JPH02215006A - Conductive particle and manufacture thereof - Google Patents
Conductive particle and manufacture thereofInfo
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- JPH02215006A JPH02215006A JP1036753A JP3675389A JPH02215006A JP H02215006 A JPH02215006 A JP H02215006A JP 1036753 A JP1036753 A JP 1036753A JP 3675389 A JP3675389 A JP 3675389A JP H02215006 A JPH02215006 A JP H02215006A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電極材料に用いる導電性粒子およびその製造方
法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to conductive particles used in electrode materials and a method for producing the same.
従来の技術
従来より、導電性粒子と樹脂と溶剤と微量のフリット、
場合によっては、金属酸化物および有機金属化合物とか
らなる導電性塗料が、各種部品の電極材料として広範に
使用されている。上記導電性粒子としては、銀、金、白
金、パラジウムなどの高価な貴金属が用いられており、
電極材料のコスト低減のため貴金属の使用量削減あるい
は卑金属材料への置換などの検討がなされている。Conventional technology Conventionally, conductive particles, resin, solvent, and a small amount of frit,
In some cases, conductive paints made of metal oxides and organometallic compounds are widely used as electrode materials for various parts. As the conductive particles, expensive noble metals such as silver, gold, platinum, and palladium are used.
In order to reduce the cost of electrode materials, consideration is being given to reducing the amount of precious metals used or replacing them with base metal materials.
そして、卑金属材料への全面置換に対して銅およびニッ
ケル、一部置換に対して銀−銅合金などが用いられてい
るが、いずれも空気中の焼き付けあるいは放置により、
酸化物が形成され導電性が低下するため、焼き付は雰囲
気の制御や電極表面のコーティングをしなければならず
、製造工程が複雑になるという問題がある。Copper and nickel have been used for full-scale replacement with base metal materials, and silver-copper alloys have been used for partial replacement, but in both cases, by baking or leaving in the air,
Since oxides are formed and the conductivity decreases, baking requires controlling the atmosphere and coating the electrode surface, complicating the manufacturing process.
また、貴金属の使用量削減については、卑金属を基体物
質としてこれに貴金属を被覆する方法が試みられている
(例えば、特公昭46−40593号公報、特開昭60
−100679号公報)。このような貴金属被覆粉末を
用いた導電性塗料をセラミック材料に塗布し空気中で焼
き付けて電極を形成した場合、被覆された貴金属が連続
した状態で焼結されておらず、基体物質が露出し且つ酸
化物が生成されることにより導電性が低下してしまう。In addition, attempts have been made to reduce the amount of precious metals used by using base metals as a base material and coating them with precious metals (for example, Japanese Patent Publication No. 46-40593, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-1999).
-100679). When a conductive paint using such noble metal coated powder is applied to a ceramic material and baked in air to form an electrode, the coated noble metal is not sintered in a continuous state and the base material is exposed. In addition, the conductivity decreases due to the generation of oxides.
これを防ぐためには貴金属の被覆厚みを厚くしなければ
ならず、コスト低減の効果は抑えられてしまう。また、
基体物質の露出を制御するために貴金属被覆の際のメッ
キ法の改良も行われている(例えば、特公昭61−22
028号公報)。In order to prevent this, the coating thickness of the precious metal must be increased, and the cost reduction effect is suppressed. Also,
In order to control the exposure of the base material, improvements have been made to plating methods for noble metal coating (for example, Japanese Patent Publication No. 61-22
028 Publication).
しかしながら、卑金属粉末を基体物質としてこれに貴金
属を被覆した粉末に関しては、高温で焼き付ける際に基
体物質の被覆金属への熱拡散を完全に抑えることは基本
的にできないため、基体物質の露出を抑制するためには
どうしても被覆金属の厚みを厚くしなければならず、や
はり大幅なコスト低減は期待できない。また、基体物質
に酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、
二酸化チタンあるいはチタン酸バリウムなどの酸化物を
用いることも検討されている(例えば、特公昭61−2
2029号公報、同48586号公報)。However, with respect to powders made of base metal powder coated with noble metals, it is basically impossible to completely suppress heat diffusion from the base material to the coated metal when baking at high temperatures, so exposure of the base material is suppressed. In order to do this, the thickness of the coating metal must be increased, and a significant cost reduction cannot be expected. In addition, silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide,
The use of oxides such as titanium dioxide or barium titanate is also being considered (for example,
No. 2029, No. 48586).
しかし、酸化物を用いた場合、卑金属と比べて貴金属層
への熱拡散は抑制されるが、上記酸化物はいずれも絶縁
体であるため、電極材料としての導電性を保持するため
には、やはり被覆厚みを厚くしなければならず、材料コ
ストの大幅な低減は困難である。However, when using oxides, thermal diffusion into the noble metal layer is suppressed compared to base metals, but since all of the above oxides are insulators, in order to maintain conductivity as an electrode material, After all, the coating thickness must be increased, and it is difficult to significantly reduce material costs.
発明が解決しようとする課題
上記した構成の、卑金属あるいは酸化物を基体物質とし
て貴金属被覆を施した導電性粒子については、高温での
焼き付は処理による基体物質の露出あるいは導電性の低
下を防ぐためには、どうしても被覆厚みを厚くしなけれ
ばならない。したがって、貴金属使用量が多くなり、導
電性粒子のコストを大幅に削減できない。また、高温焼
結をすることによる製造コストの増大という問題もある
。Problems to be Solved by the Invention Regarding the conductive particles having the above-mentioned structure, in which the base material is a base metal or an oxide and is coated with a noble metal, baking at high temperatures prevents the base material from being exposed or the conductivity from decreasing due to processing. In order to achieve this, the thickness of the coating must be increased. Therefore, the amount of precious metal used increases, and the cost of the conductive particles cannot be significantly reduced. There is also the problem of increased manufacturing costs due to high-temperature sintering.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、導電性
、熱的安定性に優れ、且つ低温による焼結が可能な導電
性粒子を安価に提供することを目的としている。The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide conductive particles at low cost that have excellent conductivity and thermal stability and can be sintered at low temperatures.
課題を解決するための手段
上記課題を解決するため本発1明の導電性粒子は、導電
性複合酸化物の粒子表面を、10〜6.0重量%のリン
あるいは0.1〜2.5重量%のホウ素を含む貴金属で
被覆するという構造を有したものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the conductive particles of the present invention have a conductive composite oxide particle surface coated with 10 to 6.0% by weight of phosphorus or 0.1 to 2.5% by weight. It has a structure in which it is coated with a noble metal containing % by weight of boron.
ここで、導電性複合酸化物としては、特に1、a、−1
srxCoO,(o、1≦x≦o、a)、 Pr1.5
rxCoo3(0.2≦x≦0.8 )、 Nd1z8
rxCo05≦x≦0.7)。Here, as the conductive composite oxide, especially 1, a, -1
srxCoO, (o, 1≦x≦o, a), Pr1.5
rxCoo3 (0.2≦x≦0.8), Nd1z8
rxCo05≦x≦0.7).
Lal zBaxCoo3(0.1≦I≦0゜5)、P
rl zBazcoQ。Lal zBaxCoo3 (0.1≦I≦0゜5), P
rl zBazcoQ.
(0.2≦x≦0.6)のうちの1種あるいは2種以上
の回答系の組成を有するものあるいは、L!L2 zs
rxCuO4(Q、1≦x≦0.6 )、 La2 、
BaxCub4(0.01≦x≦0.6)のうちの1種
あるいは2種の回答系の組成を有するものさらにはYB
a2(ju507系、Bi Ca Sr Cu 20
!、S系の組成を有スルモノカ好ましい。(0.2≦x≦0.6), or L! L2 zs
rxCuO4 (Q, 1≦x≦0.6), La2,
BaxCub4 (0.01≦x≦0.6), which has one or two types of answer system composition, and YB
a2 (ju507 series, Bi Ca Sr Cu 20
! , S-based compositions are preferred.
また、製造コストの低減を図るためには貴金属使用量を
削減する必要があるが、それに伴い焼き付けの際の基体
物質の熱拡散が激しくなるため、それを抑制するために
は、焼き付は温度の低下が望まれる。ここで、ガラスフ
リットを含む導電性塗料を焼き付ける際に、リンまたは
ホウ素がその焼結を促進させることが期待できる。そこ
で本発明は、被覆貴金属にリンまたはホウ素を含有させ
ることにより、焼結温度を低下させ、基体物質の熱拡散
を抑制し、貴金属使用量の削減を図るというものである
。In addition, in order to reduce manufacturing costs, it is necessary to reduce the amount of precious metals used, but as a result, thermal diffusion of the base material during baking becomes more intense. It is desirable to reduce the Here, when baking a conductive paint containing glass frit, it is expected that phosphorus or boron will promote sintering. Therefore, the present invention aims to lower the sintering temperature, suppress thermal diffusion of the base material, and reduce the amount of precious metal used by containing phosphorus or boron in the coated noble metal.
作用
本発明は上記した構成により、基体物質が酸化物である
ため被覆貴金属層への拡散が抑制され、また被覆厚みを
薄くしても、低温での焼き付は処理が可能なため、基体
物質が粒子表面に露出するのを抑制することができる。Effect of the present invention With the above-described structure, since the base substance is an oxide, diffusion into the coated precious metal layer is suppressed, and even if the coating thickness is reduced, baking at low temperatures can be treated, so that the base substance is can be suppressed from being exposed on the particle surface.
また、基体物質が導電性であるため、基体物質が露出し
た場合でも導電性の低下を抑えることができる。Further, since the base material is conductive, even if the base material is exposed, a decrease in conductivity can be suppressed.
そして、基体物質として複合酸化物としたのは、単一金
属元素を含む酸化物に比べて、導電性およびコストの点
で複合酸化物の方が優れているためである。特に、La
1 zsrxICo03 (o、1≦x≦o、s)。The reason why a composite oxide is used as the base material is that a composite oxide is superior in terms of conductivity and cost compared to an oxide containing a single metal element. In particular, La
1 zsrxICo03 (o, 1≦x≦o, s).
pr 1−x Sr z coo 5 (0.2≦x≦
o、a)jNbi −xSrxCoO3(0.5≦x≦
o、7 )、 La1 zBaxCod、(0.1≦x
≦o、s)。pr 1-x Sr z coo 5 (0.2≦x≦
o, a) jNbi −xSrxCoO3 (0.5≦x≦
o, 7), La1 zBaxCod, (0.1≦x
≦o, s).
Pr1 、BalCoO3(0.2≦x≦0.6)のう
ちの1種あるいは2種以上の固溶系の組成を有するもの
、あるいはLa2 zsrzcu04 (0.1≦x≦
o、s ) jLa2−xHaxCu04 (0.01
≦x≦o、s) +7)5?)+7)111tあるいは
2種の固溶系の組成を有するもの、さらにはYBa2C
u3O7系またはBiCaSrCu2O5.5rCu2
055系の組成を有するものは、いずれも導電性に優れ
ており、被覆貴金属厚みが薄くても高い導電性が得られ
るため、導電性粒子のコストを大幅に削減することが可
能である。One having a solid solution composition of one or more of Pr1, BalCoO3 (0.2≦x≦0.6), or La2 zsrzcu04 (0.1≦x≦
o, s) jLa2-xHaxCu04 (0.01
≦x≦o, s) +7)5? )+7) 111t or those having two types of solid solution compositions, and furthermore YBa2C
u3O7 system or BiCaSrCu2O5.5rCu2
All those having a composition of the 055 series have excellent conductivity, and high conductivity can be obtained even if the noble metal coating is thin, so it is possible to significantly reduce the cost of conductive particles.
また、基体物質への貴金属の被覆方法としては、電気メ
ッキ法、無電解メッキ法、熱分解法、−蒸着法などがあ
るが、装置規模および量産性の点で無電解メッキ法が最
も優れており、これによって貴金属被覆粉末を安価に作
成することが可能となる。In addition, there are various methods for coating precious metals on substrate materials, such as electroplating, electroless plating, thermal decomposition, and vapor deposition, but electroless plating is the most superior in terms of equipment scale and mass productivity. This makes it possible to produce noble metal-coated powder at low cost.
さらには、被覆貴金属中にリンまたはホウ素を含有する
ことによシ、ガラスフリットの焼結性を向上させ、焼結
温度を低下させることができる。Furthermore, by containing phosphorus or boron in the coating noble metal, the sinterability of the glass frit can be improved and the sintering temperature can be lowered.
これによって基体物質の露出が生じた場合でも、それの
セラミック部品への熱拡散をよシ少なくすることが可能
である。This makes it possible to better reduce the spread of heat to the ceramic component, even if the substrate material is exposed.
実施例 以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。Example Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.
(実施例1)
L&20s s Sr co31 CO50a を出発
に料トシテ、各々の必要量を秤量し、エタノール中で1
2時間混合し、乾燥後900’Cで仮焼した。この仮焼
粉を粉砕後、1100℃で2時間焼成して、La O,
5Sr O,5Coo 5の組成を有する粉末を得た。(Example 1) Starting with L&20s Sr co31 CO50a, the required amount of each was weighed, and 1% was added in ethanol.
The mixture was mixed for 2 hours, dried and then calcined at 900'C. After pulverizing this calcined powder, it was fired at 1100°C for 2 hours to produce LaO,
A powder having a composition of 5SrO, 5Coo 5 was obtained.
そして、これを中性タイプのパラジウムイオンヲ含ム活
性化液に浸漬して活性化処理を行い、得られた粉末に以
下の3通シのメッキ処理を施した。(1)塩化パラジウ
ムをエチレンジアミンに溶かし、これにチオジグリコー
ル酸と次亜リン酸ナトリウムを加え、さらにpHを塩酸
により90に調整したパラジウムメッキ液に上記活性化
処理済の粉末を投入して撹拌し、パラジウムをメッキし
た後、デカンテーション法による水洗を行い、乾燥する
ことにより得られたパラジウム被覆粉末。したがって、
パラジウム中にリンを含有する。(2)塩化パラジウム
とエチレンジアミンと水酸化ナトリウムからなるメッキ
液にホウ水素化ナトリウムと上記活性化処理済の粉末を
投入して撹拌し、パラジウムをメッキした後、(1)と
同様に水洗及び乾燥することにより得られたパラジウム
被覆粉末。したがって、パラジウム中にホウ素を含有す
る。(3)塩化パラジウムとアンモニアと塩酸からなる
メッキ液にヒドラジンと上記活性化処理済の粉末を投入
して撹拌し、パラジウムをメッキした後、(1)と同様
に水洗及び乾燥することにより得られたパラジウム被覆
粉末。したがって、パラジウム中にリン、ホウ素共に含
有していない。以上、これら粉末のLao、5 Sr
O,50oos トハラ’) ’7 A 0TLIk
比ハ、スヘて80/20であった。This was then immersed in a neutral type activation solution containing palladium ions for activation treatment, and the resulting powder was subjected to the following three plating treatments. (1) Palladium chloride is dissolved in ethylenediamine, thiodiglycolic acid and sodium hypophosphite are added thereto, and the activated powder is added to the palladium plating solution whose pH is adjusted to 90 with hydrochloric acid and stirred. Palladium-coated powder obtained by plating palladium, washing with water by decantation, and drying. therefore,
Contains phosphorus in palladium. (2) Sodium borohydride and the above activated powder are added to a plating solution consisting of palladium chloride, ethylenediamine, and sodium hydroxide and stirred to plate palladium, then washed with water and dried in the same manner as in (1). palladium-coated powder obtained by Therefore, palladium contains boron. (3) Add hydrazine and the activated powder to a plating solution consisting of palladium chloride, ammonia, and hydrochloric acid, stir, plate with palladium, and then wash with water and dry in the same manner as in (1). palladium coated powder. Therefore, neither phosphorus nor boron is contained in palladium. As mentioned above, the Lao, 5 Sr of these powders
O,50oos Tohara') '7 A 0TLIk
The ratio was 80/20.
別途、マグネシウム拳ニオブ酸鉛(Pb(Mg%Nb%
)0.〕を主成分とする誘電体粉末1oo重量部、ポリ
ビニルブチラール樹脂8重量部、ジブチルフタレート4
重量部、トリクロルエタン40重量部、酢酸ブチル25
重量部を加えて、ボールミルで20時間混練した。こう
して得られた誘電体スラリーをリバースロール法にて4
0μmの厚みにシート成形した。次に、市販パラジウム
ペーストを上記誘電体シート上に所望のパターンに印刷
し、これを積層することにより、電極と誘電体とが交互
に積層された積層体を作製した後、所望の寸法に切断し
て1100’C12時間で焼成した。このようにして得
られた焼結体の電極が露出している側面に、それぞれの
方法で作成したパラジウム被覆粉末とガラスフリット、
エチルセルロース、テレピネオールとからなる電極ペー
ストを塗布し、760℃で焼き付けした。これにより得
られた積層チップコンデンサの静電容量値は、いずれも
誘電体の誘電率(ε=12,000)から計算された設
計値とよく一致しており、パラジウム被覆をしたLa
o、5 Sr o、5 Coo 5 を用いた電極の実
用性が確認された。Separately, magnesium fist lead niobate (Pb (Mg%Nb%)
)0. ], 10 parts by weight of dielectric powder, 8 parts by weight of polyvinyl butyral resin, 4 parts by weight of dibutyl phthalate.
Parts by weight, 40 parts by weight of trichloroethane, 25 parts by weight of butyl acetate
Parts by weight were added and kneaded in a ball mill for 20 hours. The dielectric slurry thus obtained was subjected to a reverse roll method for 4
A sheet was formed to a thickness of 0 μm. Next, a commercially available palladium paste is printed in a desired pattern on the dielectric sheet, and this is laminated to create a laminate in which electrodes and dielectrics are alternately laminated, and then cut into desired dimensions. It was fired at 1100'C for 12 hours. Palladium-coated powder and glass frit prepared by each method were placed on the side surface of the sintered body thus obtained where the electrode was exposed.
An electrode paste consisting of ethyl cellulose and terpineol was applied and baked at 760°C. The capacitance values of the multilayer chip capacitors obtained in this way agree well with the design values calculated from the dielectric constant (ε=12,000) of the dielectric material, and the capacitance values of the multilayer chip capacitors obtained by this method are in good agreement with the design values calculated from the dielectric constant (ε = 12,000).
The practicality of the electrode using o, 5 Sr o, 5 Coo 5 was confirmed.
次に、これらの積層チップコンデンサをプリント配線基
板に半田付し、外部電極固着力試験を行うと、上記被覆
粉末(1)の場合は1.2kg、被覆粉末(2)の場合
は11kgの力を加えても端子電極の剥離が生じなかっ
たが、被覆粉末(3)の場合はoakgの力を加えると
端子電極の剥離が生じた。さらK、上記被覆粉末(1)
、 (2)のメッキ浴について条件を色々変えて検討
した結果を下記のく表1〉〈表2〉に示す。Next, when these multilayer chip capacitors were soldered to a printed wiring board and an external electrode adhesion test was performed, the force was 1.2 kg for the coated powder (1) and 11 kg for the coated powder (2). However, in the case of coated powder (3), when a force of oak kg was applied, the terminal electrode did not peel off. Sara K, the above coated powder (1)
The results of studies conducted under various conditions regarding the plating bath (2) are shown in Tables 1 and 2 below.
く表1〉
く表2〉
これらの結果は、被覆貴金属中にリンあるいはホウ素を
含有させたことにより、電極と誘電体との界面での焼結
が促進され、固着力が向上したことによると考えられ、
これにより、被覆貴金属中にリンあるいはホウ素を含む
導電性粒子の優位性が認められた。また、リンおよびホ
ウ素の含有量については、メッキ条件を種々検討した結
果、上記表中の範囲のものしか良好な結果を得ることが
できなかった。Table 1 Table 2 These results are due to the inclusion of phosphorus or boron in the noble metal coating, which promotes sintering at the interface between the electrode and the dielectric and improves the adhesion strength. considered,
This confirmed the superiority of conductive particles containing phosphorus or boron in the coated noble metal. Regarding the contents of phosphorus and boron, as a result of examining various plating conditions, good results could only be obtained with the contents in the ranges shown in the table above.
(実施例2)
La2 o、 I Pr6011 * Nd20S e
” ”3 jSr”3 #Co3O4を出発原料とし
て上記(実施例1)と同様の方法によシ、La1 zs
rxCo03 、Pr1−1srzco03゜Nd1
zsr、CoO3,La1 zBazcoo3.Prl
zBaxCoQ3の各組成系のXの異なる粉末を作成
した。これらの粉末を基体物質として、(実施例1)の
被覆粉末(1)と同様の方法によシメッキ処理を行い、
基体物質とパラジウムの重量比が75 / 25のパラ
ジウム被覆粉末を得た。(Example 2) La2 o, I Pr6011 * Nd20S e
""3jSr"3 La1 zs by the same method as above (Example 1) using #Co3O4 as a starting material
rxCo03, Pr1-1srzco03゜Nd1
zsr, CoO3, La1 zBazcoo3. Prl
Powders with different X of each composition system of zBaxCoQ3 were created. Using these powders as a base material, plating treatment was performed in the same manner as the coating powder (1) of (Example 1),
A palladium-coated powder with a weight ratio of base material to palladium of 75/25 was obtained.
この粉末を用いて、同じく(実施例1)と同様の方法に
より導体ペーストを作製し、アルミナ基板上に焼き付け
て電気抵抗値を測定した。この測定値をΩ・cmに単位
換算した結果を下記のく表3〉に示す。Using this powder, a conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1, and the conductive paste was baked onto an alumina substrate and the electrical resistance value was measured. The results of converting this measured value into units of Ω·cm are shown in Table 3 below.
く表3〉の結果から、焼き付けられた厚膜の電気抵抗値
は被覆したパラジウムだけで決められるのではなく、基
体物質の組成によって影響を受けることが解る。そして
、優れた導電性を得るためには基体物質の組成として、
La1 zsrICjo05(0.1≦x≦0.8 )
、 Prl zsrxOo03(0.2≦x≦0.8)
。From the results in Table 3, it can be seen that the electrical resistance value of the baked thick film is not determined only by the coated palladium, but is influenced by the composition of the base material. In order to obtain excellent conductivity, the composition of the base material must be
La1 zsrICjo05 (0.1≦x≦0.8)
, Prl zsrxOo03 (0.2≦x≦0.8)
.
Nd1zsrxCoo、 ≦x≦0.7 )、 La1
zBaxCo05(0.1≦x≦0.6 )、 Pr
1 zBaxCoo3(0.2≦x≦0.5)が適して
いる。Nd1zsrxCoo, ≦x≦0.7), La1
zBaxCo05 (0.1≦x≦0.6), Pr
1 zBaxCoo3 (0.2≦x≦0.5) is suitable.
次に、上記材料を複合化した酸化物を基体物質として上
記と同様の方法でパラジウムメッキ、ペースト化および
焼き付は処理を行い、得られた厚膜の電気抵抗値を測定
した結果、下記のく表4〉に示すように優れた導電性を
確認した。Next, palladium plating, pasting, and baking were performed in the same manner as above using an oxide that is a composite of the above materials as a base material, and the electrical resistance value of the obtained thick film was measured. As a result, the following results were obtained. As shown in Table 4, excellent conductivity was confirmed.
(以 下金 白)
〈表4〉
(実施例3)
La20.、5r(j03. BaO05,CuOを出
発原料として、各々の必要量を秤量し、エタノール中で
12時間混合し、乾燥後900℃で12時間焼成した後
、600’Cの酸素中で熱処理してLa2−1srzc
uo4゜La2 zBazcu04 のXを種々に変え
た組成を有する粉末を得た。(Hereinafter referred to as gold and white) <Table 4> (Example 3) La20. , 5r (j03. Using BaO05 and CuO as starting materials, weigh the required amount of each, mix in ethanol for 12 hours, dry and sinter at 900°C for 12 hours, then heat treat in oxygen at 600'C. La2-1srzc
Powders having compositions in which X of uo4°La2 zBazcu04 was variously changed were obtained.
そして、塩化第一スズを含む活性化液に上記粉末を浸漬
して活性化処理を行い、別途シアノ銀ナトリウムとシア
ン化ナトリウムとホウ水素化ナトリウムを純水に溶解し
、水酸化ナトリウムによりpHを13.0に調整し、銀
メッキ浴を作製した。Then, the above powder is immersed in an activation solution containing stannous chloride for activation treatment, and separately, sodium cyanosilver, sodium cyanide, and sodium borohydride are dissolved in pure water, and the pH is adjusted with sodium hydroxide. 13.0, and a silver plating bath was prepared.
このメッキ浴に先の活性化処理済の粉末を投入し、撹拌
することによって粉末表面に銀をメッキした。The previously activated powder was placed in this plating bath, and the powder surface was plated with silver by stirring.
このメッキ処理後、デカンチーシラン法による水洗を行
い、乾燥して銀被覆粉末を得た。このようにして得られ
た粉末の基体物質と銀の重量比はa o / 20であ
った。After this plating treatment, it was washed with water using the decanty silane method and dried to obtain a silver-coated powder. The powder thus obtained had a weight ratio of base material to silver of ao/20.
上記銀粉末を用いて、実施例1と同様の方法により導体
ペーストを作成し、アルばす基板上に850℃の温度で
焼き付け、電気抵抗値を測定した。この測定値をΩ・c
mに単位換算した結果を下記のく表6〉に示す。A conductive paste was prepared using the above silver powder in the same manner as in Example 1, baked on an aluminum substrate at a temperature of 850° C., and the electrical resistance was measured. This measured value is Ω・c
The results of unit conversion to m are shown in Table 6 below.
(以 下 余 白)
く表6〉の結果から、優れた導電性を得るためには、基
体物質の組成として、La2 zsrxOu04(0.
1≦x≦0.5 ) 、 LIL2−1BaICub4
(0.01≦x≦0.6)が適していることが解る。(Left below) From the results in Table 6, it is clear that in order to obtain excellent conductivity, the composition of the base material should be La2 zsrxOu04 (0.
1≦x≦0.5), LIL2-1BaICub4
It can be seen that (0.01≦x≦0.6) is suitable.
次に、上記材料を複合化した酸化物を基体物質として、
上記と同様の方法で銀メッキ、ペースト化および焼き付
は処理を行い、得られた厚膜の電気抵抗値を測定した結
果、下記のく表6〉に示すように、優れた導電性を確認
した。Next, using an oxide that is a composite of the above materials as a base material,
Silver plating, pasting, and baking were performed in the same manner as above, and the electrical resistance of the resulting thick film was measured, and as shown in Table 6 below, excellent conductivity was confirmed. did.
〈表6〉
(実施例4)
Y2O2,BaCO3,Cub、 Bi2O3,CaC
O3,F3rO05を出発原料として、各々の必要量を
秤量し、エタノール中で12時間混合し、乾燥後850
’Cで12時間焼成した後、6oo℃の酸素中で熱処理
して、YBa2Cu2O7およびBiCaSrCu2O
5.5rCu205.s の組成を有する粉末を得た
。<Table 6> (Example 4) Y2O2, BaCO3, Cub, Bi2O3, CaC
Using O3 and F3rO05 as starting materials, weigh the required amount of each, mix in ethanol for 12 hours, and after drying
'C for 12 hours and then heat treated in oxygen at 6oooC to produce YBa2Cu2O7 and BiCaSrCu2O.
5.5rCu205. A powder with a composition of s was obtained.
そして、中性タイプのパラジウムイオンを含む活性化液
に上記粉末を投入し活性化処理を行い、別途シアン金(
1)カリウムとシアン化カリウムと水素化カリウムから
なるメッキ液を作成し、このメッキ液にホウ水素化ナト
リウムと活性化処理済の粉末を投入し、撹拌することに
よって粉体表面に金をメッキした。このメッキ処理後デ
カンテーション法による水洗を行い、乾燥して金被覆粉
末を得た。このようにして得られた粉末の基体物質と金
との重量比は76/25であった。Then, the above powder is put into an activation solution containing neutral type palladium ions for activation treatment, and a separate cyanide gold (
1) A plating solution consisting of potassium, potassium cyanide, and potassium hydride was prepared, and sodium borohydride and activated powder were added to this plating solution and stirred to plate the powder surface with gold. After this plating treatment, it was washed with water by a decantation method and dried to obtain a gold-coated powder. The powder thus obtained had a weight ratio of base material to gold of 76/25.
上記金被覆粉末を用いて、(実施例1)と同様の方法に
より導体ペーストを作製し、アルミナ基板上に850’
Cで焼き付け、電気抵抗値を測定した。ここで、基体物
質がYBa2Cu2O7の場合の電気抵抗値は6×10
Ω番cm、 BiCaSrCu2O5.5rCu20
!L5の場合は8×10 Ω・CIl+であり、優れた
導電性を確認した。Using the above gold-coated powder, a conductive paste was prepared in the same manner as in (Example 1), and was placed on an alumina substrate with a width of 850'.
It was baked at C and the electrical resistance value was measured. Here, when the base material is YBa2Cu2O7, the electrical resistance value is 6×10
Ω cm, BiCaSrCu2O5.5rCu20
! In the case of L5, it was 8×10 Ω·CIl+, confirming excellent conductivity.
本実施例以外にも、貴金属被覆をした導電性複合酸化物
粒子がチップ抵抗、チップインダクタ、バリスタ、圧電
素子、さらにはセラミック多層配線基板などの電極とし
ての実用性があることはいうまでもない。In addition to this example, it goes without saying that conductive composite oxide particles coated with noble metals have practical applications as electrodes for chip resistors, chip inductors, varistors, piezoelectric elements, and even ceramic multilayer wiring boards. .
本発明が対象とする複合酸化物は、いずれも通常は酸素
欠陥を有しているため、酸素の組成については特に規定
されるものではない。また、基体物質の化学的安定性な
いしは電気的特性を制御するために、主成分元素以外の
金属元素あるいは陰イオン元素を基体物質に添加しても
よい。さらに、上記実施例で用いた複合酸化物粉末は、
01〜S、O8型の範囲の粒子径を有していたが、粒子
径および粒子形状については特に規定されることはない
。Since all of the composite oxides targeted by the present invention usually have oxygen vacancies, the composition of oxygen is not particularly defined. Furthermore, in order to control the chemical stability or electrical properties of the base material, metal elements or anionic elements other than the main component elements may be added to the base material. Furthermore, the composite oxide powder used in the above examples was
Although the particles had particle diameters in the range of 01 to S and O8 types, the particle diameter and particle shape are not particularly defined.
一方、被覆貴金属として上記実施例に加えて、無電解メ
ッキが可能な白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム
、およびこれらの合金などを用いることができる。また
、貴金属被覆に際して上記2種以上の貴金属を多層被覆
することも可能であるO
発明の効果
以上のように本発明は、導電性複合酸化物の粒子表面を
、1.o〜e、o重量係のリンあるいは0.1〜2.6
重量%のホウ素を含む貴金属で被覆した構成の酸化物で
あシ、さらに貴金属被覆の方法として無電解メッキ法を
用いるものである。よって、本発明は導電性に優れ、且
つ熱的、化学的安定性に優れた導電性粒子を安価に製造
せしめることができ、実用上の価値は非常に大きいもの
である。On the other hand, in addition to the above embodiments, platinum, rhodium, iridium, ruthenium, and alloys thereof, which can be plated electrolessly, can be used as the noble metal to be coated. In addition, when coating with noble metals, it is also possible to coat the particle surface of the conductive composite oxide in multiple layers with two or more of the above-mentioned noble metals. o~e, o weight phosphorus or 0.1~2.6
It is an oxide coated with a noble metal containing % by weight of boron, and an electroless plating method is used as the noble metal coating method. Therefore, the present invention allows conductive particles with excellent conductivity and thermal and chemical stability to be produced at low cost, and is of great practical value.
Claims (1)
重量%のリンあるいは0.1〜2.5重量%のホウ素を
含む貴金属で被覆したことを特徴とする導電性粒子。 (2)導電性複合酸化物が、La_1_−_xSr_x
CoO_3(0.1≦x≦0.8),Pr_1_−_x
Sr_xCoO_3(0.2≦x≦0.8),Nd_1
_−_xSr_xCoO_3(0.3≦x≦0.7),
La_1_−_xBa_xCoO_3(0.1≦x≦0
.5),Pr_1_−_xBa_xCoO_3(0.2
≦x≦0.5)のうちの1種あるいは2種以上の固溶系
の組成を有することを特徴とする請求項1記載の導電性
粒子。 (3)導電性複合酸化物が、La_2_−_xSr_x
CuO_4(0.1≦x≦0.8),La_2_−_x
BaCuO_4(0.01≦x≦0.5)のうちの1種
あるいは2種の固溶系の組成を有することを特徴とする
請求項1記載の導電性粒子。 (4)導電性複合酸化物が、YBa_2Cu_3O_7
系の組成を有することを特徴とする請求項1記載の導電
性粒子。 (6)導電性複合酸化物が、BiCaSrCu_2O_
5_._5系の組成を有することを特徴とする請求項1
記載の導電性粒子。 (6)導電性複合酸化物の粒子表面を、メッキ液にリン
あるいはホウ素を含む無電解メッキ法により、貴金属で
被覆することを特徴とする導電性粒子の製造方法。 (7)請求項1記載の導電性粒子を用いたことを特徴と
する電子部品用電極。[Scope of Claims] (1) The particle surface of the conductive composite oxide is 1.0 to 6.0
1. Conductive particles coated with a noble metal containing phosphorus in an amount of 0.1% to 2.5% by weight or boron in an amount of 0.1 to 2.5% by weight. (2) The conductive composite oxide is La_1_-_xSr_x
CoO_3 (0.1≦x≦0.8), Pr_1_-_x
Sr_xCoO_3 (0.2≦x≦0.8), Nd_1
____xSr_xCoO_3 (0.3≦x≦0.7),
La_1_−_xBa_xCoO_3(0.1≦x≦0
.. 5), Pr_1_−_xBa_xCoO_3(0.2
2. The conductive particles according to claim 1, having a solid solution composition of one or more of the following: ≦x≦0.5. (3) The conductive composite oxide is La_2_-_xSr_x
CuO_4 (0.1≦x≦0.8), La_2_−_x
The conductive particles according to claim 1, having a solid solution composition of one or two of BaCuO_4 (0.01≦x≦0.5). (4) The conductive composite oxide is YBa_2Cu_3O_7
2. The conductive particles according to claim 1, having a composition of: (6) The conductive composite oxide is BiCaSrCu_2O_
5__. Claim 1 characterized by having a composition of __5 system.
Conductive particles as described. (6) A method for producing conductive particles, which comprises coating the surface of conductive composite oxide particles with a noble metal by electroless plating in which a plating solution contains phosphorus or boron. (7) An electrode for electronic components, characterized in that the conductive particles according to claim 1 are used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1036753A JPH02215006A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Conductive particle and manufacture thereof |
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| JP1036753A JPH02215006A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Conductive particle and manufacture thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02215006A true JPH02215006A (en) | 1990-08-28 |
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ID=12478498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1036753A Pending JPH02215006A (en) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Conductive particle and manufacture thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02215006A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100719802B1 (en) * | 2005-12-28 | 2007-05-18 | 제일모직주식회사 | High Reliability Conductive Fine Particles for Anisotropic Conductive Connections |
| JP2009286664A (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Metal oxide particle powder and method for producing the same |
| CN110444413A (en) * | 2019-04-17 | 2019-11-12 | 青岛科技大学 | A metal-organic framework-based bimetallic nanohydroxide and oxide composite and its application in supercapacitors |
-
1989
- 1989-02-16 JP JP1036753A patent/JPH02215006A/en active Pending
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