JPH0221165Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0221165Y2 JPH0221165Y2 JP1983085642U JP8564283U JPH0221165Y2 JP H0221165 Y2 JPH0221165 Y2 JP H0221165Y2 JP 1983085642 U JP1983085642 U JP 1983085642U JP 8564283 U JP8564283 U JP 8564283U JP H0221165 Y2 JPH0221165 Y2 JP H0221165Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- gas
- sub
- main tank
- liquid level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Molds, Cores, And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はガス硬化式鋳型造型機のガス供給装置
に関する。
に関する。
従来、複数台のガス硬化式鋳型造型機にそれぞ
れガスを供給する場合、各鋳型造型機にメインタ
ンクと同じ大きさのアミン吐出装置付タンクを配
置して、このアミン吐出装置付タンクからアミン
量を制御しながら各鋳型造型機に送るようにして
いたが、しかし、これは大きな設置スペースを必
要とするとともに、設備費が高価になるなどの問
題があつた。
れガスを供給する場合、各鋳型造型機にメインタ
ンクと同じ大きさのアミン吐出装置付タンクを配
置して、このアミン吐出装置付タンクからアミン
量を制御しながら各鋳型造型機に送るようにして
いたが、しかし、これは大きな設置スペースを必
要とするとともに、設備費が高価になるなどの問
題があつた。
本考案はこれらの問題点に鑑みて成されたもの
であつて、複数台の各ガス硬化式鋳型造型機にそ
れぞれサブタンクを、メインタンクと液面レベル
が同一レベルになるように設置し、メインタンク
の液面レベルを制御することにより前記各サブタ
ンクの液面レベルを一定レベルに維持するように
したコンパクトで、かつ安価なガス硬化式鋳型造
型機のガス供給装置を提供することを目的とする
ものである。
であつて、複数台の各ガス硬化式鋳型造型機にそ
れぞれサブタンクを、メインタンクと液面レベル
が同一レベルになるように設置し、メインタンク
の液面レベルを制御することにより前記各サブタ
ンクの液面レベルを一定レベルに維持するように
したコンパクトで、かつ安価なガス硬化式鋳型造
型機のガス供給装置を提供することを目的とする
ものである。
以下に、本考案の構成を実施例に基づき説明す
る。１は一定量のトリエチルアミン溶液若しくは
ジメチルアミン溶液等を貯溜したメインタンク
で、架台フレーム２上面に設置されている。メイ
ンタンク１の上部及び下部位置には、満杯レベル
計３と空レベル計４がそれぞれ取付けてあると共
に上壁にはアミン溶液の補給口５と空気取入口６
がそれぞれ取付けてあり、そして空気取入口６は
導管７を介してリン酸水溶液を貯溜した中和槽
（図示せず）に連通接続してあつて、メインタン
ク１内の負圧を防止するとともに空気取入口６か
ら漏れるアミンガスを前記中和槽で吸収するよう
にされている。また、メインタンク１の底壁部に
は、分配弁８を介して複数の分岐管９が連通接続
され、メインタンク１からアミン溶液が複数台の
ガス硬化式鋳型造型機に分配、供給されるように
なつている。１０はメインタンク１と略同一高さ
位置に設置されて一定量のアミン溶液を貯溜した
サブタンクで、サブタンク１０は分配弁８及び分
岐管９を介してメインタンク１に連通接続され、
メインタンク１とサブタンク１０の液面レベルは
同一レベルになるようにされている。１１はサブ
タンク１０に支持ブラケツト１２を介して取付け
支持された吐出ポンプで、吐出ポンプ１１の吸込
口側には、注入管１３が連通接続され注入管１３
はサブタンク１０の上壁を貫通して液面下方まで
延びており、また吐出ポンプ１１の吐出口側に
は、吐出ノズル１４が連通接続され吐出ノズル１
４は先端が気化室１５のエヤー供給口１６に向け
て設けられている。気化室１５は一端にエヤー供
給口１６を有し、かつ他端にガス注出口１７を備
えるとともに、エヤー供給口１６にはエヤー配管
１８を介して図示されない圧縮空気供給源が、ま
たガス注出口１７には注出管１９を介して枠状の
ガツシングボツクス２０が内部中空部に連通して
接続され、吐出ポンプ１１の作動により、アミン
溶液をサブタンク１０から注入管１３を介して汲
上げ、吐出ノズル１４より気化室１５内に注出、
気化できるように設けられている。また、サブタ
ンク１０の上壁部には、空気取入口２１が設けら
れ空気取入口２１は導管２２を介して中和槽（図
示せず）に連通接続されていて、サブタンク１０
内における負圧を防止するとともに空気取入口２
１から漏れるアミンガスを前記中和槽に吸収でき
るように設けられている。尚、２３は基礎上面と
架台フレーム２との間に架設された階段である。
このように構成されたものにおいて、メインタン
ク１及びサブタンク１０を略同一高さに設置し、
かつメインタンク１に補給口５よりアミン溶液を
満杯レベル計３位置まで補給すると、アミン溶液
は分配弁８及び分岐管９を介してサブタンク１０
に供給されメインタンク１及びサブタンク１０内
におけるアミン溶液の液面レベルは第１図に示す
如く同一レベルに維持される。この状態におい
て、エヤー配管１８を介して気化室１５に圧縮エ
ヤーを供給するとともに吐出ポンプ１１を作動す
ると、アミン溶液はサブタンク１０から汲上げら
れ注出ノズル１４より気化室１５に噴出、気化さ
れるとともに、この気化された硬化ガスはガス注
出口１７、及び注出管１９を介してガツシングボ
ツクス２０に送り込まれ、造型操作が行なわれ
る。
る。１は一定量のトリエチルアミン溶液若しくは
ジメチルアミン溶液等を貯溜したメインタンク
で、架台フレーム２上面に設置されている。メイ
ンタンク１の上部及び下部位置には、満杯レベル
計３と空レベル計４がそれぞれ取付けてあると共
に上壁にはアミン溶液の補給口５と空気取入口６
がそれぞれ取付けてあり、そして空気取入口６は
導管７を介してリン酸水溶液を貯溜した中和槽
（図示せず）に連通接続してあつて、メインタン
ク１内の負圧を防止するとともに空気取入口６か
ら漏れるアミンガスを前記中和槽で吸収するよう
にされている。また、メインタンク１の底壁部に
は、分配弁８を介して複数の分岐管９が連通接続
され、メインタンク１からアミン溶液が複数台の
ガス硬化式鋳型造型機に分配、供給されるように
なつている。１０はメインタンク１と略同一高さ
位置に設置されて一定量のアミン溶液を貯溜した
サブタンクで、サブタンク１０は分配弁８及び分
岐管９を介してメインタンク１に連通接続され、
メインタンク１とサブタンク１０の液面レベルは
同一レベルになるようにされている。１１はサブ
タンク１０に支持ブラケツト１２を介して取付け
支持された吐出ポンプで、吐出ポンプ１１の吸込
口側には、注入管１３が連通接続され注入管１３
はサブタンク１０の上壁を貫通して液面下方まで
延びており、また吐出ポンプ１１の吐出口側に
は、吐出ノズル１４が連通接続され吐出ノズル１
４は先端が気化室１５のエヤー供給口１６に向け
て設けられている。気化室１５は一端にエヤー供
給口１６を有し、かつ他端にガス注出口１７を備
えるとともに、エヤー供給口１６にはエヤー配管
１８を介して図示されない圧縮空気供給源が、ま
たガス注出口１７には注出管１９を介して枠状の
ガツシングボツクス２０が内部中空部に連通して
接続され、吐出ポンプ１１の作動により、アミン
溶液をサブタンク１０から注入管１３を介して汲
上げ、吐出ノズル１４より気化室１５内に注出、
気化できるように設けられている。また、サブタ
ンク１０の上壁部には、空気取入口２１が設けら
れ空気取入口２１は導管２２を介して中和槽（図
示せず）に連通接続されていて、サブタンク１０
内における負圧を防止するとともに空気取入口２
１から漏れるアミンガスを前記中和槽に吸収でき
るように設けられている。尚、２３は基礎上面と
架台フレーム２との間に架設された階段である。
このように構成されたものにおいて、メインタン
ク１及びサブタンク１０を略同一高さに設置し、
かつメインタンク１に補給口５よりアミン溶液を
満杯レベル計３位置まで補給すると、アミン溶液
は分配弁８及び分岐管９を介してサブタンク１０
に供給されメインタンク１及びサブタンク１０内
におけるアミン溶液の液面レベルは第１図に示す
如く同一レベルに維持される。この状態におい
て、エヤー配管１８を介して気化室１５に圧縮エ
ヤーを供給するとともに吐出ポンプ１１を作動す
ると、アミン溶液はサブタンク１０から汲上げら
れ注出ノズル１４より気化室１５に噴出、気化さ
れるとともに、この気化された硬化ガスはガス注
出口１７、及び注出管１９を介してガツシングボ
ツクス２０に送り込まれ、造型操作が行なわれ
る。
以上の説明によつて明らかなように、本考案に
よれば複数台のガス硬化式鋳型造型機にそれぞれ
アミンガスを供給するガス硬化式鋳型造型機のガ
ス供給装置において、各ガス硬化式鋳型造型機に
それぞれサブタンクを配設するとともにメインタ
ンクと前記各サブタンクを液面レベルが同一高さ
になるように設置して前記メインタンクの液面レ
ベルを制御するだけで前記各サブタンクに貯溜さ
れるアミン量を一定レベルに維持するようにした
ので、装置がコンパクトで、かつ安価であるなど
の効果を有し、この種の業界に寄与する効果は著
大である。
よれば複数台のガス硬化式鋳型造型機にそれぞれ
アミンガスを供給するガス硬化式鋳型造型機のガ
ス供給装置において、各ガス硬化式鋳型造型機に
それぞれサブタンクを配設するとともにメインタ
ンクと前記各サブタンクを液面レベルが同一高さ
になるように設置して前記メインタンクの液面レ
ベルを制御するだけで前記各サブタンクに貯溜さ
れるアミン量を一定レベルに維持するようにした
ので、装置がコンパクトで、かつ安価であるなど
の効果を有し、この種の業界に寄与する効果は著
大である。
第１図は本考案の実施例を示す一部切欠全体図
である。 １：メインタンク、１０：サブタンク、１５：
気化室。
である。 １：メインタンク、１０：サブタンク、１５：
気化室。
Claims (1)
- 複数台のガス硬化式鋳型造型機にそれぞれアミ
ンガスを供給するガス硬化式鋳型造型機のガス供
給装置において、前記複数台の各ガス硬化式鋳型
造型機に対して、１台のメインタンクを配備する
と共に各ガス硬化式鋳型造型機に対して、それぞ
れサブタンクを配備し、該メインタンクと各サブ
タンクとを分配弁及び分岐管を介して連通すると
共に該メインタンクと各サブタンクとを略同一高
さ位置に設置して、メインタンクと各サブタンク
の液面レベルが同一になるようにし、もつてメイ
ンタンクの液面レベルを制御することにより前記
各サブタンクの液面レベルを一定レベルに維持す
るようにしたことを特徴とするガス硬化式鋳型造
型機のガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8564283U JPS59190446U (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | ガス硬化式鋳型造型機のガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8564283U JPS59190446U (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | ガス硬化式鋳型造型機のガス供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190446U JPS59190446U (ja) | 1984-12-17 |
| JPH0221165Y2 true JPH0221165Y2 (ja) | 1990-06-07 |
Family
ID=30215607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8564283U Granted JPS59190446U (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | ガス硬化式鋳型造型機のガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190446U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5757814Y2 (ja) * | 1975-11-26 | 1982-12-11 |
-
1983
- 1983-06-03 JP JP8564283U patent/JPS59190446U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59190446U (ja) | 1984-12-17 |
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