JPH02204389A - 単結晶の製造方法 - Google Patents
単結晶の製造方法Info
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- JPH02204389A JPH02204389A JP2457789A JP2457789A JPH02204389A JP H02204389 A JPH02204389 A JP H02204389A JP 2457789 A JP2457789 A JP 2457789A JP 2457789 A JP2457789 A JP 2457789A JP H02204389 A JPH02204389 A JP H02204389A
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ー法(液体封止チョクラルスキー法を含む)による単結
晶の成長方法に利用される技術に関する。
方法の一つに、るつぼ内に原料を入れて加熱、溶融させ
、その融液表面に種結晶を接触させてから徐々に引き上
げることによって結晶方位の揃った単結晶を成長させる
チョクラルスキー法がある。
晶引上げ開始時における融液表面の温度が高すぎると種
結晶が溶けてしまって結晶は成長せず、また低すぎると
納品欠陥が発生する6そのため、チョクラルスキー法で
は種付は時の融液温度と引上げタイミングの決定が非常
に重要となる。
液表面に接触させてやればよいが、熱電対を挿入するこ
とにより融液の対流が乱れ、融液的温度分布が変化して
、単結晶を成長させることができなくなってしまう。
定することも可能であるが、この場合。
正確な融液表面の温度を再現性よく測定できるまでには
至っていない3 そこで、従来は、炉体に設けられたのぞき窓より種結晶
と融液との接触部の状態を観察して、目視により引上げ
開始タイミングを決定していた。
っては、正確な温度の決定が困難であり、長年の経験と
熟練を要するとともに1作業者によるバラツキが大きく
単結晶の育成ごとに形状が異なってしまい再現性が十分
でなく、また結晶欠陥も生じ易いという問題点があった
。
で、チョクラルスキー法による単結晶の育成工程におい
て、結晶欠陥が少なくかつ形状のバラツキの少ない単結
晶を再現性よく成長させることができるようにすること
を目的とする。
軸もしくはるつぼ支持軸に重量測定器を接続して、るつ
ぼ内の融液表面に種結晶を接触させ、メニスカスが安定
した後引上げ軸を毎時20〜:300nnの速さで上昇
させ、そのときの重量変化を重量測定器で検出し1重量
変化量が予め決定した大きさになった時点もしくは測定
値から重量の時間的変化dv/dt(以下、変化率と称
する)を算出し1重量の変化率が所定の大きさになった
時点で結晶育成のための引上げを開始させるようにした
。
引き上げると結晶引上げ軸の重量が変化し、その重量の
変化量は種結晶の引上げ速度および融液の表面温度が一
定であればほぼ一定になる。
ミングを決定すれば、毎回同一の最適温度で結晶の成長
を開始させることができる。また。
いが、重量の変化率dw/dtを算出しそれに基づいて
引上げ開始タイミングを決定するようにしたことにより
1重量ノイズによる影響を除去させ。
上げ炉を示すもので、密閉型の高圧容器3内には、略円
筒状のヒータ4が配設されており、このヒータ4の中央
には、口径約6インチのpBNll12のるつぼ5が配
置されている。そして、このるつぼ5中には、融液6が
入れられており、融液6の上面はB、O,からなる液体
封止剤層7で覆われている。また、るつぼ5は、その下
端に固着された支持軸8により回転および上下動可能に
支持されている。9は支持軸8の下端に設けられた支持
軸回転・上下味動機構である。なお、11はヒータ4の
外周を囲繞するように配置された断熱部材である。
げ軸12が回転かつ上下動可能に垂下されており、この
結晶引上げ軸12の下端に種結晶を保持し、るつぼ5中
の融液6の表面に接触させることができるようになって
いる。13は結晶引上げ軸12の上端に設けられた引上
げ軸回転・上下邸動機構である。また、結晶引上げ軸1
2には、結晶の重量を測定できる重量センサ14が取付
けられている。
導入するためのガス導入管15が接続され、側壁下部に
は、そのArガスを高圧容器3外部へ排出するガス排出
管16が接続されている。
圧容器3内を加圧、減圧して内部圧力を所定圧力とする
ことができるようになっている。
によってInP単結晶を育成する場合の実施例について
説明する。
5中に入れる。
3内に高圧のArガスを導入するとともに。
先ず引」二げ軸12を降下させて、その下端に保持され
ている種結晶をるつぼ5内の原料融液6の表面に接触さ
せる。このとき、融液表面の高熱によって種結晶が溶け
、メニスカスが生ずる、このメニスカスは、融液表面の
温度が高くなるに従って細長くなる。このメニスカスが
安定するまで待ってから、種結晶を高速で引上げ、重量
センサ14によって重量の変化量ΔWを検出する。
hrの範囲が妥当である。引上げ速度がこれよりも小さ
いと1本来の重量変化とノイズとの区別がつきにくく精
度が低下する一方、引上げ速度が300mm/hrより
も大きいと、種結晶が融液から短時間のうちに離れてし
まって、十分な大きさの重量変化ΔWが得られないから
である。上記種結晶の接触、引上げを繰り返してその都
度重量変化ΔWを検出しそれが所定の値になったら結晶
の育成のための引上げを開始する。ただし、重量測定値
にのるノイズの影響をなくすため次のようにしてもよい
。
の測定値ΔWが得られたならば、マイクロコンピュータ
等の演算器によって1重量の変化率dW/dtを逐次算
出する。この重量の変化率は、ピークを持つ曲線となる
。
dW/dt1.と融液表面温度T intとの関係を実
験によって調べた。その結果、引上げ速度が一定の場合
には第2図に示すような関係があり、例えば引上げ速度
が150mm/hrのときの最適温度Tsに相当する重
量の変化率はQ 、 14 g /mi、nであるこ
とが分かった。
れば、毎回同一の最適温度で結晶成長が可能となる。
定の速度で引上げ軸12を上昇させ、そのときの重量変
化を測定し変化率のピーク値dW/dシ1゜を算出して
それが所定の値(引上げ速度が150mm/hrのとき
は0 、 14 g /i+in)になった時点で結晶
の成長を開始させるようにすれば、毎回同一の最適温度
で成長を開始させることができる。
で、同一形状の単結晶を再現性良く育成できることが実
験により確認された。
のピーク値d W / d t l aをO、1,4g
/minとしたが、これは引上げ速度が150 m+
s/ hrのときであり、引上げ速度を20〜300■
/hrの範囲で変えたときはそれに応じて最適な重量変
化のピーク値dW/dtl。を実験により決定してやれ
ばよい。
くはるつぼ支持軸に重量測定器を接続して。
安定した後引上げ軸を毎時20〜300mmの速さで上
昇させ、そのときの重量変化を重量測定器で検出して、
重量変化量が予め決定した大きさになった時点もしくは
測定値から重量の変化率dW/dtを算出し5重量の変
化率が所定の大きさになった時点で結晶育成のための引
上げを開始させるようにしたので、毎回同一の最適温度
で結晶の成長を開始させることができる。また、引上げ
軸に設けた重量センサにはノイズがのり易いが、重量の
変化率dW/dtを算出しそれに基づいて引上げ開始タ
イミングを決定するようにしたことにより、重量ノイズ
による影響を除去させ、バラツキの少ない形状制御が可
能となるという効果がある。
を示す縦断面図、 第2図はその重量の変化率のピーク値と融液表面温度と
の関係を示すグラフである。 3・・・・高圧容器、4・・・・ヒータ、5・・・・る
つぼ。 6・・・・原料融液、7・・・・液体封止剤層、8・・
・・支持軸、12・・・・結晶引上げ軸、14・・・・
重量センサ、15・・・・ガス導入管、16・・・・ガ
ス排出管。
Claims (2)
- (1)単結晶引上げ軸もしくはるつぼ支持軸に重量測定
器を接続して、るつぼ内の融液表面に種結晶を接触させ
、メニスカスが安定した後引上げ軸を毎時20〜300
mmの速さで上昇させ、そのときの重量変化を重量測定
器で検出しその重量変化量が予め決定した大きさになっ
た時点で結晶育成のための引上げを開始させるようにし
たことを特徴とする単結晶の製造方法。 - (2)単結晶引上げ軸もしくはるつぼ支持軸に重量測定
器を接続して、るつぼ内の融液表面に種結晶を接触させ
、メニスカスが安定した後引上げ軸を毎時20〜300
mmの速さで上昇させ、そのときの重量変化を重量測定
器で検出し、その測定値から重量の時間的変化dw/d
tを算出し、この重量の時間的変化が予め決定した大き
さになった時点で結晶育成のための引上げを開始させる
ようにしたことを特徴とする単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1024577A JPH0699229B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1024577A JPH0699229B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 単結晶の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02204389A true JPH02204389A (ja) | 1990-08-14 |
| JPH0699229B2 JPH0699229B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=12142023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1024577A Expired - Lifetime JPH0699229B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0699229B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56164098A (en) * | 1980-05-21 | 1981-12-16 | Toshiba Corp | Preparation of single crystal |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP1024577A patent/JPH0699229B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56164098A (en) * | 1980-05-21 | 1981-12-16 | Toshiba Corp | Preparation of single crystal |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0699229B2 (ja) | 1994-12-07 |
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