JPH02212842A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH02212842A JPH02212842A JP1034353A JP3435389A JPH02212842A JP H02212842 A JPH02212842 A JP H02212842A JP 1034353 A JP1034353 A JP 1034353A JP 3435389 A JP3435389 A JP 3435389A JP H02212842 A JPH02212842 A JP H02212842A
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- Japan
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- cleaning
- cleaned
- photomask
- attached
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分舒）
この発明は、洗浄装置に係り、特に露光マスクなどのミ
クロン以下のゴミやシミを除去する高品質な洗浄を可能
とした洗浄装置に関するものである。
クロン以下のゴミやシミを除去する高品質な洗浄を可能
とした洗浄装置に関するものである。
従来、この種の洗浄は人手により行われていた。すなわ
ち、３４５図（ａ）に示す綿等からなる洗浄具１を用い
、第５図（ｂ）に示すような洗浄台１００上にフォトマ
スク２を載置し、このフォトマスク２上に洗剤２００を
滴下し、作業者３００が洗浄具１により、第６図に示す
ようにフォトマスク２の表面を偏心運動させながら洗浄
面を手作業により洗浄していた。なお、ホトマスク２の
寸法の一例を示すと１５２ｒｎｍＸ １５２ｍｍ、洗浄
具１の寸法は直径４０ｍｍφである。
ち、３４５図（ａ）に示す綿等からなる洗浄具１を用い
、第５図（ｂ）に示すような洗浄台１００上にフォトマ
スク２を載置し、このフォトマスク２上に洗剤２００を
滴下し、作業者３００が洗浄具１により、第６図に示す
ようにフォトマスク２の表面を偏心運動させながら洗浄
面を手作業により洗浄していた。なお、ホトマスク２の
寸法の一例を示すと１５２ｒｎｍＸ １５２ｍｍ、洗浄
具１の寸法は直径４０ｍｍφである。
このように偏心運動させながら移動させると、第６図に
示すように洗浄面に洗浄跡４００がつくが、その後、純
水によって再び洗浄面に付着した洗剤２００を洗い流す
。表面、裏面を上記のように洗浄することにより洗浄作
業を完了していた。
示すように洗浄面に洗浄跡４００がつくが、その後、純
水によって再び洗浄面に付着した洗剤２００を洗い流す
。表面、裏面を上記のように洗浄することにより洗浄作
業を完了していた。
上記のような手作業による洗浄方法では、個人差がはげ
しく、洗浄後の異物検査ではたびたび再洗浄となってい
た。また、洗浄時の作業が重労働であり、２ｋｇ以上の
押圧力にて１０分程度作業するので、作業者３００はた
びたび腕および肩等の痛みを訴えていた。さらに、作業
者３００が熟練度の高い作業者に限定されているので、
当人が不在な場合には、一連の工程に支障を来し、それ
に見合う作業者を選択するのは極めて困難である等の問
題点があった。
しく、洗浄後の異物検査ではたびたび再洗浄となってい
た。また、洗浄時の作業が重労働であり、２ｋｇ以上の
押圧力にて１０分程度作業するので、作業者３００はた
びたび腕および肩等の痛みを訴えていた。さらに、作業
者３００が熟練度の高い作業者に限定されているので、
当人が不在な場合には、一連の工程に支障を来し、それ
に見合う作業者を選択するのは極めて困難である等の問
題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、洗浄作業の標準化とともに、作業者の重労
働を解消し、自動的に、しかも誰でも均一な洗浄ができ
る洗浄装置を得ることを目的とする。
れたもので、洗浄作業の標準化とともに、作業者の重労
働を解消し、自動的に、しかも誰でも均一な洗浄ができ
る洗浄装置を得ることを目的とする。
この発明に係る洗浄装置は、ホルダ内に載置された被洗
浄体を洗浄する洗浄具が取り付けられた回転アームと、
この回転アームが取り付けられ、かつ軸方向に移動自在
に取り付けられ、洗浄時に固定される上下動駆動軸と、
この上下動駆動軸を駆動し、前記被洗浄体に所要の圧力
を加える軸方向駆動部と、前記回転アームを偏心運動さ
せる駆動部と、各部を所定のタイミングで制御する制御
部とにより構成したものである。
浄体を洗浄する洗浄具が取り付けられた回転アームと、
この回転アームが取り付けられ、かつ軸方向に移動自在
に取り付けられ、洗浄時に固定される上下動駆動軸と、
この上下動駆動軸を駆動し、前記被洗浄体に所要の圧力
を加える軸方向駆動部と、前記回転アームを偏心運動さ
せる駆動部と、各部を所定のタイミングで制御する制御
部とにより構成したものである。
この発明における洗浄装置は、洗浄表面に所定の圧力を
加え表面を偏心運動させながら洗浄する構成としたので
、作業者の手の動作と同様な動作により洗浄を行うこと
ができる。したがって、洗浄表面を傷つけることなく洗
浄を行うことができるとともに、手作業と異なり常時洗
浄表面の汚れに応じた一定圧力のもとて洗浄が可能とな
り、ムラのない安定した洗浄を長時間にわたって継続す
ることができる。
加え表面を偏心運動させながら洗浄する構成としたので
、作業者の手の動作と同様な動作により洗浄を行うこと
ができる。したがって、洗浄表面を傷つけることなく洗
浄を行うことができるとともに、手作業と異なり常時洗
浄表面の汚れに応じた一定圧力のもとて洗浄が可能とな
り、ムラのない安定した洗浄を長時間にわたって継続す
ることができる。
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第１図〜第４図はこの発明の一実施例を示す図で、第１
図は洗浄装置全体を示す正面図、第２図は同じく上面図
、第３図は、第１図の要部を拡大した側面図、第４図は
同じく斜視図である。
図は洗浄装置全体を示す正面図、第２図は同じく上面図
、第３図は、第１図の要部を拡大した側面図、第４図は
同じく斜視図である。
これらの図において、１は洗浄具、２はこの洗浄具１に
より洗浄されるフォトマスク、３はこのフォトマスク２
が載置されるマスクホルダで、このマスクホルダ３はホ
ルダ取付板４に取り付けられている。５はＸＹステージ
で、Ｘステージ５ａおよびＹステージ５ｂからなり、ホ
ルダ取付板４はＹステージ５ｂに取り付けられている。
より洗浄されるフォトマスク、３はこのフォトマスク２
が載置されるマスクホルダで、このマスクホルダ３はホ
ルダ取付板４に取り付けられている。５はＸＹステージ
で、Ｘステージ５ａおよびＹステージ５ｂからなり、ホ
ルダ取付板４はＹステージ５ｂに取り付けられている。
ＸＹステージ５は、駆動モータ６および７によりそれぞ
れの駆動軸８および１０が駆動されることにより、案内
軸９および１１に案内されてＸ−Ｙ方向に移動し、これ
によりホルダ取付板４に取り付けられたマスクホルダ３
上のフォトマスク２がＸ−Ｙ方向に移動させられる。１
２は回転アームで、第２図に示すように１２０°間隔で
等分された３個が、上下動駆動軸１３に取り付けられて
おり、それぞれの回転アーム１２には取付具１４を介し
て洗浄具１が取り付けられ、所定位置でそれぞれロック
されるようになっている。１５は前記取付具１４を回転
アーム１２に取り付ける蝶ボルトである。１６は前記上
下動駆動軸１３を装着したハウジングで、内部にストロ
ークベアリング１７が装着されている。ハウジング１６
には、取付具１８を介して上下動駆動軸１３を駆動し、
フォトマスク２に所要の圧力を加える軸方向駆動部、例
えばシリンダ１日が取り付けられている。２０はＩＪｉ
街用のクツションである。上下動駆動軸１３の下端には
位置決めカム２１が取り付けられ、そのツバ面２１ａを
挟持するように上下動駆動軸１３を上下動させるための
２個のベアリング２２が取り付けられている。このベア
リング２２はシリンダ１９に連結されている。位置決め
カム２１の両側に配設された側板２３には（第４図）位
置決めベアリング２４が取り付けられている。この位置
決めベアリング２４は、位置決めカム２１に形成された
ミゾ２１ｂに嵌合し、その動作をロックする。２５は定
板で、この上に前記したＸＹステージ５等が載置される
。２６は移動板で、第３図のように定板２５の開口部に
位置し、その下方には定板２５に支持された底板２７に
自在に動作するＸスライド具２８およびＹスライド具２
９が取り付けられ、さらに、回転アーム１２を偏心運動
させるための駆動部、すなわちモータ３０．ギャ３１が
取り付けられ、ギヤ３１には偏心カム３２とベアリング
３３が取り付けられている。このベアリング３３は移動
板２６に形成された穴２６ａに嵌合する（第３図）。
れの駆動軸８および１０が駆動されることにより、案内
軸９および１１に案内されてＸ−Ｙ方向に移動し、これ
によりホルダ取付板４に取り付けられたマスクホルダ３
上のフォトマスク２がＸ−Ｙ方向に移動させられる。１
２は回転アームで、第２図に示すように１２０°間隔で
等分された３個が、上下動駆動軸１３に取り付けられて
おり、それぞれの回転アーム１２には取付具１４を介し
て洗浄具１が取り付けられ、所定位置でそれぞれロック
されるようになっている。１５は前記取付具１４を回転
アーム１２に取り付ける蝶ボルトである。１６は前記上
下動駆動軸１３を装着したハウジングで、内部にストロ
ークベアリング１７が装着されている。ハウジング１６
には、取付具１８を介して上下動駆動軸１３を駆動し、
フォトマスク２に所要の圧力を加える軸方向駆動部、例
えばシリンダ１日が取り付けられている。２０はＩＪｉ
街用のクツションである。上下動駆動軸１３の下端には
位置決めカム２１が取り付けられ、そのツバ面２１ａを
挟持するように上下動駆動軸１３を上下動させるための
２個のベアリング２２が取り付けられている。このベア
リング２２はシリンダ１９に連結されている。位置決め
カム２１の両側に配設された側板２３には（第４図）位
置決めベアリング２４が取り付けられている。この位置
決めベアリング２４は、位置決めカム２１に形成された
ミゾ２１ｂに嵌合し、その動作をロックする。２５は定
板で、この上に前記したＸＹステージ５等が載置される
。２６は移動板で、第３図のように定板２５の開口部に
位置し、その下方には定板２５に支持された底板２７に
自在に動作するＸスライド具２８およびＹスライド具２
９が取り付けられ、さらに、回転アーム１２を偏心運動
させるための駆動部、すなわちモータ３０．ギャ３１が
取り付けられ、ギヤ３１には偏心カム３２とベアリング
３３が取り付けられている。このベアリング３３は移動
板２６に形成された穴２６ａに嵌合する（第３図）。
また、定板２５と底板２７との間には防振用ゴム３４が
適宜な個所に配設されている。３５は取付はボルトであ
る。また、第１図の３６は装置全体を所定のタイミング
で制御する制ｍ部である。
適宜な個所に配設されている。３５は取付はボルトであ
る。また、第１図の３６は装置全体を所定のタイミング
で制御する制ｍ部である。
次に動作の概要について説明する。
第１図〜第３図に示すように、マスクホルダ３上にフォ
トマスク２をセットする。スタートスイッチ（図示せず
）を入れると、第３図に示すようにモータ３０が回転し
て偏心カム３２を回転させる。偏心カム３２の動力はベ
アリング３３．Ｘスライド具２８．Ｙスライド具２９を
介して順次伝達され、回転アーム１２を回転、すなわち
偏心運動させる８回転アーム１２の偏心運動にしたがっ
て、これに取り付けられた洗浄具１も偏心運動する。同
時に上限に停止していたシリンダ１９が下がりベアリン
グ２２は位置決めカム２１のツバ面２１ａを挟んで下降
し、位置決めベアリング２４が位置決めカム２１のミゾ
２１ｂに入り込んで上下動駆動軸１３を固定するので、
モータ３０からの駆動力は回転アーム１２の偏心運動の
みとなる。すなわち、モータ３０が回転すると、この回
転力は偏心カム３２．ベアリング３３を介してＸスライ
ド具２８およびＹスライド具２９により所定個所に固定
された回転アーム１２を偏心運動させる。この偏心運動
と一定の加圧をフォトマスク２の洗浄面に与え、第６図
に示した手作業時と同様にフォトマスク２の表面を偏心
運動しながら洗浄する。次にフォトマスク２の面をまん
べんなく洗浄するため第２図に示すようにＸステージ５
ａとＹステージ５ｂによってフォトマスク２を移動する
。フォトマスク２の表面が洗浄完了すると、図示はしな
いが、自動的に純水シャワーによって洗剤を洗い流す。
トマスク２をセットする。スタートスイッチ（図示せず
）を入れると、第３図に示すようにモータ３０が回転し
て偏心カム３２を回転させる。偏心カム３２の動力はベ
アリング３３．Ｘスライド具２８．Ｙスライド具２９を
介して順次伝達され、回転アーム１２を回転、すなわち
偏心運動させる８回転アーム１２の偏心運動にしたがっ
て、これに取り付けられた洗浄具１も偏心運動する。同
時に上限に停止していたシリンダ１９が下がりベアリン
グ２２は位置決めカム２１のツバ面２１ａを挟んで下降
し、位置決めベアリング２４が位置決めカム２１のミゾ
２１ｂに入り込んで上下動駆動軸１３を固定するので、
モータ３０からの駆動力は回転アーム１２の偏心運動の
みとなる。すなわち、モータ３０が回転すると、この回
転力は偏心カム３２．ベアリング３３を介してＸスライ
ド具２８およびＹスライド具２９により所定個所に固定
された回転アーム１２を偏心運動させる。この偏心運動
と一定の加圧をフォトマスク２の洗浄面に与え、第６図
に示した手作業時と同様にフォトマスク２の表面を偏心
運動しながら洗浄する。次にフォトマスク２の面をまん
べんなく洗浄するため第２図に示すようにＸステージ５
ａとＹステージ５ｂによってフォトマスク２を移動する
。フォトマスク２の表面が洗浄完了すると、図示はしな
いが、自動的に純水シャワーによって洗剤を洗い流す。
次に回転アーム１２を１２０゜回転させて、洗剤の付着
していない洗浄具１をフォトマスク２の面上に置き純水
だけの洗浄作業を上記に示す方法で繰り返すことにより
、フォトマスク２の表面はムラなく洗浄できるばかりで
なく、作業者の熟練度に関係なく、常に一定の洗浄効果
を得ることができる。
していない洗浄具１をフォトマスク２の面上に置き純水
だけの洗浄作業を上記に示す方法で繰り返すことにより
、フォトマスク２の表面はムラなく洗浄できるばかりで
なく、作業者の熟練度に関係なく、常に一定の洗浄効果
を得ることができる。
なお、上記実施例では、フォトマスクの洗浄について説
明したが、この発明はフォトマスクに限らず、１μｍ以
下のゴミおよび油脂分を洗浄するものにも転用すること
ができる。
明したが、この発明はフォトマスクに限らず、１μｍ以
下のゴミおよび油脂分を洗浄するものにも転用すること
ができる。
以上説明したようにこの発明は、ホルダ内に載置された
被洗浄体を洗浄する洗浄具が取り付けられた回転アーム
と、この回転アームが取り付けられ、かつ軸方向に移動
自在に取り付けられ、洗浄時に固定される上下動駆動軸
と、上下動駆動軸を駆動し、被洗浄体に所要の圧力を加
える軸方向駆動部と、前記回転アームを偏心運動させる
駆動部と、各部を所定のタイミングで制御する制御部と
により構成したので、作業者を限定することなく、誰で
も同様の作業が容易にできるようにマニュアル化が可能
になる。したがって、洗浄表面を傷つけることなく洗浄
を行うことができるとともに、手作業と異なり常時洗浄
表面の汚れに応じた一定圧力のもとて洗浄が可能となり
、ムラのない安定した洗浄を長時間にわたって継続する
ことができる。また、従来のように洗浄ミスによる再洗
浄が全くなくなり、さらには作業者の健康を害すること
もなくなり、スムーズに表面洗浄が可能になるなどの効
果が得られる。
被洗浄体を洗浄する洗浄具が取り付けられた回転アーム
と、この回転アームが取り付けられ、かつ軸方向に移動
自在に取り付けられ、洗浄時に固定される上下動駆動軸
と、上下動駆動軸を駆動し、被洗浄体に所要の圧力を加
える軸方向駆動部と、前記回転アームを偏心運動させる
駆動部と、各部を所定のタイミングで制御する制御部と
により構成したので、作業者を限定することなく、誰で
も同様の作業が容易にできるようにマニュアル化が可能
になる。したがって、洗浄表面を傷つけることなく洗浄
を行うことができるとともに、手作業と異なり常時洗浄
表面の汚れに応じた一定圧力のもとて洗浄が可能となり
、ムラのない安定した洗浄を長時間にわたって継続する
ことができる。また、従来のように洗浄ミスによる再洗
浄が全くなくなり、さらには作業者の健康を害すること
もなくなり、スムーズに表面洗浄が可能になるなどの効
果が得られる。
第１図〜第４図はこの発明の一実施例を示す図で、第１
図はフォトマスクの洗浄装置の全体構成を示す正面図、
第２図は、第１図の平面略図、第３図は、第１図の主要
部分の拡大側面図、第４図は同じく拡大斜視図、第５図
（ａ）は従来のフォトマスクの洗浄具を示す図、第５図
（ｂ）は、第５図（ａ）の洗浄具を使用したフォトマス
クの洗浄装置の従来例を示す斜視図、第６図はマスク表
面を手作業により偏心運動させる状態を示す平面図であ
る。 図において、１は洗浄具、２はフォトマスク、３はマス
クホルダ、４は取付板、５はＸＹステ−ジ、５ａはＸス
テージ、５ｂはＹステージ、６゜７は駆動モータ、８６
１０は駆動軸、９．１１は案内軸、１２は回転アーム、
１３は上下動駆動軸、１４は取付具、１５は蝶ボルト、
１６はハウジング、１７はストロークベアリング、１８
は取付具、１９はシリンダ、２０は緩衝用のクツション
、２１は位置決めカム、２２はベアリング、２３は側板
、２４は位置決めベアリング、２５は定板、２６は移動
板、２７は底板、２８はＸスライド具、２９はＹスライ
ド具、３０はモータ、３１はギヤ、３２は偏心カム、３
３はベアリング、３４は防振用ゴム、３５は取付はボト
ル、３６は制御部である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 −ｍ ｊ：ｌＮ寸−■− い−一一−ＰＮ 葛渇良８湘括翼 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 図 第 図
図はフォトマスクの洗浄装置の全体構成を示す正面図、
第２図は、第１図の平面略図、第３図は、第１図の主要
部分の拡大側面図、第４図は同じく拡大斜視図、第５図
（ａ）は従来のフォトマスクの洗浄具を示す図、第５図
（ｂ）は、第５図（ａ）の洗浄具を使用したフォトマス
クの洗浄装置の従来例を示す斜視図、第６図はマスク表
面を手作業により偏心運動させる状態を示す平面図であ
る。 図において、１は洗浄具、２はフォトマスク、３はマス
クホルダ、４は取付板、５はＸＹステ−ジ、５ａはＸス
テージ、５ｂはＹステージ、６゜７は駆動モータ、８６
１０は駆動軸、９．１１は案内軸、１２は回転アーム、
１３は上下動駆動軸、１４は取付具、１５は蝶ボルト、
１６はハウジング、１７はストロークベアリング、１８
は取付具、１９はシリンダ、２０は緩衝用のクツション
、２１は位置決めカム、２２はベアリング、２３は側板
、２４は位置決めベアリング、２５は定板、２６は移動
板、２７は底板、２８はＸスライド具、２９はＹスライ
ド具、３０はモータ、３１はギヤ、３２は偏心カム、３
３はベアリング、３４は防振用ゴム、３５は取付はボト
ル、３６は制御部である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 −ｍ ｊ：ｌＮ寸−■− い−一一−ＰＮ 葛渇良８湘括翼 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 図 第 図
Claims (1)
- ホルダ内に載置された被洗浄体を洗浄する洗浄具が取り
付けられた回転アームと、この回転アームが取り付けら
れ、かつ軸方向に移動自在に取り付けられ、洗浄時に固
定される上下動駆動軸と、この上下動駆動軸を駆動し、
前記被洗浄体に所要の圧力を加える軸方向駆動部と、前
記回転アームを偏心運動させる駆動部と、前記各部を所
定のタイミングで制御する制御部とにより構成したこと
を特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3435389A JP2526655B2 (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3435389A JP2526655B2 (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02212842A true JPH02212842A (ja) | 1990-08-24 |
| JP2526655B2 JP2526655B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=12411788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3435389A Expired - Lifetime JP2526655B2 (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2526655B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1065025A3 (en) * | 1999-06-30 | 2003-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser working method, method for producing ink jet recording utilizing the same, and ink jet recording method produced by such method |
| JP2012151183A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Advanced Systems Japan Inc | 常温低周波ボンディング装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57114144A (en) * | 1981-01-07 | 1982-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | Method and apparatus for washing photomask |
| JPS5965531U (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-01 | セイコーエプソン株式会社 | マスク洗浄装置 |
-
1989
- 1989-02-14 JP JP3435389A patent/JP2526655B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57114144A (en) * | 1981-01-07 | 1982-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | Method and apparatus for washing photomask |
| JPS5965531U (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-01 | セイコーエプソン株式会社 | マスク洗浄装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1065025A3 (en) * | 1999-06-30 | 2003-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser working method, method for producing ink jet recording utilizing the same, and ink jet recording method produced by such method |
| JP2012151183A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Advanced Systems Japan Inc | 常温低周波ボンディング装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2526655B2 (ja) | 1996-08-21 |
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