JPH02205752A - 腐食検知装置 - Google Patents
腐食検知装置Info
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- JPH02205752A JPH02205752A JP2639489A JP2639489A JPH02205752A JP H02205752 A JPH02205752 A JP H02205752A JP 2639489 A JP2639489 A JP 2639489A JP 2639489 A JP2639489 A JP 2639489A JP H02205752 A JPH02205752 A JP H02205752A
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Landscapes
- Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、ハロゲン元素を含む気相および液相の雰囲気
内の金属腐食環境下にある金属材料の腐食状態を検出す
る装置に係り、特に原子力再処理プラントのハロゲン元
素による腐食を判定するのに好適な腐食検知装置に関す
る。
内の金属腐食環境下にある金属材料の腐食状態を検出す
る装置に係り、特に原子力再処理プラントのハロゲン元
素による腐食を判定するのに好適な腐食検知装置に関す
る。
核燃料再処理工場は、使用済燃料を濃硝酸で溶解する溶
解工程において、NOxとともに使用済燃料中の放射性
のヨウ素rt (約10100ppや臭素Br、(約
10ppm)の腐食性ガスが放出される。
解工程において、NOxとともに使用済燃料中の放射性
のヨウ素rt (約10100ppや臭素Br、(約
10ppm)の腐食性ガスが放出される。
従来、このようなオフガスは、第7図に示す処理装置に
よって処理される。第8図において、溶解層21からの
オフガスは、コンデンサ22に導入され、ここでオフガ
スは90℃から40°C程度まで冷却され、ガス中の大
部分の水分が凝縮し、除去される。
よって処理される。第8図において、溶解層21からの
オフガスは、コンデンサ22に導入され、ここでオフガ
スは90℃から40°C程度まで冷却され、ガス中の大
部分の水分が凝縮し、除去される。
コンデンサ22からのオフガスは、NOx吸収塔24に
供給され、塔頂部から導入される吸収液(水)に吸収さ
れ、硝酸となって貯層23に貯蔵される。
供給され、塔頂部から導入される吸収液(水)に吸収さ
れ、硝酸となって貯層23に貯蔵される。
貯層23に貯溜された吸収酸中に、ヨウ素12等が含ま
れており、これらヨウ素等はヨウ素再追出塔25にてガ
ス中に追い出される。ヨウ素再追出塔25からのガス中
のヨウ素等は、ヨウ素除去塔26にて、吸着・除去され
た後、NOXおよびヨウ素等が規定濃度以下となって排
気筒27より大気中に放出される。
れており、これらヨウ素等はヨウ素再追出塔25にてガ
ス中に追い出される。ヨウ素再追出塔25からのガス中
のヨウ素等は、ヨウ素除去塔26にて、吸着・除去され
た後、NOXおよびヨウ素等が規定濃度以下となって排
気筒27より大気中に放出される。
この放射性のヨウ素12や臭素Br、は他のハロゲン元
素の塩素C12と同じように腐食性を有する元素である
と同時に、その半減期が非常に長(、前記再処理オフガ
ス系に長時間留まり、特に高湿度領域において腐食によ
る装置のリーク事故発生の要因となる。
素の塩素C12と同じように腐食性を有する元素である
と同時に、その半減期が非常に長(、前記再処理オフガ
ス系に長時間留まり、特に高湿度領域において腐食によ
る装置のリーク事故発生の要因となる。
このため、オフガス処理系においては運転期間中の機器
の腐食の発生・進展を検知する必要が生じるが、従来に
おいては次のような検知方法等が主として用いられてい
る。
の腐食の発生・進展を検知する必要が生じるが、従来に
おいては次のような検知方法等が主として用いられてい
る。
(i)ヨウ素湿潤環境中での腐食は材料表面と接触して
いる液内のI、−イオンが濃縮することにより進展する
ため、この液中の夏、−イオン濃度を、その伝導度を計
測することにより検知し、そのI、−イオン濃度から腐
食量を検知する方法。
いる液内のI、−イオンが濃縮することにより進展する
ため、この液中の夏、−イオン濃度を、その伝導度を計
測することにより検知し、そのI、−イオン濃度から腐
食量を検知する方法。
(ii)1.−イオンは、溶液中で赤褐色を呈しており
、そのI、−濃度の濃縮により色の濃さも増し、吸収ス
ペクトルが波長353nm(3530人)の位置に現れ
るため、その液の吸光度を測定することにより、色の濃
さからI3−イオン量を求め、これから腐食量を検知す
る方法。
、そのI、−濃度の濃縮により色の濃さも増し、吸収ス
ペクトルが波長353nm(3530人)の位置に現れ
るため、その液の吸光度を測定することにより、色の濃
さからI3−イオン量を求め、これから腐食量を検知す
る方法。
上記(i)項および(ii)項で説明した従来の腐食検
知方法は、どちらも腐食程度をリアルタイムで計測でき
る利点はある。
知方法は、どちらも腐食程度をリアルタイムで計測でき
る利点はある。
しかしながら、上記(i)項の従来の腐食検知方法は、
伝導度計測用センサーが濃縮されてくる液環境下に長時
間さらされるため、伝導度計測用センサーが劣化し、計
測精度に誤差が発生し、腐食の発生・進展の検知が困難
になるという欠点がある。また、同様に、上記(ii)
項の従来の腐食検知方法も、吸光度計測計測ガラスが濃
縮されてくる液環境下に長時間さらされるため、吸光度
計測計測ガラスに汚れ等が付着し、計測精度に誤差が発
生し、腐食の発生・進展の検知が困難になるという欠点
がある。
伝導度計測用センサーが濃縮されてくる液環境下に長時
間さらされるため、伝導度計測用センサーが劣化し、計
測精度に誤差が発生し、腐食の発生・進展の検知が困難
になるという欠点がある。また、同様に、上記(ii)
項の従来の腐食検知方法も、吸光度計測計測ガラスが濃
縮されてくる液環境下に長時間さらされるため、吸光度
計測計測ガラスに汚れ等が付着し、計測精度に誤差が発
生し、腐食の発生・進展の検知が困難になるという欠点
がある。
本発明の目的は、上述した従来技術の課題を解決し、ハ
ロゲン元素を含む気・液両環境下でも長時間にわたって
連続的に計測が可能で腐食の発生・進展を検知すること
ができる腐食検知装置を提供することにある。
ロゲン元素を含む気・液両環境下でも長時間にわたって
連続的に計測が可能で腐食の発生・進展を検知すること
ができる腐食検知装置を提供することにある。
上記目的を達成するため本発明に係る腐食検知装置は、
ハロゲン元素を含む気相および液相の雰囲気内の金属腐
食環境下にある金属材料の腐食状態を検出する装置にお
いて、前記気相中のハロゲン分子濃度を測定するハロゲ
ン濃度分析装置と、前記雰囲気内の温度を検出する温度
センサと、所定の定数等を入力する入力部と、前記ハロ
ゲン濃度分析装置からのハロゲン分子濃度データ、温度
センサからの温度データ、および入力部からの各種定数
等のデータに基づき、各ハロゲン分子濃度をパラメータ
として時間に対する腐食の進展状況を示す腐食進展曲線
を演算する演算処理部と、前記演算処理部で求めた腐食
進展曲線を表示する出力部とからなることを特徴とする
ものである。
ハロゲン元素を含む気相および液相の雰囲気内の金属腐
食環境下にある金属材料の腐食状態を検出する装置にお
いて、前記気相中のハロゲン分子濃度を測定するハロゲ
ン濃度分析装置と、前記雰囲気内の温度を検出する温度
センサと、所定の定数等を入力する入力部と、前記ハロ
ゲン濃度分析装置からのハロゲン分子濃度データ、温度
センサからの温度データ、および入力部からの各種定数
等のデータに基づき、各ハロゲン分子濃度をパラメータ
として時間に対する腐食の進展状況を示す腐食進展曲線
を演算する演算処理部と、前記演算処理部で求めた腐食
進展曲線を表示する出力部とからなることを特徴とする
ものである。
上述した本発明に係る腐食検知装置は、次の原理に基づ
いて構成されたものである。
いて構成されたものである。
ヨウ素等ハロゲン元素を含む湿潤気相中および液相中の
金属の腐食は、第3図および第4図に示す腐食モデルに
よって発生・進行するものと予想される。
金属の腐食は、第3図および第4図に示す腐食モデルに
よって発生・進行するものと予想される。
これらの図において、湿潤気相中の水分が液滴30とな
って金属31に付着する0次に、この液滴30中におい
て、第3図のステップ(A)〜ステップ(E)に示す腐
食ステップで腐食が進行する。すなわち、まず初期の段
階でI−イオンが形成される(ステップ(A))、これ
は、気相中の12分子が液滴30内に吸収され、微量で
はあるが金属31を酸化させ、■2→2I−となったり
、12分子が加水分解し、1 ! +H! O−HI
O+H”+1−の反応により、■−が生じる。
って金属31に付着する0次に、この液滴30中におい
て、第3図のステップ(A)〜ステップ(E)に示す腐
食ステップで腐食が進行する。すなわち、まず初期の段
階でI−イオンが形成される(ステップ(A))、これ
は、気相中の12分子が液滴30内に吸収され、微量で
はあるが金属31を酸化させ、■2→2I−となったり
、12分子が加水分解し、1 ! +H! O−HI
O+H”+1−の反応により、■−が生じる。
次に、■−溶液中に12分子が溶解し、I。
イオンが生じる(ステップ(B))。この反応は、1−
+I!→I、−で表されるが、平衡定数が非常に大きい
ため、■、−イオンは多量に、しかも急速に生成される
。■−イオンは腐食性は小さいが、■、−イオンは酸化
力が大きく、腐食性が大きい。
+I!→I、−で表されるが、平衡定数が非常に大きい
ため、■、−イオンは多量に、しかも急速に生成される
。■−イオンは腐食性は小さいが、■、−イオンは酸化
力が大きく、腐食性が大きい。
そして、金属の腐食が進行することになる。この金属の
腐食過程はステップ(C)として示される。1モルの金
属31(M)は、1モルのl。
腐食過程はステップ(C)として示される。1モルの金
属31(M)は、1モルのl。
イオンに酸化され、M1イオンとして液滴30内に溶出
して腐食され、一方I、−イオンは3モルのI−イオン
に還元される。
して腐食され、一方I、−イオンは3モルのI−イオン
に還元される。
また、3モルのI−イオンは、気相中より常時熔解して
くる3モルのI2分子と反応し、3モルの■、−イオン
を生成する(ステップ(D))。
くる3モルのI2分子と反応し、3モルの■、−イオン
を生成する(ステップ(D))。
すなわち、ステップ(C)で1モルの13−イオンが消
費される代りに3モルの1.−イオンが新たに生成され
、差し引き2モルの■、−イオンが1サイクルの腐食反
応で増殖したことになる。このように時間の経過ととも
に、液滴30内に腐食性の1.−イオンが濃縮され、気
相中に数十ppmのヨウ素ガス(I2)があれば、約1
000時間後には数十パーセントにも濃縮される。
費される代りに3モルの1.−イオンが新たに生成され
、差し引き2モルの■、−イオンが1サイクルの腐食反
応で増殖したことになる。このように時間の経過ととも
に、液滴30内に腐食性の1.−イオンが濃縮され、気
相中に数十ppmのヨウ素ガス(I2)があれば、約1
000時間後には数十パーセントにも濃縮される。
さらに、気相中に酸素があると、液滴30表面に酸化性
皮膜32を作り、これがすき間部となって、すき間腐食
の発生の原因になる(ステップ(E))。
皮膜32を作り、これがすき間部となって、すき間腐食
の発生の原因になる(ステップ(E))。
上述したような理由により、ヨウ素等ハロゲンガス中に
長時間さらされた金属表面液滴や液相内には、■、−イ
オンの濃縮と同時にすき間腐食を伴った著しい孔食が発
生する。
長時間さらされた金属表面液滴や液相内には、■、−イ
オンの濃縮と同時にすき間腐食を伴った著しい孔食が発
生する。
ところで、上記腐食現象は、以下の速度反応式を解くこ
とによって定量的に評価することができる。
とによって定量的に評価することができる。
液滴あるいは液相中の1−イオン、■、−イオン、およ
びI2分子の濃度をそれぞれCl−1CI、−1および
C1,Cモル/j!〕とすると、近似的に次式が成立す
る。
びI2分子の濃度をそれぞれCl−1CI、−1および
C1,Cモル/j!〕とすると、近似的に次式が成立す
る。
cI
ここで、係数a、b、cは、液滴および液相中での反応
速度定数より決定される定数である。また、mは、各金
属の腐食抵抗により異なり、腐食実験により決定される
定数である。そして、気相中のヨウ素濃度が一定と考え
ると、液滴表面に酸化皮膜のできていないときは、液滴
内のI2濃度は、気・液平衡の関係から一定と考えられ
るので、上記(1)、 (21式は解析的に解け、CI
−、CI。
速度定数より決定される定数である。また、mは、各金
属の腐食抵抗により異なり、腐食実験により決定される
定数である。そして、気相中のヨウ素濃度が一定と考え
ると、液滴表面に酸化皮膜のできていないときは、液滴
内のI2濃度は、気・液平衡の関係から一定と考えられ
るので、上記(1)、 (21式は解析的に解け、CI
−、CI。
およびC1,の解より、腐食減量ΔW〔グラム/ml
)は、次式で求まる。
)は、次式で求まる。
ΔW ’i A−e ” −・” (3)G
=m/ (1+B/ CI z ) −・=(4)こ
こで、A、G、m、Bは定数であり、AはCI、−、C
I−およびCI!より求まる。mは上述のとおりであり
、Bは温度が定まれば平衡の計算より求まる。また、C
I、は気相中のヨウ素濃度が検出されれば求まるもので
ある。
=m/ (1+B/ CI z ) −・=(4)こ
こで、A、G、m、Bは定数であり、AはCI、−、C
I−およびCI!より求まる。mは上述のとおりであり
、Bは温度が定まれば平衡の計算より求まる。また、C
I、は気相中のヨウ素濃度が検出されれば求まるもので
ある。
また、液滴表面に酸化皮膜ができないときは、腐食量は
、上記(3)、 (4)式からも分かるように、時間と
ともに指数的に増大する。一方、空気から構成され、酸
素も含むような気相中では液滴表面に酸化皮膜が生成さ
れ、液滴内への気相中ヨウ素の移行が低下し、液滴内■
、−イオンの濃度が抑制される。この酸化皮膜の形成に
よる液滴内のヨウ素Itの濃度をC1!1とすると、C
+taは次式で表現される。
、上記(3)、 (4)式からも分かるように、時間と
ともに指数的に増大する。一方、空気から構成され、酸
素も含むような気相中では液滴表面に酸化皮膜が生成さ
れ、液滴内への気相中ヨウ素の移行が低下し、液滴内■
、−イオンの濃度が抑制される。この酸化皮膜の形成に
よる液滴内のヨウ素Itの濃度をC1!1とすると、C
+taは次式で表現される。
C+zA−oc+z (De−” +V) −・・
・(5)この(5)式で◎C11は1−0における液滴
内I2濃度を特徴づける量であり、気相中ヨウ素濃度が
求まれば決定されるものである。また、D、U。
・(5)この(5)式で◎C11は1−0における液滴
内I2濃度を特徴づける量であり、気相中ヨウ素濃度が
求まれば決定されるものである。また、D、U。
■は酸化皮膜の組成厚さ等により決定される定数で実験
的に決定できる。
的に決定できる。
以上の結果より、酸化皮膜がある場合、ない場合におい
ても腐食減量ΔWは、各種の係数を実験的に決定するこ
とにより、時間もおよび初期ヨウ素濃度。C1□の実験
式として表すことができる。
ても腐食減量ΔWは、各種の係数を実験的に決定するこ
とにより、時間もおよび初期ヨウ素濃度。C1□の実験
式として表すことができる。
さらに、第5図には、気相中ヨウ素濃度C,!。
と、液滴内初期(酸化皮膜のない状B)ヨウ素濃度。C
I!との関係が示されている。これにより、濃縮しない
気相中ヨウ素濃度C+Z*を計測することにより、金属
表面の液滴間の腐食性I、−イオンの濃度度合いを求め
ることができる。
I!との関係が示されている。これにより、濃縮しない
気相中ヨウ素濃度C+Z*を計測することにより、金属
表面の液滴間の腐食性I、−イオンの濃度度合いを求め
ることができる。
したがって、これらのデータを上記式を利用して、腐食
の状態を定性的に求めることができ、これを装置にした
ものが本発明である。
の状態を定性的に求めることができ、これを装置にした
ものが本発明である。
本発明の腐食検知装置は、次のようにして腐食進展曲線
を求める。すなわち、前記気相中のハロゲン分子濃度は
、ハロゲン濃度分析装置により測定され、演算処理部に
与えられる。また、雰囲気内の温度は、温度センサによ
り検出され、演算処理部に与えられる。さらに、所定の
反応速度定数、材質の指定等は、入力部を介して演算処
理部に入力される。演算処理部は、前記ハロゲン濃度分
析装置からのハロゲン分子濃度データ、温度センサから
の温度データから液滴中ヨウ素濃度C1,を求め、温度
データからBを演算し、Bと所定の反応速度定数と材質
の指定とにより、定数(a、b。
を求める。すなわち、前記気相中のハロゲン分子濃度は
、ハロゲン濃度分析装置により測定され、演算処理部に
与えられる。また、雰囲気内の温度は、温度センサによ
り検出され、演算処理部に与えられる。さらに、所定の
反応速度定数、材質の指定等は、入力部を介して演算処
理部に入力される。演算処理部は、前記ハロゲン濃度分
析装置からのハロゲン分子濃度データ、温度センサから
の温度データから液滴中ヨウ素濃度C1,を求め、温度
データからBを演算し、Bと所定の反応速度定数と材質
の指定とにより、定数(a、b。
c、A、G)を決定し、これら定数と液滴中ヨウ素濃度
C1,とを基に液滴中のCI−、CI。
C1,とを基に液滴中のCI−、CI。
を演算し、これら演算結果から(3)、 (4)式を用
いて腐食減量ΔWを求め、これに時間tを指定すること
により、各ハロゲン分子濃度をパラメータとして時間に
対する腐食の進展状況を示す腐食進展曲線を演算する。
いて腐食減量ΔWを求め、これに時間tを指定すること
により、各ハロゲン分子濃度をパラメータとして時間に
対する腐食の進展状況を示す腐食進展曲線を演算する。
前記演算処理部で求めた腐食進展曲線は、出力部で表示
される。
される。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明に係る腐食検知装置の実施例を示す構
成図である。
成図である。
第1図において、容器1は、その内部で液相部2と、気
相部3とに別れている。容器1の下部にはI2ガス入口
配管4が接続され、その上部にはI8ガス出口配管5が
接続されている。ヨウ素等ハロゲンガスはI2ガス入口
配管4を介して容器1に入り、液相部2を通過し、気相
部3に出る。
相部3とに別れている。容器1の下部にはI2ガス入口
配管4が接続され、その上部にはI8ガス出口配管5が
接続されている。ヨウ素等ハロゲンガスはI2ガス入口
配管4を介して容器1に入り、液相部2を通過し、気相
部3に出る。
その際に一部のハロゲンガスは、液相部2で吸収される
。さらに、容器1の内部の気相部3に出たハロゲンガス
の一部は、容器1の内壁に付着L タ液滴に吸着される
。その他の大部分のハロゲンガスは、1.ガス出口配管
5から次の系統に流出することになる。
。さらに、容器1の内部の気相部3に出たハロゲンガス
の一部は、容器1の内壁に付着L タ液滴に吸着される
。その他の大部分のハロゲンガスは、1.ガス出口配管
5から次の系統に流出することになる。
I2ガス出口配管5には、バルブ7を設けたItガス検
出配管6を介して気相中ヨウ素濃度分析部8が接続され
ている。ハロゲンガスは、バルブ7を開くことにより1
2ガス出口配管5から12ガス検出配管6を通り、気相
中ヨウ素濃度分析部8に導かれるようになっている。気
相中ヨウ素濃度分析部8は、その計測したヨウ素濃度デ
ータを演算処理部10に与える。ハロゲンガスの温度は
、温度センサ9で計測され、演算処理部10に供給され
る。この演算処理部lOには、所定の定数等を入力する
入力部11が接続されている。
出配管6を介して気相中ヨウ素濃度分析部8が接続され
ている。ハロゲンガスは、バルブ7を開くことにより1
2ガス出口配管5から12ガス検出配管6を通り、気相
中ヨウ素濃度分析部8に導かれるようになっている。気
相中ヨウ素濃度分析部8は、その計測したヨウ素濃度デ
ータを演算処理部10に与える。ハロゲンガスの温度は
、温度センサ9で計測され、演算処理部10に供給され
る。この演算処理部lOには、所定の定数等を入力する
入力部11が接続されている。
また、演算処理部10には、その出力を表示等する出力
部(記録計12、デイスプレィ13)が接続されている
。
部(記録計12、デイスプレィ13)が接続されている
。
演算処理部10は、各種の演算をする処理部100と、
処理プログラムや所定の定数や計算結果等を記憶する記
憶部101と、入力インターフェース103.104と
、記録計インターフェース105と、デイスプレィイン
ターフェース106とから構成されている。気相中ヨウ
素濃度分析部8からのデータおよび温度センサ9からの
データは、人力インターフェース103を介して処理部
100に取り込まれる。入力部11からの入力データは
、入力インターフェース104を介して処理部100に
取り込まれるようになっている。処理部100からの出
力は、記録計インターフェース105を介して記録計1
2に、デイスプレィインターフェース106を介してデ
イスプレィ13に与えられるようにしである。処理部1
00は、記憶部101に記憶されているプログラムに従
って各種の演算処理等を実行する。
処理プログラムや所定の定数や計算結果等を記憶する記
憶部101と、入力インターフェース103.104と
、記録計インターフェース105と、デイスプレィイン
ターフェース106とから構成されている。気相中ヨウ
素濃度分析部8からのデータおよび温度センサ9からの
データは、人力インターフェース103を介して処理部
100に取り込まれる。入力部11からの入力データは
、入力インターフェース104を介して処理部100に
取り込まれるようになっている。処理部100からの出
力は、記録計インターフェース105を介して記録計1
2に、デイスプレィインターフェース106を介してデ
イスプレィ13に与えられるようにしである。処理部1
00は、記憶部101に記憶されているプログラムに従
って各種の演算処理等を実行する。
人力部11は、材質mを与える入力装置111と、反応
速度定数を入力する入力装置112と、時間りを指定す
る人力装置113とからなる。
速度定数を入力する入力装置112と、時間りを指定す
る人力装置113とからなる。
上述した実施例の作用を説明する。
第2図は本実施例により処理フローを説明するために示
したフローチャートである。
したフローチャートである。
まず、バルブ7を開くと、■、ガス出口配管5からI2
ガス検出配管6を介して日つ素ガスが気相中ヨウ素濃度
分析部8に入力される(ステップ200)。気相中ヨウ
素濃度分析部8に取り込まれたヨウ素ガスは、気相中ヨ
ウ素濃度分析部8によりそのヨウ素ガス濃度が検出され
る(ステップ201)、また、ヨウ素ガスの温度データ
は、温度センサ9により求まる(ステップ203)、ヨ
ウ素ガスの濃度データと温度データは、演算処理部10
に入力される。演算処理部10は、ヨウ素ガス濃度デー
タと、温度データとから液滴中It濃度C1,を演算す
る(ステップ204)、一方、演算処理部10は、温度
データにより、液滴内反応の平衡定数Bを演算する(ス
テップ205)。
ガス検出配管6を介して日つ素ガスが気相中ヨウ素濃度
分析部8に入力される(ステップ200)。気相中ヨウ
素濃度分析部8に取り込まれたヨウ素ガスは、気相中ヨ
ウ素濃度分析部8によりそのヨウ素ガス濃度が検出され
る(ステップ201)、また、ヨウ素ガスの温度データ
は、温度センサ9により求まる(ステップ203)、ヨ
ウ素ガスの濃度データと温度データは、演算処理部10
に入力される。演算処理部10は、ヨウ素ガス濃度デー
タと、温度データとから液滴中It濃度C1,を演算す
る(ステップ204)、一方、演算処理部10は、温度
データにより、液滴内反応の平衡定数Bを演算する(ス
テップ205)。
さらに、入力部11から液滴の付着した材質mを演算処
理部10に対して指定するとともに(ステップ206)
、入力部11から左方向および右方向の反応速度定数を
演算処理部10に入力する(ステップ207)。演算処
理部10は、これらのデータから演算係数(a、、b、
c、A、G)を決定する(ステップ20日)。
理部10に対して指定するとともに(ステップ206)
、入力部11から左方向および右方向の反応速度定数を
演算処理部10に入力する(ステップ207)。演算処
理部10は、これらのデータから演算係数(a、、b、
c、A、G)を決定する(ステップ20日)。
演算処理部10は、前記ステップ204で求めたC1.
と、前記ステップ208で求めた係数から液滴中のCI
−、CI、−を演算する。この演算ステップで上記(1
)、 (2)、 (41式が実行されたことに相当する
。
と、前記ステップ208で求めた係数から液滴中のCI
−、CI、−を演算する。この演算ステップで上記(1
)、 (2)、 (41式が実行されたことに相当する
。
次に、計算されだ液滴中CI−およびCI3を用いて液
滴の付着した材質mに対する腐食減量ΔWの演算が行わ
れる(ステップ210)、この演算ステップで上記(3
)式が実行されたこと相当する。
滴の付着した材質mに対する腐食減量ΔWの演算が行わ
れる(ステップ210)、この演算ステップで上記(3
)式が実行されたこと相当する。
そして、演算処理部10は、入力部11から時間もが指
定されると(ステップ211)、次には第6図に示す腐
食減量経時変化曲線が作成される(ステップ212)、
これらのデータは、演算処理部10内の記憶部101に
記憶しておくとともに、記録計12に記録しくステップ
213)、またデイスプレィ13にも表示される(ステ
ップ214)。
定されると(ステップ211)、次には第6図に示す腐
食減量経時変化曲線が作成される(ステップ212)、
これらのデータは、演算処理部10内の記憶部101に
記憶しておくとともに、記録計12に記録しくステップ
213)、またデイスプレィ13にも表示される(ステ
ップ214)。
このように動作して第6図に示す腐食減量経時変化曲線
を得ることができる。
を得ることができる。
ところで、液相部2内と、気相部3で金属容器1内表面
に付着した液滴内とには、時間の経過とともに腐食性の
I、″イオンが濃縮される。特に、液量の少ない気相部
3の液滴内には、数百時間経過後には数十パーセントも
I、−イオンが濃縮し、腐食環境の厳しい状態にある。
に付着した液滴内とには、時間の経過とともに腐食性の
I、″イオンが濃縮される。特に、液量の少ない気相部
3の液滴内には、数百時間経過後には数十パーセントも
I、−イオンが濃縮し、腐食環境の厳しい状態にある。
これに対して気相部3の気相中ヨウ素濃度は、10〜1
100pp程度であって、液相部2と較べると非常に少
ない濃度である。
100pp程度であって、液相部2と較べると非常に少
ない濃度である。
これは、I2ガス検出配管6に入力される気相中ヨウ素
濃度が10〜1100pp程度であることを意味し、気
相中ヨウ素濃度分析部8のヨウ素による劣化が最小限に
抑えることができる。
濃度が10〜1100pp程度であることを意味し、気
相中ヨウ素濃度分析部8のヨウ素による劣化が最小限に
抑えることができる。
また、ヨウ素ガス温度は、気相中ヨウ素濃度分析部8に
おいて測定することにより、気相中ヨウ素濃度分析部8
でのヨウ素ガスの温度が変化しても、これに対応して腐
食減量ΔWを算出することができる。
おいて測定することにより、気相中ヨウ素濃度分析部8
でのヨウ素ガスの温度が変化しても、これに対応して腐
食減量ΔWを算出することができる。
さらに、運転されるヨウ素ガス濃度があらかじめ分かっ
ているのであるなら、その期間内の腐食量を予想するこ
とができる。また、前流のヨウ素発生条件が一定である
ならば、ヨウ素濃度の分析も−、二度でよい。
ているのであるなら、その期間内の腐食量を予想するこ
とができる。また、前流のヨウ素発生条件が一定である
ならば、ヨウ素濃度の分析も−、二度でよい。
以上のように本発明によれば、ヨウ素等ハロゲン元素を
含む湿潤気相および液相中での金属の腐食減量を、気相
中のヨウ素分子等のハロゲン元素の濃度を測定するとと
もに、そのハロゲン元素の温度を測定し、これらデータ
と各種の定数とを基に腐食減量を求められるようにした
ので、腐食環境下での腐食の発生および進展状況を検知
することができるという効果かある。
含む湿潤気相および液相中での金属の腐食減量を、気相
中のヨウ素分子等のハロゲン元素の濃度を測定するとと
もに、そのハロゲン元素の温度を測定し、これらデータ
と各種の定数とを基に腐食減量を求められるようにした
ので、腐食環境下での腐食の発生および進展状況を検知
することができるという効果かある。
第1図は本発明の実施例を示すブロック図、第2図は同
実施例の作用を示すフローチャート、第3図および第4
図は腐食の原理を説明するための説明図、第5図は気相
中ヨウ素ガス濃度と気相中液滴内初期ヨウ素濃度との関
係を示す線図、第6図は各気相中ヨウ素ガス濃度に対す
る気相中腐食減量の時間的変化を示す線図、第7図は再
処理オフガス系の系統図である。 1・・・・・・容器、2・・・・・・液相部、3・・・
・・・気相部、8・・・・・・気相中ヨウ素濃度分析部
(ハロゲン濃度分析装置)、9・・・・・・温度センサ
、10・・・・・・演算処理眼11・・・・・・入力部
、12・・・・・・記録計(出力部)、13・・・・・
・デイスプレィ(出力部)。 代理人 弁理士 西 元 勝 − 第2 第3 図 第4 図 第5図 酸中ヨウ素力゛2Jl& Cl29 fppml第6 図 BlvJ間t fhrl
実施例の作用を示すフローチャート、第3図および第4
図は腐食の原理を説明するための説明図、第5図は気相
中ヨウ素ガス濃度と気相中液滴内初期ヨウ素濃度との関
係を示す線図、第6図は各気相中ヨウ素ガス濃度に対す
る気相中腐食減量の時間的変化を示す線図、第7図は再
処理オフガス系の系統図である。 1・・・・・・容器、2・・・・・・液相部、3・・・
・・・気相部、8・・・・・・気相中ヨウ素濃度分析部
(ハロゲン濃度分析装置)、9・・・・・・温度センサ
、10・・・・・・演算処理眼11・・・・・・入力部
、12・・・・・・記録計(出力部)、13・・・・・
・デイスプレィ(出力部)。 代理人 弁理士 西 元 勝 − 第2 第3 図 第4 図 第5図 酸中ヨウ素力゛2Jl& Cl29 fppml第6 図 BlvJ間t fhrl
Claims (1)
- (1)ハロゲン元素を含む気相および液相の雰囲気内の
金属腐食環境下にある金属材料の腐食状態を検出する装
置において、前記気相中のハロゲン分子濃度を測定する
ハロゲン濃度分析装置と、前記雰囲気内の温度を検出す
る温度センサと、所定の定数等を入力する入力部と、前
記ハロゲン濃度分析装置からのハロゲン分子濃度データ
、温度センサからの温度データ、および入力部からの各
種定数等のデータに基づき、各ハロゲン分子濃度をパラ
メータとして時間に対する腐食の進展状況を示す腐食進
展曲線を演算する演算処理部と、前記演算処理部で求め
た腐食進展曲線を表示する出力部とからなることを特徴
とする腐食検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2639489A JPH02205752A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 腐食検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2639489A JPH02205752A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 腐食検知装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02205752A true JPH02205752A (ja) | 1990-08-15 |
Family
ID=12192331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2639489A Pending JPH02205752A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 腐食検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02205752A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216232A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Tohoku Univ | 応力腐食割れ及び孔食等の発生検知方法 |
-
1989
- 1989-02-04 JP JP2639489A patent/JPH02205752A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216232A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Tohoku Univ | 応力腐食割れ及び孔食等の発生検知方法 |
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