JPH02206038A - 有機フォトクロミック材料記録層を有する光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は有機フォトクロミック材料の記録層を有する光
ディスクに関する。

背景技術 現在実用化されている光記録媒体には、ヒートモード記
録の追記型光ディスク（ＤＲＡＷ）がある。かかる追記
型光ディスクの記録膜にはＴｅ系無機材料や有機色素の
薄膜が用いられ、レーザ光が持つ熱エネルギーによる記
録膜の穴形成、バブル形成等の物理変化として情報が記
録される。ヒートモード記録では、記録膜における熱拡
散によって記録密度やその制御が制限され、レーザ光の
集束に限界がある故、記録密度の上限が指摘されている
。

また、光記録媒体には、記録、再生、消去が何度も自由
にできるヒートモード記録の書き換え型光ディスク（Ｅ
ＤＲＡＷ）もある。書き換え自在型の光記録には、合金
の記録膜の磁気光学効果を利用した光磁気記録や、合金
の記録膜の結晶及び非結晶間の相変化を利用した相変化
記録がある。

更に、ヒートモード記録より高い記録密度を達成し得る
ＥＤＲＡＷ型の光記録媒体として、有機フォトクロミッ
ク材料を記録膜に用いる光デイスりも開発されつつある
。

有機フォトクロミック材料は光に応答して着色、消色を
繰り返す化合物である。これは、例えば、ある物質があ
る波長の光を吸収し、準安定状態に変化して着色し、一
方、光を遮断して熱的に又は別の波長の光の照射によっ
て再び元の物質に戻るものである。

有機フォトクロミック材料としてはチオインジゴのよう
な光による異性化反応を用いるものや、開環及び閉環反
応、酸化還元反応を用いるスピロピラン、フルギド等が
ある。

有機フォトクロミック材料の如き可逆的な光及び熱異性
化反応等を利用した書き換え可能な光ディスクは、第２
図に示す如く、有機フォトクロミック材料を含んだ記録
膜２を基盤１上に薄膜として形成させて作製する。この
光ディスクへの情報の記録は、レンズ１０を含む光学系
を介してレーザー光により光及び熱エネルギーをスポッ
ト状に記録膜に与え積極的に異性化反応等を生ぜしめ、
色調変化又は屈折率変化したスポット列を形成して行わ
れる。この光ディスクからの情報の再生は、別の波長の
光の照射でスポット列を読み出すことで行われる。

しかしながら、記録膜２には実際に異性化反応等を起こ
す有機フォトクロミック材料の他にこれを担持する樹脂
等が含まれており、各々が融点及び軟化点を持っている
。このため記録時のレーザ光の熱により記録膜自体の形
状変化６を伴ってしまい色調変化を消去しても物理的痕
跡として残ってしまうので、再生時のノイズの原因とな
っている。

発明の概要 本発明は、記録再生時のレーザ光照射による記録層の形
状変化を抑えた有機フォトクロミック材料記録層を有す
る光ディスクを提供することにある。

本発明の光ディスクは、透明基盤と、前記透明基盤上に
形成された有機フォトクロミック材料からなる記録層と
、前記記録層上に形成された保護層と、からなることを
特徴とする。

実施例 以下に本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。

第１図は実施例の光ディスクの部分拡大断面を示す。透
明基盤１上に記録層２、保護層３及び保護基盤４が順に
積層されている。基盤１はＰＭＭＡ（ポリメチルメタク
リレート）又はＰＣ（ポリカーボネート）から形成され
る。記録層２は有機フォトクロミック材料の下式（１）
のスピロピランを含む樹脂層である。

Ｈ３ 保護層３は紫外線硬化型樹脂であって、ＰＭＭＡ又はＰ
Ｃからなる保護基盤４を記録層２上に接着する接着剤層
として働いている。

かかる光ディスクを作製するには、まず、ＰＭＭＡ等か
らなる透明基盤を用意する。かかる透明基盤の主面上に
は予めプリピット、プリアドレス５が転写、形成されて
いる。

次に、記録層となるべき有機フォトクロミック材料を含
むコート溶液を調整する。かかる溶液は、上記（１）式
の６−二トロー１．３’、３’トリメチルスピロ［２Ｈ
−１−ベンゾピラン−２゜２′−インドリン］が５部と
、電気化学工業製の「デンカ１００ＯＷＪ　　（商標）
が１０部と、シクロへキサノン及びテトラヒドロフラン
の（２：　１）溶液が１００部とからなるものである。

次に調整したコート溶液をスピンコード法により透明基
盤の主面へ塗布し該塗布層を乾燥、定着させ基盤上に厚
さ１μｍの有機フォトクロミック材料記録層を形成する
。

次に記録層上に液状の紫外線硬化型樹脂である日立化成
■ｒＯＶ−１００８Ｊを塗布し厚さ５〜１０μｍの保護
層を形成し、その上に１．　２ｍｍ厚のＰＭＭＡ製保護
基盤を載せ、高圧水銀灯による紫外線の照射によって紫
外線硬化型樹脂の保護層を硬化させ記録層を基盤間に挾
み込む。

以上の工程を経て得た光ディスクにレンズ１０を含む光
学系を介して基盤１側から紫外線を照射したところスピ
ロピランによる発色とそれに伴う波長５５０ｎｍ付近の
光の吸収を観測し、ＨｅＮｅレーザーによるスポット照
射による色調変化が形状変化を伴わずに起こることを確
認した。また、このスポット照射部分に紫外線を照射す
ると再び元の発色状態に戻り、Ｈｅ−Ｎｅレーザーによ
るスポット照射を行なうことができた。

また、上記実施例では、透明基盤１と、有機フォトクロ
ミック材料からなる記録層２と、保護層３と、保護基盤
４を順に積層させた光ディスクから形成されていたが、
他の実施例では、Ｐ　ＭＭＡ等からなる保護基盤を省略
して、透明基盤１と、有機フォトクロミック材料記録層
２と、保護層３と、の三層構造の光ディスクとすること
もできる。

この場合を保護層の膜厚を５０〜１００μｍとすれば、
レーザ光照射時の熱による記録膜自体の形状変化を抑制
することができる。

発明の効果 本発明によれば、記録層を透明基盤上に薄膜化させた後
、記録層上に紫外線硬化型樹脂の保護層を形成して、記
録層を強制的に保護層及び透明基盤間に挾持しているの
で、レーザ光による記録を行った際の記録層の形状変化
を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光ディスクの拡大部分断面図、第２図
は従来の有機フォトクロミック材料記録層を有する光デ
ィスクの拡大部分断面図である。 主要部分の符号の説明 １・・・・・・透明基盤 ２・・・・・・有機フォトクロミック材料記録層３・・
・・・・保護層 ４・・・・・・保護基盤 出願人　　　パイオニア株式会社

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基盤と、前記透明基盤上に形成された有機フ
   ォトクロミック材料からなる記録層と、前記記録層上に
   形成された保護層と、からなることを特徴とする光ディ
   スク。
2. （２）前記透明基盤はＰＭＭＡ又はＰＣからなることを
   特徴とする請求項１記載の光ディスク。
3. （３）前記透明基盤にはプリピットが形成されているこ
   とを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
4. （４）前記保護層は紫外線硬化型樹脂からなることを特
   徴とする請求項１記載の光ディスク。