JPH02201725A - Magnetic recording medium - Google Patents
Magnetic recording mediumInfo
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- JPH02201725A JPH02201725A JP1019497A JP1949789A JPH02201725A JP H02201725 A JPH02201725 A JP H02201725A JP 1019497 A JP1019497 A JP 1019497A JP 1949789 A JP1949789 A JP 1949789A JP H02201725 A JPH02201725 A JP H02201725A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に関し、詳しくは磁気テープ、磁
気カードおよび磁気ディスクなどとして利用する耐久性
、耐熱性等にすぐれた磁気記録媒体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly to a magnetic recording medium that has excellent durability, heat resistance, etc. and is used as a magnetic tape, magnetic card, magnetic disk, etc.
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕一般に
、ビデオ用磁気テープ、録音用磁気テープ、コンピュー
ター用磁気テープ、磁気ディスク磁気ドラム、磁気カー
ドなどの磁気記録媒体は、γ−酸化鉄などの磁性体を含
む磁性組成物をプラスチックフィルム、ディスク、カー
ドなどの支持体に塗布して、その表面に磁性層を形成す
ることにより製造されている。[Prior art and problems to be solved by the invention] In general, magnetic recording media such as video magnetic tapes, recording magnetic tapes, computer magnetic tapes, magnetic disks, magnetic drums, and magnetic cards are made of γ-iron oxide or the like. It is manufactured by applying a magnetic composition containing a magnetic material to a support such as a plastic film, disk, or card, and forming a magnetic layer on the surface thereof.
これらの支持体としては、従来ポリエチレンテレフタレ
ート(PET)フィルムが使用されているが、耐熱性が
充分でなく、支持体の変形(伸び)により媒体中の情報
を取り出せなくなることがある。Conventionally, polyethylene terephthalate (PET) films have been used as these supports, but they do not have sufficient heat resistance and may become unable to extract information from the medium due to deformation (stretching) of the support.
また、テープ支持体に対する要求の一つに機械的強度が
ある。テープレコーダのテープ走行系の信軌性が高まる
につれ、またテープの全厚が減少してくるにつれ、また
記録密度が高密度、狭トラツク化するにつれ、テープ支
持体に対する機械的強度の向上がより強く要求されてく
る。特に、走行性、耐実用性を考慮すると、テープ自身
の“こし°”、すなわち弾性率に関する特性と、支持体
自体の摩擦を低減するための表面硬度が重要であるが、
従来のPETフィルムを支持体とするものは、このよう
な特性が充分ではなく、その改良が望まれている。Further, one of the requirements for the tape support is mechanical strength. As the reliability of the tape running system of a tape recorder increases, as the total thickness of the tape decreases, and as the recording density becomes higher and narrower, the mechanical strength of the tape support must be improved. It is strongly requested. In particular, when considering runnability and practical durability, the "stiffness" of the tape itself, that is, the properties related to its elastic modulus, and the surface hardness of the support itself to reduce friction are important.
Conventional materials using PET film as a support do not have sufficient characteristics such as these, and improvements are desired.
また、磁性組成物中には、磁性体を支持体に密着(接着
)させるために、バインダーが配合されている。このよ
うなバインダーとしては、従来からアクリル系樹脂、エ
ステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、イソ
シアネート系樹脂あるいはシリコーン系樹脂などが知ら
れているが、これらのバインダーを配合して形成した磁
性層は、支持体との密着性(接着性)が不充分であるの
みならず、耐久性や耐摩耗性も充分でなく、しかも耐溶
剤性に劣るという欠点があった。Furthermore, a binder is blended into the magnetic composition in order to make the magnetic body stick (adhere) to the support. As such binders, acrylic resins, ester resins, epoxy resins, urethane resins, isocyanate resins, and silicone resins have been known, but magnetic The layer not only has insufficient adhesion (adhesiveness) to the support, but also has insufficient durability and abrasion resistance, as well as poor solvent resistance.
本発明者らは、耐熱性、支持体との密着性2耐久性、耐
摩耗性などの諸性能において優れた磁気記録媒体を開発
すべく鋭意研究を重ねた。The present inventors have conducted extensive research in order to develop a magnetic recording medium that is excellent in various performances such as heat resistance, adhesion to a support, durability, and abrasion resistance.
その結果、主としてシンジオタクチック構造を有するス
チレン系重合体が耐熱性および機械的強度にすぐれた支
持体として磁気記録媒体に好適であること、および重合
硬化性基を有する特定のホスファゼン化合物が、バイン
ダーとして目的とする諸性能をすべて満足しうるちので
あることを見出した。本発明はかかる知見に基いて完成
したものである。As a result, it was found that styrenic polymers mainly having a syndiotactic structure are suitable for magnetic recording media as supports with excellent heat resistance and mechanical strength, and that specific phosphazene compounds having polymerizable curable groups are suitable as binders. It was found that this material satisfies all of the desired performance. The present invention was completed based on this knowledge.
すなわち本発明は、主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体からなる支持体上に、バインダ
ーとして硬化性ホスファゼン化合物を含む磁性層を有す
ることを特徴とする磁気記録媒体を提供するものである
。That is, the present invention provides a magnetic recording medium characterized by having a magnetic layer containing a curable phosphazene compound as a binder on a support mainly made of a styrene polymer having a syndiotactic structure.
本発明の磁気記録媒体においては、主としてシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体からなる支持体
を用いる。ここで主としてシンジオタクチック構造とは
、立体化学構造が主としてシンジオタクチック構造、即
ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であ
るフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置
する立体構造を存するものであり、そのタフティシティ
−は同位体炭素による核磁気共鳴法(1″C−NMR法
)により定量される。”C−NMR法により測定される
タフティシティ−は、連続する複数個の構成単位の存在
割合、例えば2個の場合はダイアツド、3個の場合はト
リアット、5個の場合はペンタッドによって示すことが
できるが、本発明に言う主としてシンジオタクチック構
造を有するスチレン系重合体とは、連室ばダイアツドで
75%以上、好ましくは85%以上、若しくはペンタッ
ド(ラセミペンタッド)で30%以上、好ましくは50
%以上のシンジオタクテイシテイ−を有するポリスチレ
ン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチ
レン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安
息香酸エステル)およびこれらの混合物、あるいはこれ
らを主成分とする共重合体を指称する。なお、ここでポ
リ(アルキルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレ
ン)ポリ(エチルスチレン)、ポリ(イソプロピルスチ
レン) ポリ(ターシャリ−ブチルスチレン)などがあ
り、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロ
ロスチレン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(フルオ
ロスチレン)などがある。また、ポリ(アルコキシスチ
レン)としては、ポリ(メトキシスチレン)、ポリ(エ
トキシスチレン)などがある。これらのうち特に好まし
いスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ (
p−メチルスチレン) ポリ(m−メチルスチレン)、
ポリ(p−ターシャリ−ブチルスチレン)、ポリ(pク
ロロスチレン)、ポリ(m−クロロスチレン)ポリ(p
−フルオロスチレン)、更にはスチレンとp−メチルス
チレンとの共重合体をあげることができる(特開昭61
−187708号公報)。In the magnetic recording medium of the present invention, a support mainly made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is used. Here, a syndiotactic structure is mainly a syndiotactic structure in which the stereochemical structure is mainly a syndiotactic structure, that is, the phenyl groups or substituted phenyl groups that are side chains are arranged in opposite directions alternately with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds. It has a three-dimensional structure, and its toughness is determined by nuclear magnetic resonance method (1" C-NMR method) using carbon isotope. can be expressed by the abundance ratio of a plurality of consecutive structural units, for example, a diad in the case of two, a triat in the case of three, and a pentad in the case of five, but mainly syndiotactic structure as referred to in the present invention. A styrenic polymer having a styrenic polymer is 75% or more for diad, preferably 85% or more for continuous chamber, or 30% or more for pentad (racemic pentad), preferably 50% or more.
Polystyrene, poly(alkyl styrene), poly(halogenated styrene), poly(alkoxystyrene), poly(vinyl benzoic acid ester), and mixtures thereof, or having these as main components, having a syndiotacticity of % or more Refers to copolymers. Here, poly(alkylstyrene) includes poly(methylstyrene) poly(ethylstyrene), poly(isopropylstyrene), poly(tert-butylstyrene), etc., and poly(halogenated styrene) includes poly((halogenated styrene)). These include chlorostyrene), poly(bromostyrene), and poly(fluorostyrene). Furthermore, examples of poly(alkoxystyrene) include poly(methoxystyrene) and poly(ethoxystyrene). Among these, particularly preferred styrenic polymers include polystyrene, poly(
p-methylstyrene) poly(m-methylstyrene),
Poly(p-tert-butylstyrene), poly(p-chlorostyrene), poly(m-chlorostyrene) poly(p-chlorostyrene)
-fluorostyrene), and furthermore copolymers of styrene and p-methylstyrene (JP-A-61
-187708).
また、本発明に用いるスチレン系重合体は、分子量につ
いては制限はないが、重量平均分子量が50.000以
上のものが好ましく、とりわけ100.000以上のも
のが最適である。さらに、分子量分布についてもその広
狭は制約がなく、様々なものを充当することが可能であ
る。この主としてシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体は、融点が160〜310°Cであって、
従来のアククチツク構造のスチレン系重合体に比べて耐
熱性が格段に優れている。Further, the molecular weight of the styrene polymer used in the present invention is not limited, but those having a weight average molecular weight of 50,000 or more are preferable, and those of 100,000 or more are particularly optimal. Further, there is no restriction on the width or narrowness of the molecular weight distribution, and various types can be used. This styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure has a melting point of 160 to 310°C,
It has much better heat resistance than conventional styrene-based polymers with an active structure.
このような主としてシンジオタクチック構造を有するス
チレン系重合体は、例えば不活性炭化水素溶媒中または
溶媒の不存在下に、チタン化合物、及び水とトリアルキ
ルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系
単量体(上記スチレン系重合体に対応する単量体)を重
合することにより製造することができる。Such styrenic polymers having a mainly syndiotactic structure can be produced by using a titanium compound and a condensation product of water and trialkylaluminum as catalysts, for example, in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent. It can be produced by polymerizing monomers (monomers corresponding to the above-mentioned styrenic polymers).
このスチレン系重合体には、一般に使用されている熱可
塑性樹脂、無機充填剤、酸化防止剤、核剤、可塑剤、相
溶化剤1着色剤、帯電防止剤などを添加することができ
る。Commonly used thermoplastic resins, inorganic fillers, antioxidants, nucleating agents, plasticizers, compatibilizers, colorants, antistatic agents, and the like can be added to this styrenic polymer.
ここで酸化防止剤としては様々なものがあるが、特にト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト
、トリス(モノおよびジ−ノニルフェニル)ホスファイ
ト等のモノホスファイトやジホスファイト等のリン系酸
化防止剤およびフェノール系酸化防止剤が好ましい。ジ
ホスファイトとしては、
一般式
〔式中、R1,R2はそれぞれ炭素数1〜2oのアルキ
ル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基あるいは炭素
数6〜20のアリール基を示す。〕で表わされるリン系
化合物を用いることが好ましい。There are various antioxidants, but especially monophosphites and diphosphites such as tris(2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and tris(mono- and di-nonylphenyl) phosphite. Phosphorous antioxidants and phenolic antioxidants are preferred. The diphosphite has the following general formula: [wherein R1 and R2 each represent an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. ] It is preferable to use a phosphorus compound represented by the following.
上記一般式で表わされるリン系化合物の具体例としでは
、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト;
ジオクチルペンタエリスリトールジホスファイト;ジフ
ェニルペンタエリスリトールジホスファイト;ビス(2
,4−ジーL−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール
ジホスファイト;ビス(2,6−ジーt−ブチル−4−
メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト
;ジシクロへキシルペンタエリスリトールジホスファイ
トなどが挙げられる。Specific examples of the phosphorus compound represented by the above general formula include distearyl pentaerythritol diphosphite;
Dioctylpentaerythritol diphosphite; diphenylpentaerythritol diphosphite; bis(2
,4-di-L-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite; bis(2,6-di-t-butyl-4-
Methylphenyl) pentaerythritol diphosphite; dicyclohexyl pentaerythritol diphosphite, and the like.
また、フェノール系酸化防止剤としては既知のものを使
用することができ、その具体例としては、2.6−ジー
も一ブチルー4−メチルフェノール;2.6−ジフェニ
ル−4−メトキシフェノール;2.2゛−メチレンビス
(6−t−ブチル−4−メチルフェノール);2,2’
−メチレンビス(6−L−ブチル−4−メチルフェノー
ル);2゜2”−メチレンビス〔4−メチル−6−(α
−メチルシクロヘキシル)フェノール〕 1ll−ビス
(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)ブタン;2,2°−メチレンビス(4−メチル−6
−シクロヘキジルフエノール);2.2”−メチレンビ
ス−(4−メチル−6−ツニルフエノール);L t
、3−)リス−(5−t−7”チル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)ブタン;2,2−ビス−(5−t
−ブチル4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−
nドデシルメルカプトブタン;エチレングリコール−ビ
ス〔3,3−ビス(3−も−ブチル−4ヒドロキシフエ
ニル)ブチレート)il−1−ビス(3,5−ジメチル
−2−ヒドロキシフェニル)3−(n−ドデシルチオ)
−ブタン;4,4”チオビス(6−t−ブチル−3−メ
チルフェノール)、1,3.5−)リス(3,5−ジー
tブチルー4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6トリ
メチルベンゼン;2,2−ビス(3,5ジーt−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸ジオクタデシルエ
ステル;n−オクタデシル3−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート;テトラ
キス〔メチレン(3,5−ジーも−ブチル−4−ヒドロ
キシハイドロシンナメート)〕メタンなどが挙げられる
。In addition, known phenolic antioxidants can be used, and specific examples thereof include 2,6-di-butyl-4-methylphenol; 2,6-diphenyl-4-methoxyphenol; .2'-methylenebis(6-t-butyl-4-methylphenol);2,2'
-methylenebis(6-L-butyl-4-methylphenol);2゜2''-methylenebis[4-methyl-6-(α
-methylcyclohexyl)phenol] 1ll-bis(5-t-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butane;
-cyclohexylphenol); 2.2”-methylenebis-(4-methyl-6-tunylphenol); L t
, 3-) lis-(5-t-7” thyl-4-hydroxy-
2-methylphenyl)butane; 2,2-bis-(5-t
-butyl 4-hydroxy-2-methylphenyl)-4-
n Dodecylmercaptobutane; ethylene glycol-bis[3,3-bis(3-mo-butyl-4-hydroxyphenyl)butyrate)il-1-bis(3,5-dimethyl-2-hydroxyphenyl)3-(n -dodecylthio)
-Butane; 4,4"thiobis(6-t-butyl-3-methylphenol), 1,3.5-)lis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-2,4,6 trimethylbenzene ;2,2-bis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)malonic acid dioctadecyl ester;n-octadecyl 3-(4-hydroxy-3,
Examples include 5-di-t-butylphenyl) propionate; tetrakis[methylene (3,5-di-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)]methane.
上記の酸化防止剤は、前記の主としてシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体100重量部に対し、
0.0001〜2重量部、好ましくは0.001〜1重
量部の割合で配合される。The above antioxidant is based on 100 parts by weight of the styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure.
It is blended in a proportion of 0.0001 to 2 parts by weight, preferably 0.001 to 1 part by weight.
ここで酸化防止剤の配合割合が0.0001重量部未満
であると分子量低下が著しく、一方、2重量部を超える
と機械的強度に影響があるため、いずれも好ましくない
。If the blending ratio of the antioxidant is less than 0.0001 part by weight, the molecular weight will be significantly lowered, while if it exceeds 2 parts by weight, the mechanical strength will be affected, so both are not preferred.
また、熱可塑性樹脂としては、例えばアククチツク構造
のポリスチレン、アイツタクチ・ツク構造のポリスチレ
ン、AS樹脂、ABS樹脂などのスチレン系重合体をは
しめ、ポリエチレンテレツクレートなどのポリエステル
、ポリカーボネート。Examples of thermoplastic resins include polystyrene with an acute structure, polystyrene with an acute structure, styrene polymers such as AS resin and ABS resin, polyesters such as polyethylene terecrate, and polycarbonate.
ポリフェニレンオキサイド、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホンなどのポリエーテル、ポリアミド、ポリフェ
ニレンスルフィド(PPS)、ポリオキシメチレンなど
の縮合系重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系重合
体、ポリエチレン ポリプロピレン ポリブテン ポリ
4−メチルペンテン−1,エチレン−プロピレン共重合
体などのポリオレフィン、あるいはポリ塩化ビニル。Polyethers such as polyphenylene oxide, polysulfone, and polyethersulfone; condensation polymers such as polyamide, polyphenylene sulfide (PPS), and polyoxymethylene; acrylic polymers such as polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, and polymethyl methacrylate; Polyethylene, polypropylene, polybutene, polyolefin such as poly4-methylpentene-1, ethylene-propylene copolymer, or polyvinyl chloride.
ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニリデンなどの含ハロ
ゲンビニル化合物重合体などが挙げられる。Examples include halogen-containing vinyl compound polymers such as polyvinylidene chloride and polyvinylidene fluoride.
さらに無機充填剤としては、繊維状のものであると、粒
状、粉状のものであるとを問わない。繊維状無機充填剤
としてはガラス繊維、炭素繊維。Furthermore, the inorganic filler may be fibrous, granular, or powdery. Glass fiber and carbon fiber are used as fibrous inorganic fillers.
アルミナ繊維等が挙げられる。一方、粒状、粉状無機充
填材としてはタルク、カーボンブラック。Examples include alumina fiber. On the other hand, talc and carbon black are used as granular and powdery inorganic fillers.
グラファイト、二酸化チタン1 シリカ、マイカ炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、炭酸バリウム炭酸マグネシ
ウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、オキシサルフ
ェート、酸化スズ、アルミナカオリン、炭化ケイ素、金
属粉末等が挙げられる。Examples include graphite, titanium dioxide, silica, mica calcium carbonate, calcium sulfate, barium magnesium carbonate, magnesium sulfate, barium sulfate, oxysulfate, tin oxide, alumina kaolin, silicon carbide, metal powder, and the like.
これらの無機充填剤は、その粒子の形状、粒径等により
フィルム表面に著しく影響を及ぼすので、通常は、粒径
がフィルムの厚みの1/10以下、好ましくは1/20
以下で、かつ目的に応じた表面持性及び物性になるよう
に選定することが好ましく、二種以上混合して用いるご
ともできる。These inorganic fillers significantly affect the film surface due to their particle shape, particle size, etc., so the particle size is usually 1/10 or less, preferably 1/20 of the film thickness.
It is preferable to select them so as to obtain the surface retention properties and physical properties according to the purpose, and it is also possible to use a mixture of two or more kinds.
本発明に用いる支持体は、上記スチレン系重合体あるい
は該重合体と必要に応じて各種の添加剤を含む組成物を
フィルム、テープ、ディスク、カード等の形状に成形し
て得られる。これらの支持体の厚さは、目的に応じて適
宜選定することができるが、支持体がフィルム状である
場合には、般に1〜100μm1好ましくは3〜80μ
mの厚さを有する。また、このフィルムは、延伸成形さ
れたものでも、そうでないものでもよい。延伸成形され
たものについては、多量の無機充填剤。The support used in the present invention is obtained by molding the above-mentioned styrene polymer or a composition containing the polymer and, if necessary, various additives, into the shape of a film, tape, disk, card, or the like. The thickness of these supports can be appropriately selected depending on the purpose, but when the support is in the form of a film, it is generally 1 to 100 μm, preferably 3 to 80 μm.
It has a thickness of m. Further, this film may or may not be stretch-molded. Large amounts of inorganic fillers for stretch-formed products.
非相溶性樹脂あるいはゴムを含むものは好ましくない。Those containing incompatible resins or rubber are not preferred.
一方、延伸成形せずに用いる場合には、力学的性質、耐
熱性を考慮し、無機充填剤、樹脂。On the other hand, when used without stretch molding, inorganic fillers and resins are used in consideration of mechanical properties and heat resistance.
ゴム等を充分に配合することが好ましい。It is preferable to sufficiently incorporate rubber and the like.
延伸フィルムは、例えば特願昭63−3847号明細書
に記載の方法、具体的には主としてシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体を融点以上の温度で融解
した後急冷して非晶性原反シートを作成し、次いで該シ
ートをガラス転移温度以上融点以下の温度で延伸するこ
とによって得られる。この際の急冷速度は、特に制限は
ないが、一般には200°C/秒〜3°C/秒、好まし
くは200°C/秒〜5°C/秒の範囲で定める。また
、この延伸フィルムは、ガラス転移温度以上融点以下の
温度で熱処理することによって、寸法安定性耐熱性を更
に向上させることができる。ここで熱処理する時間、温
度は、延伸体の延伸倍率、厚み。Stretched films are produced by the method described in Japanese Patent Application No. 63-3847, specifically, by melting a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure at a temperature above its melting point and then rapidly cooling it to form an amorphous raw material. It is obtained by creating a countersheet and then stretching the sheet at a temperature above the glass transition temperature and below the melting point. The quenching rate at this time is not particularly limited, but is generally set in the range of 200°C/sec to 3°C/sec, preferably 200°C/sec to 5°C/sec. Further, the dimensional stability and heat resistance of this stretched film can be further improved by heat treating it at a temperature not lower than the glass transition temperature and not higher than the melting point. The heat treatment time and temperature here are determined by the stretching ratio and thickness of the stretched body.
組成、また、目的とする用途、物性等を考慮して適宜選
択することができる。一般には、ガラス転移温度以上、
融点以下で1秒〜100時間が可能であるが、ガラス転
移温度より20°C高い温度から融点より5°C低い温
度で、5秒〜30分の範囲が好適である。ガラス転移温
度未満では熱処理効果がなく、融点を超えると熱処理時
にフィルムの一部あるいは全部が溶融してしまう。It can be appropriately selected in consideration of the composition, intended use, physical properties, etc. In general, above the glass transition temperature,
Although 1 second to 100 hours is possible at a temperature below the melting point, a range of 5 seconds to 30 minutes at a temperature from 20° C. higher than the glass transition temperature to 5° C. lower than the melting point is suitable. Below the glass transition temperature, there is no heat treatment effect, and above the melting point, part or all of the film will melt during heat treatment.
この延伸時の延伸倍率は、フィルムの力学的物性を考慮
して、面積比(即ち、原反シートに対する延伸後のフィ
ルムの面積比率)で3倍以上が好ましく、さらに6倍以
上がより好適である。The stretching ratio during this stretching is preferably 3 times or more in area ratio (i.e., the area ratio of the stretched film to the original sheet), and more preferably 6 times or more, taking into consideration the mechanical properties of the film. be.
また、象、冷して得られる非晶性原反は、円筒状平面状
のいずれでもよく、気体により(すなわちインフレーシ
ョン、ブロー成形)あるいはテンターにより同時あるい
は逐次に延伸される。The amorphous original fabric obtained by cooling may be either cylindrical or planar, and may be stretched simultaneously or sequentially with gas (ie, inflation, blow molding) or with a tenter.
また、円筒ダイを用いる場合は、溶融後直ちにガラス転
移温度以上、融点以下の温度で延伸することもできる。In addition, when a cylindrical die is used, stretching can be performed immediately after melting at a temperature higher than the glass transition temperature and lower than the melting point.
本発明の磁気記録媒体は、上記のような支持体上に、バ
インダーとして硬化性ホスファゼン化合物を含む磁性層
を有するものである。The magnetic recording medium of the present invention has a magnetic layer containing a curable phosphazene compound as a binder on the support as described above.
硬化性ホスファゼン化合物としては、一般弐% N P
(X)p(Y)q→−・・・ 〔I](式中、p、q
はp>0.q>0であり、かつp+q=2を満たす実数
を示し、Xは重合硬化性基を示し、Yは重合硬化性基あ
るいは非重合硬化性基を示す。X、Yは同一であっても
異なってもよい。)
で表わされる繰返し単位を有し、重合度が3以上である
ホスファゼン化合物が好適である。ここで一般式〔I〕
は、単一の化合物を表示するものではなく、数種の化合
物の混合物の平均値としての表示である。したがって、
各基の数を示すpおよびqは必ずしも整数に限定されず
小数をも含む実数である。また、重合度についても同様
に3以上の整数のみならず、小数をも含む実数である。As a curable phosphazene compound, general 2% NP
(X)p(Y)q→−... [I] (in the formula, p, q
is p>0. It represents a real number satisfying q>0 and p+q=2, X represents a polymerizable curable group, and Y represents a polymerizable curable group or a non-polymerizable curable group. X and Y may be the same or different. ) A phosphazene compound having a repeating unit represented by the following formula and a degree of polymerization of 3 or more is suitable. Here, general formula [I]
does not represent a single compound, but represents the average value of a mixture of several compounds. therefore,
p and q indicating the number of each group are not necessarily limited to integers but are real numbers including decimal numbers. Similarly, the degree of polymerization is a real number including not only an integer of 3 or more but also a decimal number.
上記一般式〔■〕の繰返し単位を−もつホスファゼン化
合物は、各置換基の種類により様々なものがある。式中
、Xは重合硬化性基を示すが、この重合硬化性基とは紫
外線や電子線の照射、化学的硬化剤の使用あるいは加熱
等により反応して硬化する官能基を意味し、通常は反応
性二重結合を有する基である。この反応性二重結合を有
する基としては、各種のものがあるが、例えばアクリル
基。There are various phosphazene compounds having the repeating unit of the above general formula [■] depending on the type of each substituent. In the formula, It is a group having a reactive double bond. There are various types of groups having this reactive double bond, such as an acrylic group.
メタクリル基、ビニル基あるいはアリル基を含む官能基
、好ましくはアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオ
キシ基を含む官能基をあげることができる。Examples include functional groups containing methacrylic, vinyl, or allyl groups, preferably acryloyloxy and methacryloyloxy groups.
このようなアクリロイルオキシ基やメタクリロイルオキ
シ基を含む官能基は、アクリロイルオキシ基、メタクリ
ロイルオキシ基そのもののほか、その代表例を一般式で
示せば
〔式中、R3は水素原子またはメチル基を示し、R4は
炭素数1〜12(好ましくは1〜3)のアルキレン基(
分岐アルキレン基を含む)を示す。〕
で表わされるものである。この一般式〔■〕で表わされ
る基の具体例としては、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 2−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート 3−ヒドロキシブチル
メタクリレート 4ヒドロキシブチルメタクリレート
5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキ
シ3−メチルへキシルメタクリレート、5−ヒドロキシ
へキシルメタクリレート、3−ヒドロキシ2−t−ブチ
ルプロピルメタクリレート 3−ヒドロキシ−22−ジ
メチルへキシルメタクリレート、3−ヒドロキシ−2−
メチル−2−エチルプロピルメタクリレートおよびT2
−ヒドロキシドデシルメタクリレートなどのメタクリレ
ート類中の水酸基から水素原子を除いた残基、並びに2
ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート 2−ヒドロキシブチルアクリレート
3−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブ
チルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、6−ヒドロキシ3−メチルへキシアクリレート、5
−ヒドロキシへキシルアクリレート、3−ヒドロキシ−
2t−ブチルプロピルアクリレート 3−ヒドロキシ−
2,2−ジメチルへキシルアクリレート 3ヒドロキシ
−2−メチル−2−エチルプロピルアクリレートおよび
12−ヒドロキシドデシルアクリレートなどのアクリレ
ート類中の水酸基から水素原子を除いた残基を挙げるこ
とができる。特に好ましい基は、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート残基および2−ヒドロキシエチルアクリ
レート残基である。Functional groups containing such acryloyloxy groups and methacryloyloxy groups include acryloyloxy groups and methacryloyloxy groups themselves, as well as representative examples thereof as shown in the general formula [wherein R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R4 is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms (preferably 1 to 3) (
(contains a branched alkylene group). ] It is expressed as. Specific examples of the group represented by the general formula [■] include 2-hydroxyethyl methacrylate 2-hydroxyethyl methacrylate 2-hydroxybutyl methacrylate 3-hydroxybutyl methacrylate 4-hydroxybutyl methacrylate
5-hydroxypentyl methacrylate, 6-hydroxy 3-methylhexyl methacrylate, 5-hydroxyhexyl methacrylate, 3-hydroxy 2-t-butylpropyl methacrylate 3-hydroxy-22-dimethylhexyl methacrylate, 3-hydroxy-2-
Methyl-2-ethylpropyl methacrylate and T2
- Residues obtained by removing hydrogen atoms from hydroxyl groups in methacrylates such as hydroxydodecyl methacrylate, and 2
Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate 2-hydroxybutyl acrylate
3-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 6-hydroxy 3-methylhexyacrylate, 5
-Hydroxyhexyl acrylate, 3-hydroxy-
2t-Butylpropyl acrylate 3-hydroxy-
Examples include residues obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group in acrylates such as 2,2-dimethylhexyl acrylate, 3hydroxy-2-methyl-2-ethylpropyl acrylate, and 12-hydroxydodecyl acrylate. Particularly preferred groups are 2-hydroxyethyl methacrylate residues and 2-hydroxyethyl acrylate residues.
また、アリル基を含む官能基としては、アリル基そのも
ののほか、例えばアリルオキシ基(CH2=CH−CH
20−)やアリルアミノ基(CH2= CHCH2N
H)などがある。ビニル基を含む官能基としては、ビニ
ルフェノール。Furthermore, as a functional group containing an allyl group, in addition to the allyl group itself, for example, an allyloxy group (CH2=CH-CH
20-) and allylamino group (CH2= CHCH2N
H) etc. Vinylphenol is a functional group containing a vinyl group.
ビニルスルホンアミドなどのビニル基を含む化合物中の
水酸基やアミド基から水素原子を除いた残基などがある
。Examples include residues obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxyl group or an amide group in a compound containing a vinyl group such as vinyl sulfonamide.
一方、一般式(I)中のYは、重合硬化性基あるいは非
重合硬化性基を示す。ここで、Yが重合硬化性基を示す
場合、この重合硬化性基としては前述と同様のもの(但
し、Xと同一のものでなくとも可)があげられる。また
、Yが非重合硬化性基を示す場合、この非重合硬化性基
としては様々なものがあり、特に制限はない。具体的に
はハロゲン原子(塩素原子、臭素原子など)、フェノキ
シ基、ハロゲン化フェノキシ基(p−クロロフェノキシ
基など)、炭素数1〜1oのアルコキシ基(メトキシ基
、エトキシ基など)、炭素数1〜1゜のハロゲン化アル
コキシ基(クロロメトキシ基。On the other hand, Y in general formula (I) represents a polymerizable curable group or a non-polymerizable curable group. Here, when Y represents a polymerizable curable group, examples of the polymerizable curable group include those mentioned above (however, it may not be the same as X). Further, when Y represents a non-polymerizable curable group, there are various types of non-polymerizable curable group, and there is no particular restriction. Specifically, halogen atoms (chlorine atoms, bromine atoms, etc.), phenoxy groups, halogenated phenoxy groups (p-chlorophenoxy groups, etc.), alkoxy groups having 1 to 1 carbon atoms (methoxy groups, ethoxy groups, etc.), carbon atoms 1-1° halogenated alkoxy group (chloromethoxy group.
クロロエトキシ基など)、アミノ基、水酸基 ニトロ基
などがあげられる。(chloroethoxy group, etc.), amino group, hydroxyl group, nitro group, etc.
本発明の磁気記録媒体において、バインダーとして用い
るホスファゼン化合物は、上述の一般式(1)の繰返し
単位を有するものであるが、その重合度は3以上、好ま
しくは3〜18の範囲、特に好ましくは3または4であ
る。また、一般式(1)の繰返し単位が鎖状に結合(重
合)したものもあるが、好ましくは環状に結合(重合)
したものである。In the magnetic recording medium of the present invention, the phosphazene compound used as the binder has the repeating unit of the above-mentioned general formula (1), and its degree of polymerization is 3 or more, preferably in the range of 3 to 18, particularly preferably 3 or 4. In addition, there are some units in which the repeating units of general formula (1) are bonded (polymerized) in a chain, but preferably they are bonded (polymerized) in a cyclic manner.
This is what I did.
この一般式CI)の繰返し単位をもつホスファゼン化合
物の具体例をあげると、
で表わされる環状化合物。A specific example of a phosphazene compound having a repeating unit of general formula CI) is a cyclic compound represented by:
で表わされる環状化合物 式 %式% で表わされる環状化合物。cyclic compound represented by formula %formula% A cyclic compound represented by
式 %式%) で表わされる環状化合物 式 %式%) で表わされる環状化合物 式 %式%)] で表わされる環状化合物。formula %formula%) cyclic compound represented by formula %formula%) cyclic compound represented by formula %formula%)] A cyclic compound represented by
式 テfiわされる環状化合物などがある。formula There are cyclic compounds that can be used as a material.
以上の如きホスファゼン化合物は、様々な方法により製
造することができる。例えば、一般式%式%
(式中、R’、R’は前記と同じ。)で表わされるヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレートとホスホニトリル
クロリド(クロロボスファゼン;式(N P Cfi
2)。で表わされる環状化合物あるいは式cz4p・(
N P Cj22)、1−I N P Cl 3表わさ
れる鎖状化合物、nは3以上)とを反応させることによ
り、ホスホニトリルクロリド中
は全部を上記ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
の残基で置換されたホスファゼン化合物を得ることがで
きる。The above phosphazene compounds can be produced by various methods. For example, hydroxyalkyl (meth)acrylate represented by the general formula % formula % (wherein R' and R' are the same as above) and phosphonitrile chloride (chlorobosphazene; formula (N P Cfi
2). A cyclic compound represented by or the formula cz4p・(
By reacting with a chain compound represented by N P Cj22), 1-I N P Cl 3, where n is 3 or more, phosphonitrile chloride is completely substituted with the above-mentioned hydroxyalkyl (meth)acrylate residues. A phosphazene compound can be obtained.
また、上記ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの
代わりに、あるいはこれとともにアリルアルコール ア
リルフェノール アクリルアミドb などを用いること
もできる。Moreover, allyl alcohol allylphenol acrylamide b or the like can also be used instead of or together with the above hydroxyalkyl (meth)acrylate.
さらに、一般式(1)におけるYが非重合硬化性基であ
るものを得るには、例えばYが塩素原子のときには、上
述の反応で塩素原子の一部が残留したものとすればよい
。また、Yが塩素原子以外の非重合硬化性基であるもの
については、上述の反応においてフェノール類、アルコ
ール類あるいはアミン等の、ホスホニトリルクロリド中
のリン原子に結合している塩素原子と置換しうる官能基
を有する化合物を存在させることにより製造することが
できる。Further, in order to obtain a product in which Y in the general formula (1) is a non-polymerizable curable group, for example, when Y is a chlorine atom, it is sufficient that some of the chlorine atoms remain in the above reaction. In addition, when Y is a non-polymerizable curable group other than a chlorine atom, the chlorine atom bonded to the phosphorus atom in the phosphonitrile chloride of phenols, alcohols, amines, etc. is substituted in the above reaction. It can be produced by the presence of a compound having a functional group capable of absorbing water.
なお、上記の反応にあたっては、第三級アミン等の脱ハ
ロゲン化水素剤を用いることが好ましい。In addition, in the above reaction, it is preferable to use a dehydrohalogenating agent such as a tertiary amine.
この第三級アミンとしては、たとえば、トリメチルアミ
ン トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン トリ
ーn−プロピルアミン、トリーnブチルアミン、ピリジ
ンおよびN、N、N−テトラエチレンジアミンなどをあ
げることができ、この中でもピリジンやトリエチルアミ
ンが好適である。Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and N,N,N-tetraethylenediamine, among which pyridine and triethylamine are preferred. It is.
また、この反応は通常は水を含まない有機溶媒中で行わ
れる。用いる有機溶媒としては、ヘンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、シクロヘキサン、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフランをあげることができる。これら
を単独であるいは組合せて使用することができる。Moreover, this reaction is usually carried out in an organic solvent that does not contain water. The organic solvent used is Hensen, toluene,
Examples include xylene, chloroform, cyclohexane, methylene chloride, and tetrahydrofuran. These can be used alone or in combination.
本発明の磁気記録媒体は、上述の如くして得られた一般
式〔I〕の繰返し単位を有するホスファゼン化合物をバ
インダーとして使用するものである。このバインダーを
用いて磁気記録媒体を製造するには、公知の方法によれ
ばよい。例えば、鉄酸化物(T−酸化鉄、四三酸化鉄な
ど)、コバルト含有T−酸化鉄、クロム酸化物、純鉄、
鉄系合金(コバルト−鉄−ニッケル合金など)あるいは
ニッケルーコバルト合金等の磁性体100重量部に、上
述のバインダー10〜50重量部およびベンゼン、トル
エン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アルコ
ールなどの適当な溶剤(希釈剤)を100〜300重量
部加え、さらに必要に応じて帯電防止剤2〜15重量部
、潤滑剤2〜15重量部、研磨剤2〜7重量部9分散剤
5〜10重量部を加えて、これをボールミル等で充分に
混練し、得られた磁性組成物(磁性塗料)を上記のよう
な支持体(フィルム、テープ、カード。The magnetic recording medium of the present invention uses the phosphazene compound having the repeating unit of general formula [I] obtained as described above as a binder. A known method may be used to manufacture a magnetic recording medium using this binder. For example, iron oxides (T-iron oxide, triiron tetroxide, etc.), cobalt-containing T-iron oxide, chromium oxide, pure iron,
100 parts by weight of a magnetic material such as an iron-based alloy (such as a cobalt-iron-nickel alloy) or a nickel-cobalt alloy, 10 to 50 parts by weight of the above-mentioned binder, and a suitable solvent such as benzene, toluene, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, or alcohol ( Add 100 to 300 parts by weight of a diluent), and further add 2 to 15 parts by weight of an antistatic agent, 2 to 15 parts by weight of a lubricant, 2 to 7 parts by weight of an abrasive, and 5 to 10 parts by weight of a dispersant. This is thoroughly kneaded using a ball mill or the like, and the resulting magnetic composition (magnetic paint) is applied to the above-mentioned supports (films, tapes, cards, etc.).
ディスク等)に塗布して、活性エネルギー線(紫外線、
可視光線、電子線、X線、γ線など)を照射したり加熱
するなどして硬化させ磁性層を形成する。disc, etc.) and activate energy rays (ultraviolet rays, ultraviolet rays,
The magnetic layer is cured by irradiation with visible light, electron beams, X-rays, gamma rays, etc.) or by heating.
なお、上記活性エネルギー線を用いた硬化方法を利用す
る場合は、反応開始剤(光増感剤)を用いることもでき
るが、ここで使用できるものの例−24=
としでは、■−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケト
ン、ジベンゾイル、ベンゾイル、ベンゾイルメチルエー
テル、ベンゾイルエチルエーテル。In addition, when using the above-mentioned curing method using active energy rays, a reaction initiator (photosensitizer) can also be used. Xylphenyl ketone, dibenzoyl, benzoyl, benzoyl methyl ether, benzoylethyl ether.
p−クロロベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノ
ン、ベンゾイルパーオキサイド2 ジーtブチルパーオ
キサイドおよびカンフアキノンをあげることができ、こ
れらを単独であるいは組合せて使用することができる。Examples include p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, and camphorquinone, and these can be used alone or in combination.
この場合、反応開始剤の使用量は、ホスファゼン化合物
100重量部に対して通常は0.05〜5.0重量部の
範囲で選定すればよい。In this case, the amount of the reaction initiator to be used is usually selected within the range of 0.05 to 5.0 parts by weight per 100 parts by weight of the phosphazene compound.
また、加熱硬化あるいは常温硬化の方法による場合は、
重合開始剤として通常は過酸化物系の化合物およびアミ
ン系の化合物を単独あるいは組合せて使用する。過酸化
物系の化合物の例としては、ベンゾイルパーオキサイド
;p−クロロベンゾイルパーオキサイド;2.4−ジク
ロロベンゾイルパーオキサイド;t−ブチルヒドロパー
オキサイド;ジーも一ブチルパーオキサイド;ジクミル
パーオキサイド;t−ブチルパーオキシアセテート;t
−ブチルパーオキシベンゾエートなどを挙げることがで
きる。また、アミン系の化合物の例としては、N、N−
ジェタノール−p+−)シイジン;ジメチル−p−トル
イジン;P−)シイジン;メチルアミン;t−ブチルア
ミン;メチルエチルアミン;ジフェニルアミン;4,4
′−ジニトロジフェニルアミン;0−ニトロアミン;p
−ブロモアニリン、2,4.6−)リブロモアニリンな
どを挙げることができる。In addition, when using heat curing or room temperature curing methods,
As the polymerization initiator, peroxide compounds and amine compounds are usually used alone or in combination. Examples of peroxide-based compounds include benzoyl peroxide; p-chlorobenzoyl peroxide; 2,4-dichlorobenzoyl peroxide; t-butyl hydroperoxide; di-butyl peroxide; dicumyl peroxide; t-butyl peroxyacetate; t
-butyl peroxybenzoate and the like. In addition, examples of amine compounds include N, N-
Jetanol-p+-)shiidine; dimethyl-p-toluidine; P-)shiidine; methylamine; t-butylamine; methylethylamine; diphenylamine; 4,4
'-Dinitrodiphenylamine;0-nitroamine; p
-bromoaniline, 2,4.6-)ribromoaniline, and the like.
この場合、過酸化物系の化合物およびアミン系の化合物
の合計の使用量は、ホスファゼン化合物100重量部に
対して、通常は0.05〜5.0重量部の範囲で選定す
ればよい。In this case, the total amount of the peroxide-based compound and the amine-based compound to be used may be selected in the range of 0.05 to 5.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the phosphazene compound.
さらに、上記磁性組成物には、他の反応硬化性化合物を
含有させてもよい。ここで使用しうる反応硬化性化合物
としては、例えばメチルアクリレート;ヒドロキシエチ
ルアクリレート;エチレングリコールジアクリレート;
ジエチレングリコールジアクリレート;トリエチレング
リコールジアクリレートおよびテトラエチレングリコー
ルジアクリレートとメタクリレートとの混合物ニゲリシ
ジルアクリレート、2.2’−ビス(アクリロキシフェ
ニル)プロパン、2.2’−ビス〔4(3−メタクリロ
キシ)−2−ヒドロキシプロポキシフェニル〕プロパン
;カルボン酸のビニルエステル類(酢酸ビニル、ステア
リン酸ビニルなど)およびエチレン系不飽和ジカルボン
酸類(フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコ
ン酸無水イタコン酸など)を挙げることができる。Furthermore, the magnetic composition may contain other reactive curable compounds. Examples of reactive curing compounds that can be used here include methyl acrylate; hydroxyethyl acrylate; ethylene glycol diacrylate;
Diethylene glycol diacrylate; mixture of triethylene glycol diacrylate and tetraethylene glycol diacrylate with methacrylate nigericidyl acrylate, 2,2'-bis(acryloxyphenyl)propane, 2,2'-bis[4(3-methacryloxy) )-2-hydroxypropoxyphenyl]propane; vinyl esters of carboxylic acids (vinyl acetate, vinyl stearate, etc.) and ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, etc.) can be mentioned.
このようにして得られた本発明の磁気記録媒体は、耐熱
性に優れ、磁性層と支持体との密着性が良いなど様々な
長所を有する。なお、この磁気記録媒体には、所望によ
りバックコート層を設けることもできる。The magnetic recording medium of the present invention thus obtained has various advantages such as excellent heat resistance and good adhesion between the magnetic layer and the support. Note that this magnetic recording medium can also be provided with a back coat layer if desired.
次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳しく
説明する。Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.
製造例1(ホスファゼン化合物の製造)2I!、容のフ
ラスコ内でヘキサクロロシクロトリホスファゼン(式(
NPCnz)+の環状化合物)86.8gを脱水したベ
ンゼン338gに溶解した。Production Example 1 (Production of phosphazene compound) 2I! Hexachlorocyclotriphosphazene (formula (
86.8 g of a cyclic compound of NPCnz)+ was dissolved in 338 g of dehydrated benzene.
このベンゼン溶液に炭酸ナトリウム110 g、 ピ
リジン155gおよびヒドロキノン0.23 gを加え
、窒素気流中で撹拌した。To this benzene solution were added 110 g of sodium carbonate, 155 g of pyridine, and 0.23 g of hydroquinone, and the mixture was stirred in a nitrogen stream.
別に2−ヒドロキシエチルメタクリレート200m2を
ベンゼン231m1に溶解し、この溶液を上記のフラス
コ中に滴下し、50°Cで6時間かけて反応させた。反
応後、濾過してピリジンの塩酸塩および炭酸ナトリウム
を除去した。Separately, 200 ml of 2-hydroxyethyl methacrylate was dissolved in 231 ml of benzene, and this solution was added dropwise into the above flask and reacted at 50°C for 6 hours. After the reaction, pyridine hydrochloride and sodium carbonate were removed by filtration.
濾液を水洗し、次いで芒硝を用いて乾燥させ、減圧蒸留
により溶剤を除去して、粘稠性の1.1゜3.3,5.
5−ヘキサ(メタクリロイルエチレンジオキシ)シクロ
トリホスファゼン
H3
(式 (NP (OC,H40□CC=CH2)2)3
で表わされる環状ホスファゼン化合物)200g(収率
88.3%)を得た。The filtrate was washed with water, then dried using Glauber's salt, and the solvent was removed by vacuum distillation to give a viscosity of 1.1°, 3.3, 5.
5-hexa(methacryloylethylenedioxy)cyclotriphosphazene H3 (Formula (NP (OC,H40□CC=CH2)2)3
200 g (yield: 88.3%) of a cyclic phosphazene compound represented by
製造例2(シンジオタクチック構造を有するポリスチレ
ン(SPS)の製造)
反応容器に、溶媒としてトルエン21と触媒酸=28
分としてシクロペンタジェニルチタニウムトリクロリド
1ミリモルおよびメチルアルミノキサンをアルミニウム
原子として0.8モル加え、20°Cにおいてこれにス
チレン3.62を加え、1時間重合反応を行なった。Production Example 2 (Production of polystyrene (SPS) having a syndiotactic structure) In a reaction vessel, 21 toluene as a solvent, 1 mmol of cyclopentadienyl titanium trichloride as a catalyst acid = 28 minutes, and 0.0 mmol of methylaluminoxane as an aluminum atom. 8 mol was added, 3.62 mol of styrene was added thereto at 20°C, and a polymerization reaction was carried out for 1 hour.
反応終了後、生成物を塩酸−メタノール混合液で洗浄し
、触媒成分を分解除去した。ついで乾燥し、スチレン系
重合体(ポリスチレン、sps)330gを得た。次に
、この重合体をメチルエチルケトンを溶媒としてソック
スレー抽出し、抽出残分95重量%を得た。このものの
重量平均分子量は290,000、数平均分子量は15
8,000であり、融点は270°Cであった。また、
この重合体は、I30−NMRによる分析(溶媒=1.
2ジクロロベンゼン)から、シンジオタクチック構造に
基因する145.35ppmに吸収が認められ、そのピ
ーク面積から算出したラセミペンタッドでのシンジオタ
クテイシテイ−は96%であった。製造例3 (SPS
からなるフィルムの製造)上記参考例2で得られたSP
Sに、酸化防止剤として、ビス(24−ジーし一ブチル
フェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト及びテ
トラキス〔メチレン(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシハイドロシンナメート)〕メタンをおのおの0
.1重量部ずつ混合し、直径40mmの一軸押出機にて
押出して、ペレット化した。After the reaction was completed, the product was washed with a hydrochloric acid-methanol mixture to decompose and remove the catalyst component. It was then dried to obtain 330 g of a styrene polymer (polystyrene, sps). Next, this polymer was subjected to Soxhlet extraction using methyl ethyl ketone as a solvent to obtain an extraction residue of 95% by weight. The weight average molecular weight of this product is 290,000, and the number average molecular weight is 15.
8,000, and the melting point was 270°C. Also,
This polymer was analyzed by I30-NMR (solvent=1.
2 dichlorobenzene), absorption was observed at 145.35 ppm due to the syndiotactic structure, and the syndiotacticity in racemic pentad calculated from the peak area was 96%. Production example 3 (SPS
(Manufacture of a film consisting of) SP obtained in Reference Example 2 above
S, as antioxidants, bis(24-di-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite and tetrakis[methylene(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)]methane were added to
.. 1 part by weight was mixed and extruded using a single screw extruder with a diameter of 40 mm to form pellets.
得られたペレットを、直径40髄の一軸押出機の先端に
Tダイを取り付けた装置に供給し、シリンダー温度30
0°C,Tグイ温度310°Cの条件で押出し、肉厚2
50μmのシートを得た。このとき、シートの冷却用ロ
ールは表面温度30°Cであった。The obtained pellets were supplied to a device equipped with a T-die at the tip of a single-screw extruder with a diameter of 40 mm, and the cylinder temperature was maintained at 30 mm.
Extruded under the conditions of 0°C, T temperature 310°C, wall thickness 2
A sheet of 50 μm was obtained. At this time, the surface temperature of the sheet cooling roll was 30°C.
このようにして得られた延伸用原反シートは、透明で密
度1.04 g/cnt、ガラス転移温度100°C結
晶化度2%であった。The raw sheet for stretching thus obtained was transparent, had a density of 1.04 g/cnt, a glass transition temperature of 100° C., and a crystallinity of 2%.
次いでこのシートを、延伸温度120°Cで縦横に3.
5倍ずつ同時延伸を行った。得られた延伸フィルムを格
子状の固定具に固定し、250°Cで30秒間熱処理し
た。この時のフィルムの厚さは20μmであった。Next, this sheet was stretched 3 times lengthwise and crosswise at a stretching temperature of 120°C.
Simultaneous stretching was performed 5 times each. The obtained stretched film was fixed to a grid-shaped fixture and heat-treated at 250°C for 30 seconds. The thickness of the film at this time was 20 μm.
実施例1
γ−酸化鉄(γ−Feze3)粉末400重量部製造例
1で得られたホスファゼン化合物150重量部、カーボ
ンブラック4重量部、シリコーンオイル10重量部、レ
シチン6重量部、メチルエチルケトン450重量部およ
びトルエン450重量部をボールミルにて50時間混練
して磁性組成物を得、これを製造例3で得られた厚さ2
0μmのSPSフィルム上に、乾燥後の膜厚が5μmと
なるように塗布して磁性層を形成した。Example 1 400 parts by weight of γ-iron oxide (γ-Feze3) powder 150 parts by weight of the phosphazene compound obtained in Production Example 1, 4 parts by weight of carbon black, 10 parts by weight of silicone oil, 6 parts by weight of lecithin, 450 parts by weight of methyl ethyl ketone and 450 parts by weight of toluene were kneaded in a ball mill for 50 hours to obtain a magnetic composition.
A magnetic layer was formed by coating on a 0 μm SPS film so that the film thickness after drying was 5 μm.
次に、90°Cで乾燥後、200キロ電子ボルト(Ke
V)、6メガラド(Mrad)の照射量を持つ電子線を
照射し、磁性層を硬化させて磁性記録媒体を製造した。Next, after drying at 90°C, 200 kiloelectron volts (Ke
V), the magnetic layer was hardened by irradiation with an electron beam having a dose of 6 megarads (Mrad) to produce a magnetic recording medium.
得られた磁性記録媒体の各種物性を測定した。Various physical properties of the obtained magnetic recording medium were measured.
結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.
比較例1
実施例1におけるSPSフィルムの代わりに厚さ20μ
mのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外
は、実施例1と同様の操作により磁気記録媒体を得た。Comparative Example 1 Instead of the SPS film in Example 1, a thickness of 20 μm was used.
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that a polyethylene terephthalate film of m was used.
各種物性の測定結果を第1表に示す。Table 1 shows the measurement results of various physical properties.
比較例2
(1)1.4−ブタンジオールとアジピン酸を原料とし
てポリエステルジオール(数平均分子量2500、OH
価48.3)を得、これにトリレンジイソシアネートを
反応させてウレタンポリマーとし、さらに2−ヒドロキ
シエチルアクリレートを付加反応させて重合体(数平均
分子1t28000)を得た。Comparative Example 2 (1) Polyester diol (number average molecular weight 2500, OH
This was reacted with tolylene diisocyanate to obtain a urethane polymer, and further subjected to an addition reaction with 2-hydroxyethyl acrylate to obtain a polymer (number average molecule: 1t28,000).
(2)実施例1において、上記(1)で得られた重合体
を製造例1のホスファゼン化合物に代えて用いたこと以
外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第1表に
示す。(2) In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the polymer obtained in (1) above was used in place of the phosphazene compound of Production Example 1. The results are shown in Table 1.
(以下余白)
* 1
*2
*3
* 4
*5
テープ表面にセロファンテープを付着させた後に、真上
に強く剥離させたときの状態で評価。(The following is a margin) * 1 * 2 * 3 * 4 * 5 After attaching cellophane tape to the tape surface, evaluation was performed when it was strongly peeled directly above.
○ ・・・剥離なし、 △・・・一部剥離ガーゼにメチ
ルエチルケトンをしみ込ませ、支持体が現れるまで擦っ
た回数で評価。○: No peeling, △: Partially peeled Gauze soaked with methyl ethyl ketone and evaluated by the number of times it was rubbed until the support appeared.
JIS K 7204に準拠し、摩耗輪により表面
を擦り、その前後の重量差で評価した。In accordance with JIS K 7204, the surface was rubbed with an abrasion wheel, and evaluation was made based on the difference in weight before and after rubbing.
走査型電子顕微鏡を用いて2000倍で磁性層の表面状
態を観察した。The surface state of the magnetic layer was observed using a scanning electron microscope at a magnification of 2000 times.
◎・・・非常に良い、 ○・・・良い
気温80°C5温度80%の環境に5000時間放置し
た後の状態を観察した。◎...Very good, ○...Good The condition was observed after being left in an environment with a temperature of 80°C5 and 80% for 5,000 hours.
○・・・伸び、しわ、縮みなし。○...No elongation, wrinkles, or shrinkage.
×・・・伸び、縮みあり
〔発明の効果〕
叙上の如く、主としてシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体からなる支持体上に、磁性体に硬化性
ホスファゼン化合物をバインダーとして配合して形成し
た磁性層を設けることにより、支持体との接着力が非常
に大きく、また、引張弾性率が高く、耐熱性、耐摩耗性
ならびに耐溶剤性にすぐれており、しかも、磁性体成分
の分散性にもすぐれた磁気記録媒体が得られる。×... Elongation and shrinkage [Effects of the invention] As mentioned above, it is formed by blending a curable phosphazene compound with a magnetic material as a binder on a support mainly made of a styrene polymer having a syndiotactic structure. By providing a magnetic layer that has a strong adhesive strength with the support, it has a high tensile modulus, and has excellent heat resistance, abrasion resistance, and solvent resistance, and also has excellent dispersibility of magnetic components. An excellent magnetic recording medium can also be obtained.
したがって、本発明の磁気記録媒体は、長寿命であると
ともに、走行安定性、S/’N比等の性能においてもす
ぐれたものとなる。Therefore, the magnetic recording medium of the present invention has a long life and is also excellent in performance such as running stability and S/'N ratio.
それ故、本発明の磁気記録媒体は、各種のエレクトロニ
クス材料分野、磁気記録材料分野に幅広くかつ有効に利
用される。Therefore, the magnetic recording medium of the present invention can be widely and effectively used in various fields of electronic materials and magnetic recording materials.
Claims (3)
ン系重合体からなる支持体上に、バインダーとして硬化
性ホスファゼン化合物を含む磁性層を有することを特徴
とする磁気記録媒体。(1) A magnetic recording medium characterized by having a magnetic layer containing a curable phosphazene compound as a binder on a support mainly made of a styrene polymer having a syndiotactic structure.
2を満たす実数を示し、Xは重合硬化性基を示し、Yは
重合硬化性基あるいは非重合硬化性基を示す。X,Yは
同一であっても異なってもよい。) で表わされる繰返し単位を有し、重合度が3以上である
請求項1記載の磁気記録媒体。(2) A phosphazene compound has a general formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, p and q are p>0, q>0, and p+q=
represents a real number satisfying 2, X represents a polymerizable curable group, and Y represents a polymerizable curable group or a non-polymerizable curable group. X and Y may be the same or different. 2. The magnetic recording medium according to claim 1, which has a repeating unit represented by ) and has a degree of polymerization of 3 or more.
求項1記載の磁気記録媒体。(3) A phosphazene compound is a compound in which repeating units represented by the general formula ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula, p, q, X and Y are the same as above) are bonded in a cyclic manner. The magnetic recording medium according to claim 1.
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1019497A JP2523846B2 (en) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | Magnetic recording media |
| US07/443,937 US5082717A (en) | 1988-12-16 | 1989-11-30 | Styrene-based resin composite material |
| EP19890122644 EP0376021B1 (en) | 1988-12-16 | 1989-12-08 | Styrene-based resin composite material and use thereof |
| DE68926339T DE68926339T2 (en) | 1988-12-16 | 1989-12-08 | Styrene-based resin composite and its application |
| CA002005675A CA2005675A1 (en) | 1988-12-16 | 1989-12-15 | Styrene-based resin composite material and use thereof |
| KR1019890018847A KR940008350B1 (en) | 1988-12-16 | 1989-12-15 | Styrene-based resin composite materials and uses thereof |
| US07/770,171 US5273830A (en) | 1988-12-16 | 1991-10-02 | Magnetic recording medium comprising a syndiotactic styrene-based polymer substrate, a magnetic layer and a backcoat lubricating layer each layer containing a curable phosphazine compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1019497A JP2523846B2 (en) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | Magnetic recording media |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02201725A true JPH02201725A (en) | 1990-08-09 |
| JP2523846B2 JP2523846B2 (en) | 1996-08-14 |
Family
ID=12001009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1019497A Expired - Lifetime JP2523846B2 (en) | 1988-12-16 | 1989-01-31 | Magnetic recording media |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2523846B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991003810A1 (en) * | 1989-08-31 | 1991-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1019497A patent/JP2523846B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991003810A1 (en) * | 1989-08-31 | 1991-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2523846B2 (en) | 1996-08-14 |
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