々
に蒸発面上に固形物が析出し、また蒸留塔下部に該固形
物が塊状となって滞留し、約４０ｇをフィードした段階
で薄膜生成が困難となり、仕込んだすべてを蒸留するこ
とができなかった。
実施例２及び３
製造例２及び３で合成された１１−メタクリロイルオキ
シウンデシルトリメトギシンラン及び１６メタクリロイ
ルオキシヘキサデシルトリメトキシシランの粗生成物各
々１００ｇを用い第１表に示す圧力、温度、時間で、実
施例１と同様な方法で薄膜式蒸留を行った結果を併せて
第１表に示す。
シウンデシルトリメトギシンラン及び１６メタクリロイ
ルオキシヘキサデシルトリメトキシシランの粗生成物各
々１００ｇを用い第１表に示す圧力、温度、時間で、実
施例１と同様な方法で薄膜式蒸留を行った結果を併せて
第１表に示す。
いずれの場合も実施例１と同様に有機珪素化合物とＫ
Ｆ ５４との分離は良好であった。また蒸発面やライン
に固形物が析出することはなかった。
Ｆ ５４との分離は良好であった。また蒸発面やライン
に固形物が析出することはなかった。
実施例４
市販の真空ポンプ油（松材石油研究所製ネオバックＭ
Ｒ−２５０■） ２００ｇを、実施例１で用いた薄膜式
蒸留装置を用いて、圧力０．０［１７ｍｎ＋ｔ１ｇＳ温
度１４５℃で蒸留を行い、揮発成分と不揮発成分とに分
別を行ったところ、不揮発成分として１５０ｇの液体が
得られた。この液体１００ｇ、 １１−メタクリロイル
オキシウンデシルト・リメトキシシランの粗生成物１０
０ｇ及びｌｒｇａｎｏｘ １０１０■１ｇを混合溶解し
、実施例２と同じ条件下で該混合物の薄膜式蒸留を行っ
たところ、７６ｇの有機珪素化合物が蒸留された（純度
８９．６％）。また１２０ｇの液体が不揮発性残渣とし
て集められた。
Ｒ−２５０■） ２００ｇを、実施例１で用いた薄膜式
蒸留装置を用いて、圧力０．０［１７ｍｎ＋ｔ１ｇＳ温
度１４５℃で蒸留を行い、揮発成分と不揮発成分とに分
別を行ったところ、不揮発成分として１５０ｇの液体が
得られた。この液体１００ｇ、 １１−メタクリロイル
オキシウンデシルト・リメトキシシランの粗生成物１０
０ｇ及びｌｒｇａｎｏｘ １０１０■１ｇを混合溶解し
、実施例２と同じ条件下で該混合物の薄膜式蒸留を行っ
たところ、７６ｇの有機珪素化合物が蒸留された（純度
８９．６％）。また１２０ｇの液体が不揮発性残渣とし
て集められた。
（発明の効果）
本発明の蒸留方法により（Ａ）式で表現される高沸点の
重合性有機珪素化合物を、蒸留中に重合させることもな
く、効率的に大量に蒸留精製できるようになった。
重合性有機珪素化合物を、蒸留中に重合させることもな
く、効率的に大量に蒸留精製できるようになった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［但し、Ｒ＾１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ＾２
は加水分解可能な基を示し、Ｒ＾３は炭素数１ないし６
の炭化水素基を示し、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示
し、ｍは１から３の整数を示し、ｎは８から２０の整数
を示す］ で表現される有機珪素化合物を該化合物に対して不活性
でかつ高沸点をもつ液体の存在下に薄膜式蒸留装置を用
いて蒸溜する方法であつて、蒸留温度での該液体の蒸気
圧が該有機珪素化合物の蒸気圧の１／１０以下である液
体を用いることを特徴とする有機珪素化合物の蒸留方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1018749A JPH0633290B2 (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 有機珪素化合物の蒸留方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1018749A JPH0633290B2 (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 有機珪素化合物の蒸留方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02200689A true JPH02200689A (ja) | 1990-08-08 |
| JPH0633290B2 JPH0633290B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=11980301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1018749A Expired - Fee Related JPH0633290B2 (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 有機珪素化合物の蒸留方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0633290B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0324089A (ja) * | 1989-06-21 | 1991-02-01 | Fuji Debuison Kagaku Kk | 有機ケイ素化合物の精製方法 |
| CN101798322A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-08-11 | 天津大学 | 节能节水型有机硅单体精馏方法 |
| JP2013520457A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | エステル官能性シランの製造方法 |
| CN115044101A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-09-13 | 湖北华欣有机硅新材料有限公司 | 一种复合型硅烷的生产工艺及其生产装置 |
-
1989
- 1989-01-27 JP JP1018749A patent/JPH0633290B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0324089A (ja) * | 1989-06-21 | 1991-02-01 | Fuji Debuison Kagaku Kk | 有機ケイ素化合物の精製方法 |
| JP2013520457A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | エステル官能性シランの製造方法 |
| US8692012B2 (en) | 2010-02-22 | 2014-04-08 | Wacker Chemie Ag | Method for producing ester-functional silanes |
| CN101798322A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-08-11 | 天津大学 | 节能节水型有机硅单体精馏方法 |
| CN101798322B (zh) | 2010-03-26 | 2012-08-08 | 天津大学 | 节能节水型有机硅单体精馏方法 |
| CN115044101A (zh) * | 2022-05-19 | 2022-09-13 | 湖北华欣有机硅新材料有限公司 | 一种复合型硅烷的生产工艺及其生产装置 |
| CN115044101B (zh) * | 2022-05-19 | 2023-06-30 | 湖北华欣有机硅新材料有限公司 | 一种复合型硅烷的生产工艺及其生产装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0633290B2 (ja) | 1994-05-02 |
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