JPH0221242A - 原子吸収スペクトロメータ - Google Patents
原子吸収スペクトロメータInfo
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- JPH0221242A JPH0221242A JP1064007A JP6400789A JPH0221242A JP H0221242 A JPH0221242 A JP H0221242A JP 1064007 A JP1064007 A JP 1064007A JP 6400789 A JP6400789 A JP 6400789A JP H0221242 A JPH0221242 A JP H0221242A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
原子吸収スペクトルメータは、試料中の探査元素の量ま
たは濃度を測定するために用いられる。この目的のため
に線放射する光源、例えば中空カソードランプから測光
束が光電検出器に導かれる。この測光束の光路に原子化
装置が配設されている。この原子化装置において探査す
べき試料が原子化され、その結果試料の構成成分は原子
状態において存在する。測光束は探査される元素の共振
線を含んでいる。測光束のこの共振線は探査される元素
の原子によって原子雲に吸収され、一方理想の場合試料
中に含まれている別の元素は測光束に何の影響も与えな
い。従って測光束は、測光束の通路に存在する、探査さ
れる元素の原子の数に対する尺度であって、適用される
原子化方法に応じて探査される元素の濃度または量に対
する尺度となる減衰を受ける。しかし測光束が受ける吸
収は探査される元素の原子によってのみ惹き起こされる
のではない。例えば分子による光の吸収に基づくバック
グラウンド吸収″がある。このバックグラウンド吸収は
殊に、高感度測定において補償されなければならない。
たは濃度を測定するために用いられる。この目的のため
に線放射する光源、例えば中空カソードランプから測光
束が光電検出器に導かれる。この測光束の光路に原子化
装置が配設されている。この原子化装置において探査す
べき試料が原子化され、その結果試料の構成成分は原子
状態において存在する。測光束は探査される元素の共振
線を含んでいる。測光束のこの共振線は探査される元素
の原子によって原子雲に吸収され、一方理想の場合試料
中に含まれている別の元素は測光束に何の影響も与えな
い。従って測光束は、測光束の通路に存在する、探査さ
れる元素の原子の数に対する尺度であって、適用される
原子化方法に応じて探査される元素の濃度または量に対
する尺度となる減衰を受ける。しかし測光束が受ける吸
収は探査される元素の原子によってのみ惹き起こされる
のではない。例えば分子による光の吸収に基づくバック
グラウンド吸収″がある。このバックグラウンド吸収は
殊に、高感度測定において補償されなければならない。
原子化装置として、試料が溶解液としてその中に噴霧さ
れる炎を用いることができる。しかし高感度測定に対し
て有利には電熱式の原子化方法が使用される。即ち試料
は、電流が貫流することで高温に加熱される炉内に供給
される。
れる炎を用いることができる。しかし高感度測定に対し
て有利には電熱式の原子化方法が使用される。即ち試料
は、電流が貫流することで高温に加熱される炉内に供給
される。
これにより試料は炉内で最初乾燥され、それから灰にな
り、最終的に原子化される。その際炉内で、探査される
原子が原子状態で存在する“原子雲″が形成される。測
光束がこの炉を通って案内される。この種の炉は種々の
形状を有し、通例はグラファイトから製造される。
り、最終的に原子化される。その際炉内で、探査される
原子が原子状態で存在する“原子雲″が形成される。測
光束がこの炉を通って案内される。この種の炉は種々の
形状を有し、通例はグラファイトから製造される。
バックグラウンド補償のために“ゼーマン効果″が利用
される。原子化された試料における吸収する原子に磁界
が加わるとき、これら原子の共振線の分裂およびシフト
が生じる。そこでこれら原子の共振線はもはや測光束の
スペクトル線と一致せず、限界状態ではもはや原子の吸
収は行われない。これにより、磁界を加えた場合にも生
じる原子によらないバックグラウンド吸収と、磁界を加
えていない場合にバックグラウンド吸収に重畳される真
の原子吸収とを区別することができる。
される。原子化された試料における吸収する原子に磁界
が加わるとき、これら原子の共振線の分裂およびシフト
が生じる。そこでこれら原子の共振線はもはや測光束の
スペクトル線と一致せず、限界状態ではもはや原子の吸
収は行われない。これにより、磁界を加えた場合にも生
じる原子によらないバックグラウンド吸収と、磁界を加
えていない場合にバックグラウンド吸収に重畳される真
の原子吸収とを区別することができる。
本発明は、試料の原子化が上述の電熱式原子化によって
行われかつバックグラウンド補償のために同じく上述の
ようにゼーマン効果が利用される、原子吸収スペクトロ
メータに関する。
行われかつバックグラウンド補償のために同じく上述の
ようにゼーマン効果が利用される、原子吸収スペクトロ
メータに関する。
従来の技術
西独国特許出願公告第1964469号公報により、ビ
ームが線放射器として形成されている唯一のビーム源か
ら出て、該ビーム源の、試料を通過するビームが縦方向
ゼーマン効果を利用して周波数変調される、原子吸収ス
ペクトロメータが公知である。この公知の原子吸収スペ
クトロメータでは、電磁石の磁極片の間に中空カソード
ランプが装着されている。磁極片の1つは、測光束を通
す貫通孔を有している。それから測光束は原子化装置と
して用いられる炎およびモノクロメータを通って進みか
つ光電検出器に入射する。電磁石は投入および遮断可能
であり、その際電磁石が投入されている場合と遮断され
ている場合との信号の差から、バックグラウンド吸収に
関して補償された、試料原子の原子吸収を測定すること
ができる。ここでは電磁石の巻線は磁極片に装着されて
いる。
ームが線放射器として形成されている唯一のビーム源か
ら出て、該ビーム源の、試料を通過するビームが縦方向
ゼーマン効果を利用して周波数変調される、原子吸収ス
ペクトロメータが公知である。この公知の原子吸収スペ
クトロメータでは、電磁石の磁極片の間に中空カソード
ランプが装着されている。磁極片の1つは、測光束を通
す貫通孔を有している。それから測光束は原子化装置と
して用いられる炎およびモノクロメータを通って進みか
つ光電検出器に入射する。電磁石は投入および遮断可能
であり、その際電磁石が投入されている場合と遮断され
ている場合との信号の差から、バックグラウンド吸収に
関して補償された、試料原子の原子吸収を測定すること
ができる。ここでは電磁石の巻線は磁極片に装着されて
いる。
この公知の原子吸収スペクトロメータにおいて、線放射
する光源の放射線はゼーマン効果によって周期的にシフ
トされかつ従って放射光は周波数変調され、試料の吸収
線は周波数変調されない。光源として中空カソードラン
プを使用した場合問題が生じる可能性がある。というの
は中空カソードランプの放電は磁界によって影響を受け
るからであり、この点は上記の西独国特許出願公告第1
964469号公報にも既に指摘されている通りである
。
する光源の放射線はゼーマン効果によって周期的にシフ
トされかつ従って放射光は周波数変調され、試料の吸収
線は周波数変調されない。光源として中空カソードラン
プを使用した場合問題が生じる可能性がある。というの
は中空カソードランプの放電は磁界によって影響を受け
るからであり、この点は上記の西独国特許出願公告第1
964469号公報にも既に指摘されている通りである
。
西独国特許第2165106号明細書によって、投入お
よび遮断可能な電磁石の磁界を光源にではなくて原子化
装置、すなわち原子化された試料に加えることが公知で
ある。その際原子化装置は炎である。磁界は測光束の走
行方向に対して垂直方向に加えられる。ここで“横方向
”ゼーマン効果に基づいて吸収線の分裂が生じる。この
場合にも、測光束の放射線と試料の吸収線との間に相対
的なずれが生じる。磁界の投入および遮断によってこの
場合も、探査される元素の原子による原子の吸収と、特
定できないバックグラウンド吸収とを区別することがで
きる。
よび遮断可能な電磁石の磁界を光源にではなくて原子化
装置、すなわち原子化された試料に加えることが公知で
ある。その際原子化装置は炎である。磁界は測光束の走
行方向に対して垂直方向に加えられる。ここで“横方向
”ゼーマン効果に基づいて吸収線の分裂が生じる。この
場合にも、測光束の放射線と試料の吸収線との間に相対
的なずれが生じる。磁界の投入および遮断によってこの
場合も、探査される元素の原子による原子の吸収と、特
定できないバックグラウンド吸収とを区別することがで
きる。
横方向ゼーマン効果を使用した場合、スペクトル線は、
その波長が磁界が遮断されている場合の当該線のシフト
していない波長に相応する中央線と、これに対して高い
方の波長にシフトしている側方線・および低い方の波長
にシフトしている側方線とに分裂される。中央線および
側方線は異なって偏向されている。それ故に中央線の影
響は偏光子によって取り除くことができる。しかしこの
種の偏光子には50%の光損失が生じる。
その波長が磁界が遮断されている場合の当該線のシフト
していない波長に相応する中央線と、これに対して高い
方の波長にシフトしている側方線・および低い方の波長
にシフトしている側方線とに分裂される。中央線および
側方線は異なって偏向されている。それ故に中央線の影
響は偏光子によって取り除くことができる。しかしこの
種の偏光子には50%の光損失が生じる。
原子化装置として試料を電熱式に原子化するための炉が
公知である。このようなものとして例えば、リング状の
接触部材の間に保持されているグラファイト管が用いら
れ、この管を通って測光束が長手方向に走行する。リン
グ状の接触部材を介して強い電流がグラファイト管を通
って案内される。これによりグラファイト管に挿入され
ている試料は原子化されかつグラファイト管内に“原子
雲”を形成する。この原子雲において探査される元素は
原子状態で存在するグラファイト管によって動作するこ
のような原子化装置は例えば、西独国特許第23142
07号明細書および西独国特許第2148783号明細
書から公知である。
公知である。このようなものとして例えば、リング状の
接触部材の間に保持されているグラファイト管が用いら
れ、この管を通って測光束が長手方向に走行する。リン
グ状の接触部材を介して強い電流がグラファイト管を通
って案内される。これによりグラファイト管に挿入され
ている試料は原子化されかつグラファイト管内に“原子
雲”を形成する。この原子雲において探査される元素は
原子状態で存在するグラファイト管によって動作するこ
のような原子化装置は例えば、西独国特許第23142
07号明細書および西独国特許第2148783号明細
書から公知である。
長手方向に電流が貫流するグラファイト管によって動作
するこの種の原子化装置においてゼーマン効果を利用し
てバックグラウンド吸収の補償を行うことも公知である
。この目的のために電磁石によって測光束の走行方向を
横断する方向に配向された交番磁界が加えられる。その
際同様横方向ゼーマン効果が惹き起こされ、このために
光路に偏光子が必要になってくる。
するこの種の原子化装置においてゼーマン効果を利用し
てバックグラウンド吸収の補償を行うことも公知である
。この目的のために電磁石によって測光束の走行方向を
横断する方向に配向された交番磁界が加えられる。その
際同様横方向ゼーマン効果が惹き起こされ、このために
光路に偏光子が必要になってくる。
電流がグラファイト管を通って長手方向ではなくて、周
方向に案内される、原子吸収スペクトロメータにおける
試料の電熱式原子化に対する炉が公知である。このため
の例は、米国特許第4407582号明細書および西独
国特許公開第3534417号公報並びに実質的に内容
の等しい刊行物“Analytical Chemis
try 58(1986)、1973である。
方向に案内される、原子吸収スペクトロメータにおける
試料の電熱式原子化に対する炉が公知である。このため
の例は、米国特許第4407582号明細書および西独
国特許公開第3534417号公報並びに実質的に内容
の等しい刊行物“Analytical Chemis
try 58(1986)、1973である。
未公開の西独国特許出願第3726533゜4号明細書
によって、原子吸収スペクトロスコープにおける電熱式
原子化のための横断方向加熱される管状の炉に電流を供
給するための2つの接触部材を有する接触部材−装置が
公知であり、その際管状の炉は長手方向に延在する、直
径をはさんで対向する接触部材リブを有している。軸線
が炉の軸線および測光束の走行方向に対して垂直方向に
延在する、この接触部材−装置の接触部材は作動状態に
おいて中空室を形成する。この中空室に管状の炉が収容
される。そこで炉は接触部材のV字形の溝の間に保持さ
れる。中空室は実質的に、接触部材の1つにおける凹所
によって形成される。この凹所は別の接触部材によって
分離ギャップまで被覆される。
によって、原子吸収スペクトロスコープにおける電熱式
原子化のための横断方向加熱される管状の炉に電流を供
給するための2つの接触部材を有する接触部材−装置が
公知であり、その際管状の炉は長手方向に延在する、直
径をはさんで対向する接触部材リブを有している。軸線
が炉の軸線および測光束の走行方向に対して垂直方向に
延在する、この接触部材−装置の接触部材は作動状態に
おいて中空室を形成する。この中空室に管状の炉が収容
される。そこで炉は接触部材のV字形の溝の間に保持さ
れる。中空室は実質的に、接触部材の1つにおける凹所
によって形成される。この凹所は別の接触部材によって
分離ギャップまで被覆される。
保護ガス通路が上記の溝につながっている。
未公開の西独国特許出願第3735013゜7号明細書
によって、原子吸収スペクトロスコープにおいて試料を
電熱式に原子化するための管状の炉が公知である。この
炉は、対向する側に接触部材突起が取り付けられている
管状の炉体を含んでいる。これら接触部材突起は、管状
の、本来の炉体に沿って延在するリブを有しており、こ
れらリブに円筒状の接続部材の円錐形の接触面が接続さ
れている。接触部材のリブはくびれ部を有している。こ
のようなくびれ部は西独国特許出願第3735013.
7号明細書では円筒状のねじ込みによって形成されてい
るこの構造によって炉体に沿って−様な温度を得ようと
する。接触部材−装置は、上述の西独国特許出願第37
26533.4号明細書と類似している。
によって、原子吸収スペクトロスコープにおいて試料を
電熱式に原子化するための管状の炉が公知である。この
炉は、対向する側に接触部材突起が取り付けられている
管状の炉体を含んでいる。これら接触部材突起は、管状
の、本来の炉体に沿って延在するリブを有しており、こ
れらリブに円筒状の接続部材の円錐形の接触面が接続さ
れている。接触部材のリブはくびれ部を有している。こ
のようなくびれ部は西独国特許出願第3735013.
7号明細書では円筒状のねじ込みによって形成されてい
るこの構造によって炉体に沿って−様な温度を得ようと
する。接触部材−装置は、上述の西独国特許出願第37
26533.4号明細書と類似している。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、冒頭に述べた形式の原子吸収スペクト
ロメータにおける改善された有効信号を得ることである
。
ロメータにおける改善された有効信号を得ることである
。
本発明の別の課題は、冒頭に述べた形式の原子吸収スペ
クトロメータにおいて、従来の“ゼーマン”原子吸収ス
ペクトロメータにおいて可能であったよりも一層一様な
、炉体に沿った温度経過が得られるようにすることであ
る。
クトロメータにおいて、従来の“ゼーマン”原子吸収ス
ペクトロメータにおいて可能であったよりも一層一様な
、炉体に沿った温度経過が得られるようにすることであ
る。
問題点を解決するための手段
本発明によれば上述の課題は、次の組み合わせによって
解決される: (a)原子吸収スペクトロメータの測光束の走行方向を
横断する方向において加熱される、試料の電熱式の原子
化に対する炉を備え、(b)前記試料の配置場所に、測
光束の走行方向に対して平行に延在する磁界を発生する
ための切換可能な電磁石を備え、それにより磁石の投入
接続の際に吸収線の縦方向ゼーマン効果が生じるように
する。
解決される: (a)原子吸収スペクトロメータの測光束の走行方向を
横断する方向において加熱される、試料の電熱式の原子
化に対する炉を備え、(b)前記試料の配置場所に、測
光束の走行方向に対して平行に延在する磁界を発生する
ための切換可能な電磁石を備え、それにより磁石の投入
接続の際に吸収線の縦方向ゼーマン効果が生じるように
する。
更に、請求項5記載の構成によれば、
(a)測光束を発生する、線放射する第1の光源に対し
て付加的に、該線放射する第1の光源と交互に作動接続
される、バックグラウンド補償のための連続放射する第
2の光源が設けられでおり、かつ (b)部分透過性の鏡を選択的に光路内に旋回可能とし
、該鏡によって前記第2の光源がら放射される光束が測
光束の光路内に反射可能とする ことが可能である。
て付加的に、該線放射する第1の光源と交互に作動接続
される、バックグラウンド補償のための連続放射する第
2の光源が設けられでおり、かつ (b)部分透過性の鏡を選択的に光路内に旋回可能とし
、該鏡によって前記第2の光源がら放射される光束が測
光束の光路内に反射可能とする ことが可能である。
本発明の別の構成は、その他の請求項に記載されている
。
。
実施例
次に本発明を図示の実施例につき図面を用いて詳細に説
明する。
明する。
第1図には、原子吸収スペクトロメータ全体が暗示され
ている。
ている。
原子吸収スペクトロメータは、その中にランプ、光学系
および光電検出器が収容されているケーシング10を有
している。ケーシング10は試料室12を形成する。試
料室12には原子化装置14が配設されている。
および光電検出器が収容されているケーシング10を有
している。ケーシング10は試料室12を形成する。試
料室12には原子化装置14が配設されている。
原子吸収スペクトロメータは第1の光源16として中空
カソードランプ16を有している。
カソードランプ16を有している。
光源16は、所定の、探査される元素の共振線に相応す
る線スペクトルを放射する。光源16から測光束18が
出ていく。測光束18は平面鏡20によって方向変換さ
れかつ凹面鏡22によってケーシング10の開口24を
通って試料室の真ん中に集められる。それから測光束は
開口24と心が合うように整列されている、ケーシング
10の開口26から出てかつ第2の凹面鏡28に入射す
る。この第2の凹面鏡28がら測光束18は平面鏡30
を介してモノクロメータ34の入射スリット32に集束
される。モノクロメータ34の出射スリット34の後方
に光電検出器38が配設されている。光電検出器38の
信号は信号処理回路40に加えられる。
る線スペクトルを放射する。光源16から測光束18が
出ていく。測光束18は平面鏡20によって方向変換さ
れかつ凹面鏡22によってケーシング10の開口24を
通って試料室の真ん中に集められる。それから測光束は
開口24と心が合うように整列されている、ケーシング
10の開口26から出てかつ第2の凹面鏡28に入射す
る。この第2の凹面鏡28がら測光束18は平面鏡30
を介してモノクロメータ34の入射スリット32に集束
される。モノクロメータ34の出射スリット34の後方
に光電検出器38が配設されている。光電検出器38の
信号は信号処理回路40に加えられる。
原子化装置14は、電熱式原子化のための炉、および試
料の配置場所に磁界を発生するための投入および遮断可
能な電磁石44を含んでいる。炉のうち第1図には本来
の炉体42しか図示されていない。電磁石44は2つの
心が合うように整列されている磁極片46および48を
有しており、両磁極片の間に炉体42が装着されている
。磁極片46および48には整列されている貫通孔50
および52があけられているこれら貫通孔50および5
2は炉体42の長手孔54と整列されている。測光束1
8は孔50および52並びに炉体の長手孔を通って延在
している。磁極片46および48にコイル保持体56な
いし58が固着されている。このコイル保持体56およ
び58に電磁石44のコイル60ないし62が巻き付け
られている。64は、炉体42を流れる電流を制御する
電源部である。図かられかるように、電流は測光束18
の走行方向を横断する方向に供給されかつ管状の炉体4
2を周方向において流れる。電磁石44は磁石制御部6
6によって、磁界が交互に投入および遮断されるように
制御される。電磁石44の磁界は炉体内の試料の配置場
所において測光束18の走行方向において延在する。そ
れ故に磁界が投入されているとき、試料原子に縦方向ゼ
ーマン効果が発生される。すなわち、試料原子の吸収線
はその都度、雑音の影響を受けていない本来の吸収線に
比べてシフトしている2つの線に分裂される。本来の吸
収線の波長においてもはや試料中の原子吸収が生じない
。それ故に探査される元素の原子も測光束18をもはや
吸収しない。その理由はこの測光束が、元素を特徴付け
るずれていない共振線しか含んでいないからである。そ
れ故に磁界が投入されているときにはバックグラウンド
吸収のみが測定される。磁界の投入および遮断時の測定
から、バックグラウンド吸収に関して補正された、真の
原子吸収の成分を測定することができる。この目的のた
めに電磁石44の投入および遮断のタイミングは、線6
8によって図示されているように、信号評価回路40に
供給される。縦方向ゼーマン効果の使用によって光路に
おける偏光子は不必要になりかつ有効信号は改善される
。
料の配置場所に磁界を発生するための投入および遮断可
能な電磁石44を含んでいる。炉のうち第1図には本来
の炉体42しか図示されていない。電磁石44は2つの
心が合うように整列されている磁極片46および48を
有しており、両磁極片の間に炉体42が装着されている
。磁極片46および48には整列されている貫通孔50
および52があけられているこれら貫通孔50および5
2は炉体42の長手孔54と整列されている。測光束1
8は孔50および52並びに炉体の長手孔を通って延在
している。磁極片46および48にコイル保持体56な
いし58が固着されている。このコイル保持体56およ
び58に電磁石44のコイル60ないし62が巻き付け
られている。64は、炉体42を流れる電流を制御する
電源部である。図かられかるように、電流は測光束18
の走行方向を横断する方向に供給されかつ管状の炉体4
2を周方向において流れる。電磁石44は磁石制御部6
6によって、磁界が交互に投入および遮断されるように
制御される。電磁石44の磁界は炉体内の試料の配置場
所において測光束18の走行方向において延在する。そ
れ故に磁界が投入されているとき、試料原子に縦方向ゼ
ーマン効果が発生される。すなわち、試料原子の吸収線
はその都度、雑音の影響を受けていない本来の吸収線に
比べてシフトしている2つの線に分裂される。本来の吸
収線の波長においてもはや試料中の原子吸収が生じない
。それ故に探査される元素の原子も測光束18をもはや
吸収しない。その理由はこの測光束が、元素を特徴付け
るずれていない共振線しか含んでいないからである。そ
れ故に磁界が投入されているときにはバックグラウンド
吸収のみが測定される。磁界の投入および遮断時の測定
から、バックグラウンド吸収に関して補正された、真の
原子吸収の成分を測定することができる。この目的のた
めに電磁石44の投入および遮断のタイミングは、線6
8によって図示されているように、信号評価回路40に
供給される。縦方向ゼーマン効果の使用によって光路に
おける偏光子は不必要になりかつ有効信号は改善される
。
ケーシング10に、連続放射する第2の光源70が配設
されている。この第2の光源はジューチリウムランプで
ある。第2の光源70は光束72を放射する。第2の光
源70からの光束72は光路に選択的に挿入接続可能な
ビームスプリッタ74を介して測光束18の光路内に旋
回されて入ることができる。第1および第2の光源16
ないし70は高速に順次交互に挿入接続することができ
、その結果第1の光源(中空カソードランプ)16から
の線スペクトルを有する測光束18または第2の光源(
ジュートリウムランプ)からの連続スペクトルを有する
測光束が交互に炉体中に形成された原子雲を通っていく
。挿入接続されるビームスプリッタ74を用いたこの作
動法では電磁石は遮断されている。その場合バックグラ
ウンド吸収は、第1の光源の非常に狭いスペクトル線の
吸収およびこのスペクトル線に比べて広範な、モノクロ
メータ34によって規定される、連続ビームの幅の吸収
を交互に測定することによって、検出することができる
。第1の光源と第2の光源との間の交代は500Hz以
上の周波数、すなわち1000Hzによって行われる。
されている。この第2の光源はジューチリウムランプで
ある。第2の光源70は光束72を放射する。第2の光
源70からの光束72は光路に選択的に挿入接続可能な
ビームスプリッタ74を介して測光束18の光路内に旋
回されて入ることができる。第1および第2の光源16
ないし70は高速に順次交互に挿入接続することができ
、その結果第1の光源(中空カソードランプ)16から
の線スペクトルを有する測光束18または第2の光源(
ジュートリウムランプ)からの連続スペクトルを有する
測光束が交互に炉体中に形成された原子雲を通っていく
。挿入接続されるビームスプリッタ74を用いたこの作
動法では電磁石は遮断されている。その場合バックグラ
ウンド吸収は、第1の光源の非常に狭いスペクトル線の
吸収およびこのスペクトル線に比べて広範な、モノクロ
メータ34によって規定される、連続ビームの幅の吸収
を交互に測定することによって、検出することができる
。第1の光源と第2の光源との間の交代は500Hz以
上の周波数、すなわち1000Hzによって行われる。
基準光源として連続放射する第2の光源を用いた作動法
では、電磁石44を用いたゼーマン効果を利用した場合
に検出することができない、バックグラウンド吸収の比
較的迅速な変化を検出することができる。電磁石44は
比較的慣性が大なので、原子吸収測定とバックグラウン
ド測定との交代の周波数には制約がある。縦方向ゼーマ
ン効果によって光路には偏光子が必要でない。それ故に
電磁石の遮断後原子吸収スペクトメータは、偏光子およ
び付加的にビームスプリッタ74による2重の光減衰が
生じることもなく、連続放射する第2の光源70によっ
て動作することができる。
では、電磁石44を用いたゼーマン効果を利用した場合
に検出することができない、バックグラウンド吸収の比
較的迅速な変化を検出することができる。電磁石44は
比較的慣性が大なので、原子吸収測定とバックグラウン
ド測定との交代の周波数には制約がある。縦方向ゼーマ
ン効果によって光路には偏光子が必要でない。それ故に
電磁石の遮断後原子吸収スペクトメータは、偏光子およ
び付加的にビームスプリッタ74による2重の光減衰が
生じることもなく、連続放射する第2の光源70によっ
て動作することができる。
電磁石44および炉を有する原子化装置の構造は第2図
および第3図に詳細に図示されている。
および第3図に詳細に図示されている。
電磁石44は、成層化鉄心から成るU字形の磁束帰路部
材76および整列されている磁極片46.48を有して
いる。磁極片46および48は円筒形でありかつ互いに
向き合う端面がさい頭内錐形状に先細になっている。磁
極片46および48は、U字形の磁束帰路部材76の脚
部に取り付けられておりかつそれより内方向に突出して
いる、同じく心合わせされて整列されている終端部材7
8ないし80に固着されている。磁極片46および48
および終端部材78ないし80を通って、心合わせされ
て整列されている貫通孔50ないし52が延在している
。
材76および整列されている磁極片46.48を有して
いる。磁極片46および48は円筒形でありかつ互いに
向き合う端面がさい頭内錐形状に先細になっている。磁
極片46および48は、U字形の磁束帰路部材76の脚
部に取り付けられておりかつそれより内方向に突出して
いる、同じく心合わせされて整列されている終端部材7
8ないし80に固着されている。磁極片46および48
および終端部材78ないし80を通って、心合わせされ
て整列されている貫通孔50ないし52が延在している
。
磁極片46および48において貫通孔50ないし52は
、測光束を炉体42の中心に集束することができるよう
に、円錐状の内壁を有している。終端部材78および8
0の領域において貫通孔50ないし52は肩状部82を
形成している。貫通孔50および52にウィンドウホル
ダ84ないし86が挿入されかつ0リング88によって
シールされている。ウィンドウホルダ84および86に
は、反射を避けるためにウィンドウホルダ84ないし8
6に斜めに配設されておりかつパツキンリング92によ
って保持されるウィンドウ90が装着されている。
、測光束を炉体42の中心に集束することができるよう
に、円錐状の内壁を有している。終端部材78および8
0の領域において貫通孔50ないし52は肩状部82を
形成している。貫通孔50および52にウィンドウホル
ダ84ないし86が挿入されかつ0リング88によって
シールされている。ウィンドウホルダ84および86に
は、反射を避けるためにウィンドウホルダ84ないし8
6に斜めに配設されておりかつパツキンリング92によ
って保持されるウィンドウ90が装着されている。
磁極片46および48に、アルミニウムのような非磁性
材料から成る統合ユニット94が固着されている。この
ユニットは一方において、磁気コイル60ないし62が
巻き付けられているコイル保持体56および58を形成
し、他方においてその間に炉を保持する接触部材のうち
1つを支持する接触部材支持体96を形成する。磁気コ
イル60および62は第2図および第3図にはわかりや
すくために図示されていないコイル保持体56および5
8は、2つのフランジ98および100ないし102お
よび104およびボス部分106ないし108を有する
巻型形状の部材によって形成されている。ボス部分10
6および108は磁極片46ないし48の形状に整合さ
れている。2つのコイル保持体56および58の互いに
向き合っている7ランジ100および102の間に、孔
112を有するブロック110が装着されている。孔1
12において、その外面にミアンダ状の溝116を有す
る挿入体114が装着されており、その際溝は孔112
の内面とともに冷却通路を形成している。この冷却通路
は冷却液に対する入口118および出口120に接続さ
れている。挿入体は、保護ガス用人口124が設けられ
ているヘッド部122を有している。挿入体114を通
って軸線方向孔126が延在しているが、この孔は第3
図では左側の端部で閉鎖されている。この軸線方向孔に
接触部材128が装着されており、この接触部材によっ
て電熱式の原子化のための炉130が一方の側において
保持されておりかつを接触部材を介して炉130に対す
る電流供給も行われる。
材料から成る統合ユニット94が固着されている。この
ユニットは一方において、磁気コイル60ないし62が
巻き付けられているコイル保持体56および58を形成
し、他方においてその間に炉を保持する接触部材のうち
1つを支持する接触部材支持体96を形成する。磁気コ
イル60および62は第2図および第3図にはわかりや
すくために図示されていないコイル保持体56および5
8は、2つのフランジ98および100ないし102お
よび104およびボス部分106ないし108を有する
巻型形状の部材によって形成されている。ボス部分10
6および108は磁極片46ないし48の形状に整合さ
れている。2つのコイル保持体56および58の互いに
向き合っている7ランジ100および102の間に、孔
112を有するブロック110が装着されている。孔1
12において、その外面にミアンダ状の溝116を有す
る挿入体114が装着されており、その際溝は孔112
の内面とともに冷却通路を形成している。この冷却通路
は冷却液に対する入口118および出口120に接続さ
れている。挿入体は、保護ガス用人口124が設けられ
ているヘッド部122を有している。挿入体114を通
って軸線方向孔126が延在しているが、この孔は第3
図では左側の端部で閉鎖されている。この軸線方向孔に
接触部材128が装着されており、この接触部材によっ
て電熱式の原子化のための炉130が一方の側において
保持されておりかつを接触部材を介して炉130に対す
る電流供給も行われる。
接触部材128は、軸線方向の孔126に装着されてい
る軸部132、およびヘッド部134を有している。ヘ
ッド部134はその端面において切欠き136を有して
いる。この切欠き136は端面に接しているところで最
初横断面箇所138において円筒形でありがっそれがら
横断面箇所140において円錐形に狭まっていく。軸部
132に、切欠き136の底部までつながっている中央
の軸線方向孔142が延在している。円筒形状の横断面
箇所138において第3図の上側のヘッド部134に、
炉に試料を供給することができる半径方向の供給用開口
144が形成されている。
る軸部132、およびヘッド部134を有している。ヘ
ッド部134はその端面において切欠き136を有して
いる。この切欠き136は端面に接しているところで最
初横断面箇所138において円筒形でありがっそれがら
横断面箇所140において円錐形に狭まっていく。軸部
132に、切欠き136の底部までつながっている中央
の軸線方向孔142が延在している。円筒形状の横断面
箇所138において第3図の上側のヘッド部134に、
炉に試料を供給することができる半径方向の供給用開口
144が形成されている。
電磁石44の磁束帰路部材76は、横断面がU字形の薄
板部分146によって取り囲まれており、この薄板部分
内に支承部材148がボルト150によって保持されて
いる。支承部材のピン軸152に旋回アーム154が軸
受ブッシュ156を介して旋回可能に支承されている。
板部分146によって取り囲まれており、この薄板部分
内に支承部材148がボルト150によって保持されて
いる。支承部材のピン軸152に旋回アーム154が軸
受ブッシュ156を介して旋回可能に支承されている。
旋回アーム154に可動のブロック158が固着されて
いる。このブロック158はブロック110と類似して
孔160を有している。この孔160には挿入体114
と類似した挿入体162が装着されている。この挿入体
162はその外面に、孔160の内面とともに冷却通路
を形成するミアンダ状の溝164を有している。
いる。このブロック158はブロック110と類似して
孔160を有している。この孔160には挿入体114
と類似した挿入体162が装着されている。この挿入体
162はその外面に、孔160の内面とともに冷却通路
を形成するミアンダ状の溝164を有している。
この冷却通路はその端部が、冷却液に対する入口用接続
部166および出口用接続部168に接続されている。
部166および出口用接続部168に接続されている。
挿入体162はヘッド部170を有している。中央の軸
線方向の孔172は挿入体162およびヘッド部170
を通って延在している。軸線方向の孔172は第3図の
右側においてウィンドウによって閉鎖されているこの軸
線方向の孔172に保護ガス接続部174がつながって
いる。軸線方向の孔172には接触部材176が装着さ
れている。接触部材176は円筒形の軸部178および
ヘッド部180を有している。ヘッド部180の端面に
おいて円錐形の凹部182が形成されている。この凹部
L82は横断面箇所140の凹部にほぼ相応する。接触
部材176の軸部178に、孔142に類似した中央の
軸線方向の孔184が延在している。
線方向の孔172は挿入体162およびヘッド部170
を通って延在している。軸線方向の孔172は第3図の
右側においてウィンドウによって閉鎖されているこの軸
線方向の孔172に保護ガス接続部174がつながって
いる。軸線方向の孔172には接触部材176が装着さ
れている。接触部材176は円筒形の軸部178および
ヘッド部180を有している。ヘッド部180の端面に
おいて円錐形の凹部182が形成されている。この凹部
L82は横断面箇所140の凹部にほぼ相応する。接触
部材176の軸部178に、孔142に類似した中央の
軸線方向の孔184が延在している。
第3図に図示されている、旋回アーム154の動作位置
において、炉130は円錐形の接触面186および18
8によって接触部材128と176との間に保持される
。その際接触部材128および176の軸線は一線を成
すように整列されている。また、ブロック110および
158、挿入体114および162および接触部材12
8および176を介して電流が炉130に案内される。
において、炉130は円錐形の接触面186および18
8によって接触部材128と176との間に保持される
。その際接触部材128および176の軸線は一線を成
すように整列されている。また、ブロック110および
158、挿入体114および162および接触部材12
8および176を介して電流が炉130に案内される。
この目的のためにブロック110および挿入体162は
、高電流通路に対する差し込み接続部190ないし19
2を備えている。
、高電流通路に対する差し込み接続部190ないし19
2を備えている。
炉130は、第2図においてもっともよくわかる本来の
炉体42を含んでいる。炉体42に沿って、第3図にお
いて見て取れる直径をはさんで向かい合う接触部材リブ
194および196が延在している。これら接触部材リ
ブ194および196に、実質的に円筒形の接続部材1
98および200が接続されており、これら接続部材の
円錐形の接触面186および188が接触部材128お
よび176の間に保持されている。従ってこれら接続部
材198および200の軸線は、第3図の図平面におい
て接触部材128および176の軸線と一線を成すよう
に整列されておりかつ測光束18と一線を成すように整
列されている、炉体42の軸線に対して垂直方向に位置
している。第2図および第3図の上側にあるこれら2つ
の軸線に対して垂直方向に炉体42中に、供給用開口部
144と一線を成すように整列されておりかつ試料を炉
130に供給することができる供給用開口部が設けられ
ている。
炉体42を含んでいる。炉体42に沿って、第3図にお
いて見て取れる直径をはさんで向かい合う接触部材リブ
194および196が延在している。これら接触部材リ
ブ194および196に、実質的に円筒形の接続部材1
98および200が接続されており、これら接続部材の
円錐形の接触面186および188が接触部材128お
よび176の間に保持されている。従ってこれら接続部
材198および200の軸線は、第3図の図平面におい
て接触部材128および176の軸線と一線を成すよう
に整列されておりかつ測光束18と一線を成すように整
列されている、炉体42の軸線に対して垂直方向に位置
している。第2図および第3図の上側にあるこれら2つ
の軸線に対して垂直方向に炉体42中に、供給用開口部
144と一線を成すように整列されておりかつ試料を炉
130に供給することができる供給用開口部が設けられ
ている。
接触部材128および176はそれらの凹所136およ
び182で、炉130を収容する中空室を形成している
。その際接触部材128および176は比較的狭い分離
ギャップ202によってのみ相互に分離されている。(
図示されていない)ニューマチック旋回装置によって旋
回アーム154は第3図において時計の指針の進行方向
に旋回することができる。これは第3図では矢印によっ
て示されている。これにより挿入体162および接触部
材176を有するブロック158が戻し旋回されかつ炉
130は接近操作可能になる。このようにして炉130
の交換を行うことができる。保護ガス接続部124およ
び174を介して保護ガスが供給されるこの保護ガスは
孔126ないし172および軸線方向の孔142ないし
184を介して炉130の接続部材198ないし200
に流れる。
び182で、炉130を収容する中空室を形成している
。その際接触部材128および176は比較的狭い分離
ギャップ202によってのみ相互に分離されている。(
図示されていない)ニューマチック旋回装置によって旋
回アーム154は第3図において時計の指針の進行方向
に旋回することができる。これは第3図では矢印によっ
て示されている。これにより挿入体162および接触部
材176を有するブロック158が戻し旋回されかつ炉
130は接近操作可能になる。このようにして炉130
の交換を行うことができる。保護ガス接続部124およ
び174を介して保護ガスが供給されるこの保護ガスは
孔126ないし172および軸線方向の孔142ないし
184を介して炉130の接続部材198ないし200
に流れる。
それから保護ガスは後で説明する通路を介して炉130
に分配される。接触部材128および176並びに炉1
30はグラファイトから製造されている。保護ガスは、
炉130の加熱、従って燃焼の際に炉130に空気中の
酸素が入り込むことがないようにする。
に分配される。接触部材128および176並びに炉1
30はグラファイトから製造されている。保護ガスは、
炉130の加熱、従って燃焼の際に炉130に空気中の
酸素が入り込むことがないようにする。
1g2図かられかるように、接触部材128と磁極片4
8の端面との間に測光束に対する中央の貫通孔を有する
遮蔽板204が装着されている。被覆板204は、この
遮蔽板204の平面において高い熱伝導率を有しかつこ
の平面に対して垂直な方向において低い熱伝導率を有す
る熱分解性の炭素から成っている。このようにして磁極
片48は炉130および接触部材128の高温に対して
遮蔽される。
8の端面との間に測光束に対する中央の貫通孔を有する
遮蔽板204が装着されている。被覆板204は、この
遮蔽板204の平面において高い熱伝導率を有しかつこ
の平面に対して垂直な方向において低い熱伝導率を有す
る熱分解性の炭素から成っている。このようにして磁極
片48は炉130および接触部材128の高温に対して
遮蔽される。
挿入体162および接触部材176における軸線方向孔
172および184並びに接続部材200および接触部
材条片196は同時に、高温計光路208を形成するた
めに用いられる。
172および184並びに接続部材200および接触部
材条片196は同時に、高温計光路208を形成するた
めに用いられる。
この光路において光線検出器210から結像系212を
用いて炉体42の壁の一部が観察される。光線検出器2
10の信号は、炉体42の温度に対する尺度を表してい
るので、炉温度の調整のために使用することができる。
用いて炉体42の壁の一部が観察される。光線検出器2
10の信号は、炉体42の温度に対する尺度を表してい
るので、炉温度の調整のために使用することができる。
第6図および第7図は、遮蔽板204を有する接触部材
128自体を示している。第8図は対向する接触部材を
示している。
128自体を示している。第8図は対向する接触部材を
示している。
第9図ないし第11図には炉130が詳しく図示されて
いる。
いる。
第9図ないし第11図の炉において220で、その基本
形において上側の平坦な面222および下側の平坦な面
224を有するプレートを形成するグラファイト部材が
示されている。グラファイト部材220は、平面で見て
実質的に規則的な8角形をしている中央部分226を有
している。この8角形の直径を挟んで対向する2つの辺
に、接続部材198および200を形成する突起が固着
されている。これら接続部材198および200は円筒
形の周面232ないし234を有しているが、平坦な面
222ないし224によって上側および下側において制
限されておりかつこれにより偏平に切取られている。接
続部材198および200は円錐形の接触面186ない
し188を有している。これらの接触面186および1
88によって炉130は、電流供給を行う装置側の接触
部材128および176の間に保持されている。
形において上側の平坦な面222および下側の平坦な面
224を有するプレートを形成するグラファイト部材が
示されている。グラファイト部材220は、平面で見て
実質的に規則的な8角形をしている中央部分226を有
している。この8角形の直径を挟んで対向する2つの辺
に、接続部材198および200を形成する突起が固着
されている。これら接続部材198および200は円筒
形の周面232ないし234を有しているが、平坦な面
222ないし224によって上側および下側において制
限されておりかつこれにより偏平に切取られている。接
続部材198および200は円錐形の接触面186ない
し188を有している。これらの接触面186および1
88によって炉130は、電流供給を行う装置側の接触
部材128および176の間に保持されている。
8角形の、接続部材198,200を有する辺に垂直で
ある辺は、貫通孔240によって接続されている。この
貫通孔240の軸線242は接続部材の軸線244に対
して垂直方向に延びている。中心部分226の、貫通孔
240を介して接続されている辺間の部分が、炉体42
を形成している。
ある辺は、貫通孔240によって接続されている。この
貫通孔240の軸線242は接続部材の軸線244に対
して垂直方向に延びている。中心部分226の、貫通孔
240を介して接続されている辺間の部分が、炉体42
を形成している。
炉体42の2つの辺に接触部材リブ194および196
が続いている。これら接触部材リブ194および196
は第10図の平面図において台形をしている。接触部材
リブ194および196は平坦な面222および224
によって上側および下側において制限されておりかつ辺
は斜めに延びている側面252,254ないし256.
258によって制限されている。台形の平行な長い方の
辺は炉体42に接している。
が続いている。これら接触部材リブ194および196
は第10図の平面図において台形をしている。接触部材
リブ194および196は平坦な面222および224
によって上側および下側において制限されておりかつ辺
は斜めに延びている側面252,254ないし256.
258によって制限されている。台形の平行な長い方の
辺は炉体42に接している。
狭い方の辺はそれぞれ、8角形の最初に述べた辺であり
かつ接続部材198ないし200を支持している。接触
部材リブ194および196は横断面が縮小された領域
を有している。
かつ接続部材198ないし200を支持している。接触
部材リブ194および196は横断面が縮小された領域
を有している。
第9図ないし第11図に図示の炉において、炉体42の
中央領域に沿ってスリット292および296,298
を通って平坦な面222および224に電流供給するた
めに横断面が縮小されている。これらスリットは炉体4
2の軸線242に対して平行であって、側面252.2
54ないし256.258から間隔をおいた所で終わっ
ている。第9図かられかるように、スリット、例えば2
96および298は保護ガス通路、例えば206から始
まっている。それ故に保護ガス通路を介して流れる保護
ガスは開口300および302を通ってスリット296
゜298に入りかつ両側のこれらスリットを通って、炉
体42全体に沿って出ていく。
中央領域に沿ってスリット292および296,298
を通って平坦な面222および224に電流供給するた
めに横断面が縮小されている。これらスリットは炉体4
2の軸線242に対して平行であって、側面252.2
54ないし256.258から間隔をおいた所で終わっ
ている。第9図かられかるように、スリット、例えば2
96および298は保護ガス通路、例えば206から始
まっている。それ故に保護ガス通路を介して流れる保護
ガスは開口300および302を通ってスリット296
゜298に入りかつ両側のこれらスリットを通って、炉
体42全体に沿って出ていく。
保護ガス通路206は軸線244に沿って接続部材19
8および200内に延びている。保護ガス通路は中央部
分226まで延在している。保護ガス通路を介して保護
ガスが装置の側の接触部材128.176から保護通路
206を通って供給されるとき、この保護ガスはスリッ
ト296,298を介して分配されかつ炉130に4方
から噴霧される。これにより炉への空気の侵入、従って
高い原子化温度の際の炉の燃焼が妨げられる。
8および200内に延びている。保護ガス通路は中央部
分226まで延在している。保護ガス通路を介して保護
ガスが装置の側の接触部材128.176から保護通路
206を通って供給されるとき、この保護ガスはスリッ
ト296,298を介して分配されかつ炉130に4方
から噴霧される。これにより炉への空気の侵入、従って
高い原子化温度の際の炉の燃焼が妨げられる。
炉体42の中央領域において電流供給に対して横断面を
縮小したことによって、特別−様な温度分配が実現され
る。
縮小したことによって、特別−様な温度分配が実現され
る。
炉体42は、分析すべき試料を炉に供給することができ
る供給用開口282を有している。
る供給用開口282を有している。
この供給用開口282の軸線284は、炉体42および
接続部材198,200の軸線242および244に対
して垂直方向である。
接続部材198,200の軸線242および244に対
して垂直方向である。
発明の効果
本発明によれば、グラファイト製炉に電流が測光束の方
向を横断する方向において供給される。これにより一様
な温度分布が得られる。それにも拘わらず磁界が測光束
の走行方向において発生されることで、グラファイト製
炉の一方の側を試料の供給のj;めに使用することがで
きる。
向を横断する方向において供給される。これにより一様
な温度分布が得られる。それにも拘わらず磁界が測光束
の走行方向において発生されることで、グラファイト製
炉の一方の側を試料の供給のj;めに使用することがで
きる。
本発明の別の利点は、試料に縦方向ゼーマン効果、従っ
て中央線なしの吸収線の分裂が本来の波長において生じ
ることである。それ故に、この種の中央線を光路に偏光
子を配設することで取り除く必要がない。これにより改
善された有効信号が得られる。
て中央線なしの吸収線の分裂が本来の波長において生じ
ることである。それ故に、この種の中央線を光路に偏光
子を配設することで取り除く必要がない。これにより改
善された有効信号が得られる。
Wc1図はバックグラウンド吸収が縦方向ゼーマン効果
を利用して補償される、原子吸収スペクトロメータの構
成全体を暗示するブロック線図であり、第2図は縦方向
ゼーマン効果が発生される電磁石と、該電磁石のギャッ
プにおいて試料を電熱式に原子化するための炉とを、一
部断面にて示す側面図であり、第3図は第2図の線■−
■に沿って切断して見た断面図であり、第4図は炉の保
持のための接触部材の1つおよび炉への電流供給部を支
持する接触部材支持体そのものと、該接点支持体ととも
に統合ユニットを形成するコイル保持体とを第2図と類
似した側面において示す図であり、第5図は第4図の構
成部分の平面図であり、第6図は第2図と類似した、炉
を一方の側において保持している接触部材の概略図であ
り、第7図は第6図の線■−■に沿って切断して見た断
面図であり、第8図は第6図と類似した、対向接触部材
の概略図であり、第9図は第1図ないし第3図の原子吸
収スペクトロメータにおける試料の電熱式原子化のため
の炉そのものを第3図に類似して、一部断面にて示す概
略図であり、第10図は第9図の炉の平面図であり、第
11図は炉を第9図の左側から見た、一部を断面にて示
す概略図である。 12・・・試料室、14・・・原子化装置、16・・・
第1の光源、18・・・測光束、42・・・炉体、44
・・・電磁石、46.48・・・磁極片、56.58・
・・コイル保持体、70・・・第2の光源、96・・・
接触部材支持体、128.176・・・接触部材、13
0・・・炉 ″−4石1 1、i:”J7弯 手 続 補 正 書 (方式) 事件の表示 平成 1 発明の名称 年 特許願 第 号 原子吸収スペク トロメータ 補正をする者 事件との関係
を利用して補償される、原子吸収スペクトロメータの構
成全体を暗示するブロック線図であり、第2図は縦方向
ゼーマン効果が発生される電磁石と、該電磁石のギャッ
プにおいて試料を電熱式に原子化するための炉とを、一
部断面にて示す側面図であり、第3図は第2図の線■−
■に沿って切断して見た断面図であり、第4図は炉の保
持のための接触部材の1つおよび炉への電流供給部を支
持する接触部材支持体そのものと、該接点支持体ととも
に統合ユニットを形成するコイル保持体とを第2図と類
似した側面において示す図であり、第5図は第4図の構
成部分の平面図であり、第6図は第2図と類似した、炉
を一方の側において保持している接触部材の概略図であ
り、第7図は第6図の線■−■に沿って切断して見た断
面図であり、第8図は第6図と類似した、対向接触部材
の概略図であり、第9図は第1図ないし第3図の原子吸
収スペクトロメータにおける試料の電熱式原子化のため
の炉そのものを第3図に類似して、一部断面にて示す概
略図であり、第10図は第9図の炉の平面図であり、第
11図は炉を第9図の左側から見た、一部を断面にて示
す概略図である。 12・・・試料室、14・・・原子化装置、16・・・
第1の光源、18・・・測光束、42・・・炉体、44
・・・電磁石、46.48・・・磁極片、56.58・
・・コイル保持体、70・・・第2の光源、96・・・
接触部材支持体、128.176・・・接触部材、13
0・・・炉 ″−4石1 1、i:”J7弯 手 続 補 正 書 (方式) 事件の表示 平成 1 発明の名称 年 特許願 第 号 原子吸収スペク トロメータ 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、試料の電熱式の原子化およびゼーマン効果を利用し
たバックグラウンド補償が行われる原子吸収スペクトロ
メータにおいて、 (a)原子吸収スペクトロメータの測光束(18)の走
行方向を横断する方向において加熱される、試料の電熱
式原子化に対する炉(130)を備え、 (b)前記試料の配置場所に、前記測光束(18)の走
行方向に対して平行に延在する磁界を発生するための切
換可能な電磁石(44)を備え、それにより該電磁石(
44)の投入接続の際に吸収線の縦方向ゼーマン効果が
生じるようにしたことを特徴とする原子吸収スペクトロ
メータ。 2、(a)磁界を発生するための前記電磁石(44)は
、前記測光束(18)を通過させるように整列されてい
る貫通孔(50、52)を備えた磁極片(46、48)
を有し、かつ(b)該磁極片(46、48)に接触部材
支持体(96)が配設されており、該接触部材支持体に
おいて、軸線が前記測光束(18)の軸線に対して垂直
方向に延在する接触部材(128、176)が、前記電
磁石(44)のギャップにおいて前記試料を電熱式に原
子化するための前記測光束の走行方向を横断する方向に
加熱される炉(130)を保持しかつ該炉(130)に
電流を供給するために保持されていることを特徴とする
請求項1記載の原子吸収スペクトロメータ。 3、磁界を発生するための磁気コイル(60、62)が
、前記電磁石(44)の前記磁極片(46、48)に直
接配設されていることを特徴とする原子吸収スペクトロ
メータ。 4、前記接触部材支持体(96)は、磁気コイル(60
、62)を支持するコイル保持体(56、58)ととも
に、統合ユニットを形成し、該統合ユニットは前記コイ
ル保持体(56、58)とともに前記磁極片(46、4
8)上に載着されていることを特徴とする請求項2記載
の原子吸収スペクトロメータ。 5、(a)測光束(18)を発生する、線放射する第1
の光源(16)に付加的に、該線放射する第1の光源(
16)と交互に投入接続される、バックグラウンド補償
のための連続放射する第2の光源(70)が設けられて
おり、かつ (b)ビームスプリッタ(74)が選択的に光路内に旋
回可能であり、該ビームスプリッタによって前記第2の
光源(70)から放射された光束が測光束(18)の光
路内に反射可能であることを特徴とする請求項1記載の
原子吸収スペクトルメータ。 6、第1および第2の光源(16ないし70)間の交代
は、500Hz以上の周波数、有利には1kHzの周波
数によって行われることを特徴とする請求項5記載の原
子吸収スペククトルメータ。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3809212A DE3809212A1 (de) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | Atomabsorptions-spektrometer |
| DE3809216A DE3809216A1 (de) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | Atomabsorptions-spektrometer |
| DE3809212.3 | 1988-03-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221242A true JPH0221242A (ja) | 1990-01-24 |
| JP2823583B2 JP2823583B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=39386399
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1503420A Expired - Lifetime JP2868561B2 (ja) | 1988-03-18 | 1989-03-13 | 原子吸光‐分光計 |
| JP1064007A Expired - Lifetime JP2823583B2 (ja) | 1988-03-18 | 1989-03-17 | 原子吸収スペクトロメータ |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1503420A Expired - Lifetime JP2868561B2 (ja) | 1988-03-18 | 1989-03-13 | 原子吸光‐分光計 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5094530A (ja) |
| EP (2) | EP0365624B1 (ja) |
| JP (2) | JP2868561B2 (ja) |
| AT (1) | ATE110468T1 (ja) |
| AU (1) | AU618797B2 (ja) |
| DE (2) | DE3809212A1 (ja) |
| WO (2) | WO1989008833A1 (ja) |
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| JP2749174B2 (ja) * | 1990-03-16 | 1998-05-13 | 株式会社日立製作所 | ゼーマン原子吸光光度計 |
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| RU2102726C1 (ru) * | 1996-09-30 | 1998-01-20 | Товарищество с ограниченной ответственностью "Кортэк" | Атомно-абсорбционный спектрометр |
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| DE102019103035A1 (de) | 2019-02-07 | 2020-08-13 | Analytik Jena Ag | Atomabsorptionsspektrometer |
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