JPH02204942A - 電界電離型ガスイオン源 - Google Patents
電界電離型ガスイオン源Info
- Publication number
- JPH02204942A JPH02204942A JP1020794A JP2079489A JPH02204942A JP H02204942 A JPH02204942 A JP H02204942A JP 1020794 A JP1020794 A JP 1020794A JP 2079489 A JP2079489 A JP 2079489A JP H02204942 A JPH02204942 A JP H02204942A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- emitter
- tip
- ionized gas
- ion source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
- H01J2237/0802—Field ionization sources
- H01J2237/0807—Gas field ion sources [GFIS]
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は電界電離型ガスイオン源に関するものである。
［従来の技術］
従来、電界電離型ガスイオン源のイオン化ガスの供給方
法としては、第３図に示すように、エミッタ１の周囲を
覆うイオン引き出し電極５を差動排気のアパーチャとし
て兼用し、ここにイオン化ガスを導入する方法や、ある
いは第４図に示すように、エミッタ１を中空のパイプ２
に挿入し、該パイプ２内にイオン化ガスを導入する方法
等が知られている。
法としては、第３図に示すように、エミッタ１の周囲を
覆うイオン引き出し電極５を差動排気のアパーチャとし
て兼用し、ここにイオン化ガスを導入する方法や、ある
いは第４図に示すように、エミッタ１を中空のパイプ２
に挿入し、該パイプ２内にイオン化ガスを導入する方法
等が知られている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、これらの方法では、エミッタ先端でのイ
オン化ガスの圧力が不十分で、高電流のイオンビームを
得るためにはさらに導入ガスの量を増す必要があるとい
う欠点があった。また単に導入ガスを増すことは、放電
耐圧やイオン化カスの利用効率が悪化するという欠点が
ある。
オン化ガスの圧力が不十分で、高電流のイオンビームを
得るためにはさらに導入ガスの量を増す必要があるとい
う欠点があった。また単に導入ガスを増すことは、放電
耐圧やイオン化カスの利用効率が悪化するという欠点が
ある。
本発明の目的は、効率よくイオン化ガスをエミッタに供
給して、少ない導入ガス量で高電流のイオンビームを得
ることのできる電界電離型ガスイオン源を提供すること
にある。
給して、少ない導入ガス量で高電流のイオンビームを得
ることのできる電界電離型ガスイオン源を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、ガス吹き出し部が所定の間隔をあけて固定さ
れた２枚の板状体で構成され、該板状体のそれぞれに細
孔が同軸的に穿孔され、該２つの細孔を両端部とする軸
の中央部近傍にエミッタの先端部が位置されてなり、前
記２枚の板状体で形成される空洞部にイオン化ガスが導
入されることを特徴とする電界電離型ガスイオン源であ
る。
れた２枚の板状体で構成され、該板状体のそれぞれに細
孔が同軸的に穿孔され、該２つの細孔を両端部とする軸
の中央部近傍にエミッタの先端部が位置されてなり、前
記２枚の板状体で形成される空洞部にイオン化ガスが導
入されることを特徴とする電界電離型ガスイオン源であ
る。
即ち、本発明の電界電離型ガスイオン源は、エミッタの
周囲にエミッタの先端に向かってイオン化ガスを吹き付
ける構造を有していることを特徴とする。
周囲にエミッタの先端に向かってイオン化ガスを吹き付
ける構造を有していることを特徴とする。
［作用］
本発明においては、イオン化ガス吹き出し部はエミッタ
の先端を中心にした板状体で構成され、板の内周には全
円周にわたって空洞があり、この隙間を通してイオン化
ガスがエミッタの先端に向かって吹き付けるようになっ
ている。そのため、エミッタの先端でのガス圧が効率よ
く上がり、導入ガス量が少なくても高い圧力が得られる
。この結果、高電流のイオンビームが得られるとともに
、イオン化ガスの利用効率が上昇する。カス吹き出し部
はエミッタと同電位でも構わないが、引き出し電極を兼
ねることもできる。この場合はエミッタと吹き出し部（
引き出し電極）の間の高電界によって、ガス分子が分極
し、ざらにガスの供給能率が高まる。
の先端を中心にした板状体で構成され、板の内周には全
円周にわたって空洞があり、この隙間を通してイオン化
ガスがエミッタの先端に向かって吹き付けるようになっ
ている。そのため、エミッタの先端でのガス圧が効率よ
く上がり、導入ガス量が少なくても高い圧力が得られる
。この結果、高電流のイオンビームが得られるとともに
、イオン化ガスの利用効率が上昇する。カス吹き出し部
はエミッタと同電位でも構わないが、引き出し電極を兼
ねることもできる。この場合はエミッタと吹き出し部（
引き出し電極）の間の高電界によって、ガス分子が分極
し、ざらにガスの供給能率が高まる。
［実施例］
次に、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例のガス吹き出し部を示す横断
面図（第１図（ａ））および縦断面図（第１図（ｂ））
である。同図に示すように、イオン化ガス吹き出し部１
０は、中心に穿孔された円１１１ａ 。
面図（第１図（ａ））および縦断面図（第１図（ｂ））
である。同図に示すように、イオン化ガス吹き出し部１
０は、中心に穿孔された円１１１ａ 。
１１ｂを僅かの隙間ができるように２枚重ねたものであ
る。
る。
この隙間にイオン化ガス導入口３よりイオン化ガスを導
入すると、円盤の内周からイオン化ガスがエミッタ１の
先端に向かって吹き付けられる。
入すると、円盤の内周からイオン化ガスがエミッタ１の
先端に向かって吹き付けられる。
これによってエミッタ先端１ａのガス圧力を少ない導入
ガスで高めることができる。
ガスで高めることができる。
第２図は、本発明の別の一実施例のガス吹き出し部を示
す横断面図（第２図（ａ））および縦断面図（第２図（
ｂ））である。同図に示すように、本実施例では、円盤
１１ａ 、 １１ｂの隙間にガスの流れを変える整流板
４が設置されている。このため、イオン化ガスはより効
率よくエミッタ先端に供給される。
す横断面図（第２図（ａ））および縦断面図（第２図（
ｂ））である。同図に示すように、本実施例では、円盤
１１ａ 、 １１ｂの隙間にガスの流れを変える整流板
４が設置されている。このため、イオン化ガスはより効
率よくエミッタ先端に供給される。
また、第１図、第２図の実施例ともに、イオン化ガス吹
き出し部と他の部分を絶縁することにより、引き出し電
極を兼ねることができる。
き出し部と他の部分を絶縁することにより、引き出し電
極を兼ねることができる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば電界電離型ガスイ
オン源のエミッタ先端のイオン化ガスの圧力を効率よく
高めることができ、少ない導入ガスで高電流のイオンビ
ームを得ることができる。
オン源のエミッタ先端のイオン化ガスの圧力を効率よく
高めることができ、少ない導入ガスで高電流のイオンビ
ームを得ることができる。
第１図および第２図はそれぞれ本発明の一実施例のイオ
ン化ガス吹き出し部の横断面図および縦断面図、第３図
および第４図はそれぞれ従来例による電界電離型ガスイ
オン源゛のイオン化ガス吹き出し部の構成図である。 １・・・エミッタ ２・・・パイプ ３・・・イオン化ガス導入口 ４・・・整流板 ５・・・引き出し電極６・
・・冷却器 ７・・・ヒータ電源８・・・高
圧電源 ９・・・真空チＶンバ１０・・・イオ
ン化ガス吹き出し部 １１ａ 、 ｌｌｂ 、、、円盤
ン化ガス吹き出し部の横断面図および縦断面図、第３図
および第４図はそれぞれ従来例による電界電離型ガスイ
オン源゛のイオン化ガス吹き出し部の構成図である。 １・・・エミッタ ２・・・パイプ ３・・・イオン化ガス導入口 ４・・・整流板 ５・・・引き出し電極６・
・・冷却器 ７・・・ヒータ電源８・・・高
圧電源 ９・・・真空チＶンバ１０・・・イオ
ン化ガス吹き出し部 １１ａ 、 ｌｌｂ 、、、円盤
Claims (1)
- （１）ガス吹き出し部が所定の間隔をあけて固定された
２枚の板状体で構成され、該板状体のそれぞれに細孔が
同軸的に穿孔され、該２つの細孔を両端部とする軸の中
央部近傍にエミッタの先端部が位置されてなり、前記２
枚の板状体で形成される空洞部にイオン化ガスが導入さ
れることを特徴とする電界電離型ガスイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020794A JPH02204942A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 電界電離型ガスイオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020794A JPH02204942A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 電界電離型ガスイオン源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02204942A true JPH02204942A (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=12036979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1020794A Pending JPH02204942A (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 電界電離型ガスイオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02204942A (ja) |
-
1989
- 1989-02-01 JP JP1020794A patent/JPH02204942A/ja active Pending
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