JPH02214020A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH02214020A JPH02214020A JP3293189A JP3293189A JPH02214020A JP H02214020 A JPH02214020 A JP H02214020A JP 3293189 A JP3293189 A JP 3293189A JP 3293189 A JP3293189 A JP 3293189A JP H02214020 A JPH02214020 A JP H02214020A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- protective layer
- carbon protective
- medium
- contact angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、潤滑特性の優れた磁気記録媒体の製造方法
に関する。
に関する。
近年、高記録密度の磁気記録媒体（以下、単に媒体とも
称する）として、強磁性合金薄膜を磁性層とする媒体が
注目されている。このような媒体においては、媒体表面
の潤滑特性を良′好にして磁性層の磨耗を防ぎ、また、
磁性層を外部雰囲気から保護してその変質を防ぐために
、磁性層表面にカーボン保護層が設けられているのが一
般的である。すなわち、磁性層上にスパッタ法でカーボ
ンを数百人の厚さに成膜し、そのカーボン層表面をバニ
シ（Ｂｕｒｎｉｓｈ） Ｌ／て微小突起を除去して潤
滑性能の良いカーボン保護層を形成することが行われて
いる。
称する）として、強磁性合金薄膜を磁性層とする媒体が
注目されている。このような媒体においては、媒体表面
の潤滑特性を良′好にして磁性層の磨耗を防ぎ、また、
磁性層を外部雰囲気から保護してその変質を防ぐために
、磁性層表面にカーボン保護層が設けられているのが一
般的である。すなわち、磁性層上にスパッタ法でカーボ
ンを数百人の厚さに成膜し、そのカーボン層表面をバニ
シ（Ｂｕｒｎｉｓｈ） Ｌ／て微小突起を除去して潤
滑性能の良いカーボン保護層を形成することが行われて
いる。
このようなカーボン保護層の潤滑性能は、下地層である
磁性層の表面形状１例えば表面粗さにより大きく左右さ
れることが知られており、磁性層表面が所望の表面形状
となるように媒体製造工種々の工夫がなされている。例
えば、媒体の基体表面にテクスチャ加工を施し、その上
に磁性層を形成して必要な表面形状とする製造方法など
が知られている。
磁性層の表面形状１例えば表面粗さにより大きく左右さ
れることが知られており、磁性層表面が所望の表面形状
となるように媒体製造工種々の工夫がなされている。例
えば、媒体の基体表面にテクスチャ加工を施し、その上
に磁性層を形成して必要な表面形状とする製造方法など
が知られている。
ところが、磁性層の表面形状を所望の一定の形状とした
場合でも、その上に形成されたカーボン保護層の潤滑性
能が大きくばらつくことがあり、媒体の潤滑特性にばら
つきが発生するという問題があった。
場合でも、その上に形成されたカーボン保護層の潤滑性
能が大きくばらつくことがあり、媒体の潤滑特性にばら
つきが発生するという問題があった。
この発明は、上述の問題点を解消して、潤滑性能のばら
つきの少ないカーボン保護層を形成することができ、ば
らつきの少ない優れた潤滑特性を有する媒体を製造する
ことが可能な媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。
つきの少ないカーボン保護層を形成することができ、ば
らつきの少ない優れた潤滑特性を有する媒体を製造する
ことが可能な媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。
上記の目的は、磁性層上にカーボン保護層を備えた磁気
記録媒体の製造方法において、カーボン保護層形成後、
その表面の純水の接触角が６０°以上になるよう所定時
間放置したのちに、このカーボン保護層表面にバニシ加
工を施す製造方法とすることによって達成される。
記録媒体の製造方法において、カーボン保護層形成後、
その表面の純水の接触角が６０°以上になるよう所定時
間放置したのちに、このカーボン保護層表面にバニシ加
工を施す製造方法とすることによって達成される。
第１図は、媒体のカーボン保護層上に純水を滴下した状
態を示す部分断面図で、磁性層１上に形成されたカーボ
ン保護層２の表面に滴下された純水３は偏平な水玉状と
なり、接触角θでカーボン保護層表面と接する。
態を示す部分断面図で、磁性層１上に形成されたカーボ
ン保護層２の表面に滴下された純水３は偏平な水玉状と
なり、接触角θでカーボン保護層表面と接する。
カーボン保護層２０表面への純水３の接触角θは、カー
ボン保護層形成後の媒体を常温常湿の雰囲気中に１２時
間以上放置することにより６０°以上となる。この接触
角θが６０°以上となる放置時間は、カーボン保護層表
面に風をあてることによって短縮することができ、風速
０．５ｍ ／秒置上の風を２時間以上あてると接触角θ
を６０°以上とすることができる。また、高湿雰囲気と
することによっても短縮することができ、相対湿度７０
％以上の雰囲気中に２時間以上放置すると接触角θを６
０°以上とすることができる。
ボン保護層形成後の媒体を常温常湿の雰囲気中に１２時
間以上放置することにより６０°以上となる。この接触
角θが６０°以上となる放置時間は、カーボン保護層表
面に風をあてることによって短縮することができ、風速
０．５ｍ ／秒置上の風を２時間以上あてると接触角θ
を６０°以上とすることができる。また、高湿雰囲気と
することによっても短縮することができ、相対湿度７０
％以上の雰囲気中に２時間以上放置すると接触角θを６
０°以上とすることができる。
カーボン層の潤滑性能についてはまだ解明されていない
部分が多いが、真空中では極端に悪いが大気中に長時間
放置しておくと非常に良（なることが知られており、こ
れには、カーボン層の最表面にハイドロカーボンからな
る硬化層が形成されることが大きく関与していることは
経験的事実として認められている。すなわち、大気中に
放置することによりカーボン層の最表面にハイドロカー
ボンからなる硬化層が徐々に形成されていき、充分な時
間放置すると膜厚数十人の良好な被覆層となり、優れた
潤滑特性を示すようになると考えられている。
部分が多いが、真空中では極端に悪いが大気中に長時間
放置しておくと非常に良（なることが知られており、こ
れには、カーボン層の最表面にハイドロカーボンからな
る硬化層が形成されることが大きく関与していることは
経験的事実として認められている。すなわち、大気中に
放置することによりカーボン層の最表面にハイドロカー
ボンからなる硬化層が徐々に形成されていき、充分な時
間放置すると膜厚数十人の良好な被覆層となり、優れた
潤滑特性を示すようになると考えられている。
媒体の製造においては、カーボン保護層はその表面の微
小突起を除去し磁気ヘッドの走行がスムーズに行われる
ように最終的に表面にバニシ加工が施される。本発明者
等は、カーボン保護層形成後バニシ加工までの放置時間
により、得られる媒体の潤滑特性が大きく変動すること
を見出した。
小突起を除去し磁気ヘッドの走行がスムーズに行われる
ように最終的に表面にバニシ加工が施される。本発明者
等は、カーボン保護層形成後バニシ加工までの放置時間
により、得られる媒体の潤滑特性が大きく変動すること
を見出した。
これは上述の経験的事実より、カーボン保護層表面のハ
イドロカーボンからなる硬化層の形成が不充分な状態で
バニシ加工が行われると表面のハイドロカーボン層が削
られてカーボン保護層表面を充分に被覆できなくなり潤
滑性能が良くないが、ハイドロカーボンからなる硬化層
が充分形成された状態でバニシ加工が行われると表面の
微小突起が削られて除去されたのちでもハイドロカーボ
ン層はカーボン保護層表面を充分に被覆しており良好な
潤滑性能が得られるためと考えられる。
イドロカーボンからなる硬化層の形成が不充分な状態で
バニシ加工が行われると表面のハイドロカーボン層が削
られてカーボン保護層表面を充分に被覆できなくなり潤
滑性能が良くないが、ハイドロカーボンからなる硬化層
が充分形成された状態でバニシ加工が行われると表面の
微小突起が削られて除去されたのちでもハイドロカーボ
ン層はカーボン保護層表面を充分に被覆しており良好な
潤滑性能が得られるためと考えられる。
本発明者等は、さらに、このハイドロカーボンの硬化層
の形成の程度がその表面の純水の接触角で推定できるこ
と、そして、この接触角が６０°以上となる程度にハイ
ドロカーボンの硬化層が形成された状態でバニシ加工が
行われると、表面の微小突起は除去され、かつ、良好な
潤滑特性が得られることを見出した。接触角が６０°以
上になると、ハイドロカーボンの硬化層は８０％以上形
成されると推定される。
の形成の程度がその表面の純水の接触角で推定できるこ
と、そして、この接触角が６０°以上となる程度にハイ
ドロカーボンの硬化層が形成された状態でバニシ加工が
行われると、表面の微小突起は除去され、かつ、良好な
潤滑特性が得られることを見出した。接触角が６０°以
上になると、ハイドロカーボンの硬化層は８０％以上形
成されると推定される。
また、ハイドロカーボンの硬化層の形成が不充分な状態
でバニシ加工を行ってしまうと、その後大気中に放置さ
れてハイドロカーボン層ができても潤滑特性の良好な硬
化層とはならないことも判明℃た。
でバニシ加工を行ってしまうと、その後大気中に放置さ
れてハイドロカーボン層ができても潤滑特性の良好な硬
化層とはならないことも判明℃た。
第２図は、磁性層表面にカーボン保護層をスパッタ法で
形成したのち、その表面にバニシ加工を施すまでの大気
中での放置時間と純水の接触角との関係を調べた結果を
示す線図である。放置時間と接触角の関係は放置条件に
より異なる。第２図において、実線は常温常湿中放置の
場合、−点鎖線は相対湿度７０％の高湿中放置の場合、
点線は常温常湿中で風速０．５ｆｆｌ／秒の風をあてた
場合の結果を示す。
形成したのち、その表面にバニシ加工を施すまでの大気
中での放置時間と純水の接触角との関係を調べた結果を
示す線図である。放置時間と接触角の関係は放置条件に
より異なる。第２図において、実線は常温常湿中放置の
場合、−点鎖線は相対湿度７０％の高湿中放置の場合、
点線は常温常湿中で風速０．５ｆｆｌ／秒の風をあてた
場合の結果を示す。
第２図に見られるとおりカーボン保護層をスパッタ法で
形成した直後の表面の純水の接触角は３０°であるが、
これを大気中に放置すると、放置時間につれてハイドロ
カーボンからなる硬化層が形成されていき、接触角が大
きくなってくる。ハイドロカーボンの硬化層の形成は放
置時間が充分長くなり、カーボン層表面を完全に被覆し
てその膜厚が数十人となると止まるがそのときの接触角
は約７０°である。接触角６０°でハイドロカーボンの
硬化層は約８０％形成される。接触角が６０°以上。
形成した直後の表面の純水の接触角は３０°であるが、
これを大気中に放置すると、放置時間につれてハイドロ
カーボンからなる硬化層が形成されていき、接触角が大
きくなってくる。ハイドロカーボンの硬化層の形成は放
置時間が充分長くなり、カーボン層表面を完全に被覆し
てその膜厚が数十人となると止まるがそのときの接触角
は約７０°である。接触角６０°でハイドロカーボンの
硬化層は約８０％形成される。接触角が６０°以上。
従ってハイドロカーボンの硬化層が８０％以上形成され
たのちにバニシ加工を施すと、カーボン保護層表面の微
小突起は除去され、しかも表面はハイドロカーボンの硬
化層で充分被覆された状態となるので、潤滑特性の優れ
た媒体が得られることになる。接触角６０°以上となる
放置時間は常温常湿中では１２時間以上を要するが、相
対湿度７０％の高湿中、または常温常湿中でも風速０．
５ｍ７秒の風をあてた場合には２時間以上でよく、約１
７６に短縮することができる。このように高温雰囲気は
ハイドロカーボンの硬化層の形成を促進するが、表面に
結露が生じると好ましくなく、結露しない状態で相対湿
度７０％ないし９０％が望ましい。また、風をあてるこ
とも有効であるが、風速は０．５ｍ／秒ないし２１ｉ／
秒が好適である。 さらに放置時間はハイドロカーボン
の硬化層の形成のためには長い程好ましいが、製造工程
上は短い方が好ましい。常温常湿中放置の場合には１２
時間ないし１週間、高湿中放置の場合および常温常湿中
で風をあてる場合には２時間ないし６時間の放置時間を
採るのが実用的である。
たのちにバニシ加工を施すと、カーボン保護層表面の微
小突起は除去され、しかも表面はハイドロカーボンの硬
化層で充分被覆された状態となるので、潤滑特性の優れ
た媒体が得られることになる。接触角６０°以上となる
放置時間は常温常湿中では１２時間以上を要するが、相
対湿度７０％の高湿中、または常温常湿中でも風速０．
５ｍ７秒の風をあてた場合には２時間以上でよく、約１
７６に短縮することができる。このように高温雰囲気は
ハイドロカーボンの硬化層の形成を促進するが、表面に
結露が生じると好ましくなく、結露しない状態で相対湿
度７０％ないし９０％が望ましい。また、風をあてるこ
とも有効であるが、風速は０．５ｍ／秒ないし２１ｉ／
秒が好適である。 さらに放置時間はハイドロカーボン
の硬化層の形成のためには長い程好ましいが、製造工程
上は短い方が好ましい。常温常湿中放置の場合には１２
時間ないし１週間、高湿中放置の場合および常温常湿中
で風をあてる場合には２時間ないし６時間の放置時間を
採るのが実用的である。
以下、具体的な実施例について説明する。
実施例１
ディスク状Ａ１合金板表面に無電解めっきでＮｉ −Ｐ
層を形成した基体表面に、スパッタ法でＣｒ下地層、
Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性層、カーボン保護層を順次成膜した
。このカーボン保護層まで形成した媒体を常温常湿の大
気中に４８時間放置した後、その表面に最終的なバニシ
加工を施した。すなわち、媒体を５０Ｏｒｐｍで回転さ
せながら、そのカーボン保護層表面にＷ Ａ＃８０００
の研磨テープを流量３０ｎｊ！／分のエアで押し付け、
このテープを媒体の回転方向と逆の方向に接触走行させ
ながら、媒体の半径方向に３００ｍｍ／分の速度で５回
往復動させてバニシを行った。
層を形成した基体表面に、スパッタ法でＣｒ下地層、
Ｃｏ−Ｎｉ合金磁性層、カーボン保護層を順次成膜した
。このカーボン保護層まで形成した媒体を常温常湿の大
気中に４８時間放置した後、その表面に最終的なバニシ
加工を施した。すなわち、媒体を５０Ｏｒｐｍで回転さ
せながら、そのカーボン保護層表面にＷ Ａ＃８０００
の研磨テープを流量３０ｎｊ！／分のエアで押し付け、
このテープを媒体の回転方向と逆の方向に接触走行させ
ながら、媒体の半径方向に３００ｍｍ／分の速度で５回
往復動させてバニシを行った。
このようにして作製された媒体の潤滑性能をスライディ
ングコンタクトテストで調査した。このテストは媒体を
垂直荷重（１０ｇｆ程度）をかけられた磁気ヘッドが浮
上しない程度の低速で回転させ、磁気ヘッドを媒体表面
に摺動させながら、摺動摩擦係数の変動を測定する一種
の摩擦磨耗テストである。その結果は第３図に示すよう
に摺動６０分後でも摺動摩擦係数は０．５以下であり、
良好な潤滑特性であることが判る。第３図において、摺
動摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによって
概略表しである。
ングコンタクトテストで調査した。このテストは媒体を
垂直荷重（１０ｇｆ程度）をかけられた磁気ヘッドが浮
上しない程度の低速で回転させ、磁気ヘッドを媒体表面
に摺動させながら、摺動摩擦係数の変動を測定する一種
の摩擦磨耗テストである。その結果は第３図に示すよう
に摺動６０分後でも摺動摩擦係数は０．５以下であり、
良好な潤滑特性であることが判る。第３図において、摺
動摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによって
概略表しである。
この媒体の表面粗さは、中心線平均粗さＲａで６０人で
あり、また、表面の相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％
におけるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけ
るカッティング深さを差し引いた値、ΔＣＶ（１０％−
１％）値は１３０人であり、表面の断面プロファイルは
第４図に示すとおり上方向の粗さが残っている。
あり、また、表面の相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％
におけるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけ
るカッティング深さを差し引いた値、ΔＣＶ（１０％−
１％）値は１３０人であり、表面の断面プロファイルは
第４図に示すとおり上方向の粗さが残っている。
比較例
実施例１と同様にしてカーボン保護層まで形成した媒体
を、常温常湿の大気中に２時間放置した後、この媒体表
面に実施例１と同様にバニシ加工を施した。このように
して作製された媒体の潤滑特性を実施例１と同様にして
調べた結果を第５図に示す。第５図に見られるとおり、
摺動時間約２０分で摺動摩擦係数は１．０を超え、潤滑
特性が悪く、これに比べて実施例１の潤滑特性が大幅に
向上していることは明らかである。なお摺動摩擦係数の
変動幅は２つの線で包括することによって概略表しであ
る。
を、常温常湿の大気中に２時間放置した後、この媒体表
面に実施例１と同様にバニシ加工を施した。このように
して作製された媒体の潤滑特性を実施例１と同様にして
調べた結果を第５図に示す。第５図に見られるとおり、
摺動時間約２０分で摺動摩擦係数は１．０を超え、潤滑
特性が悪く、これに比べて実施例１の潤滑特性が大幅に
向上していることは明らかである。なお摺動摩擦係数の
変動幅は２つの線で包括することによって概略表しであ
る。
この比較例の媒体の表面粗さはＲａで５５人。
ΔＣｖ（１０％−１％）で９ＯＡであり、表面の断面プ
ロファイルは第６図に示されるように第４図に比べて上
方向の粗さが小さく、削られていることが判る。
ロファイルは第６図に示されるように第４図に比べて上
方向の粗さが小さく、削られていることが判る。
実施例２
実施例１と同様にしてカーボン保護層まで形成した媒体
を、常温常湿で風速０．５１１１／秒の環境下に４時間
放置した後、実施例１と同様にバニシ加工を施した。こ
の媒体の潤滑特性を調べた結果を第７図に示す。なお、
摺動摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによっ
て概略表しである。放置時間が４時間と短いにもかかわ
らず、摺動６０分後の摺動摩擦係数は０，８と低い値を
示し、良好な潤滑特性を有していることが判る。
を、常温常湿で風速０．５１１１／秒の環境下に４時間
放置した後、実施例１と同様にバニシ加工を施した。こ
の媒体の潤滑特性を調べた結果を第７図に示す。なお、
摺動摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによっ
て概略表しである。放置時間が４時間と短いにもかかわ
らず、摺動６０分後の摺動摩擦係数は０，８と低い値を
示し、良好な潤滑特性を有していることが判る。
実施例３
実施例１と同様にしてカーボン保護層まで形成した媒体
を、温度３３℃、相対湿度８０％の高湿中に４時間放置
した後、実施例１と同様にバニシ加工を施した。この媒
体の潤滑特性を調べた結果を第８図に示す。なふ、摺動
摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによって概
略表しである。放置時間が４時間と短いにもかかわらず
、摺動６０分後の摺動摩擦係数は０．７と低い値を示し
、良好な潤滑特性を有していることが判る。
を、温度３３℃、相対湿度８０％の高湿中に４時間放置
した後、実施例１と同様にバニシ加工を施した。この媒
体の潤滑特性を調べた結果を第８図に示す。なふ、摺動
摩擦係数の変動幅は２つの線で包括することによって概
略表しである。放置時間が４時間と短いにもかかわらず
、摺動６０分後の摺動摩擦係数は０．７と低い値を示し
、良好な潤滑特性を有していることが判る。
この発明によれば、磁性層上にカーボン保護層を備えた
磁気記録媒体の製造方法にふいて、カーボン保護層形成
後その表面の純水の接触角が６０゜以上になるよう所定
時間放置したのち、このカーボン保護層表面にバニシ加
工を施すこととする。
磁気記録媒体の製造方法にふいて、カーボン保護層形成
後その表面の純水の接触角が６０゜以上になるよう所定
時間放置したのち、このカーボン保護層表面にバニシ加
工を施すこととする。
接触角が６０°以上となると、カーボン保護層表面にハ
イドロカーボンからなる硬化層が８０％以上形成されて
いると推定され、このような状態で表面にバニシ加工が
施されると、表面の微小突起は除去され、しかもハイド
ロカーボンの硬化層で充分に被覆されて潤滑性能が良好
でばらつきの少ないカーボン保護層が得られることにな
り、ばらつきの少ない優れた潤滑特性を有する媒体を製
造することが可能となる。
イドロカーボンからなる硬化層が８０％以上形成されて
いると推定され、このような状態で表面にバニシ加工が
施されると、表面の微小突起は除去され、しかもハイド
ロカーボンの硬化層で充分に被覆されて潤滑性能が良好
でばらつきの少ないカーボン保護層が得られることにな
り、ばらつきの少ない優れた潤滑特性を有する媒体を製
造することが可能となる。
第１図はカーボン保護層上に純水を滴下した状態を示す
部分断面図、第２図はカーボン保護層形成後その表面に
バニシ加工を施すまでの放置時間と表面の純水の接触角
との関係を示す線図、第３図は常温常湿中放置４８時間
後にカーボン保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体
の摺動摩擦係数の変動を測定した結果を示す線図、第４
図は常温常湿中放置４８時間後にカーボン保護層表面に
バニシ加工を施して得た媒体の表面の断面プロファイル
図、第５図は常温常湿中２時間放置後にカーボン保護層
表面にバニシ加工を施して得た媒体Φ摺動摩擦係数の変
動を測定した結果を示す線図、第６図は常温常湿中２時
間放置後にカーボン保護層表面にバニシ加工を施して得
た媒体の表面断面プロファイル図、第７図は常温常湿で
風速Ｑ、５ｍ／秒の環境下に４時間放置した後カーボン
保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体の摺動摩擦係
数の変動を測定した結果を示す線図、第８図は温度３３
℃、相対湿度８０％の高湿中に４時間放置した後カーボ
ン保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体の摺動摩擦
係数の変動を測定した結果を示す線図である。 第１図 放置時間（分） 第２図 ↓習動時間（分） 第 図 第 図 ↓習動摩擦係数 第 図 第 図 ↓習動摩擦係数
部分断面図、第２図はカーボン保護層形成後その表面に
バニシ加工を施すまでの放置時間と表面の純水の接触角
との関係を示す線図、第３図は常温常湿中放置４８時間
後にカーボン保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体
の摺動摩擦係数の変動を測定した結果を示す線図、第４
図は常温常湿中放置４８時間後にカーボン保護層表面に
バニシ加工を施して得た媒体の表面の断面プロファイル
図、第５図は常温常湿中２時間放置後にカーボン保護層
表面にバニシ加工を施して得た媒体Φ摺動摩擦係数の変
動を測定した結果を示す線図、第６図は常温常湿中２時
間放置後にカーボン保護層表面にバニシ加工を施して得
た媒体の表面断面プロファイル図、第７図は常温常湿で
風速Ｑ、５ｍ／秒の環境下に４時間放置した後カーボン
保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体の摺動摩擦係
数の変動を測定した結果を示す線図、第８図は温度３３
℃、相対湿度８０％の高湿中に４時間放置した後カーボ
ン保護層表面にバニシ加工を施して得た媒体の摺動摩擦
係数の変動を測定した結果を示す線図である。 第１図 放置時間（分） 第２図 ↓習動時間（分） 第 図 第 図 ↓習動摩擦係数 第 図 第 図 ↓習動摩擦係数
Claims (1)
- １）磁性層上にカーボン保護層を備えた磁気記録媒体の
製造方法において、カーボン保護層形成後その表面の純
水の接触角が６０°以上になるよう所定時間放置したの
ちに、このカーボン保護層表面にバニシ加工を施すこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293189A JPH087863B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293189A JPH087863B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02214020A true JPH02214020A (ja) | 1990-08-27 |
| JPH087863B2 JPH087863B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=12372670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3293189A Expired - Fee Related JPH087863B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087863B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0615238A3 (en) * | 1993-03-12 | 1995-01-25 | Sony Corp | Recording and playback device for tape-shaped recording medium. |
| CN1305034C (zh) * | 2003-09-30 | 2007-03-14 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 在制造磁性薄膜盘片期间过程定时的控制 |
-
1989
- 1989-02-13 JP JP3293189A patent/JPH087863B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0615238A3 (en) * | 1993-03-12 | 1995-01-25 | Sony Corp | Recording and playback device for tape-shaped recording medium. |
| CN1305034C (zh) * | 2003-09-30 | 2007-03-14 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 在制造磁性薄膜盘片期间过程定时的控制 |
| US7276262B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-10-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Control of process timing during manufacturing of magnetic thin film disks |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH087863B2 (ja) | 1996-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR910006150B1 (ko) | 자기 기록매체 및 그 제조방법 | |
| US4925738A (en) | Substrate for a magnetic disk and process for its production | |
| EP0534624A1 (en) | Magnetic recording disk | |
| JPH02214020A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US5738906A (en) | Method for producing a magnetic disk | |
| AU671153B2 (en) | Substrate for magnetic disk | |
| JPS59124030A (ja) | 磁気デイスク製造方法 | |
| JPH01192014A (ja) | 磁気ディスク用基板及びその製造方法 | |
| JP2546383B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH02208827A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3024769B2 (ja) | 磁気ハードディスク | |
| JP2764829B2 (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH10283626A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH02177009A (ja) | 磁気記録再生方法 | |
| JPH02149923A (ja) | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62134826A (ja) | 磁気記憶体の製造方法 | |
| JP2638228B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0317826A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6288133A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS5857624A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH0554378A (ja) | 磁気デイスク媒体の製造方法 | |
| JPS63285723A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH027226A (ja) | 磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPH0963032A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0490124A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |