JPH02210395A - 文字図形発生方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ベクトル情報で表された文字・図形データを
ラスター情報に変換して外部メモリへ転送することによ
り、文字・図形を発生するＬＳＩにおい−で、大型の文
字・図形を外部メモリ上に発生させることを可能とする
文字図形発生方式に関する。

〔従来の技術〕

従来、特開昭５０−１４２３０号公報に記載のように、
漢字等の複雑な文字を高精細にかつ比較的小容量のデー
タで表わせるいわゆるベクトル形式の文字フォントが知
られている。このような文字を外形線で表すベクトルフ
ォントは、文字を構成する主要な点の座標の集合として
定義される。

ベクトルフォントは、表示用あるいは印刷用のビットマ
ツプメモリにドツトデータとして展開され、この展開さ
れた文字データに基づいて表示あるいは印刷が行われる
。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来の方式によってベクトルフォントに基づく文字
データをビットマツプメモリへ直接展開する処理（すな
わち描画処理）は、処理速度が遅いという問題があった
。この問題を解決するために、本出願人は、特願昭６３
−６５７０７号として、描画処理回路とビットマツプメ
モリとの間に文字展開用の小容量のドツトメモリと、こ
のドツトメモリに展開されたドツト文字データをビット
マツプメモリに転送するデータ転送回路とからなる文字
図形描画装置を提案している。この装置は、描画処理回
路、ドツトメモリおよびデータ転送回路の１チツプ集積
化によりドツトメモリへの描画速度を向上させるととも
に、描画処理および転送処理の並列化により高速描画処
理を図っている。

しかしながら、この先行技術は、ＬＳＩの内部メモリ゛
に全形を描画し得るサイズの文字・図形を外部メモリ上
に発生することはできるが、内部メモリより大型の文字
・図形を発生することについては配慮されていないので
、大型の文字・図形が発生できないという問題点があっ
た。

本発明の目的は、ＬＳＩ内部に小さなバッファメモリし
か持たない場合でも、高速に大型の文字・図形を外部メ
モリ上に発生することが可能な文字図形発生方式を提供
することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明による文字図形発生
方式は、ベクトル形式の文字・図形データをラスター形
式の文字・図形データに変換して第１のビットマツプメ
モリへ転送する文字図形発生方式において、文字・図形
を水平線で複数の領域に分割し、該分割した複数の領域
ごとに、当該文字・図形に対応するベクトル形式の文字
・図形データを上記第１のビットマツプメモリより小容
量の第２のビットマツプメモリ上に展開し、該展開され
たビットマツプデータを順次ラスター形式の文字・図形
データとして上記第１のビットマツプメモリへ転送する
ようにしたものである。

本発明による文字図形発生方式は、他の見地によれば、
ベクトル形式の文字・図形データを一旦内部ビットマッ
プメモリ上に展開し、該展開された文字図形データをラ
スター形式の文字・図形データとして外部のビットマツ
プメモリへ転送する機能を有するＬＳＩの文字図形発生
方式において、文字・図形を複数の領域に分割し、該分
割した複数の領域ごとに、当該文字・図形に対応するベ
クトル形式の文字・図形データを上記内部ビットマツプ
メモリ上に展開し、該展開された文字・図形データをラ
スター形式の文字・図形データとして順次上記外部のビ
ットマツプメモリへ転送するようにしたものである。

上記文字・図形の分割は、ラスターに平行な水平線およ
び／またはこれに直角な垂直線により行うことができる
が・、好ましくはラスターに沿う水平線によって複数の
領域に分割する。

［作　用〕 本発明は、複数に分割された文字・図形の各領域に関し
、描画および転送を順次行うので、ＬＳＩの内部メモリ
の容量に合せて分割領域のデータ容量を決定し、描画お
よび転送を繰返すことにより、内部メモリよりも大きな
サイズの文字・図形を外部メモリ上に発生することがで
きる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。

第２図は本発明の一実施例のＬＳＩ内部ブロッｔりの模
式図である。第２図において、１は全体制ｔ、ｑ：ｊ 御部であり、マイクロプロセッサまたは描画プロセッサ
等の命令を受取り、文字・図形発生処理制御を行う。こ
の命令の転送はバス２を通じて行われる。３は描画処理
回路であり、全体制御部１の起動命令により描画を実行
する機能を持つ。４は縦横サイズを変更可能な一定容量
のＬＳＩ内部ビットマツプメモリであり、描画処理回路
３が描画を実行するメモリである。５は描画処理の終了
したデータを外部メモリへ転送するデータ転送回路であ
る。データ転送回路５によるデータ転送はバス６を通じ
て行われる。

さて、第２図に示すような内部ブロックを有するＬＳＩ
を用いて大型の文字・図形を外部メモリ上に発生させる
本発明の文字図形発生方式について説明する。

第１図は第２図の全体制御部１の処理動作を示すフロー
チャートである。

全体制御部１は、バス２を通じて、外部メモリ上に発生
しようとする文字・図形の縦サイズおよび横サイズのデ
ータをそれぞれ入力する（ステップ１０）。さらに、入
力されたサイズデータから、ＬＳＩ内部ビットマツプメ
モリ４内に文字・図形の全形が描画できるか否かを判定
しくステップ１１）、ＬＳＩ内部ビットマツプメモリ４
よりも文字・図形が大きいと判定した場合は、分割ライ
ン数と分割図形数を算出する（ステップ１２〜１３）。

ＬＳＩ内部ビットマツプメモリの横サイズは文字・図形
の出力横サイズと同一のサイズに設定する。分割ライン
数は、第３図の３０に示すように、大型の文字・図形を
水平線で分割した際の分割領域の高さに相当する。この
高さは、例えば、ｒＬＳＩ内部ビットマツプメモリ４の
容量／出力横サイズＪで算出することができる。また、
分割図形数は、水平線で分割された文字・図形の領域数
を示す。第３図の例でいえば、　ｒ　Ａ　」という文字
は、３７〜４０の４つの領域に分割されているので、分
割図形数は４である。分割図形数は、「（出力数サイズ
十分割ライン数−１）／分割ライン数」で算出できる。

全体制御部１は、ステップ１１においてＬＳＩ内部ビッ
トマツプメモリ４内に文字・図形が描画可能と判断した
場合には、分割ライン数≧出ノＪ縦サイズ（ステップ１
４）、分割図形数＝１（ステップ１５）とする。

ここまでの一連の処理動作は１．描画命令発動前の初期
設定において実行されてもよい。

次に、全体制御部ｌは、分割ライン数データに従って、
文字の出力位置データを算出し、出力領域であるクリッ
ピング領域を設定する（ステップ１６）。その後に、描
画処理回路３に起動をかけ、１領域の描画を実行する（
ステップ１７）。描画処理回路３は、バス２を通じて文
字・図形データを得、全体制御部１が算出したクリッピ
ング領域でクリッピングしながら、ＬＳＩ内部ビットマ
ツプメモリ４に描画を行う。

描画処理回路３による描画終了後に、データ転送回路５
に起動がかけられ、ビットマツプメモリ４のデータはバ
ス６を通じて外部メモリに転送される（ステップ１８）
。ステップ１６〜ステツプ１８の処理により、１分割領
域の文字・図形データが発生する。そこで、分割図形数
を処理終了ごとにデクリメントしくステップ１９）、分
割図形数がＯになるまで、新たなりリッピング領域を設
定しながら処理を繰返す（ステップ２０）ことにより、
１つの文字・図形を外部メモリ上に発生することができ
る。

第３図を例にすると、ステップ１６〜ステツプ２０の繰
返しにより、ＬＳＩ内部ビットマツプメモリ３１に領域
３３のデータが描画され、これが転送さｔて領域３７が
発生し、同様に領域３４゜３５．３６から領域３８，３
９．４０が発生することにより、　ｒ　Ａ　Ｊの文字が
発生できる。

さらに、第４図に示すように、第２図におけるＬＳＩ内
部ビットマツプメモリ４を複数個設け、描画および転送
がパラレルに行なえるようにセレクタ５０．５１で制御
すれば、高速化を図ることができる。

このように本実施例によれば、ＬＳＩ内部ビットマツプ
メモリ４内に納まり切らない大型の文字・図形データを
外部メモリ上に発生することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明は、水平線で分割した領域
を順次描画し転送するよう構成されているので、以下に
記載されるような効果を奏する。

描画および転送を反復することにより、小さな容量のＬ
ＳＩの内部メモリを持つだけで、大きなサイズの文字・
図形を外部メモリ上に発生することができる。

また、水平線で分割すれば、描画時のクリッピングは、
ｙ軸方向のみで行えばよい。矩形で分割した場合等では
Ｘ軸方向のクリッピングも行う必要があるので、本発明
によれば、回路規模の縮小および処理速度の短縮を図る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における全体制御部の処理動
作を示すフローチャート、第２図は本発明の一実施例の
ＬＳＩ内部ブロックの模式図、第３図は本実施例におけ
る文字出力例を示す模式図、第４図は本発明の第２の実
施例のＬＳＩ内部ブロックの模式図である。 １・・・全体制御部、２・・・バス、３・・・描画処理
回路、４．３１・・・ＬＳＩ内部ビットマツプメモリ、
５・・・データ転送回路、３０・・・分割ライン数、２
・・・外部メモリ、３３〜３６．３７〜４０・・・分割
領域、５０．５１・・・セレクタ。 晃７色 第２昂 晃−５区 ≧１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ベクトル形式の文字・図形データをラスター形式の
   文字・図形データに変換して第１のビットマップメモリ
   へ転送する文字図形発生方式において、 文字・図形を水平線で複数の領域に分割し、該分割した
   複数の領域ごとに、当該文字・図形に対応するベクトル
   形式の文字・図形データを上記第１のビットマップメモ
   リより小容量の第２のビットマップメモリ上に展開し、
   該展開されたビットマップデータを順次ラスター形式の
   文字・図形データとして上記第１のビットマップメモリ
   へ転送することを特徴とする文字図形発生方式。 ２、ベクトル形式の文字・図形データを一旦内部ビット
   マップメモリ上に展開し、該展開された文字図形データ
   をラスター形式の文字・図形データとして外部のビット
   マップメモリへ転送する機能を有するＬＳＩの文字図形
   発生方式において、 文字・図形を複数の領域に分割し、該分割した複数の領
   域ごとに、当該文字・図形に対応するベクトル形式の文
   字・図形データを上記内部ビットマップメモリ上に展開
   し、該展開された文字・図形データをラスター形式の文
   字・図形データとして順次上記外部のビットマップメモ
   リへ転送することを特徴とする文字図形発生方式。 ３、上記文字・図形はラスターに沿って複数の領域に分
   割することを特徴とする請求項２記載の文字図形発生方
   式。