JPH02298521A - Coated synthetic resin molded body and production thereof - Google Patents
Coated synthetic resin molded body and production thereofInfo
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- JPH02298521A JPH02298521A JP1222085A JP22208589A JPH02298521A JP H02298521 A JPH02298521 A JP H02298521A JP 1222085 A JP1222085 A JP 1222085A JP 22208589 A JP22208589 A JP 22208589A JP H02298521 A JPH02298521 A JP H02298521A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、酸化ケイ素被膜を形成した被覆合成樹脂成形
体に関し、さらに詳しくは、酸化ケイ素被膜の密着性に
優れ、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性などの表面状態が改
善された被覆合成樹脂成形体およびその製造法に関する
。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a coated synthetic resin molded article having a silicon oxide coating formed thereon, and more specifically, the silicon oxide coating has excellent adhesion, wear resistance, and weather resistance. , relates to a coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as chemical resistance, and a method for producing the same.
[従来の技術1
合成樹脂成形体の表面を改質するために、二酸化ケイ素
などの酸化物や金属窒化物等で被覆する技術は公知であ
る。[Prior Art 1] In order to modify the surface of a synthetic resin molded body, a technique of coating it with an oxide such as silicon dioxide, a metal nitride, or the like is known.
従来、酸化物膜等を被覆する方法としては、真空蒸着、
スパッタ、イオンブレーティング、プラズマCVDなと
各種の方法が知られているが、これらの被膜形成法では
、特別の設備を要したり、大型成形体や複雑な形状の成
形体表面に被膜を形成することが困難であるなどの難点
を有している。また、合成樹脂成形体と被膜との密着性
が不充分であるという問題がある。Conventionally, methods for coating oxide films, etc., include vacuum evaporation,
Various methods are known, such as sputtering, ion blasting, and plasma CVD, but these film forming methods require special equipment or are difficult to form on the surface of large molded bodies or molded bodies with complex shapes. It has some disadvantages, such as the fact that it is difficult to do so. Another problem is that the adhesion between the synthetic resin molded body and the coating is insufficient.
最近、二酸化ケイ素被膜を直接合成樹脂成形体表面に被
覆するのではなく、予め合成樹脂成形体表面に付着性良
好なケイ素含有被膜を第1次被膜(ブライマー)として
被覆し、さらにその上に該第1次被膜と付着性良好な二
酸化ケイ素被膜を作成する方法が提案されている(特開
昭61−1.2734号公報)。すなわち、この方法は
、合成樹脂成形体に、下記一般式で示されるケイ素化合
物、それらの加水分解物、およびコロイダルシリカから
なる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素化合物を被
覆・硬化させて第1次被膜とした後、該第1次被膜つき
合成樹脂成形体と二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ
化水素酸溶液とを接触させて第1次被膜」二に二酸化ケ
イ素被膜を形成させることを特徴とする被覆合成樹脂成
形体の製造方法である。Recently, instead of directly coating the surface of a synthetic resin molded body with a silicon dioxide film, a silicon-containing film with good adhesion is coated on the surface of the synthetic resin molded body in advance as a primary film (brimer), and then a silicon-containing film with good adhesion is coated on the surface of the synthetic resin molded body. A method of creating a silicon dioxide film that has good adhesion to the primary film has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 1988-1.2734). That is, in this method, a synthetic resin molded article is coated and cured with at least one silicon compound selected from the group consisting of silicon compounds represented by the following general formula, their hydrolysates, and colloidal silica. After forming the primary coating, the synthetic resin molded article with the primary coating is brought into contact with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide to form a silicon dioxide coating on the primary coating. This is a method for producing a coated synthetic resin molded article.
R1n S ]、 (R2) a−n
(式中R゛は炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
、フッ素または塩素を有する有機基であり、R2はアル
コキシ基、アルコキシアルコキシ基、アセトキシ基およ
び塩素元素から選ばれる1種もしくは、複数の結合基で
あり、nは0〜4である。)
この方法によれば、前記従来法と比較して耐久性のよい
被膜を得ることかでき、しかも塗布浸漬法を使用するこ
とができるため、大型形状あるいは複雑な形状の合成樹
脂成形体にも適用可能である。しかしながら、この方法
では、二酸化ケイ素被膜とブライマーとの密着性は良い
けれども、合成樹脂成形体とブライマーとの密着性はな
お不充分である。その理由は、ブライマーとして使用す
る前記ケイ素化合物と合成樹脂成形体との間に強固な化
学的結合がほとんど形成されないためであると推定され
る。そのために、前記方法では、二酸化ケイ素被膜の合
成樹脂成形体に対する密着性は未だ充分ではない。R1n S], (R2) a-n (wherein R is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, , R2 is one or more bonding groups selected from an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, and a chlorine element, and n is 0 to 4.) According to this method, compared to the conventional method, Since it is possible to obtain a highly durable coating using a coating method and a dipping method can be used, it is also applicable to large-sized or complex-shaped synthetic resin molded bodies. However, in this method, although the adhesion between the silicon dioxide coating and the brimer is good, the adhesion between the synthetic resin molded article and the brimer is still insufficient. The reason for this is presumed to be that almost no strong chemical bond is formed between the silicon compound used as the brimer and the synthetic resin molded article. Therefore, in the method described above, the adhesion of the silicon dioxide coating to the synthetic resin molded article is still not sufficient.
ところで、合成樹脂成形体の中でも、ポリカーボネート
樹脂成形体は、透明で耐衝撃性に優れ、かつ耐熱性がよ
いけれども、表面が傷つき摩耗し易く、また、アルカリ
に侵されやすいという欠点を有している。従来、各種の
表面硬化コーティング法が提案されているが、表面に強
力な極性基をもつ官能基がないため接着性が不充分であ
り、酸化ケイ素系膜との密着性が強固な被覆ポリカーボ
ネート樹脂成形体は得られていない。By the way, among synthetic resin moldings, polycarbonate resin moldings are transparent, have excellent impact resistance, and have good heat resistance, but they have the drawbacks of being easily scratched and worn on the surface, and easily attacked by alkali. There is. Conventionally, various surface hardening coating methods have been proposed, but because the surface does not have functional groups with strong polar groups, adhesion is insufficient, and coating polycarbonate resin, which has strong adhesion to silicon oxide films, has been proposed. No molded body was obtained.
さらに、エンジニアリングプラスチックとして、例えば
、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリイミドなど多(のポリマーが
開発され、実用化されているが、それらのポリマーから
なる合成樹脂成形体を酸化ケイ素被膜で被覆して、表面
を改質するための改善された方法は提案されていない。Furthermore, many polymers such as polyethylene terephthalate, polyamide, polyether ether ketone, and polyimide have been developed and put into practical use as engineering plastics, and synthetic resin molded bodies made of these polymers are coated with a silicon oxide film. However, no improved method for surface modification has been proposed.
本発明の目的は、密着性に優れた酸化ケイ素被膜を有す
る被覆合成樹脂成形体を提供することにある。An object of the present invention is to provide a coated synthetic resin molded article having a silicon oxide coating with excellent adhesion.
また、本発明の目的は、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性な
どの表面状態が改善された酸化ケイ素被覆合成樹脂成形
体を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a silicon oxide-coated synthetic resin molded article with improved surface conditions such as abrasion resistance, weather resistance, and chemical resistance.
本発明者らは、前記従来技術の有する問題点1
を克服するために鋭意研究した結果、有機シラン化合
物(シラン系カップリング剤)による通常のブライマー
処理では、合成樹脂成形体と有機シラン化合物との間に
、せいぜい極性基間の静電気的引力が働いているだけで
あって、強力な結合が生じていないため、両者間の密着
性が悪いことを見出した。そこで、有機シラン化合物に
よりプライマ一層を形成した後、熱処理を行なってみた
が、合成樹脂成形体との間に化学結合が形成されるのけ
ど(一部であって、密着性が不充分であり、しかも熱処
理法では熱伝導効率が悪く、かつ、合成樹脂成形体に熱
による応力が発生するという問題があった。The present inventors have solved the problem 1 of the above-mentioned prior art.
As a result of intensive research to overcome this problem, we found that in normal brimer treatment using an organosilane compound (silane coupling agent), at best, electrostatic attraction between polar groups acts between the synthetic resin molding and the organosilane compound. It was found that the adhesion between the two was poor because no strong bond was formed. Therefore, after forming a single layer of primer with an organic silane compound, we performed heat treatment, but a chemical bond was formed between it and the synthetic resin molded article (only a portion of the primer layer was formed, and the adhesion was insufficient). Moreover, the heat treatment method has problems in that the heat conduction efficiency is poor and stress is generated in the synthetic resin molded body due to heat.
そこで、さらに研究を進めた結果、合成樹脂成形体表面
に特定の有機シラン化合物により被覆層(薄膜)を形成
した後、電子線を照射すると、合成樹脂成形体との間に
化学結合が効率よく形成されたプライマ一層とすること
ができ、しかも有機シラン化合物が一3i−0−5i−
結合を形成し、加水分解等の特別の処理をしなくても、
酸化ケイ素被膜との密着性が充分なプライマ一層を形成
することを見出した。Therefore, as a result of further research, we found that after forming a coating layer (thin film) with a specific organic silane compound on the surface of a synthetic resin molded object and irradiating it with an electron beam, chemical bonds between it and the synthetic resin molded object were effectively formed. The formed primer can be made into a single layer, and the organic silane compound is 13i-0-5i-
Forms bonds and does not require special treatment such as hydrolysis.
It has been found that a single primer layer can be formed that has sufficient adhesion to the silicon oxide film.
本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったも
のである。The present invention has been completed based on these findings.
すなわち、本発明の要旨は、次のとおりである。 That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) (A)合成樹脂成形体の表面に、(B)電子
線照射した有機シラン化合物の薄膜からなるプライマ一
層、および(C)酸化ケイ素被膜がこの順に形成されて
いることを特徴とする被覆合成樹脂成形体。(1) (A) A single layer of primer consisting of a thin film of an organic silane compound irradiated with an electron beam, and (C) a silicon oxide film are formed in this order on the surface of (A) a synthetic resin molded body. Coated synthetic resin molded body.
(2) 合成樹脂成形体の表面に有機シラン化合物から
なる薄膜を形成し、次いで電子線を照射してプライマ一
層を形成し、しかる後、プライマー層上に酸化ケイ素被
膜を形成させることを特徴とする被覆合成樹脂成形体の
製造法。(2) A thin film made of an organic silane compound is formed on the surface of a synthetic resin molded body, and then a single layer of primer is formed by irradiation with an electron beam, and then a silicon oxide film is formed on the primer layer. A method for producing a coated synthetic resin molded article.
以下、本発明の各構成要素について説明する。Each component of the present invention will be explained below.
(合成樹脂成形体)
本発明で使用する合成樹脂成形体としては、特に限定さ
れず、各種ポリマーからなる成形体が使用できる。(Synthetic resin molded article) The synthetic resin molded article used in the present invention is not particularly limited, and molded articles made of various polymers can be used.
合成樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、
ポリアミド、ポリアセタール、ポリエーテルケトン、ポ
リイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、全芳香族ポリエステル、ポリエーテル
ケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレン
スルフィドケトンなどの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、
ポリジエヂレングリコールビスアリルカーボネート、フ
ェノール樹脂、ポリウレタンなどを挙げることができる
。Examples of synthetic resins include polyvinyl chloride, polystyrene, polycarbonate, polymethyl methacrylate,
Thermoplastic resins, epoxy resins such as polyamide, polyacetal, polyether ketone, polyimide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, fully aromatic polyester, polyether ketone, polyether ether ketone, polyphenylene sulfide ketone,
Examples include polydielene glycol bisallyl carbonate, phenolic resin, and polyurethane.
これらの中でも特に、繰り返し単位中にカルボニル結合
を有するポリマーを主体とする成形体が好適に使用でき
る。カルボニル結合を有するポリマーとは、ケトン基の
みならず、酸アミド結合、エステル結合など分子構造中
に(>C=O)結合を有するポリマーを意味する。Among these, molded articles mainly composed of polymers having carbonyl bonds in repeating units can be particularly preferably used. A polymer having a carbonyl bond means a polymer having not only a ketone group but also a (>C=O) bond in its molecular structure, such as an acid amide bond or an ester bond.
これらのポリマーは、それぞれ単独または2種以上をブ
レンドして用いる。These polymers are used alone or in combination of two or more.
また、合成樹脂成形体の形状は特に限定されず、大型品
から複雑な形状を有するものまで任意の形状の成形体が
使用できる。Further, the shape of the synthetic resin molded product is not particularly limited, and molded products of any shape can be used, from large products to those with complicated shapes.
(有機シラン化合物)
有機シラン化合物としては、ビニル基、メタクリロキシ
基、エポキシ基、アミノ基またはイソシアネート基を含
有する汎用のシラン系カップリング剤がある。(Organosilane compound) As the organic silane compound, there are general-purpose silane coupling agents containing a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, or an isocyanate group.
その中でも、下記一般式〔I〕および[11]で示され
る有機シラン化合物が好適に使用できる。Among them, organic silane compounds represented by the following general formulas [I] and [11] can be preferably used.
xns1y4−n 〔I〕〔ただし
、Xはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基、アミ
ノ基またはイソシアネート基を有する炭素数1〜10の
炭化水素基、Yはアルコキシ基、アルコキシアルコキシ
基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数1〜10
の炭化水素基、nは1〜3の整数である。〕
具体的には、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシア
ネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネー
トプロピルトリエトキシシラン、γ−インシアネートブ
ロピルメヂルジメトキシシラン、グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、グリシドキシプロビルトリエトキ
シシラン、グリシドキシプロピル)〜リプロボキシシラ
ン、グリシドキシブロビルメチルジメI・キシシラン、
グリシドキシプロビルエチルジメトキシシラン、グリシ
ドキシプロビルエチルジメトキシシラン、グリシドキシ
プロピルエチルジェトキシシラン、グリシドキシプロピ
ルブチルジメトキシシラン、グリシドキシプロピルブチ
ルジェトキシシラン、2−(2,3−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノ
エチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2
−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アニリップロピルトリメ;・キシシラン、N−
フェニルアミノメチルトリメトキシシラン、N−<I−
リエトキシシリルプロビル)尿素、アミノメチルトリエ
トキシシラン、1l−(β−アミノエヂル)アミノメチ
ルトリメトキシシラン、アミノメチルジェトキシシラン
、ビニル1−リエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、ビニルアセトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる
。xns1y4-n [I] [However, X is a vinyl group, methacryloxy group, epoxy group, amino group, or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having an isocyanate group, Y is an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, or a hydroxyl group 1 to 10 carbon atoms with
is a hydrocarbon group, n is an integer of 1 to 3. ] Specifically, γ-aminopropyltriethoxysilane,
γ-Aminopropyltrimethoxysilane, γ-Isocyanatepropyltrimethoxysilane, γ-Isocyanatepropyltriethoxysilane, γ-Incyanatopropylmedyldimethoxysilane, Glycidoxypropyltrimethoxysilane, Glycidoxypropyltriethoxy silane, glycidoxypropyl) ~ liproxysilane, glycidoxybrobyl methyldime I xysilane,
Glycidoxypropylethyldimethoxysilane, glycidoxypropylethyldimethoxysilane, glycidoxypropylethyljethoxysilane, glycidoxypropylbutyldimethoxysilane, glycidoxypropylbutyljethoxysilane, 2-(2,3 -Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane,
-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-anilipropyltrimethoxysilane, N-
Phenylaminomethyltrimethoxysilane, N-<I-
ethoxysilylprobyl) urea, aminomethyltriethoxysilane, 1l-(β-aminoedyl)aminomethyltrimethoxysilane, aminomethyljethoxysilane, vinyl 1-ethoxysilane, vinyl tris(β-methoxyethoxy)silane, vinyl Acetoxysilane, γ
-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like.
R4−□S i (OOR’ ) ll [H
]c式中、Rは炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、
メタクリロキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト
基、フッ素または塩素を有する有機基であり、R′はア
ルキル基、アシル基、アリールアルキル基から選ばれる
1種もしくは複数の結合基であり、nは1〜4の整数で
ある。〕具体的には、例えば、ビニルトリス(t−ブチ
ルパーオキシ)シラン、ビニルトリス(キュメンバーオ
キシ)シラン、ビニルトリス(アセチルパーオキシ)シ
ラン、ビニルトリス(ベンゾイルパーオキシ)シラン、
ビニルトリス(ラウロイルパーオキシ)シラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリス(t−ブチルパーオキシ)シ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリス(キュメンバー
オキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリス(ア
セチルパーオキシ)シラン、γ−グリシドキシプロビル
トリス(ベンゾイルパーオキシ)シラン、γ−グリシド
キシプロピルトリス(ラウロイルパーオキシ)シラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリス(t−ブチルパーオ
キシ〕シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス(キ
ュメンバーオキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリス(アセチルパーオキシ)シラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリス(ベンゾイルパーオキシ)シラン
、γ−メタクリロキシプロピルトリス(ラウロイルパー
オキシ)シランなどを挙げることができる。これらの有
機ケイ素化合物は、それぞれ単独で、あるいは複数種組
み合わせて用いることができる。R4-□S i (OOR') ll [H
]c In the formula, R is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group,
A methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, R' is one or more bonding groups selected from an alkyl group, an acyl group, and an arylalkyl group, and n is 1 It is an integer of ~4. ] Specifically, for example, vinyltris(t-butylperoxy)silane, vinyltris(cumemberoxy)silane, vinyltris(acetylperoxy)silane, vinyltris(benzoylperoxy)silane,
Vinyltris(lauroylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(t-butylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(cumemberoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(acetylperoxy) Silane, γ-glycidoxypropyltris(benzoylperoxy)silane, γ-glycidoxypropyltris(lauroylperoxy)silane,
γ-methacryloxypropyltris(t-butylperoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(cumemberoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(acetylperoxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(benzoylperoxy)silane oxy)silane, γ-methacryloxypropyltris(lauroylperoxy)silane, etc. These organosilicon compounds can be used alone or in combination.
(プライマー層の形成方法)
シランし八 からなる・
合成樹脂成形体の表面に有機シラン化合物からなる薄膜
を形成するには、有機シラン化合物をメタノール、エタ
ノール、イソプロパツール、イソブタノールなどのアル
コール類に溶解させ、その溶液を合成樹脂成形体にスピ
ンコード法、浸漬法、吹付は法等により塗布した後、乾
燥させて溶剤を除去すればよい。大型または複雑な形状
の合成樹脂成形体の場合には、浸漬法が好ましい。(Method for forming a primer layer) To form a thin film made of an organic silane compound on the surface of a synthetic resin molded product, the organic silane compound can be mixed with an alcohol such as methanol, ethanol, isopropanol, or isobutanol. The solution may be applied to a synthetic resin molded article by a spin cord method, dipping method, spraying method, etc., and then dried to remove the solvent. In the case of large-sized or complex-shaped synthetic resin molded articles, the dipping method is preferred.
溶液中の有機シラン化合物の濃度は、適宜定め得るが塗
布効率から見て、通常、0.1〜5重量%の溶液とする
ことが好ましい。また、塗布後の乾燥は、室温または乾
燥機中で行なう。室温の場合は、約1〜2時間、風乾さ
せ、また、加熱する場合には、熱風乾燥機中などで昇温
条件下、例えば、90℃程度では約1〜2時間程度乾燥
させる。これらの乾燥条件は、当業者であれば適宜選択
することができる。The concentration of the organic silane compound in the solution can be determined as appropriate, but from the viewpoint of coating efficiency, it is usually preferable to set the concentration of the organic silane compound in the solution to 0.1 to 5% by weight. Further, drying after application is performed at room temperature or in a dryer. If it is at room temperature, it is air-dried for about 1 to 2 hours, and if it is heated, it is dried in a hot air dryer or the like under elevated temperature conditions, for example, at about 90° C., for about 1 to 2 hours. These drying conditions can be appropriately selected by those skilled in the art.
!五鰺Ω11
本発明では、合成樹脂成形体の表面に有機シラン化合物
からなる薄膜を形成し、次いで電子線を照射してプライ
マー層を形成する。電子線照射に) ′″9゛
89樹脂9形”IIす化011に化学結合が形成される
ものと推定される。! In the present invention, a thin film made of an organic silane compound is formed on the surface of a synthetic resin molded article, and then an electron beam is irradiated to form a primer layer. It is presumed that a chemical bond is formed in the electron beam irradiation) '9'89 resin type 9' II chemical bond 011.
電子線照射は、通常、0.05〜10Mrad/S、好
ましくは0.16Mrad/S程度の線量率で、アルゴ
ンガスなどの不活性ガス雰囲気中で、照射する。線量は
、合成樹脂の種類によって変化するが、0.5〜数士M
r a dの範囲で、合成樹脂表面層を分解ないしは
劣化させない範囲とし、ポリカーボネートでは、通常、
5Mrad以下が好ましい。なお、予め電子線照射およ
び被覆試験を行なうことにより、当業者であれば、樹脂
の種類に応じて線量の好ましい範囲を適宜選択すること
ができる。The electron beam irradiation is usually performed at a dose rate of about 0.05 to 10 Mrad/S, preferably about 0.16 Mrad/S, in an atmosphere of an inert gas such as argon gas. The dose varies depending on the type of synthetic resin, but it ranges from 0.5 to several meters.
In the range of r a d, the synthetic resin surface layer should not be decomposed or deteriorated, and for polycarbonate, usually
It is preferably 5 Mrad or less. In addition, by performing electron beam irradiation and a coating test in advance, those skilled in the art can appropriately select a preferable range of the dose depending on the type of resin.
電子線を照射することにより、有機ケイ素化合物と合成
樹脂成形体との間に化学結合が生じて、有機ケイ素化合
物の薄膜と合成樹脂成形体表面との間に強固な結合が生
じる。同時に、有機ケイ素化合物の分子間において、前
記一般式〔I〕のYの部分間に一8i−0−8i−結合
が形成され、X線光電子分光装置(Xray Phot
o ElectoronSpectoro 5copy
)による観測によると全体の70〜80%程度がSiO
2として観測される。By irradiating the electron beam, a chemical bond is generated between the organosilicon compound and the synthetic resin molded body, and a strong bond is generated between the thin film of the organosilicon compound and the surface of the synthetic resin molded body. At the same time, a -8i-0-8i-bond is formed between the Y moieties of the general formula [I] in the molecules of the organosilicon compound, and an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photo
o Electron Spectro 5copy
), about 70-80% of the total is SiO.
It is observed as 2.
また、式[11]で表わされるシリルバーオキサイド化
合物は、活性が強いため、基材の合成樹脂成形体との結
合力は強力であるとともに、酸素原子を過剰にもってい
るため、特に表面ではほとんど5in2の形になってい
る。In addition, since the silyl peroxide compound represented by formula [11] has strong activity, it has a strong bonding force with the synthetic resin molded body of the base material, and since it has an excess of oxygen atoms, especially on the surface, It has a 5in2 shape.
ケイ、 の多 S
電子線照射処理の後、有機シラン化合物の薄膜上に酸化
ケイ素被膜を形成させる。After the electron beam irradiation treatment, a silicon oxide film is formed on the thin film of the organosilane compound.
酸化ケイ素化合物としては、5in2やSiOなどのS
in、(2≧X≧1)、5iAnONなどのSi系酸化
物であれば従来公知のものが適用可能である。被膜の形
成方法としては、蒸着、スパッタ、プラズマCVD法、
液相成長など通常の手段が採用できる。Examples of silicon oxide compounds include S such as 5in2 and SiO.
Conventionally known Si-based oxides such as in, (2≧X≧1), and 5iAnON can be used. Methods for forming the film include vapor deposition, sputtering, plasma CVD,
Conventional means such as liquid phase growth can be used.
酸化ケイ素被膜の中でも、二酸化ケイ素の被膜が好まし
い。前記ブライマー処理を行なったプライマー層(電子
線を照射した有機シラン化合物の薄膜)上に二酸化ケイ
素の被膜を形成する方法としては、シランガスを用いた
CVD法、石英板をターゲットとしたスパッタ法、有機
ケイ素化合物の有機溶媒を用いたディッピング法、また
は二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液中
に浸漬し、二酸化ケイ素被膜を析出させる析出法などが
ある。この中では析出法が作業が簡単で、しかも均一な
被膜を形成することができるため好ましい。Among silicon oxide coatings, silicon dioxide coatings are preferred. Methods for forming a silicon dioxide film on the primer layer (thin film of an organic silane compound irradiated with an electron beam) that has been subjected to the primer treatment include a CVD method using silane gas, a sputtering method using a quartz plate as a target, and an organic silane film. Examples include a dipping method using an organic solvent containing a silicon compound, and a precipitation method in which silicon dioxide is immersed in a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution to deposit a silicon dioxide film. Among these, the precipitation method is preferred because it is easy to work with and can form a uniform film.
この析出法については、特開昭61−12734号公報
に詳細に開示されている公知の方法が適用できる。二酸
化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液とは、ケ
イフッ化水素酸溶液に二酸化ケイ素(シリカゲル、エア
ロジル、シリカガラス、その他二酸化ケイ素含有物など
)を溶解させた後、水または試薬(ホウ酸、塩化アルミ
ニウムなど)を添加し、二酸化ケイ素の過飽和状態とし
たものである。この処理液にブライマー処理した合成樹
脂成形体を接触させればよい。接触は、合成樹脂成形体
を処理液中に浸漬するが成形体表面に処理液を流下させ
るなどの方法があるが、均一な被膜を形成するためには
浸漬法が好ましい。As for this precipitation method, a known method disclosed in detail in JP-A-61-12734 can be applied. A supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide is made by dissolving silicon dioxide (silica gel, aerosil, silica glass, other silicon dioxide-containing materials, etc.) in a hydrosilicic acid solution, and then using water or a reagent (boric acid, Aluminum chloride, etc.) is added to create a supersaturated state of silicon dioxide. The synthetic resin molded body subjected to the brimer treatment may be brought into contact with this treatment liquid. The contact may be carried out by immersing the synthetic resin molded body in the treatment liquid or by allowing the treatment liquid to flow down onto the surface of the molded body, but the immersion method is preferable in order to form a uniform film.
処理液中のケイフッ化水素酸の濃度は、1〜2モル/℃
が好ましく、特に2モル/4より濃いケイフッ化水素酸
水溶液に二酸化ケイ素を飽和させた後、水で希釈して1
〜2モル/f2の濃度としたものが、被膜形成速度が早
く、効率よく被覆が行なえるので望ましい。過飽和状態
とするためにボウ酸を添加する場合の添加量は、処理液
中のケイフッ化水素酸1モルに対して]、X10−2〜
40×10−2モル、好ましくは1.2X10−2〜l
O×10−2モルの範囲であることが、速く均質な被膜
を形成する上で望ましい。The concentration of hydrofluorosilicic acid in the treatment solution is 1 to 2 mol/℃
is preferable, and in particular, after saturating silicon dioxide in an aqueous solution of hydrofluorosilicic acid with a concentration of more than 2 mol/4, diluted with water to 1
A concentration of ~2 mol/f2 is desirable because the film formation rate is fast and coating can be carried out efficiently. When boric acid is added to achieve a supersaturated state, the amount added is based on 1 mole of hydrofluorosilicic acid in the treatment liquid], X10-2 ~
40 x 10-2 mol, preferably 1.2 x 10-2 to 1
A range of O x 10-2 mol is desirable in order to quickly form a homogeneous film.
合成樹脂成形体を処理液に浸漬中、連続的にホウ酸水溶
液を添加混合し、また、処理液を循環させ、フィルター
で濾過することが、均質な被膜を効率よく得るために好
ましい。二酸化ケイ素の供給源としてシリカゲルを使用
する場合には、孔径1.5μm以下のフィルターが、そ
の他シリカガラスなどを用いた場合には、孔径10μm
以下のフィルターが好ましい。In order to efficiently obtain a homogeneous film, it is preferable to continuously add and mix the boric acid aqueous solution while the synthetic resin molded body is immersed in the treatment liquid, and to circulate the treatment liquid and filter it with a filter. When using silica gel as a source of silicon dioxide, a filter with a pore size of 1.5 μm or less is used, and when using other materials such as silica glass, a filter with a pore size of 10 μm is used.
The following filters are preferred.
また、処理液を浸漬槽に入れて、合成樹脂成形体と接触
させる場合には、浸漬中の成形体表面において、処理液
が層流となって流れるようにすることが、むらのない均
質な被膜を形成するために好ましい。In addition, when placing the treatment liquid in an immersion tank and bringing it into contact with a synthetic resin molded article, it is important to allow the treatment liquid to flow in a laminar flow on the surface of the molded article during immersion to ensure an even and homogeneous flow. Preferred for forming a film.
二酸化ケイ素などの酸化ケイ素被膜の膜厚は、使用目的
に応じて適宜定めることができるが、通常、数100人
〜数1,000人程度で表面改質の目的を達成すること
ができる。The thickness of the silicon oxide film such as silicon dioxide can be determined as appropriate depending on the purpose of use, but usually, the purpose of surface modification can be achieved with about several hundred to several thousand people.
乍」
従来のシラン系カップリング剤などのケイ素化合物によ
るブライマー処理では、ブライマー(第1次被覆層)と
合成樹脂成形体表面との間に強固な化学結合は生じてい
ない。However, in the conventional brimer treatment using a silicon compound such as a silane coupling agent, no strong chemical bond is formed between the brimer (first coating layer) and the surface of the synthetic resin molded article.
これに対し、合成樹脂成形体の表面に有機ケイ素化合物
の薄膜を形成した後、電子線を照射すると、合成樹脂成
形体とブライマーの有機ケイ素化合物との間に化学結合
が生じて、両者が強固に結合する。合成樹脂成形体とし
ては、カルボニル結合(>C=O)を有するポリマーを
主体とする成形体が特に効果的である。On the other hand, when a thin film of an organosilicon compound is formed on the surface of a synthetic resin molded body and then irradiated with an electron beam, a chemical bond is formed between the synthetic resin molded body and the organosilicon compound of the brimer, and both become strong. join to. As the synthetic resin molded article, a molded article mainly composed of a polymer having a carbonyl bond (>C=O) is particularly effective.
電子線照射法によると、■エネルギーは、個々の電子が
もっているので、加速電圧を操作することにより、容易
にエネルギー量を制御することができ、また、■高エネ
ルギ一体であるため、合成樹脂成形体とブライマー間の
反応部所への到達が容易であるため、短時間で、確実に
両者間に化学結合が形成される。According to the electron beam irradiation method, ■Energy is contained in each individual electron, so the amount of energy can be easily controlled by manipulating the accelerating voltage, and ■Since high energy is integrated, synthetic resin Since it is easy to reach the reaction site between the molded body and the primer, a chemical bond is reliably formed between the two in a short time.
また、通常のシラン系カップリング剤によるブライマー
処理では、酸化ケイ素被膜との密着性を向上させるため
に、基材に塗布する前に、アルコキシ基などを加水分解
して水酸基に変える必要があった。そして、ブライマー
分子同士の結合性も弱いものであった。ところが、電子
線照射法によれば、合成樹脂成形体表面に塗布した有機
ケイ素化合物のアルコキシ基などが一5i−0−Si−
結合を形成して、ブライマー分子が同士強固に結合し、
しかもプライマ一層の表面ではほとんどが5in2の形
になっているため、酸化ケイ素被膜の形成はガラス面上
での形成と同様にできるので、非常に密着性に優れた被
覆層とすることができる。In addition, in the conventional brimer treatment using a silane coupling agent, in order to improve adhesion to the silicon oxide film, it was necessary to hydrolyze alkoxy groups and convert them into hydroxyl groups before applying it to the base material. . Furthermore, the bonding properties between the brimer molecules were also weak. However, according to the electron beam irradiation method, the alkoxy groups of the organosilicon compound applied to the surface of the synthetic resin molded body are
By forming bonds, the brimer molecules firmly bind to each other,
Moreover, since most of the surface of the primer layer has a 5 in 2 shape, the silicon oxide film can be formed in the same way as on a glass surface, resulting in a coating layer with extremely excellent adhesion.
(以下余白)
[実施例]
以下、本発明について実施例および比較例を挙げて具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定され
るものではない。なお、実施例および比較例における密
着性試験など物性の測定方法は、次のとおりである。(Margin below) [Example] The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited only to these Examples. The methods for measuring physical properties such as adhesion tests in Examples and Comparative Examples are as follows.
〈物性の測定方法〉
41笠孟ヌ±:
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体表面に粘着テープを貼り
つけ、90度方向に急激に剥す。<Method for Measuring Physical Properties> 41 Kasamenu ±: Adhesive tape is attached to the surface of the silicon oxide-coated synthetic resin molded product and abruptly peeled off in a 90 degree direction.
酸化ケイ素被膜が剥れると×、剥れない場合を○とした
。また、一部剥れた場合は△とした。When the silicon oxide film peeled off, it was rated as ×, and when it did not peel off, it was rated as ○. In addition, when a part of the film peeled off, it was marked as △.
肚候丑:
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体をカーボンアーク型のウ
エザオメーター(WE−3un−DC;東洋理化株式会
社製)中で200時間暴露した後、密着性テストを行な
った。評価方法は密着性テストと同じ。After exposing the silicon oxide-coated synthetic resin molded article for 200 hours in a carbon arc type weatherometer (WE-3un-DC; manufactured by Toyo Rika Co., Ltd.), an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
肚遣水1・
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体を熱水中で1時間煮沸し
た後、密着性テストを行なった。評価方法は密着性テス
トと同じ。Uwayarizu 1 After boiling the silicon oxide-coated synthetic resin molded body in hot water for 1 hour, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
舷然皇:
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体をオーブン中80℃で5
0時間放置した後、密着性テストを行なった。評価方法
は密着性テストと同じ。Kanen-no: Silicon oxide coated synthetic resin molded body heated in oven at 80℃ for 5 minutes.
After leaving it for 0 hours, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
舷洞店:
酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体を恒温恒温機にて65℃
、95%RHで3週間放置した後、密着性テストを行な
った。評価方法は密着性テストと同じ。Gangdong store: Silicon oxide coated synthetic resin molded products are heated to 65℃ in a constant temperature machine.
After being left at 95% RH for 3 weeks, an adhesion test was conducted. The evaluation method is the same as the adhesion test.
[実施例1]
ポリカーボネート樹脂からなる光デイスク基板(130
φ、厚さ1.2mm)に、第1表に示す各種有機シラン
化合物のイソプロパツール溶液(濃度1重量%)を浸漬
法で塗布し、80”Cにて3分間加熱乾燥を行なった。[Example 1] Optical disk substrate (130
φ, thickness 1.2 mm), isopropanol solutions (concentration 1% by weight) of various organic silane compounds shown in Table 1 were applied by dipping method, and dried by heating at 80''C for 3 minutes.
膜厚は、100人であった。The film thickness was 100 people.
1 次に、有機シラン化合物が塗布された面
に、第1表に示す条件にて電子線を照射した。電子線は
、1.6Mrad/Sの線量率で、アルゴンガス雰囲気
中で照射した。1 Next, the surface coated with the organic silane compound was irradiated with an electron beam under the conditions shown in Table 1. The electron beam was irradiated in an argon gas atmosphere at a dose rate of 1.6 Mrad/S.
上記処理を行なったポリカーボネート製光デイスク基板
上に、特開昭61−12734号公報に示されているの
と同様の二酸化ケイ素被膜製造装置を用いて、二酸化ケ
イ素被膜を析出させた。A silicon dioxide film was deposited on the polycarbonate optical disk substrate subjected to the above treatment using a silicon dioxide film manufacturing apparatus similar to that shown in JP-A-61-12734.
すなわち、二酸化ケイ素被膜製造装置は、外槽と内槽か
ら成る浸漬槽を有し、内槽と外槽の間には水が満しであ
る。この水は温度が35°Cとなるようヒーターで加熱
され、かつ、温度分布均一化のため撹拌機で撹拌されて
いる。内槽は前部、中部、後部から成り各部には工業用
シリカゲル粉末を二酸化ケイ素の供給源として、二酸化
ケイ素を溶解、飽和させた2、0モル/I2.の濃度の
ケイフッ化水素酸水溶液を水を用いて倍に希釈した3℃
の反応液が満たしである。ここで、循環ポンプを作動さ
せ内槽後部の反応液を一定量ずつ放出してフィルターで
濾過し、内槽前部へ戻す処理液循環を開始した。That is, the silicon dioxide coating manufacturing apparatus has a dipping tank consisting of an outer tank and an inner tank, and the space between the inner tank and the outer tank is filled with water. This water is heated with a heater to a temperature of 35° C., and is stirred with a stirrer to make the temperature distribution uniform. The inner tank consists of a front part, a middle part, and a rear part, and each part contains 2.0 mol/I2. An aqueous solution of hydrofluorosilicic acid with a concentration of is diluted with water at 3℃.
The reaction solution is full. At this point, the circulation pump was activated to discharge a certain amount of the reaction liquid from the rear of the inner tank, filter it with a filter, and start circulating the treated liquid back to the front of the inner tank.
その後、0.5モル/氾のボウ酸水溶液を連続的に内槽
後部に摘下し10時間保持した。この状態で反応液は適
度な二酸化ケイ素過飽和度を有する処理液となった。Thereafter, a 0.5 mol/flood boric acid aqueous solution was continuously poured into the rear part of the inner tank and maintained for 10 hours. In this state, the reaction solution became a treatment solution having an appropriate degree of silicon dioxide supersaturation.
ここでフィルターの絶対除去率を1.5μmおよび処理
液循環量を240 m 127分(処理液全量が約3β
であるので、循環量は8%/分である)に調整した。Here, the absolute removal rate of the filter is 1.5 μm, and the processing liquid circulation amount is 240 m for 127 minutes (the total amount of processing liquid is approximately 3β
Therefore, the circulation rate was adjusted to 8%/min).
そして、上記処理を行なったポリカーボネート製光デイ
スク基板を内槽中部に垂直に浸漬し、前記条件(0,5
モル/℃のホウ酸水溶液を0.2mρ/分で添加し、8
%/分の循環を行ない、1.5μmのフィルターで濾過
する)で3時間保持した。Then, the polycarbonate optical disk substrate subjected to the above treatment was immersed vertically into the middle of the inner tank, and
A boric acid aqueous solution of mol/°C was added at a rate of 0.2 mρ/min, and 8
%/min and filtered through a 1.5 μm filter) for 3 hours.
得られた被覆ポリカーボネート製光デイスク基板の二酸
化ケイ素被覆層の膜厚は約900人であった。The thickness of the silicon dioxide coating layer on the obtained coated polycarbonate optical disk substrate was approximately 900 mm.
二酸化ケイ素被覆合成樹脂成形体の特性について測定し
た結果を第1表に示す。Table 1 shows the results of measuring the properties of the silicon dioxide-coated synthetic resin molded article.
(以下余白)
[実施例2]
合成樹脂成形体として、ポリエチレンテレフタレート樹
脂からなる平板(縦100mm、横100mm、厚さ2
m m )を用い、実施例1と同様に、第2表に示す
各種有機シラン化合物の薄膜を形成し、同様に電子線照
射を行なった。そして、実施例1と同様に処理して二酸
化ケイ素被覆ポリエチレンテレフタレート樹脂平板を得
た。(Left below) [Example 2] A flat plate made of polyethylene terephthalate resin (length 100 mm, width 100 mm, thickness 2
m m ), thin films of various organic silane compounds shown in Table 2 were formed in the same manner as in Example 1, and electron beam irradiation was performed in the same manner. Then, a silicon dioxide-coated polyethylene terephthalate resin flat plate was obtained by processing in the same manner as in Example 1.
特性について、測定結果を第2表に示す。Regarding the characteristics, the measurement results are shown in Table 2.
(以下余白)
[実施例3]
ポリカーボネート樹脂からなる平板(縦100mm、横
100mm、厚さ2mm)に、ビニルトリス(t−ブチ
ルパーオキシ)シランのイソブタノール溶液(濃度1重
量%)を浸漬法で塗布し、80℃の熱風乾燥機にて3分
間加熱乾燥を行なった。膜厚は約100人であった。つ
いで、塗布された全面にわたって電子線を5 M r
a d / Sの線量率で、アルゴンガス雰囲気中で照
射した。(Left below) [Example 3] A flat plate made of polycarbonate resin (100 mm long, 100 mm wide, 2 mm thick) was soaked with an isobutanol solution (concentration 1% by weight) of vinyltris(t-butylperoxy)silane by dipping. It was coated and dried by heating in a hot air dryer at 80°C for 3 minutes. The film thickness was approximately 100 people. Then, an electron beam was applied to the entire coated surface at 5 Mr.
Irradiation was performed in an argon gas atmosphere at a dose rate of ad/S.
ブライマー処理されたポリカーボネート樹脂平板を実施
例1と同様に処理して二酸化ケイ素被膜を析出させた。A polycarbonate resin flat plate treated with a primer was treated in the same manner as in Example 1 to deposit a silicon dioxide film.
16時間浸漬して保持した結果、膜厚5000人の二酸
化ケイ素被膜を得た。As a result of immersion and holding for 16 hours, a silicon dioxide film with a thickness of 5,000 yen was obtained.
[実施例4]
有機シラン化合物としてビニルトリス(アセチルパーオ
キシ)シランを用いたこと以外は、実施例3と同様に処
理して、二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板を
得た。[Example 4] A polycarbonate resin plate coated with silicon dioxide was obtained in the same manner as in Example 3 except that vinyltris(acetylperoxy)silane was used as the organic silane compound.
[実施例5]
合成樹脂成形体としてポリエーテルイミド平板(縦10
0mm、横100mm、厚さ2 m m )を用いたこ
と以外は、実施例3と同様に処理して二酸化ケイ素被覆
ポリエーテルイミド平板を得た。[Example 5] A polyetherimide flat plate (vertical 10
A silicon dioxide-coated polyetherimide flat plate was obtained in the same manner as in Example 3, except that a polyetherimide plate having a width of 0 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 2 mm was used.
[実施例6]
合成樹脂成形体としてポリジエチレングリコールビスア
リルカーボネート樹脂平板(縦100mm、横100m
m、厚さ2mm)を用いたこと以外は、実施例3と同様
に処理して二酸化ケイ素被覆ポリジエチレングリコール
ビスアリルカーボネート樹脂平板を得た。[Example 6] A polydiethylene glycol bisallyl carbonate resin flat plate (100 mm long, 100 m wide) was used as a synthetic resin molded body.
A silicon dioxide-coated polydiethylene glycol bisallyl carbonate resin flat plate was obtained by processing in the same manner as in Example 3, except that a silicon dioxide-coated polydiethylene glycol bisallyl carbonate resin plate was used.
[実施例7]
電子線照射の条件を、105 M r a d / S
の線量率とした以外は、実施例3と同様に処理して、二
酸化ケイ素被覆ポリカーボネート樹脂平板を得た。[Example 7] The conditions for electron beam irradiation were 105 M rad / S.
A polycarbonate resin plate coated with silicon dioxide was obtained by processing in the same manner as in Example 3 except that the dose rate was set to .
[比較例1]
ブライマー処理を行なわなかったこと以外は、実施例3
と同様に処理して、二酸化ケイ素被覆ポリカーボネート
樹脂平板を得た。[Comparative Example 1] Example 3 except that the brimer treatment was not performed.
A polycarbonate resin plate coated with silicon dioxide was obtained by processing in the same manner as above.
結果を第3表に一括して示す。The results are summarized in Table 3.
本発明によれば、通常の有機シラン化合物でブライマー
処理をした後、電子線を照射するだけで、基材の合成樹
脂と強固に結合したプライマ一層を形成することができ
る。また、プライマー層表面部は、はとんどが5in2
となるため、その上に形成する酸化ケイ素被膜との密着
性が良好で、剥離やピンホールの発生などが大幅に減少
できる。さらに、通常の有機シラン化合物によるブライ
マー処理では困難であった、ブライマー処理から酸化ケ
イ素被膜を形成するまでの間の長期保存が可能となった
。According to the present invention, a single layer of primer that is firmly bonded to the synthetic resin of the base material can be formed by simply irradiating the primer with an electron beam after performing primer treatment with an ordinary organic silane compound. In addition, the surface area of the primer layer is generally 5in2.
Therefore, it has good adhesion with the silicon oxide film formed thereon, and the occurrence of peeling and pinholes can be significantly reduced. Furthermore, long-term storage between the brimer treatment and the formation of the silicon oxide film, which is difficult with ordinary brimer treatment using organic silane compounds, is now possible.
そして、本発明の製造方法によって、酸化ケイ素被膜と
の密着性、表面硬度、耐候性、耐薬品性、透湿性、吸湿
性などが大幅に改善された成形体を得ることができ、例
えば、光磁気ディスク用基板や磁気ディスク用基板、車
や電車の窓ガラスの代用としての合成樹脂基板をはじめ
広範な分野において用いることができる。By the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a molded article with significantly improved adhesion to the silicon oxide film, surface hardness, weather resistance, chemical resistance, moisture permeability, moisture absorption, etc. It can be used in a wide range of fields, including magnetic disk substrates, magnetic disk substrates, and synthetic resin substrates as substitutes for car and train window glass.
Claims (5)
射した有機シラン化合物の薄膜からなるプライマー層、
および(C)酸化ケイ素被膜がこの順に形成されている
ことを特徴とする被覆合成樹脂成形体。(1) (A) A primer layer consisting of a thin film of an organic silane compound irradiated with an electron beam on the surface of (B) an electron beam irradiation,
and (C) a coated synthetic resin molded article, characterized in that a silicon oxide coating is formed in this order.
I〕で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の化
合物である請求項1記載の被覆合成樹脂成形体。 X_nSiY_4_−_n〔I〕 [式中、Xはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基
、アミノ基またはイソシアネート基を有する炭素数1〜
10の炭化水素基、Yはアルコキシ基、アルコキシアル
コキシ基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数1
〜10の炭化水素基、nは1〜3の整数である。] R_4_−_nSi(OOR′)_n〔II〕[式中、
Rは炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素
または塩素を有する有機基であり、R′はアルキル基、
アシル基、アリールアルキル基から選ばれる1種もしく
は複数の結合基であり、nは1〜4の整数である。](2) The organic silane compound has the following general formulas [I] and [I
The coated synthetic resin molded article according to claim 1, which is at least one compound selected from the compounds represented by [I]. X_nSiY_4_-_n[I] [wherein,
10 hydrocarbon groups, Y is an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, or a carbon number 1 having a hydroxyl group
~10 hydrocarbon groups, n is an integer from 1 to 3. ] R_4_−_nSi(OOR')_n[II] [wherein,
R is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, and R' is an alkyl group,
It is one or more bonding groups selected from an acyl group and an arylalkyl group, and n is an integer of 1 to 4. ]
る薄膜を形成し、次いで電子線を照射してプライマー層
を形成し、しかる後、プライマー層上に酸化ケイ素被膜
を形成させることを特徴とする被覆合成樹脂成形体の製
造法。(3) A thin film made of an organic silane compound is formed on the surface of the synthetic resin molded body, and then a primer layer is formed by irradiation with an electron beam, and then a silicon oxide film is formed on the primer layer. A method for producing a coated synthetic resin molded article.
I〕で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の化
合物である請求項3記載の被覆合成樹脂成形体の製造法
。 X_nSiY_4_−_n〔I〕 〔式中、Xはビニル基、メタクリロキシ基、エポキシ基
、アミノ基またはイソシアネート基を有する炭素数1〜
10の炭化水素基、Yはアルコキシ基、アルコキシアル
コキシ基、アセトキシ基または水酸基を有する炭素数1
〜10の炭化水素基、nは1〜3の整数である。] R_4_−_nSi(OOR′)_n〔II〕[式中、
Rは炭素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素
または塩素を有する有機基であり、R′はアルキル基、
アシル基、アリールアルキル基から選ばれる1種もしく
は複数の結合基であり、nは1〜4の整数である。](4) The organic silane compound has the following general formula [I] and [I
4. The method for producing a coated synthetic resin molded article according to claim 3, wherein the compound is at least one compound selected from compounds represented by [I]. X_nSiY_4_-_n[I] [wherein,
10 hydrocarbon groups, Y is an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, an acetoxy group, or a carbon number 1 having a hydroxyl group
~10 hydrocarbon groups, n is an integer from 1 to 3. ] R_4_−_nSi(OOR')_n[II] [wherein,
R is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or chlorine, and R' is an alkyl group,
It is one or more bonding groups selected from an acyl group and an arylalkyl group, and n is an integer of 1 to 4. ]
、かつ、前記プライマー層を形成した合成樹脂成形体を
二酸化ケイ素の過飽和状態のケイフッ化水素酸溶液と接
触させることにより、該プライマー層上に二酸化ケイ素
被膜を析出させる請求項3または4記載の被覆合成樹脂
成形体の製造法。(5) The silicon oxide coating is a silicon dioxide coating, and the synthetic resin molded article on which the primer layer is formed is brought into contact with a supersaturated hydrofluorosilicic acid solution of silicon dioxide, so that the silicon oxide coating is coated on the primer layer. The method for producing a coated synthetic resin molded article according to claim 3 or 4, wherein a silicon dioxide film is deposited.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1222085A JPH02298521A (en) | 1989-02-08 | 1989-08-29 | Coated synthetic resin molded body and production thereof |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3089789 | 1989-02-08 | ||
| JP1-30897 | 1989-02-08 | ||
| JP1222085A JPH02298521A (en) | 1989-02-08 | 1989-08-29 | Coated synthetic resin molded body and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02298521A true JPH02298521A (en) | 1990-12-10 |
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ID=26369333
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1222085A Pending JPH02298521A (en) | 1989-02-08 | 1989-08-29 | Coated synthetic resin molded body and production thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02298521A (en) |
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| JPH0892397A (en) * | 1994-09-06 | 1996-04-09 | Becton Dickinson & Co | Plastic article with lowered gas permeability and method of lowering gas permeability of plastic article |
| US5922161A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-13 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Surface treatment of polymers |
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1989
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