JPH02203556A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH02203556A JPH02203556A JP1023362A JP2336289A JPH02203556A JP H02203556 A JPH02203556 A JP H02203556A JP 1023362 A JP1023362 A JP 1023362A JP 2336289 A JP2336289 A JP 2336289A JP H02203556 A JPH02203556 A JP H02203556A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- resin
- flux
- solder
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、樹脂モールド型半導体装置の製造方;去に間
する。
する。
[従来技術]
第5図に示すように、被覆樹脂1外に複数本のノード2
が導出する樹脂モールド型半導体装置は、各リード2の
半田付は性を良くするために、リード2表面に半田めフ
きを施すのが普通である。このような半導体装置は、樹
脂モールド工程後に、被覆樹脂1外に導出する各リード
2を連結したタイバー3を切除して各リード2に分割し
、各り−ド2にフラックス処理を施し、溶融半田内に各
リード2を漫積して半田めりきを施している。
が導出する樹脂モールド型半導体装置は、各リード2の
半田付は性を良くするために、リード2表面に半田めフ
きを施すのが普通である。このような半導体装置は、樹
脂モールド工程後に、被覆樹脂1外に導出する各リード
2を連結したタイバー3を切除して各リード2に分割し
、各り−ド2にフラックス処理を施し、溶融半田内に各
リード2を漫積して半田めりきを施している。
上記めっき工程では、被覆樹脂面la外に導出する各リ
ード基8β2aまて半田めっきを施す必要があるため、
フラックス処理時には、第6図に示すように、被覆樹脂
面1aとフラックス液面とが所定の間tl Hとなるよ
うに、フラックス液4内に各リード2を浸積してフラッ
クス処理を1テっでいろ。そして、同様に図示していな
い溶融半田内に被覆樹脂面1aと溶融半田面とが所定の
間隔Hとなるように各リード2をviJ融半田に浸積し
て半田めっきを施している。このように、フラックス処
理し・てからN8触半田に漫積すると、昇温によって活
性化するフラックスが各リード基部2aにまてはい上が
るので、各リード基部2aまで半田めっきが施される。
ード基8β2aまて半田めっきを施す必要があるため、
フラックス処理時には、第6図に示すように、被覆樹脂
面1aとフラックス液面とが所定の間tl Hとなるよ
うに、フラックス液4内に各リード2を浸積してフラッ
クス処理を1テっでいろ。そして、同様に図示していな
い溶融半田内に被覆樹脂面1aと溶融半田面とが所定の
間隔Hとなるように各リード2をviJ融半田に浸積し
て半田めっきを施している。このように、フラックス処
理し・てからN8触半田に漫積すると、昇温によって活
性化するフラックスが各リード基部2aにまてはい上が
るので、各リード基部2aまで半田めっきが施される。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記のり一部2めっき工程では、次のよ
うな問題があった。即ち、各リード2にフラックス処理
を施す場合に、それぞれの半導体装置の被覆樹脂面1a
とフラックス液面との間隔Hをばらつきなく一定するこ
とが困難であった。そのため、第6図に一点鎖線で示す
ように、フラックス液4面と被覆樹脂面1aとが所定間
隔Hより狭い間UN hになると、各リード2にはフラ
ックスが付き過ぎてしまい、この状態で(盲融半田内に
浸積して半田めっきを施すと、活性化するフラックスが
各リード基部2a間をはい上がり、隣接するり一ト基部
2a間がこのフラックスてつながることが多々あった。
うな問題があった。即ち、各リード2にフラックス処理
を施す場合に、それぞれの半導体装置の被覆樹脂面1a
とフラックス液面との間隔Hをばらつきなく一定するこ
とが困難であった。そのため、第6図に一点鎖線で示す
ように、フラックス液4面と被覆樹脂面1aとが所定間
隔Hより狭い間UN hになると、各リード2にはフラ
ックスが付き過ぎてしまい、この状態で(盲融半田内に
浸積して半田めっきを施すと、活性化するフラックスが
各リード基部2a間をはい上がり、隣接するり一ト基部
2a間がこのフラックスてつながることが多々あった。
このように、リード基部2a間がフラックスでつながる
と、該フラックスの吸湿等ここよって各リード2間にリ
ーク電流が生し、半導体装置に誤動作等が生じたり、半
田めっき時に、隣接するリード基部2a間に半田がはい
上がって短絡するという問題があった。
と、該フラックスの吸湿等ここよって各リード2間にリ
ーク電流が生し、半導体装置に誤動作等が生じたり、半
田めっき時に、隣接するリード基部2a間に半田がはい
上がって短絡するという問題があった。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するために、本発明の半導体装置の製造
方法は、被覆樹脂外に導出する複数のリード基部間に樹
脂薄膜を上記被覆樹脂と一体に形成する樹脂モールド工
程と、上記各リードに半田めっきを施すめっき工程と、
各リード基部間の上記樹脂薄膜を除去する工程とを含む
ことを特徴とする。
方法は、被覆樹脂外に導出する複数のリード基部間に樹
脂薄膜を上記被覆樹脂と一体に形成する樹脂モールド工
程と、上記各リードに半田めっきを施すめっき工程と、
各リード基部間の上記樹脂薄膜を除去する工程とを含む
ことを特徴とする。
[作用]
本発明の半導体装置の製造方法では、樹脂モールト工程
において、被覆樹脂外に導出する複数のリード基部間に
それぞれ樹脂薄膜を被覆樹脂゛と一体に形成するため、
半田めっき工程;仁おいてリード基部間の樹脂薄膜にフ
ラックス5αが付いたり、半田めっきされても樹脂薄膜
の除去工程で該樹脂薄膜を除去することにより、各リー
ド基部間にフラックスや半田等が残ることがない。
において、被覆樹脂外に導出する複数のリード基部間に
それぞれ樹脂薄膜を被覆樹脂゛と一体に形成するため、
半田めっき工程;仁おいてリード基部間の樹脂薄膜にフ
ラックス5αが付いたり、半田めっきされても樹脂薄膜
の除去工程で該樹脂薄膜を除去することにより、各リー
ド基部間にフラックスや半田等が残ることがない。
[実施例コ
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第11!Iから第4図は本発明の一実f#!、例にかか
る半導体装置の製造方法の順を追った説明図である。
る半導体装置の製造方法の順を追った説明図である。
本実tIf、例による樹脂モールド工程は、図示してい
ないが半導体ペレットをマウントしてリード2とワイヤ
ボンディングしてなるリードフレーム5を上下金型内に
装着し、樹脂モールド部分をキャビティに位置させて、
溶融した樹脂をランナーを介し、てゲートより注入し、
エアベントよりキャビティ内の空スを排出しながら樹脂
モールドを行ない、主要部分を樹脂被覆するものである
。上下金型はこのとき、タイバー3と該タイバー3で連
結された各リード2と被覆された樹脂面1aとで挟まれ
る各リード基部2a間に対応する部分を加工して隙間を
形成したもので、この隙間に被覆樹脂1の一部が注入さ
れて樹脂薄膜6がリード基部2a間に被覆Fl脂lと一
体に形成されろ。この樹脂薄膜6は、リード基部2aの
ほぼ板厚中央部分に形成されおり、その厚みは、あまり
薄ければ剥がれて脱落し易く、・厚すぎると、後述する
樹脂膜1116の除去工程で取り除き難くなるので、リ
ード2の板厚に対して1/2から1/3程度の厚みとす
ることが好ましい。尚、リード基部28間に比較的大き
なエアベントが形成されていて各リード基部2a間に上
記した程度の樹脂膜が形成されるようであれば、上下金
型を加工する必要はない。
ないが半導体ペレットをマウントしてリード2とワイヤ
ボンディングしてなるリードフレーム5を上下金型内に
装着し、樹脂モールド部分をキャビティに位置させて、
溶融した樹脂をランナーを介し、てゲートより注入し、
エアベントよりキャビティ内の空スを排出しながら樹脂
モールドを行ない、主要部分を樹脂被覆するものである
。上下金型はこのとき、タイバー3と該タイバー3で連
結された各リード2と被覆された樹脂面1aとで挟まれ
る各リード基部2a間に対応する部分を加工して隙間を
形成したもので、この隙間に被覆樹脂1の一部が注入さ
れて樹脂薄膜6がリード基部2a間に被覆Fl脂lと一
体に形成されろ。この樹脂薄膜6は、リード基部2aの
ほぼ板厚中央部分に形成されおり、その厚みは、あまり
薄ければ剥がれて脱落し易く、・厚すぎると、後述する
樹脂膜1116の除去工程で取り除き難くなるので、リ
ード2の板厚に対して1/2から1/3程度の厚みとす
ることが好ましい。尚、リード基部28間に比較的大き
なエアベントが形成されていて各リード基部2a間に上
記した程度の樹脂膜が形成されるようであれば、上下金
型を加工する必要はない。
上記樹脂モールド工程が終了すると、第2図に示すよう
に、各リード基部2a間に樹脂薄膜6を残して、各リー
ド2を連結したタイバー3の不要部分だけを切除し、各
リード2に分割する。
に、各リード基部2a間に樹脂薄膜6を残して、各リー
ド2を連結したタイバー3の不要部分だけを切除し、各
リード2に分割する。
各リード基部2aにそれぞれ樹!IiI薄膜6を残した
状態で各リード2に分割すると、次に、各り−ド2の半
田付は性を良くするため、それぞれのり一部2に半田め
っきを施す。このめっき工程;よ、まず、各リード2に
油分や錆等が付着していても活性化されて半田めっきさ
れ易いようにフラックス処理を行なう。該フラックス処
理は、第3図に示すように、フラックス液4内に被覆樹
脂面1aとフラッフスミα面とが所定の間隔Hとなるよ
うに、各リード2をフラックス液4内に4積してフラッ
クスを付着させる。ついで、溶融半田に被覆樹脂面1a
と溶融半田濠面とが所定間隔となるように、各リード2
を溶融半田に4積する。すると、り一部2の昇温によっ
てフラックスが活性化され、該−ノラ・ソクスが各リー
ド基部3a間にまではいとがり、リ ド基部2aまC半
田めっきが施される。
状態で各リード2に分割すると、次に、各り−ド2の半
田付は性を良くするため、それぞれのり一部2に半田め
っきを施す。このめっき工程;よ、まず、各リード2に
油分や錆等が付着していても活性化されて半田めっきさ
れ易いようにフラックス処理を行なう。該フラックス処
理は、第3図に示すように、フラックス液4内に被覆樹
脂面1aとフラッフスミα面とが所定の間隔Hとなるよ
うに、各リード2をフラックス液4内に4積してフラッ
クスを付着させる。ついで、溶融半田に被覆樹脂面1a
と溶融半田濠面とが所定間隔となるように、各リード2
を溶融半田に4積する。すると、り一部2の昇温によっ
てフラックスが活性化され、該−ノラ・ソクスが各リー
ド基部3a間にまではいとがり、リ ド基部2aまC半
田めっきが施される。
各り−・ド2表面に半E11めつきが施されると、次に
、各リード基部28間に形成されでいる名樹脂誦膜6を
除去する除去工程に送られ、各樹脂薄膜〔六を打ち抜く
等によって除去し5 第4図に示すような(M脂モール
ド型の半導(本装置が繋1遺されろ。
、各リード基部28間に形成されでいる名樹脂誦膜6を
除去する除去工程に送られ、各樹脂薄膜〔六を打ち抜く
等によって除去し5 第4図に示すような(M脂モール
ド型の半導(本装置が繋1遺されろ。
」二記の製造方法によれば、被覆樹脂面1aより導出r
る各り−1・−?の半田めっき工程で、フラックス処理
におけろ被覆樹脂面1aとフラックス液面とが所定の間
隔Hより侠くなろと、各リード基部2a及び各リード基
部′、2a間に形成されている(■1膜6にまでフラッ
クスが付着し、次:こ、溶融゛1り川内に/!積するど
、リード基部2a間に41’田がブリッジすることがあ
る。しかし・、樹脂薄膜6にフラックスが付いたり、半
田がブリッジしノでも、めっき工程1表にリード基部2
a間の樹脂薄膜6を除去工程で除去することにより、リ
ード基部間のフラックスや半田を取り除くことができる
。泥って、フラックスの吸湿などにより各リード2間に
リーク電流が発生し・たり、ブリッジした半田て各リー
ド2が短絡することが防止され、信頼性の高い半導体装
置が得られる。
る各り−1・−?の半田めっき工程で、フラックス処理
におけろ被覆樹脂面1aとフラックス液面とが所定の間
隔Hより侠くなろと、各リード基部2a及び各リード基
部′、2a間に形成されている(■1膜6にまでフラッ
クスが付着し、次:こ、溶融゛1り川内に/!積するど
、リード基部2a間に41’田がブリッジすることがあ
る。しかし・、樹脂薄膜6にフラックスが付いたり、半
田がブリッジしノでも、めっき工程1表にリード基部2
a間の樹脂薄膜6を除去工程で除去することにより、リ
ード基部間のフラックスや半田を取り除くことができる
。泥って、フラックスの吸湿などにより各リード2間に
リーク電流が発生し・たり、ブリッジした半田て各リー
ド2が短絡することが防止され、信頼性の高い半導体装
置が得られる。
[発明の効果]
以J二の説明から明かなように、本発明の゛I’導体装
置の製造方法では、半導体装置の被覆樹脂夕日こ導出す
る各リード基部間にフラックスや半田等が残ることなく
各リード表面に半田めっきを施すことがてき、信頼性の
高い半導体装置を得ることがでさるといった効果を奏す
る。
置の製造方法では、半導体装置の被覆樹脂夕日こ導出す
る各リード基部間にフラックスや半田等が残ることなく
各リード表面に半田めっきを施すことがてき、信頼性の
高い半導体装置を得ることがでさるといった効果を奏す
る。
4゜図面のlii’l牛な説明
第1図から第4図は本発明の−・実施例における半導体
装置の製造方法の111頁を追・−)た説明図゛Cあり
、第1図は樹脂モールド且稈1尚の状態を示す↑11間
で、第2図は被覆樹脂外に導出する各り−1−を分割し
た状U、を示ず斜視図で、第:3図はめつき1稈のフラ
ックス処理状態を示す側面図で、第4図は除去工程後の
半導体装#を示す斜視図であり、第5図は従来の製造方
法による被覆樹脂外に導出νろ各リードを分割した状態
を示す斜視図、第6図はiに来の製造方法によるめフき
工程のフラックス処理状態を示す側面図である。
装置の製造方法の111頁を追・−)た説明図゛Cあり
、第1図は樹脂モールド且稈1尚の状態を示す↑11間
で、第2図は被覆樹脂外に導出する各り−1−を分割し
た状U、を示ず斜視図で、第:3図はめつき1稈のフラ
ックス処理状態を示す側面図で、第4図は除去工程後の
半導体装#を示す斜視図であり、第5図は従来の製造方
法による被覆樹脂外に導出νろ各リードを分割した状態
を示す斜視図、第6図はiに来の製造方法によるめフき
工程のフラックス処理状態を示す側面図である。
1・・・被覆樹脂、
:2・・・リー ド、
2a・・・リード基部5
6・・・樹脂薄膜。
第1図
特 許 出 願 人
閏西日本電気株式会社
第2図
第3図
M4図
第5図
第6図
Claims (1)
- (1)被覆樹脂外に導出する複数のリード基部間に樹脂
薄膜を上記被覆樹脂と一体に形成する樹脂モールド工程
と、 上記各リードに半田めっきを施すめっき工程と、各リー
ド基部間の上記樹脂薄膜を除去する工程とを含むことを
特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1023362A JPH02203556A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1023362A JPH02203556A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02203556A true JPH02203556A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12108459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1023362A Pending JPH02203556A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02203556A (ja) |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1023362A patent/JPH02203556A/ja active Pending
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