JPH02214536A - 液体原料気化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、化学的気相成長法（以下、ＣＶＤ法という）
において用いられる液体原料を気化する装置に関する。

（従来の技術） ＣＶＤ法において用いられる液体原料を気化する一般的
な方法としてバブラー法があるが、最近は特に気化装置
を用いる気運にあり様々な気化装置が世に出されるよう
になった。

しかし、これらの装置は液体原料を気化槽まで輸送する
方法として、配管の途中に゛流面制御弁を設け、流量制
御された液体が配管によって気化槽まで輸送されている
のが瑛状である。

制御弁と気化槽とは配管でつながれ、その継ぎ目は溶接
や継手が使用される。

この場合、制御弁の弁から気化槽の内壁面までの内容積
（以下、内容積という）は以外と大きいものである。こ
のため特に液体原料の流量が微小な場合、液体原料がこ
の内容積を通過する時間は無視できない程長い時間とな
る。

また、液体原料が制御弁で減圧されると、液体原料は下
流に向って発泡し易くなり、液体は泡を含むようになる
。この現象によって制御弁から気化槽までの配管中の液
体の流れは脈動し、気化槽には液体と気体が交互に供給
されることになり、一定流量の液体原料を気化槽に供給
できない欠点がある。

この現象は内容積が大きい程著しくなる。

（解決しようとする問題点） 本発明は、上記の欠点を除去し、たとえ微小流量でも気
化槽に一定流間の液体原料を供給できる液体原料気化装
置を提供しようとするものである。

（問題を解決するための手段） 本発明は、制御弁と気化槽までの間に配管、継手等を使
用せずに、気化槽本体に制御弁を造り込んで一体化した
ものである。

このため内容積が極めて小さく、たとえ微小な流量であ
っても、液体原料が内容積を通過する時間を無視できる
ため、一定流量の液体原料を気化槽に供給することがで
きる。

第１図は本発明の一実施例の断面図である。

本発明を第１図にしたがって詳細に説明する。

制御弁３は気化槽１に造り込んで一体化しである。した
がって、配管の必要はない。

液体原料はこの制御弁３で流量制御されて直ちに気化槽
に入り、発熱体２で加熱された気化槽内で気化される。

気化槽と発熱体部は二重管になっている。

一方、キャリアガスは予備加熱されたのち、キャリアガ
ス導入口Ａから気化槽１に入り、原料気体を供なって混
合ガス導出口Ｂから導出され、ＣＶＤ反応室に入る。

本発明は第２図に示すような構造の気化装置にしてもよ
い。

制御弁８は気化槽６の底部に造り込んで一体化しである
。

液体原料はこの制御弁８で流量制御されて直ちに気化槽
に入り、発熱体７で加熱された気化槽内で気化される。

一方、キレリアガスはキャリアガス導入口Ｃから入り発
熱体で予備加熱されたのち気化槽に入り原料気体を供な
って混合ガス導出口りから導出され、ＣＶＤ反応室に入
る。

複数の液体原料を気化槽に供給する場合は、制御弁を複
数個設ければよい。

以上のような液体原料気化装置を用いることによって微
少流量の液体原料を一定流量で気化槽に供給することが
できる。

（発明の効果） 本発明によれば、ＣＶＤ法において用いられる液体原料
を、殊に微小流量の液体原料を一定流量で気化槽に供給
できる特徴がある。

また、配管、継手等がないため、液体原料が汚染された
り、原料成分の酸化物のようなダストが発生しにくい特
徴がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の断面図である。 図において、１は気化槽、２は発熱体、３は制御弁、４
はキャリアガス導入管、５は混合ガス導出管である。 また、Ａはキャリアガス導入口、Ｂは混合ガス導出口で
ある。 第２図は本発明の他の一実施例の断面図である。 図において、６は気化槽、７は発熱体、８は制御弁、９
はキャリアガス導入管、１０は混合ガス導出管である。 また、Ｃはキャリアガス導入口、Ｄは混合ガス導出口で
ある。 ％１　国

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 気化槽に液体流量制御弁を一体化したことを特徴とする
   ＣＶＤ用液体原料気化装置。