JPH02206624A - Synthetic resin molded article coated with silicon dioxide and production thereof - Google Patents
Synthetic resin molded article coated with silicon dioxide and production thereofInfo
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- JPH02206624A JPH02206624A JP1028294A JP2829489A JPH02206624A JP H02206624 A JPH02206624 A JP H02206624A JP 1028294 A JP1028294 A JP 1028294A JP 2829489 A JP2829489 A JP 2829489A JP H02206624 A JPH02206624 A JP H02206624A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野1
本発明は、二酸化ケイ素被膜を形成した被覆合成樹脂成
形体に関し、さらに詳しくは、二酸化ケイ素被膜の密着
性に優れ、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性などの表面状態
が改善された被覆合成樹脂成形体およびその製造法に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application 1] The present invention relates to a coated synthetic resin molded article on which a silicon dioxide coating is formed, and more specifically, the silicon dioxide coating has excellent adhesion, wear resistance, and weather resistance. , relates to a coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as chemical resistance, and a method for producing the same.
合成樹脂成形体の表面を改質するために、二酸化ケイ素
などの金属酸化物や金属窒化物等で被覆する技術は公知
である。Techniques for coating synthetic resin molded bodies with metal oxides such as silicon dioxide, metal nitrides, etc. in order to modify the surface thereof are well known.
従来、金属酸化物等を被覆する方法としては、真空蒸着
、スパッタ、イオンブレーティング、プラズマCVDな
と各種の方法が知られているが、これらの被膜形成法で
は、特別の設備を要したり、大型成形体や複雑な形状の
成形体表面に被膜を形成することが困難であるなどの難
点を有している。また、合成樹脂成形体と被膜との密着
性が不充分であるという問題がある。Conventionally, various methods such as vacuum evaporation, sputtering, ion blating, and plasma CVD have been known as methods for coating metal oxides, etc., but these film forming methods require special equipment or However, it is difficult to form a coating on the surface of a large molded product or a molded product with a complicated shape. Another problem is that the adhesion between the synthetic resin molded body and the coating is insufficient.
最近、二酸化ケイ素被膜を直接合成樹脂成形体表面に被
覆するのではな(、予め合成樹脂成形体表面に付着性良
好なケイ素含有被膜を第1次被膜(ブライマー)として
被覆し、さらにその上に該第1次被膜と付着性良好な二
酸化ケイ素被膜を作成する方法が提案されている(特開
昭61−12734号公報)、すなわち、この方法は、
合成樹脂成形体に、下記一般式(1)で示されるケイ素
化合物、それらの加水分解物、およびコロイダルシリカ
からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素化合物
を被覆・硬化させて第1次被膜とした後、該第1次被膜
つき合成樹脂成形体と二酸化ケイ素の過飽和状態のケイ
フッ化水素酸溶液とを接触させて第1次被膜上に二酸化
ケイ素被膜を形成させることを特徴とする被覆合成樹脂
成形体の製造方法である。Recently, it is no longer necessary to directly coat the surface of a synthetic resin molded body with a silicon dioxide film. A method of creating a silicon dioxide film with good adhesion to the primary film has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 12734/1983), that is, this method:
A primary coating is formed by coating and curing a synthetic resin molded article with at least one silicon compound selected from the group consisting of silicon compounds represented by the following general formula (1), their hydrolysates, and colloidal silica. After that, the synthetic resin molded article with the primary coating is brought into contact with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide to form a silicon dioxide coating on the primary coating. This is a method for manufacturing a resin molded body.
R’nS i (R”L−0CI)
(式中R1は炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
、フッ素または塩素を有する有機基であり、R2はアル
コキシ基、アルコキシアルコキシ基、アセトキシ基およ
び塩素元素から選ばれる1種もしくは、複数の結合・基
であり、nはO〜4である。)
この方法によれば、前記従来法と比較して耐久性のよい
被膜を得ることができ、しかも塗布浸漬法を使用するこ
とができるため、大型形状あるいは複雑な形状の合成樹
脂成形体にも適用可能である。しかしながら、この方法
では、二酸化ケイ素被膜とブライマーとの密着性は良い
けれども、合成樹脂成形体とブライマーとの密着性はな
お不充分である。その理由は、ブライマーとして使用す
る前記ケイ素化合物と合成樹脂成形体との間に強固な化
学的結合がほとんど形成されないためであると推定され
る。そのために、前記方法では、二酸化ケイ素被膜の合
成樹脂成形体に対する密着性は未だ充分ではない。R'nS i (R"L-0CI) (wherein R1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, , R2 is one or more bonds/groups selected from an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, and a chlorine element, and n is O to 4.) According to this method, compared to the conventional method described above, Since a coating with good durability can be obtained by applying the coating method and a dipping method can be used, it can also be applied to synthetic resin moldings of large or complex shapes.However, this method Although the adhesion between the silicon coating and the brimer is good, the adhesion between the synthetic resin molded body and the brimer is still insufficient.The reason is that there is a strong bond between the silicon compound used as the brimer and the synthetic resin molded body. This is presumed to be due to the fact that almost no chemical bonds are formed.For this reason, in the method described above, the adhesion of the silicon dioxide coating to the synthetic resin molded article is still insufficient.
ところで、合成樹脂成形体の中でも、ポリカーボネート
樹脂成形体は、透明で耐衝撃性に優れ、かつ耐熱性がよ
いけれども、表面が傷つき摩耗し易く、また、アルカリ
に侵されやすいという欠点を有している。従来、各種の
表面硬化コーティング法が提案されているが、二酸化ケ
イ素被膜との密着性が強固な被覆ポリカーボネート樹脂
成形体は得られていない。By the way, among synthetic resin moldings, polycarbonate resin moldings are transparent, have excellent impact resistance, and have good heat resistance, but they have the drawbacks of being easily scratched and worn on the surface, and easily attacked by alkali. There is. Conventionally, various surface hardening coating methods have been proposed, but a coated polycarbonate resin molded article with strong adhesion to a silicon dioxide coating has not been obtained.
さらに、ポリカーボネートと同様繰り返し単位中にカル
ボニル結合を有するエンジニアリングプラスチックとし
ては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミ
ド、ポリエーテルケトン、ポリイミドなど多くのポリマ
ーが開発され、実用化されているが、それらのポリマー
からなる合成樹脂成形体を二酸化ケイ素被覆して、表面
を改質するための改善された方法は提案されていない。Furthermore, as engineering plastics that have carbonyl bonds in their repeating units like polycarbonate, many polymers have been developed and put into practical use, such as polyethylene terephthalate, polyamide, polyether ketone, and polyimide. No improved method for surface modification of synthetic resin molded bodies by coating them with silicon dioxide has been proposed.
〔発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、密着性に優れた二酸化ケイ素膜を有す
る合成樹脂成形体を提供することにある。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide a synthetic resin molded article having a silicon dioxide film with excellent adhesion.
また、本発明の目的は、特に、繰り返し単位中にカルボ
ニル結合を有するポリマーを主体とする合成樹脂成形体
と二酸化ケイ素被膜の両者に密着性の優れたブライマー
を用いた二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体を提供するこ
とにある。In addition, it is particularly an object of the present invention to provide a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article using a brimer having excellent adhesion to both a synthetic resin molded article mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in its repeating unit and a silicon dioxide coating. Our goal is to provide the following.
さらに、本発明の目的は、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性
などの表面状態が改善された二酸化ケイ素被覆合成樹脂
成形体を提供することにある。A further object of the present invention is to provide a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as abrasion resistance, weather resistance, and chemical resistance.
本発明者らは、前記従来技術の有する問題点を克服する
ために鋭意研究した結果、ポリカーボネートなど繰り返
し単位中にカルボニル結合を有するポリマーを主体とす
る合成樹脂成形体を、第1アミ、ノ基もしくは第21ミ
ノ基を有するアミノスチレン誘導体モノマーと、α、β
−不飽和酸の酸無水物モノマー、シリル化プタジエンモ
ノマーおよび側鎖にアルコキシシランを有し、二重結合
を有するモノマーから選択される少なくとも1種のコモ
ノマーを含有する有機溶剤溶液と接触させた後、該合成
樹脂成形体表面上に付着した前記モノマー成分を共重合
させて、前記モノマー成分の共重合体を主成分どする第
1次被覆層を形成し、次いで該第1次被覆層上に二酸化
ケイ素の被膜を形成することにより、第1次被覆層(ブ
ライマー)が合成樹脂成形体と二酸化ケイ素被膜の両者
と強固に結合し、その結果、密着性に優れた二酸化ケイ
素被膜を有する被覆合成樹脂成形体の得られることを見
出し、その知見に基づいて本発明を完成するに至った。As a result of intensive research in order to overcome the problems of the prior art, the present inventors have developed a synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in its repeating unit, such as polycarbonate, with primary amine, non-groups. or an aminostyrene derivative monomer having the 21st amino group and α, β
- contacted with an organic solvent solution containing at least one comonomer selected from unsaturated acid anhydride monomers, silylated putadiene monomers, and monomers having an alkoxysilane in the side chain and having double bonds; Thereafter, the monomer components adhering to the surface of the synthetic resin molded body are copolymerized to form a first coating layer containing a copolymer of the monomer components as a main component, and then on the first coating layer. By forming a silicon dioxide film on the material, the primary coating layer (brimer) is firmly bonded to both the synthetic resin molding and the silicon dioxide film, resulting in a coating with a silicon dioxide film with excellent adhesion. It was discovered that a synthetic resin molded article can be obtained, and the present invention was completed based on this knowledge.
すなわち、本発明の要旨は、次ぎのとおりである。 That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) (A)繰り返し単位中にカルボニル結合を有す
るポリマーを主体とする合成樹脂成形体、(B)第1ア
ミノ基もしくは第2アミノ基を有するアミノスチレン誘
導体モノマーと、α、β−不飽和酸の酸無水物モノマー
、シリル化プタジエンモノマーおよび側鎖にアルコキシ
シランを有し、二重結合を有するモノマーから選択され
る少なくとも1種のコモノマーとの共重合体を主成分と
する第1次被覆層、および(C)該第1次被覆層上に形
成された二酸化ケイ素被覆層からなることを特徴とする
二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体。(1) (A) A synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in its repeating unit, (B) an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group, and α, β-unsaturated A primary component mainly comprising a copolymer with at least one comonomer selected from an acid anhydride monomer, a silylated putadiene monomer, and a monomer having an alkoxysilane in a side chain and a double bond. A silicon dioxide-coated synthetic resin molded article comprising: a coating layer; and (C) a silicon dioxide coating layer formed on the first coating layer.
(2)繰り返し単位中にカルボニル結合を有するポリマ
ーを主体とする合成樹脂成形体を、第1アミノ基もしく
は第2アミノ基を有するアミノスチレン誘導体モノマー
と、α、β−不飽和酸の酸無水物モノマー、シリル化プ
タジエンモノマーおよび側鎖にアルコキシシランを有し
、二重結合を有するモノマーから選択される少なくとも
1種のコそツマ−を含有する有機溶剤溶液と接触させた
後、該合成樹脂成形体表面上に付着した前記モノマー成
分を共重合させて、前記モノマー成分の共重合体を主成
分とする第1次被覆層を形成し1次いで該第1次被覆層
上に二酸化ケイ素の被膜を形成することを特徴とする二
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の製造法。(2) A synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in the repeating unit, an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group, and an acid anhydride of an α,β-unsaturated acid. After contacting with an organic solvent solution containing a monomer, a silylated butadiene monomer, and at least one type of monomer selected from a monomer having an alkoxysilane in a side chain and having a double bond, the synthetic resin is The monomer components adhered to the surface of the molded article are copolymerized to form a first coating layer mainly composed of a copolymer of the monomer components, and then a silicon dioxide coating is formed on the first coating layer. 1. A method for producing a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article, characterized in that it forms a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
以下、本発明の各構成要素について説明する。Each component of the present invention will be explained below.
(合成樹脂成形体)
本発明で使用する合成樹脂成形体は、繰り返し単位中に
カルボニル結合を有するポリマーを主体とするものであ
る。カルボニル結合を有するポリマーを用いることによ
り、前記特定の共重合体を主成分とする第1次被覆層と
合成樹脂成形体表面とが強固に結合する。(Synthetic resin molded article) The synthetic resin molded article used in the present invention is mainly composed of a polymer having carbonyl bonds in repeating units. By using a polymer having a carbonyl bond, the primary coating layer containing the above-mentioned specific copolymer as a main component and the surface of the synthetic resin molded article are firmly bonded.
繰り返し単位中にカルボニル結合を有するポリマーとし
ては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、全芳香族ポリ
エステル、ポリウレタン、ポリエーテルケトン、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリアリーレンスルフィドケト
ン、ポリアミド、ポリイミドなどを挙げることができる
。Examples of polymers having a carbonyl bond in the repeating unit include polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, wholly aromatic polyester, polyurethane, polyetherketone, polyetheretherketone, polyarylene sulfide ketone, polyamide, polyimide, etc. be able to.
カルボニル結合を有するポリマーとは、ケトン基のみな
らず、酸アミド結合、エステル結合など分子構造中に(
>C=O)結合を有するポリマーを意味する。Polymers with carbonyl bonds include not only ketone groups but also acid amide bonds, ester bonds, etc. in the molecular structure (
>C=O) means a polymer having a bond.
これらのポリマーは、それぞれ単独または相互にブレン
ドして、あるいは本発明の目的を損なわない範囲で他の
ポリマー、例えば、ABS樹脂、ポリスチレン、ポリア
クリロニトリル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
メチルメタクリレートなど各種熱可塑性樹脂を少量成分
としてブレンドして用いてもよい。These polymers may be used alone or in a blend with each other, or may be used in combination with other polymers, such as various thermoplastic resins such as ABS resin, polystyrene, polyacrylonitrile, polyethylene, polypropylene, and polymethyl methacrylate, to the extent that the object of the present invention is not impaired. may be used in a blend as a minor component.
また、合成樹脂成形体の形状は特に限定されず、大型品
から複雑な形状を有するものまで任意の形状の成形体が
使用できる。Further, the shape of the synthetic resin molded product is not particularly limited, and molded products of any shape can be used, from large products to those with complicated shapes.
(アミノスチレン誘導体モノマー)
本発明で使用する第1アミノ基もしくは第2アミノ基を
有するアミノスチレン誘導体モノマーとは、O−アミノ
スチレン、m−アミノスチレン、p−アミノスチレン、
p−N−ラウリルアミノスチレン、p−N−ステアリル
アミノスチレン、p−N−メチルアミノスチレン、p−
N−エチルアミノスチレン等のアミノスチレンの誘導体
;p−ビニルベンジルアミノ、p−ビニルベンジルエチ
ルアミノ、m−ビニルベンジルアミノ等のベンジルアミ
ノの誘導体などである。(Aminostyrene derivative monomer) The aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group used in the present invention includes O-aminostyrene, m-aminostyrene, p-aminostyrene,
p-N-laurylaminostyrene, p-N-stearylaminostyrene, p-N-methylaminostyrene, p-
These include aminostyrene derivatives such as N-ethylaminostyrene; benzylamino derivatives such as p-vinylbenzylamino, p-vinylbenzylethylamino, and m-vinylbenzylamino.
これらのアミノスチレン誘導体は、それぞれ単独で、あ
るいは2種以上を組み合わせて用いることができる。These aminostyrene derivatives can be used alone or in combination of two or more.
(コモノマー)
本発明において、前記アミノスチレン誘導体モノマーと
共重合体を形成するコモノマーとして、α、β−不飽和
酸の酸無水物モノマー、シリル化プタジエンモノマーお
よび側鎖にアルコキシシランを有し、二重結合を有する
モノマーから選択される少なくとも1種のコモノマーを
使用する。(Comonomer) In the present invention, as a comonomer forming a copolymer with the aminostyrene derivative monomer, an acid anhydride monomer of an α,β-unsaturated acid, a silylated putadiene monomer, and an alkoxysilane having an alkoxysilane in the side chain, At least one comonomer selected from monomers having double bonds is used.
α −の モノマー
本発明で使用するα、β−不飽和酸の酸無水物モノマー
としては、例えば、アクリル酸無水物、メタクリル酸無
水物、イタコン酸無水物、無水マレイン酸、ジメチル無
水マレイン酸などを挙げることができる。α-monomer Examples of α,β-unsaturated acid anhydride monomers used in the present invention include acrylic anhydride, methacrylic anhydride, itaconic anhydride, maleic anhydride, dimethyl maleic anhydride, etc. can be mentioned.
シリル ブ ジエンモノマー
本発明で使用するシリル化プタジエンモノマーとしては
、例えば、1−(トリメトキシシリル)1.3−ブタジ
ェン、1−(トリエトキシシリル)1,3−ブタジェン
などを挙げることができる。Silyl butadiene monomer Examples of the silylated butadiene monomer used in the present invention include 1-(trimethoxysilyl)1,3-butadiene, 1-(triethoxysilyl)1,3-butadiene, and the like. .
本発明で使用する側鎖にアルコキシシランを有し、二重
結合を有するモノマーとしては、例えば、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクロイルキ
シプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン等を挙げることがで
きる。Examples of monomers having an alkoxysilane in the side chain and a double bond used in the present invention include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acroyloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyl Trimethoxysilane and the like can be mentioned.
なお、これらのコモノマーは、それぞれ単独で、あるい
は同種または異種のモノマーを複数種組み合わせて使用
してもよいつ
(第1次被覆層の形成方法)
本発明においては、合成樹脂成形体表面に、まず、第1
アミノ基もしくは第2アミノ基を有するアミノスチレン
誘導体モノマーと、α、β−不飽和酸の酸無水物モノマ
ー、シリル化プタジエンモノマーおよび側鎖にアルコキ
シシランを有し、二重結合を有するモノマーから選択さ
れる少な(とも1種のコモノマーとの共重合体を主成分
とする第1次被覆層(ブライマー)を形成し、次いで該
第1次被覆店上に二酸化ケイ素被覆層を形成する。予め
前記第1次被覆層を形成しておくことにより、合成樹脂
成形体と第1次被覆層とが強固に結合し、かつ、第1次
被覆層と二酸化ケイ素被覆層とが強固に結合する。In addition, these comonomers may be used alone or in combination of two or more of the same or different types of monomers (method for forming the first coating layer). First, the first
From an aminostyrene derivative monomer having an amino group or a secondary amino group, an acid anhydride monomer of an α,β-unsaturated acid, a silylated putadiene monomer, and a monomer having an alkoxysilane in the side chain and a double bond. A first coating layer (brimer) mainly composed of a copolymer with one selected comonomer is formed, and then a silicon dioxide coating layer is formed on the first coating layer. By forming the first coating layer, the synthetic resin molded article and the first coating layer are firmly bonded, and the first coating layer and the silicon dioxide coating layer are also firmly bonded.
ブライマー゛9゛の5 ゛
第1アミノ基もしくは第2アミノ基を有するアミノスチ
レン誘導体モノマーと、α、β−不飽和酸の酸無水物モ
ノマー、シリル化プタジエンモノマーおよび側鎖にアル
コキシシランを有し、二重結合を有するモノマーから選
択される少なくとも1種のコモノマーとを有機溶剤に溶
解させて、ブライマー溶液を調製する。Brimer 9-5 An aminostyrene derivative monomer having a primary or secondary amino group, an acid anhydride monomer of an α,β-unsaturated acid, a silylated putadiene monomer, and an alkoxysilane having an alkoxysilane in the side chain. and at least one comonomer selected from monomers having a double bond in an organic solvent to prepare a brimer solution.
有機溶剤としては、特に限定されず、例えば、n−ヘキ
サン、シクロヘキサン、ジオキサン、イソプロピルアル
コール、メチルエチルケトンなど前記モノマー成分を溶
解させることのできる有機溶剤であれば任意の溶剤を用
いることができる。The organic solvent is not particularly limited, and any organic solvent that can dissolve the monomer component, such as n-hexane, cyclohexane, dioxane, isopropyl alcohol, and methyl ethyl ketone, can be used.
また、有機溶剤として、合成樹脂成形体を溶解ないし膨
潤し得る溶剤(良溶剤)、または良溶剤と非(貧)溶剤
との混合溶剤を用いて、成形体表面を若干溶解ないし膨
潤させると、成形体とブライマー層との密着性が更に強
固になる。In addition, when the surface of the molded body is slightly dissolved or swollen using a solvent (good solvent) that can dissolve or swell the synthetic resin molded body as an organic solvent, or a mixed solvent of a good solvent and a non-(poor) solvent, The adhesion between the molded body and the brimer layer becomes even stronger.
アミツノスチレン誘導体モノマーと前記コモノマーとの
使用割合は、各モノマー成分の種類にもよるが、通常、
モル比で、30 : 70〜70:30、好ましくは4
0 : 60〜60 : 40の割合で使用する。また
、上記モノマー成分の他に、共重合可能な他のモノマー
を少量成分として用いてもよい。The ratio of the amitunostyrene derivative monomer and the above-mentioned comonomer depends on the type of each monomer component, but usually,
Molar ratio: 30:70 to 70:30, preferably 4
Use at a ratio of 0:60 to 60:40. In addition to the above monomer components, other copolymerizable monomers may be used as minor components.
重合触媒として、所望によりパーオキサイド化合物やア
ゾ化合物などのラジカル重合開始剤を添加してもよい、
また、紫外線照射法により共重合させる場合には、光増
感剤を添加してもよい。As a polymerization catalyst, a radical polymerization initiator such as a peroxide compound or an azo compound may be added if desired.
Furthermore, when copolymerizing by ultraviolet irradiation, a photosensitizer may be added.
ブライマー 1゛ の
このブライマー溶液を合成樹脂成形体に、室温(23℃
前後)ないしはモノマー成分の重合が生じない程度の温
度(40℃程度まで)で、接触させる。接触させる方法
としては、合成樹脂成形体をブライマー溶液中に浸漬す
る方法、ブライマー溶液を合成樹脂成形体表面に流下さ
せる方法、あるいはスピンコーターやロールコータ−等
の塗布法など任意の方法が採用できる。大型または複雑
な形状の合成樹脂成形体の場合には、浸漬法が好ましい
。Add 1 ml of this brimer solution to a synthetic resin molded body at room temperature (23°C).
before and after) or at a temperature (up to about 40° C.) that does not cause polymerization of the monomer components. Any method can be used to make the contact, such as immersing the synthetic resin molded body in a brimer solution, letting the brimer solution flow down onto the surface of the synthetic resin molded body, or applying with a spin coater or roll coater. . In the case of large-sized or complex-shaped synthetic resin molded articles, the dipping method is preferred.
合成樹脂成形体をブライマー溶液に接触させた後、合成
樹脂成形体の表面に付着したモノマー成分を加熱して、
合成樹脂成形体のカルボニル結合とアミノスチレン誘導
体モノマー中の第1アミノ基もしくは第2アミノ基とを
化学反応させて結合させ、同時にまたは次いでモノマー
成分を共重合させるか、あるいは加熱して合成樹脂成形
体のカルボニル結合とアミノスチレン誘導体モノマーと
を化学結合させ、次いで電子線または紫外線を照射して
共重合させる。電子線または紫外線照射法は、耐熱性(
熱変形温度)の低い合成樹脂を用いた成形体に対して好
適である。電子線または紫外線照射法による共重合にお
いては、ブライマー溶液中に重合触媒を添加しなくても
よい。紫外線照射法による場合には、光増感剤を添加す
ることが好ましい。After bringing the synthetic resin molded body into contact with the brimer solution, the monomer components adhering to the surface of the synthetic resin molded body are heated.
The carbonyl bond of the synthetic resin molding and the primary amino group or secondary amino group in the aminostyrene derivative monomer are bonded by a chemical reaction, and the monomer components are copolymerized simultaneously or subsequently, or the synthetic resin is molded by heating. The carbonyl bond of the body and the aminostyrene derivative monomer are chemically bonded, and then copolymerized by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. Electron beam or ultraviolet irradiation methods are heat resistant (
It is suitable for molded articles using synthetic resins with low heat distortion temperatures. In copolymerization by electron beam or ultraviolet irradiation, it is not necessary to add a polymerization catalyst to the brimer solution. When using the ultraviolet irradiation method, it is preferable to add a photosensitizer.
前記重合触媒を用いる場合は、例えば、80℃〜150
℃程度の高温で、数分から1間接程度加熱すればよい。When using the above polymerization catalyst, for example, 80°C to 150°C
It may be heated at a high temperature of about ℃ for several minutes to about 1 hour.
もちろん、これらの温度および加熱時間は、合成樹脂の
種類、成形物の形状あるいはモノマー成分や重合触媒の
種類等によって適宜変更して実施できる。加熱手段とし
ては、熱風オーブンなどがある。電子線照射の場合は、
浸漬処理した合成樹脂成形体の表面に数Mrad〜十数
Mrad程度のエネルギーを数分ないし数十分間照射す
ればよい。また、紫外線照射の場合には、例えば。Of course, these temperatures and heating times can be changed as appropriate depending on the type of synthetic resin, the shape of the molded product, the monomer components, the type of polymerization catalyst, etc. Examples of heating means include a hot air oven. In the case of electron beam irradiation,
The surface of the immersed synthetic resin molded body may be irradiated with energy of about several Mrad to tens of Mrad for several minutes to several tens of minutes. In addition, in the case of ultraviolet irradiation, for example.
高圧水銀ランプを用いて、波長域250〜450nmの
連続した紫外線を照射すればよい、もちろん、本発明に
おいて、加熱手段や電子線照射法、紫外線照射法は、特
定の手段に限定されるものではない。It is sufficient to irradiate continuous ultraviolet rays in the wavelength range of 250 to 450 nm using a high-pressure mercury lamp.Of course, in the present invention, the heating means, electron beam irradiation method, and ultraviolet irradiation method are not limited to specific means. do not have.
ブライマーの平均厚み(膜厚)は、単分子膜程度から数
μm程度まで適宜定め得るが、通常、0.01μm〜数
μm程度の範囲が好ましい。The average thickness (film thickness) of the brimer can be appropriately determined from about a monomolecular film to about several micrometers, but is usually preferably in the range of about 0.01 micrometers to several micrometers.
ニ ケイ の
前記共重合体を主成分とする第1次被覆層上に二酸化ケ
イ素の被膜を形成する方法としては、シランガスを用い
たCVD法、石英板をターゲットとしたスパッタ法、有
機ケイ素化合物の有機溶媒を用いたディッピング法、ま
たは二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液
中に浸漬し、二酸化ケイ素被膜を析出させる析出法など
がある。この中では析出法が作業が簡単で、しかも均一
な被膜を形成することができるため好ましい。Methods for forming a silicon dioxide film on the primary coating layer mainly composed of the above-mentioned copolymer of NiK include a CVD method using silane gas, a sputtering method using a quartz plate as a target, and a method using an organosilicon compound. Examples include a dipping method using an organic solvent, and a precipitation method in which silicon dioxide is immersed in a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution to deposit a silicon dioxide film. Among these, the precipitation method is preferred because it is easy to work with and can form a uniform film.
この析出法については、特開昭61−12734号公報
に詳細に開示されている公知の方法が適用できる。二酸
化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液とは、ケ
イフッ化水素酸溶液に二酸化ケイ素(シリカゲル、エア
ロジル、シリカガラス、その他二酸化ケイ素含有物など
)を溶解させた後、水または試薬(ホウ酸、塩化アルミ
ニウムなど)を添加し、二酸化ケイ素の過飽和状態とし
たものである。この処理液にブライマー処理した合成樹
脂成形体を接触させればよい。接触は、合成樹脂成形体
を処理液中に浸漬するか成形体表面に処理液を流下させ
るなどの方法があるが、均一な被膜を形成するためには
浸漬法が好ましい。As for this precipitation method, a known method disclosed in detail in JP-A-61-12734 can be applied. A supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide is made by dissolving silicon dioxide (silica gel, aerosil, silica glass, other silicon dioxide-containing materials, etc.) in a hydrosilicic acid solution, and then using water or a reagent (boric acid, Aluminum chloride, etc.) is added to create a supersaturated state of silicon dioxide. The synthetic resin molded body subjected to the brimer treatment may be brought into contact with this treatment liquid. The contact may be carried out by immersing the synthetic resin molded body in the treatment liquid or by allowing the treatment liquid to flow down onto the surface of the molded body, but the immersion method is preferable in order to form a uniform coating.
処理液中のケイフッ化水素酸の濃度は、1〜2上2モル
2が好ましく、特に2モル/I2より濃いケイフッ化水
素酸水溶液に二酸化ケイ素を飽和させた後、水で希釈し
て1〜2モル/iの濃度としたものが、被膜形成速度が
早く、効率よく被覆が行なえるので望ましい。合成樹脂
成形体を処理液に浸漬中、連続的にホウ酸水溶液を添加
混合し、また、処理液を循環させ、フィルターで濾過す
ることが、均質な被膜を効率よ(得るために好ましい。The concentration of hydrofluorosilicic acid in the treatment solution is preferably 1 to 2 mol/I2, and in particular, after saturating silicon dioxide in an aqueous solution of hydrofluorosilicic acid with a concentration higher than 2 mol/I2, the concentration is diluted with water to give a concentration of 1 to 2 mol/I2. A concentration of 2 mol/i is desirable because the film formation rate is fast and coating can be carried out efficiently. While the synthetic resin molded article is immersed in the treatment solution, it is preferable to continuously add and mix the boric acid aqueous solution, circulate the treatment solution, and filter it through a filter in order to efficiently obtain a homogeneous coating.
二酸化ケイ素の膜厚は、使用目的に応じて適宜窓めるこ
とができるが、通常、数lOO人〜数i、ooo人程度
で表面改質の目的を達成することができる。The thickness of the silicon dioxide film can be adjusted appropriately depending on the purpose of use, but the purpose of surface modification can usually be achieved with a thickness of several lOO to several i,000.
■
従来のシランカップリング剤などのケイ素化合物による
プライマー処理では、ブライマー(第1次被覆[)と合
成樹脂成形体表面との間に強固な化学結合は生じていな
い。(2) In conventional primer treatment using a silicon compound such as a silane coupling agent, no strong chemical bond is formed between the primer (primary coating) and the surface of the synthetic resin molded article.
これに対し、繰り返し単位中にカルボニル結合を有する
ポリマーを主体とする合成樹脂成形体を、第1アミノ基
もしくは第2アミノ基を有するアミノスチレン誘導体モ
ノマーおよび前記コモノマーを含有する有機溶剤溶液に
接触させた後、該合成樹脂成形体表面上に付着した前記
モノマー成分を共重合させて、前記モノマー成分の共重
合体を主成分とする第1次被覆層を形成する本発明の方
法では、合成樹脂成形体の表面において、合成樹脂中の
カルボニル結合(>C=O> とアミノスチレン誘導体
モノマー中の第1アミノ基もしくは第2アミノ基とが化
学反応して化学結合が形成され、同時にまたは次いで前
記モノマー成分を共重合させることにより、得られる共
重合体が成形体表面に強固に結合した被膜を形成するも
のと推定される。On the other hand, a synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in a repeating unit is brought into contact with an organic solvent solution containing an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group and the comonomer. After that, in the method of the present invention, the monomer components adhering to the surface of the synthetic resin molded article are copolymerized to form a primary coating layer mainly composed of a copolymer of the monomer components. On the surface of the molded article, the carbonyl bond (>C=O>) in the synthetic resin and the primary amino group or secondary amino group in the aminostyrene derivative monomer chemically react to form a chemical bond, and simultaneously or subsequently It is presumed that by copolymerizing the monomer components, the resulting copolymer forms a film firmly bonded to the surface of the molded article.
そして、第1次被覆層を形成した合成樹脂成形体を、例
えば、二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶
液に浸漬させると、該水溶液が酸性であるため、コモノ
マーとしてα、β−不飽和酸の酸無水物モノマーを使用
した場合には、前記共重合体中の酸無水物結合が加水分
解されてジカルボン酸となる。また、コモノマーとして
、シリル化プタジエンモノマーまたは側鎖にアルコキシ
シランを有し、二重結合を有するモノマーを用いた場合
には、共重合体中のアルコキシシラン残基、例えば、−
3L (OCH−)が加水分解されて−Si (OH
)−どなる。このジカルボン酸のOH基または一5i(
OH)、のOH基が、第1次被覆層表面に析出したSi
(OH)4がSingへの縮重合を行なう過程において
、縮重合反応に加わるため、第1次被iaと二酸化ケイ
素被膜とが化学的結合によって強固に密着するものと推
定できる。When the synthetic resin molded article on which the first coating layer has been formed is immersed, for example, in a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide, the comonomer is α,β-unsaturated because the aqueous solution is acidic. When an acid anhydride monomer is used, the acid anhydride bond in the copolymer is hydrolyzed to form a dicarboxylic acid. In addition, when a silylated putadiene monomer or a monomer having an alkoxysilane in the side chain and a double bond is used as a comonomer, the alkoxysilane residue in the copolymer, for example, -
3L (OCH-) is hydrolyzed to -Si (OH
) - yell. The OH group of this dicarboxylic acid or -5i (
OH), the OH group of Si is deposited on the surface of the primary coating layer.
In the process of polycondensation to Sing, (OH)4 participates in the polycondensation reaction, so it can be assumed that the primary coating and the silicon dioxide film are firmly adhered to each other by chemical bonding.
このように、本発明の第1次被yi層は、合成樹脂成形
体および二酸化ケイ素被覆層の両者と強固に結合するた
め、密着性に優れた二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体を
得ることができる。As described above, since the primary coating layer of the present invention is strongly bonded to both the synthetic resin molded article and the silicon dioxide coating layer, it is possible to obtain a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article with excellent adhesion. .
(以下余白)
〔実施例]
以下、本発明について実施例および比較例を挙げて具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない。なお、実施例および比較例における密
着性試験など物性の測定方法は、次のとおりである。(Margins below) [Examples] The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited only to these Examples. The methods for measuring physical properties such as adhesion tests in Examples and Comparative Examples are as follows.
く物性の測定方法〉
L1ユニス上;
二酸化ケイ素被覆合成樹脂平板面に粘着テープを貼りつ
け、90度方向に急激に剥す。Method for Measuring Physical Properties> On L1 Unis; Attach adhesive tape to the surface of the silicon dioxide-coated synthetic resin flat plate and rapidly peel it off in a 90 degree direction.
二酸化ケイ素被膜が剥れるとX、剥れない場合を○とし
た。また、一部剥れた場合は△とした。When the silicon dioxide film peeled off, it was marked as "X", and when it did not peel off, it was marked as "○". In addition, when a part of the film peeled off, it was marked as △.
肚侯上:
二酸化ケイ素被覆合成樹脂平板面をカーボンアーク型の
ウェザオメーター(WE−Sun−DC;東洋理化株式
会社製)中で200時間暴露した後、密着性テストを行
なった。評価方法は密着性テストと同じ。The surface of the silicon dioxide-coated synthetic resin flat plate was exposed for 200 hours in a carbon arc type Weatherometer (WE-Sun-DC; manufactured by Toyo Rika Co., Ltd.), and then an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
肚鼻水上:
二酸化ケイ素被覆合成樹脂平板面を熱水中で1時間煮沸
した後、密着性テストを行なった。評価方法は密着性テ
ストと同じ。On the nose: After boiling the silicon dioxide-coated synthetic resin flat plate in hot water for 1 hour, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
旺然上:
二酸化ケイ素被覆合成樹脂平板面をオーブン中80℃で
50時間放置した後、密着性テストを行なった。評価方
法は密着性テストと同じ。After leaving the silicon dioxide-coated synthetic resin flat plate in an oven at 80° C. for 50 hours, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
肚温上:
二酸化ケイ素被覆合成樹脂平板面を恒温恒温機にて65
℃、95%RHで3週間放置した後、密着性テストを行
なった。評価方法は密着性テストと同じ。On the stomach: Heat the silicon dioxide-coated synthetic resin flat plate in a constant temperature machine for 65 minutes.
After being left at 95% RH for 3 weeks, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
[実施例1]
p−アミノスチレン100fii1部、無水マレイン酸
70重量部およびベンジルパーオキサイド10重量部を
n−ヘキサン50重量部に溶解してプライマーを調製し
た。[Example 1] A primer was prepared by dissolving 1 part of p-aminostyrene, 70 parts by weight of maleic anhydride, and 10 parts by weight of benzyl peroxide in 50 parts by weight of n-hexane.
このブライマー溶液に、ポリカーボネート平板(縦10
0mm、横100mm、厚さ2mm)を1分間浸漬させ
た後、引き上げて、80℃で30分、熱風乾燥機中にて
加熱して、ポリカーボネート中のカルボニル基とp−ア
ミノスチレンのアミノ基との反応および共重合反応を行
なった。得られた第1次被覆層の膜厚は、1μmであっ
た。Add a polycarbonate plate (vertical 10 mm) to this brimer solution.
0mm, width 100mm, thickness 2mm) was immersed for 1 minute, then pulled out and heated at 80°C for 30 minutes in a hot air dryer to separate the carbonyl groups in the polycarbonate and the amino groups of p-aminostyrene. reaction and copolymerization reaction were carried out. The thickness of the obtained primary coating layer was 1 μm.
上記処理を行なったポリカーボネート平板上に、特開昭
61−12734号公報に示されているのと同様の二酸
化ケイ素被膜製造装置を用いて、二酸化ケイ素被膜を析
出させた。A silicon dioxide film was deposited on the polycarbonate flat plate subjected to the above treatment using a silicon dioxide film manufacturing apparatus similar to that shown in JP-A-61-12734.
すなわち、二酸化ケイ素被膜製造装置は、外槽と内槽か
ら成る浸漬槽を有し、内槽と外槽の間には水が満しであ
る。この水は温度が35℃となるようヒーターで加熱さ
れ、かつ、温度分布均一化のため攪拌機で攪拌されてい
る。内槽は前部、中部、後部から成り各部には工業用シ
リカゲル粉末を二酸化ケイ素の供給源として、二酸化ケ
イ素を溶解、飽和させた2、0モル/忍の濃度のケイフ
ッ化水素酸水溶液を水を用いて倍に希釈した3℃の反応
液が満たしである。ここで、循環ポンプを作動させ内槽
後部の反応液を一定量ずつ放出してフィルターで濾過し
、内槽前部へ戻す処理液循環を開始した。That is, the silicon dioxide coating manufacturing apparatus has a dipping tank consisting of an outer tank and an inner tank, and the space between the inner tank and the outer tank is filled with water. This water is heated with a heater to a temperature of 35° C., and is stirred with a stirrer to make the temperature distribution uniform. The inner tank consists of a front part, a middle part, and a rear part, and each part is filled with an aqueous solution of hydrofluorosilicic acid at a concentration of 2.0 mol/min, which is saturated with silicon dioxide, using industrial silica gel powder as a source of silicon dioxide. It is filled with a 3°C reaction solution diluted to 20% using . At this point, the circulation pump was activated to discharge a certain amount of the reaction liquid from the rear of the inner tank, filter it with a filter, and start circulating the treated liquid back to the front of the inner tank.
その後、0.5モル/βのホウ酸水溶液を連続的に内槽
後部に摘下し10時間保持した。この状態で反応液は適
度な二酸化ケイ素過飽和度を有する処理液となった。Thereafter, a 0.5 mol/β boric acid aqueous solution was continuously poured into the rear part of the inner tank and maintained for 10 hours. In this state, the reaction solution became a treatment solution having an appropriate degree of silicon dioxide supersaturation.
ここでフィルターの絶対除去率を1.5μmおよび処理
液循[ffiを240mff/分(処理液全量が約3ρ
であるので、循環量は8%/分である)に調整した。Here, the absolute removal rate of the filter is set to 1.5 μm, and the treatment liquid circulation [ffi is set to 240 mff/min (the total amount of treatment liquid is approximately 3μm).
Therefore, the circulation rate was adjusted to 8%/min).
そして、上記処理を行なったポリカーボネート平板を内
槽中部に垂直に浸漬し、前記条件(0,5モル/βのホ
ウ酸水溶液を0.2mj27分で添加し、8%/分の循
環を行ない、1.5μmのフィルターで濾過する)で1
6時間保持した。Then, the polycarbonate plate subjected to the above treatment was immersed vertically in the middle of the inner tank, and the above conditions (0.5 mol/β boric acid aqueous solution was added at 0.2 mj 27 minutes, circulation was performed at 8%/min, 1. Filter with a 1.5 μm filter)
It was held for 6 hours.
得られた被覆ポリカーボネート平板の二酸化ケイ素被覆
層の膜厚は約5,000人であった。The thickness of the silicon dioxide coating layer on the resulting coated polycarbonate plate was approximately 5,000 mm.
二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の特性について測定し
た結果を第1表に示す。Table 1 shows the results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
[実施例2]
合成樹脂成形体として、ポリウレタン平板(縦1.00
mm、横100mm、厚さ1.6mm)を用いた以外は
実施例1と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリウレタ
ン平板を得た。[Example 2] A polyurethane flat plate (length 1.00
A polyurethane plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 1, except that a polyurethane plate having a width of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 1.6 mm was used.
[実施例3]
p−N−メチルアξノスチレン100重量部、無水マレ
イン酸70重量部および2.2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル2重量部をイソプロピルアルコール50mm部
に溶解してブライマー溶液を調製した。[Example 3] A brimer solution was prepared by dissolving 100 parts by weight of p-N-methylanostyrene, 70 parts by weight of maleic anhydride, and 2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile in 50 mm parts of isopropyl alcohol. did.
このブライマー溶液に、ポリエーテルエーテルケトン平
板(縦100mm、横100mm、厚さ2mm)を1分
間浸漬させた後、引き上げて、80℃で10分間、熱風
乾燥機中にて加熱して、ポリエーテルエーテルケトンの
カルボニル結合とp−N−メチルアミノスチレンのNH
2基と化学反応させ、次いで温度を150”Cに上昇さ
せ、さらに10分間保持して共重合反応を行なった。得
られた第1次被覆層の膜厚は、0.8μmであった。A polyether ether ketone flat plate (length 100 mm, width 100 mm, thickness 2 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then taken out and heated in a hot air dryer at 80°C for 10 minutes to remove the polyether Carbonyl bond of ether ketone and NH of p-N-methylaminostyrene
After that, the temperature was raised to 150''C and held for an additional 10 minutes to carry out a copolymerization reaction.The thickness of the obtained primary coating layer was 0.8 μm.
上記処理を行なったポリエーテルエーテルケトン平板上
に、実施例1と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリエ
ーテルエーテルケトン平板を得た。The above-treated polyetheretherketone flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyetheretherketone flat plate.
[実施例4]
p−アミノスチレン100重量部、無水マレイン酸70
重量部、ベンゾイン1重量部およびミヒラーケトン1重
量部をメチルエチルケトン50重量部に溶解してブライ
マーを調製した。[Example 4] 100 parts by weight of p-aminostyrene, 70 parts by weight of maleic anhydride
A brimer was prepared by dissolving 1 part by weight of benzoin and 1 part by weight of Michler's ketone in 50 parts by weight of methyl ethyl ketone.
このブライマー溶液に、ポリエチレンテレフタレート平
板(縦100mm、横100mm、厚さ1.6mm)を
1分間浸漬させた後、引き上げて、80℃で10分、熱
風乾燥機中にて加熱し、次いで2kwの高圧水銀ランプ
(ウシオ電機社製)にて2分間、波長域250〜450
nm (365nmを主波長とし、254.303.4
05.436nrnを効率よく放射)で連続した紫外線
を照射した。得られた第1次被覆層の膜厚は、1μmで
あった。A polyethylene terephthalate flat plate (length: 100 mm, width: 100 mm, thickness: 1.6 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then taken out, heated at 80°C for 10 minutes in a hot air dryer, and then heated at 2 kW. 2 minutes with a high-pressure mercury lamp (manufactured by Ushio Inc.), wavelength range 250-450
nm (365 nm is the main wavelength, 254.303.4
Continuous ultraviolet rays were irradiated at 05.436 nrn (efficiently emitting radiation). The thickness of the obtained primary coating layer was 1 μm.
上記処理を行なった平板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリエチレンテレフタレート平板を得た
。The above-treated flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyethylene terephthalate flat plate.
〔実施例5J
α、β−不飽和酸の無水物モノマーとして、イタコン酸
無水物を用いた以外は実施例1と同様に処理して二酸化
ケイ素被覆ポリカーボネート平板を得た。[Example 5J A polycarbonate plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 1 except that itaconic anhydride was used as the α,β-unsaturated acid anhydride monomer.
[実施例6]
p−アミノスチレン100重量部、無水マレイン酸70
重量部およびベンジルパーオキサイド10重量部をn−
ヘキサン50重量部に溶解してブライマーを調製した。[Example 6] 100 parts by weight of p-aminostyrene, 70 parts by weight of maleic anhydride
parts by weight and 10 parts by weight of benzyl peroxide in n-
Brimer was prepared by dissolving it in 50 parts by weight of hexane.
このブライマー溶液をスピンコード法により、ポリカー
ボネート円板(外形130mm、内径25mm、厚さ1
.2mm)に塗布した。スピンコードの振り切り回数、
重ね塗りで、目的とする膜厚が得られるように塗布量を
調製した。次いで、塗布した円板を80℃で30分、熱
風乾燥機中にて加熱して、ポリカーボネート中のカルボ
ニル基とp−アミノスチレンのアミノ基との反応および
共重合反応を行なった。得られた第1次被覆層の膜厚は
、0.5μmであった。This brimer solution was applied to a polycarbonate disk (outer diameter 130 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1
.. 2 mm). Number of spin code swings,
The coating amount was adjusted so that the desired film thickness could be obtained by overcoating. Next, the coated disk was heated at 80° C. for 30 minutes in a hot air dryer to cause a reaction and a copolymerization reaction between the carbonyl groups in the polycarbonate and the amino groups of p-aminostyrene. The thickness of the obtained primary coating layer was 0.5 μm.
上記処理を行なった円板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート円板を得た。The disk subjected to the above treatment was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polycarbonate disk.
[比較例1]
比較のために、ブライマー処理を行なっていないポリカ
ーボネート樹脂成形体について、実施例1と同様にして
二酸化ケイ素被膜を形成させた。[Comparative Example 1] For comparison, a silicon dioxide film was formed in the same manner as in Example 1 on a polycarbonate resin molded body that had not been subjected to the brimer treatment.
実施例1〜6および比較例1で得られた二酸化ケイ素被
覆合成樹脂成形体の特性について測定した結果を一括し
て第1表に示す。Table 1 summarizes the results of measuring the characteristics of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded bodies obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1.
第1表から明らかなように、本発明の二酸化ケイ素被覆
合成樹脂成形体は、優れた密着性を有し、耐候性、耐熱
性、耐湿性等に優れている。As is clear from Table 1, the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article of the present invention has excellent adhesion and is excellent in weather resistance, heat resistance, moisture resistance, and the like.
これに対して、第1次被覆層を有しない比較例】の二酸
化ケイ素被覆合成樹脂成形体は、被覆層が容易に剥れ、
密着性に劣るものであった。On the other hand, in the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article of Comparative Example which does not have a primary coating layer, the coating layer easily peels off and
Adhesion was poor.
(以下余白)
[実施例7J
p−アミノスチレン100重量部、l−(トリメトキシ
シリル)−1,3−ブタジェン100重量部およびベン
ジルパーオキサイド10重量部をn−ヘキサン50重量
部に溶解してブライマー溶液を調製した。(Left below) [Example 7J 100 parts by weight of p-aminostyrene, 100 parts by weight of l-(trimethoxysilyl)-1,3-butadiene and 10 parts by weight of benzyl peroxide were dissolved in 50 parts by weight of n-hexane. A brimer solution was prepared.
このブライマー溶液に、ポリカーボネート平板(縦10
0mm、横100mm、厚さ2mm)を1分間浸漬させ
た後、引き上げて、80℃で30分、熱風乾燥機中にて
加熱して、ポリカーボネート中のカルボニル基とp−ア
ミノスチレンのアミノ基との反応および共重合反応を行
なった。得られた第1次被覆層の膜厚は、1μmであっ
た。Add a polycarbonate plate (vertical 10 mm) to this brimer solution.
0mm, width 100mm, thickness 2mm) was immersed for 1 minute, then pulled out and heated at 80°C for 30 minutes in a hot air dryer to separate the carbonyl groups in the polycarbonate and the amino groups of p-aminostyrene. reaction and copolymerization reaction were carried out. The thickness of the obtained primary coating layer was 1 μm.
上記処理を行なつた平板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート平板を得た。The flat plate subjected to the above treatment was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polycarbonate flat plate.
二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の特性について測定し
た結果を第2表に示す。Table 2 shows the results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
[実施例8]
合成樹脂成形体として、ポリウレタン平板(縦100m
m、横100 m m、厚さ1..6mm)を用いた以
外は実施例7と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリウ
レタン平板を得た。[Example 8] A polyurethane flat plate (100 m long) was used as a synthetic resin molded body.
m, width 100 mm, thickness 1. .. A polyurethane plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 7 except that a polyurethane plate having a thickness of 6 mm was used.
[実施例9]
p−N−メチルアミノスチレン100重量部、1−(ト
リメトキシシリル)−1,,3−ブタジェン100重量
部および2.2′−アゾビスイソブチロニトリル2重量
部をイソプロピルアルコール50重量部に溶解してブラ
イマー溶液を調製した。[Example 9] 100 parts by weight of p-N-methylaminostyrene, 100 parts by weight of 1-(trimethoxysilyl)-1,,3-butadiene, and 2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile were added to isopropyl A brimer solution was prepared by dissolving it in 50 parts by weight of alcohol.
このブライマー溶液に、ポリエーテルエーテルケトン平
板(縦100mm、横100mm、厚さ2mm)を1分
間浸漬させた後、引き上げて、80℃で10分間、熱風
乾燥機中にて加熱して、ポリエーテルエーテルケトンの
カルボニル結合とp−N−メチルアミノスチレンのNH
,基と化学反応させ、次いで温度を150℃に上昇させ
、さらに10分間保持して共重合反応を行なった。得ら
れた第1次被覆層の膜厚は、0.8μmであった。A polyether ether ketone flat plate (length 100 mm, width 100 mm, thickness 2 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then taken out and heated in a hot air dryer at 80°C for 10 minutes to remove the polyether Carbonyl bond of ether ketone and NH of p-N-methylaminostyrene
, groups, and then the temperature was raised to 150° C. and held for an additional 10 minutes to carry out a copolymerization reaction. The thickness of the obtained primary coating layer was 0.8 μm.
上記処理を行なったポリエーテルエーテルケトン平板上
に、実施例1と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリエ
ーテルエーテルケトン平板を得た。The above-treated polyetheretherketone flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyetheretherketone flat plate.
[実施例10]
p−アミノスチレン100重量部、1−(トリメトキシ
シリル)−1,3−ブタジェン100重量部、ベンゾイ
ン1重量部およびミヒラーケトン1重量部をメチルエチ
ルケトン50重量部に溶解してプライマーを調製した。[Example 10] 100 parts by weight of p-aminostyrene, 100 parts by weight of 1-(trimethoxysilyl)-1,3-butadiene, 1 part by weight of benzoin and 1 part by weight of Michler's ketone were dissolved in 50 parts by weight of methyl ethyl ketone to prepare a primer. Prepared.
このブライマー溶液に、ポリエチレンテレフタレート平
板(縦100mm、横100mm、厚さ1.6mm)を
1分間浸漬させた後、引き上げで、80℃で10分、熱
風乾燥機中にて加熱し、次いで、実施例4と同様、2k
wの高圧水銀ランプにて2分間、波長域250〜450
nmで連続した紫外線を照射した。得られた第1次被覆
層の膜厚は、1umであった。A polyethylene terephthalate flat plate (length: 100 mm, width: 100 mm, thickness: 1.6 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then pulled out and heated in a hot air dryer at 80°C for 10 minutes. Similar to example 4, 2k
Wavelength range 250-450 for 2 minutes with W high-pressure mercury lamp.
Continuous ultraviolet rays were irradiated at nm. The thickness of the obtained primary coating layer was 1 um.
上記処理を行なった平板を実施例1と同様に処理し2て
二酸化ケイ素被覆ポリエチレンテ17フタレート平板を
得た。The above-treated flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyethylene tere-17 phthalate flat plate.
[実施例11]
p−アミノスチレン100重量部、1−(トリメトキシ
シリル)−1,3−ブタジェン100重量部およびベン
ジルパーオキサイド10重量部をn−ヘキサン50重量
部に溶解してブライマー溶液を調製した。[Example 11] 100 parts by weight of p-aminostyrene, 100 parts by weight of 1-(trimethoxysilyl)-1,3-butadiene, and 10 parts by weight of benzyl peroxide were dissolved in 50 parts by weight of n-hexane to prepare a brimer solution. Prepared.
このブライマー溶液をスピンコード法により、ポリカー
ボネート円板(外形130mm、内径25mm、厚さ1
.2mm)に塗布した。スピンコードの振り切り回数、
重ね塗りで、目的とする膜厚が得られるように塗布量を
調製した。次いで、塗布した円板を80℃で30分、熱
風乾燥機中にて加熱して、ポリカーボネート中のカルボ
ニル基とp−アミノスチレンのアミノ基との反応および
共重合反応を行なった。得られた第1次被覆層の膜厚は
、0.5μmであった。This brimer solution was applied to a polycarbonate disk (outer diameter 130 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1
.. 2 mm). Number of spin code swings,
The coating amount was adjusted so that the desired film thickness could be obtained by overcoating. Next, the coated disk was heated at 80° C. for 30 minutes in a hot air dryer to cause a reaction and a copolymerization reaction between the carbonyl groups in the polycarbonate and the amino groups of p-aminostyrene. The thickness of the obtained primary coating layer was 0.5 μm.
上記処理を行なった円板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート円板を得た。The disk subjected to the above treatment was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polycarbonate disk.
実施例7〜11で得られた二酸化ケイ素被覆合成樹脂成
形体の特性について測定した結果を一括して第2表に示
す。The results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded bodies obtained in Examples 7 to 11 are summarized in Table 2.
第2表から明らかなように、本発明の二酸化ケイ素被覆
合成樹脂成形体は、優れた密着性を有し、耐候性、耐熱
性、耐湿性等に優れている。As is clear from Table 2, the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article of the present invention has excellent adhesion and is excellent in weather resistance, heat resistance, moisture resistance, etc.
(以下余白)
[実施例12]
p−アミノスチレン100重量部、γ−メタクリロキシ
トリメトキシシラン130重量部およびベンジルパーオ
キサイド10重量部をn−ヘキサン50重量部に溶解し
てブライマー溶液を調製した。(The following is a blank space) [Example 12] A brimer solution was prepared by dissolving 100 parts by weight of p-aminostyrene, 130 parts by weight of γ-methacryloxytrimethoxysilane, and 10 parts by weight of benzyl peroxide in 50 parts by weight of n-hexane. .
このブライマー溶液に、ポリカーボネート平板(縦10
0mm、横100mm、厚さ2mm)を1分間浸漬させ
た後、引き上げて、80℃で30分、熱風乾燥機中にて
加熱して、ポリカーボネート中・のカルボニル基とp−
アミノスチレンのアミノ基との反応および共重合反応を
行なった。得られた第1次被覆層の膜厚は、1μmであ
った。Add a polycarbonate plate (vertical 10 mm) to this brimer solution.
0 mm, width 100 mm, thickness 2 mm) was immersed for 1 minute, then pulled out and heated at 80°C for 30 minutes in a hot air dryer to separate the carbonyl groups and p-
Reactions and copolymerization reactions with amino groups of aminostyrene were carried out. The thickness of the obtained primary coating layer was 1 μm.
上記処理を行なった平板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート平板を得た。The flat plate subjected to the above treatment was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polycarbonate flat plate.
二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の特性について測定し
た結果を第3表に示す。Table 3 shows the results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
[実施例13]
合成樹脂成形体として、ポリウレタン平板(縦100m
m、横100mm、厚さ1.6mrn)を用いた以外は
実施例12と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリウレ
タン平板を得た。[Example 13] A polyurethane flat plate (100 m long) was used as a synthetic resin molded body.
A polyurethane plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 12, except that a polyurethane plate having a width of 100 mm and a thickness of 1.6 mrn was used.
[実施例14]
p−N−メチルアミノスチレン100重量部、γ−メタ
クリロキシトリメトキシシラン130重量部および2.
2゛−アゾビスイソブチロニトリル2重量部をイソプロ
ピルア、ルコール50重量部に溶解してブライマー溶液
を調製した。[Example 14] 100 parts by weight of p-N-methylaminostyrene, 130 parts by weight of γ-methacryloxytrimethoxysilane, and 2.
A brimer solution was prepared by dissolving 2 parts by weight of 2'-azobisisobutyronitrile in 50 parts by weight of isopropyl alcohol.
このブライマー溶液に、ポリエーテルエーテルケトン平
板(縦100mm、横100mm、厚さ2mm)を1分
間浸漬させた後、引き上げて、80℃で10分間、熱風
乾燥機中にて加熱して、ポリエーテルエーテルケトンの
カルボニル結合とp−N−メチルアミノスチレンのNH
I基と化学反応させ、次いで温度を150℃に上昇させ
、さらに10分間保持して共重合反応を行なった。得ら
れた第1次被覆層の膜厚は、0.8gmであった。A polyether ether ketone flat plate (length 100 mm, width 100 mm, thickness 2 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then taken out and heated in a hot air dryer at 80°C for 10 minutes to remove the polyether Carbonyl bond of ether ketone and NH of p-N-methylaminostyrene
A chemical reaction was carried out with the I group, and then the temperature was raised to 150° C. and maintained for an additional 10 minutes to carry out a copolymerization reaction. The thickness of the obtained primary coating layer was 0.8 gm.
上記処理を行なったポリエーテルエーテルケトン平板上
に、実施例1と同様に処理して二酸化ケイ素被覆ポリエ
ーテルエーテルケトン平板を得た。The above-treated polyetheretherketone flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyetheretherketone flat plate.
[実施例15]
p−アミノスチレン100重量部、γ−メタクノロキシ
トリメトキシシラン130重量部、ベンゾイン1重量部
およびミヒラーケトン1重量部をメチルエチルケト25
0重量部に溶解してブライマーを調製した。[Example 15] 100 parts by weight of p-aminostyrene, 130 parts by weight of γ-methacnoloxytrimethoxysilane, 1 part by weight of benzoin and 1 part by weight of Michler's ketone were mixed with 25 parts by weight of methyl ethyl ketone.
Brimer was prepared by dissolving 0 parts by weight.
このブライマー溶液に、ポリエヂレンテレフタレート平
板(縦100mm、横100mm、厚さ1.6mm)を
1分間浸漬させた後、引き上げて、80℃で10分、熱
風乾燥機中にて加熱し、次いで、実施例4と同様、2k
wの高圧水銀ランプにて2分間、波長域250〜450
nmで連続した紫外線を照射した。得られた第1次被覆
層の膜厚は、1μmであった。A polyethylene terephthalate flat plate (length: 100 mm, width: 100 mm, thickness: 1.6 mm) was immersed in this brimer solution for 1 minute, then pulled out, heated at 80°C for 10 minutes in a hot air dryer, and then , similar to Example 4, 2k
Wavelength range 250-450 for 2 minutes with W high-pressure mercury lamp.
Continuous ultraviolet light was irradiated at nm. The thickness of the obtained primary coating layer was 1 μm.
上記処理を行なった平板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリエチレンテレフタレート平板を得た
。The above-treated flat plate was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polyethylene terephthalate flat plate.
[実施例16]
γ−メタクリロキシトリメトキシシランのかわりにビニ
ルアセトキシシランを130重量部用いた以外は、実施
例12と同様にして二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート
平板を得た。[Example 16] A polycarbonate plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 12, except that 130 parts by weight of vinyl acetoxysilane was used instead of γ-methacryloxytrimethoxysilane.
[実施例17]
p−アミノスチレン100重量部、γ−メタクリロキシ
トリメトキシシラン130重量部およびベンジルパーオ
キサイド10重量部をn−ヘキサン50重量部に溶解し
てブライマー溶液を調製した。[Example 17] A brimer solution was prepared by dissolving 100 parts by weight of p-aminostyrene, 130 parts by weight of γ-methacryloxytrimethoxysilane, and 10 parts by weight of benzyl peroxide in 50 parts by weight of n-hexane.
このブライマー溶液をスピンコード法により、ポリカー
ボネート円板(外形130mm、内径25mm、厚さ1
.2mm)に塗布した。スピンコードの振り切り回数、
重ね塗りで、目的とする膜厚が得られるように塗布量を
調製した。次いで、塗布した円板を80℃で30分、熱
風乾燥機中にて加熱して、ポリカーボネート中のカルボ
ニル基とp−アミノスチレンのアミノ基との反応および
共重合反応を行なった。得られた第1次被覆層の膜厚は
、O,FzLmであった。This brimer solution was applied to a polycarbonate disk (outer diameter 130 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1
.. 2 mm). Number of spin code swings,
The coating amount was adjusted so that the desired film thickness could be obtained by overcoating. Next, the coated disk was heated at 80° C. for 30 minutes in a hot air dryer to cause a reaction and a copolymerization reaction between the carbonyl groups in the polycarbonate and the amino groups of p-aminostyrene. The thickness of the obtained primary coating layer was O,FzLm.
上記処理を行なった円板を実施例1と同様に処理して二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート円板を得た。The disk subjected to the above treatment was treated in the same manner as in Example 1 to obtain a silicon dioxide-coated polycarbonate disk.
実施例12〜17で得られた二酸化ケイ素被覆合成樹脂
成形体の特性について測定した結果を一括して第3表に
示す。The results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded bodies obtained in Examples 12 to 17 are summarized in Table 3.
第3表から明らかなように、本発明の二酸化ケイ素被覆
合成樹脂成形体は、優れた密着性を有し、耐候性、耐熱
性、耐湿性等に優れている。As is clear from Table 3, the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article of the present invention has excellent adhesion, and is excellent in weather resistance, heat resistance, moisture resistance, etc.
(以下余白)
〔発明の効果〕
本発明によれば、第1アミノ基もしくは第2アミノ基を
有するアミノスチレン誘導体モノマーと、α、β−不飽
和酸の酸無水物モノマー、シリル化プタジエンモノマー
および側鎖にアルコキシシランを有し、二重結合を有す
るモノマーから選択される少なくとも1種のコモノマー
との共重合体を主成分とする第1次被覆層(ブライマー
層)を用いることにより、カルボニル結合を有する合成
樹脂成形体表面と二酸化ケイ素被膜の両方に密着性の優
れたブライマー層を有する二酸化ケイ素被覆合成樹脂成
形体を得ることができる。(The following is a blank space) [Effects of the Invention] According to the present invention, an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group, an acid anhydride monomer of an α,β-unsaturated acid, and a silylated putadiene monomer Carbonyl It is possible to obtain a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article having a brimer layer with excellent adhesion on both the bonded synthetic resin molded surface and the silicon dioxide coating.
そして、本発明の二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体は、
二酸化ケイ素被膜との密着性、表面硬度、耐候性、耐薬
品性、透湿性、吸湿性などが大幅に改善された成形体で
あるから、例えば、光磁気ディスク用基板や磁気ディス
ク用基板、車や電車の窓ガラスの代用としての合成樹脂
基板をはじめ広範な分野において用いることができる。The silicon dioxide-coated synthetic resin molded article of the present invention is
It is a molded product with greatly improved adhesion to silicon dioxide coating, surface hardness, weather resistance, chemical resistance, moisture permeability, moisture absorption, etc., so it can be used, for example, as a substrate for magneto-optical disks, substrates for magnetic disks, and automobiles. It can be used in a wide range of fields, including as a synthetic resin substrate as a substitute for train window glass.
Claims (3)
ポリマーを主体とする合成樹脂成形体、(B)第1アミ
ノ基もしくは第2アミノ基を有するアミノスチレン誘導
体モノマーと、α、β−不飽和酸の酸無水物モノマー、
シリル化プタジエンモノマーおよび側鎖にアルコキシシ
ランを有し、二重結合を有するモノマーから選択される
少なくとも1種のコモノマーとの共重合体を主成分とす
る第1次被覆層、および(C)該第1次被覆層上に形成
された二酸化ケイ素被覆層からなることを特徴とする二
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体。(1) (A) A synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in its repeating unit, (B) an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group, and α, β-unsaturated acid anhydride monomers,
a first coating layer mainly comprising a copolymer of a silylated putadiene monomer and at least one comonomer selected from monomers having an alkoxysilane in a side chain and a double bond, and (C) A silicon dioxide-coated synthetic resin molded article comprising a silicon dioxide coating layer formed on the first coating layer.
ーを主体とする合成樹脂成形体を、第1アミノ基もしく
は第2アミノ基を有するアミノスチレン誘導体モノマー
と、α、β−不飽和酸の酸無水物モノマー、シリル化プ
タジエンモノマーおよび側鎖にアルコキシシランを有し
、二重結合を有するモノマーから選択される少なくとも
1種のコモノマーを含有する有機溶剤溶液と接触させた
後、該合成樹脂成形体表面上に付着した前記モノマー成
分を共重合させて、前記モノマー成分の共重合体を主成
分とする第1次被覆層を形成し、次いで該第1次被覆層
上に二酸化ケイ素の被膜を形成することを特徴とする二
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の製造法。(2) A synthetic resin molded body mainly composed of a polymer having a carbonyl bond in the repeating unit, an aminostyrene derivative monomer having a primary amino group or a secondary amino group, and an acid anhydride of an α,β-unsaturated acid. After contacting with an organic solvent solution containing at least one comonomer selected from a monomer, a silylated butadiene monomer, and a monomer having an alkoxysilane in a side chain and having a double bond, the surface of the synthetic resin molded body is The monomer components deposited thereon are copolymerized to form a first coating layer mainly composed of a copolymer of the monomer components, and then a silicon dioxide film is formed on the first coating layer. A method for producing a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article, characterized in that:
酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液と接触
させることにより、該第1次被覆層上に二酸化ケイ素の
被膜を形成する請求項2記載の二酸化ケイ素被覆合成樹
脂成形体の製造法。(3) A film of silicon dioxide is formed on the first coating layer by contacting the synthetic resin molded article on which the first coating layer has been formed with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide. Item 2. A method for producing a silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1028294A JPH02206624A (en) | 1989-02-06 | 1989-02-06 | Synthetic resin molded article coated with silicon dioxide and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1028294A JPH02206624A (en) | 1989-02-06 | 1989-02-06 | Synthetic resin molded article coated with silicon dioxide and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02206624A true JPH02206624A (en) | 1990-08-16 |
Family
ID=12244600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1028294A Pending JPH02206624A (en) | 1989-02-06 | 1989-02-06 | Synthetic resin molded article coated with silicon dioxide and production thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02206624A (en) |
-
1989
- 1989-02-06 JP JP1028294A patent/JPH02206624A/en active Pending
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