JPH02215765A - 22,23―セコ―1,7,8―トリヒドロキシビタミンdあるいはその誘導体とその製造方法 - Google Patents
22,23―セコ―1,7,8―トリヒドロキシビタミンdあるいはその誘導体とその製造方法Info
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- JPH02215765A JPH02215765A JP1035782A JP3578289A JPH02215765A JP H02215765 A JPH02215765 A JP H02215765A JP 1035782 A JP1035782 A JP 1035782A JP 3578289 A JP3578289 A JP 3578289A JP H02215765 A JPH02215765 A JP H02215765A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は22.23−セコ−1,7,8)ジヒドロキシ
ビタミンDまたはその誘導体としての新規化合物と、当
該化合物を、7,8ジヒドロキシビタミンD2またはそ
の誘導体から製造するための方法に関する。
ビタミンDまたはその誘導体としての新規化合物と、当
該化合物を、7,8ジヒドロキシビタミンD2またはそ
の誘導体から製造するための方法に関する。
(従来の技術)
ビタミンDが、腸内のカルシウム吸収や骨無機物再吸収
などを調節して、骨形成に重要な役割を果していること
は、その代謝活性と、1.25−’;ヒドロキシビタミ
ンDz等の作用機序の詳細な研究により最近用らかにさ
れている(lJ、De Lucδその他rAnn、Re
v、Biochem J第52巻、 P、411.19
83年) ; N、Ikekawa、 rMedici
nal Chem Reviews、 J第7巻、 P
、333,1987年)。
などを調節して、骨形成に重要な役割を果していること
は、その代謝活性と、1.25−’;ヒドロキシビタミ
ンDz等の作用機序の詳細な研究により最近用らかにさ
れている(lJ、De Lucδその他rAnn、Re
v、Biochem J第52巻、 P、411.19
83年) ; N、Ikekawa、 rMedici
nal Chem Reviews、 J第7巻、 P
、333,1987年)。
また最近1.25−ジヒドロキシビタミンD3が+n
vitroでマウス骨髄性白血病細胞(Ml)の増殖を
強く抑制し、単球マクロファージへの分化を促進する作
用が報告、(E、Abeその他rProc、Natl。
vitroでマウス骨髄性白血病細胞(Ml)の増殖を
強く抑制し、単球マクロファージへの分化を促進する作
用が報告、(E、Abeその他rProc、Natl。
^cadJci、USA、J第78巻、 P、2931
11.1f181年)されて以来、種々の腫瘍細胞の分
化誘導が報告され(T、5udaその他、Bone &
Mineral Res、/4 、 ed 。
11.1f181年)されて以来、種々の腫瘍細胞の分
化誘導が報告され(T、5udaその他、Bone &
Mineral Res、/4 、 ed 。
W、A、Peck 、Elsevier 、Amste
rdam 、 P、1,1986年)るに至りビタ
ミン0分デフの新たな展望が期待されている。
rdam 、 P、1,1986年)るに至りビタ
ミン0分デフの新たな展望が期待されている。
実際にこれを白血病の治療に用いようとする試みが行わ
れており(K、H,Robert その他rScan
d 、1.Haematel、5uppl、J第44巻
、 P、3Ei、131゜1986年)この分野′の急
速な進展が期待される。
れており(K、H,Robert その他rScan
d 、1.Haematel、5uppl、J第44巻
、 P、3Ei、131゜1986年)この分野′の急
速な進展が期待される。
ところで、上記の様な作用発現のためには、活性化合物
のほとんどが、そのA環部の1α位に水酸基を有してい
ることから、1α−水酸基は必須の置換基であると考え
られる。
のほとんどが、そのA環部の1α位に水酸基を有してい
ることから、1α−水酸基は必須の置換基であると考え
られる。
従って現在までにlα−ヒドロキシビタミンD誘導体の
合成が活発に行なわれてきている。
合成が活発に行なわれてきている。
(N、Ikekawa、その他、「有機合成化学J第3
7巻。
7巻。
P、755.1!379年; C,Kaneko、
r有機合成化学」第33巻、P、75 、1975年;
B、L7thgoe、 rchem、soc。
r有機合成化学」第33巻、P、75 、1975年;
B、L7thgoe、 rchem、soc。
Rev、 J第9巻、 P、44i3,1980年;
R,Pardo、その他、r Bull 、De L
a Soc、Chim、De Fr、 J P
、98.1985年)。
R,Pardo、その他、r Bull 、De L
a Soc、Chim、De Fr、 J P
、98.1985年)。
上記総説に見られる様に、これまでの合成の殆どは、1
α−ヒドロキシル化ステロイドの合成に始まり、これか
ら対応するlα−ヒドロキシ−5,7ジ工ンステロール
誘導体に変換した後1周知の光化学的方法によって目的
とするビタミンD誘導体を得るというものであり、多段
階を要する非能率的な方法となっている。
α−ヒドロキシル化ステロイドの合成に始まり、これか
ら対応するlα−ヒドロキシ−5,7ジ工ンステロール
誘導体に変換した後1周知の光化学的方法によって目的
とするビタミンD誘導体を得るというものであり、多段
階を要する非能率的な方法となっている。
しかも各誘導体についてその都度lα−ヒドロキシル化
ステロイドの合成から出発しており多くの手数を必要と
している。
ステロイドの合成から出発しており多くの手数を必要と
している。
そこで、上記の問題点を改良するため、各稲lα−ヒド
ロキシビタミンD3J導体合成のための共通合成中間体
として22 、23−セコ−1α−ヒドロキシビタミン
DM導体を設定し、本化合物の合成ならびに本化合物か
ら各種lα−ヒドロキシビタミンD誘導体への変換につ
いて次の様な報告がなされている。
ロキシビタミンD3J導体合成のための共通合成中間体
として22 、23−セコ−1α−ヒドロキシビタミン
DM導体を設定し、本化合物の合成ならびに本化合物か
ら各種lα−ヒドロキシビタミンD誘導体への変換につ
いて次の様な報告がなされている。
■)ビタミンD2から25−ヒドロキシおよびlα、2
5−ジヒドロキシビタミンD3の合成、R,H,He5
se、その他、rJ、Org、chem、 J fJS
51巻P、4819 、19813年 2)ビタミンD C−22アルデヒド、11m側鎖ビ
タミンD誘導体合成の鍵中間体、 )1.F、De L
uca。
5−ジヒドロキシビタミンD3の合成、R,H,He5
se、その他、rJ、Org、chem、 J fJS
51巻P、4819 、19813年 2)ビタミンD C−22アルデヒド、11m側鎖ビ
タミンD誘導体合成の鍵中間体、 )1.F、De L
uca。
ソノ他、rTetrahedron Lett 、 J
第28巻9P、8129 、1987年 り記1)の報告例はビタミンD体を一旦トランスビタミ
ンD体としてC(1)位アリール酸化し、再びこれを光
反応等によりビタミン体へと変換するものであり、2)
の報告例においてはビタミン体を一旦3.5−シクロビ
タミンD体としだ後C(1)位アリール酸化し、これを
再びビタミンD体へと変換するものであり、1)、2)
いずれの場合にもアリール位酸化の収率はあまりよくな
く、l)の場合には、トランス体からシス体への変換に
光反応を必要とし、2)の場合にはシクロビタミンD体
からビタミンD体への変換に際し、トランス体も副生ず
る等の欠点がある。
第28巻9P、8129 、1987年 り記1)の報告例はビタミンD体を一旦トランスビタミ
ンD体としてC(1)位アリール酸化し、再びこれを光
反応等によりビタミン体へと変換するものであり、2)
の報告例においてはビタミン体を一旦3.5−シクロビ
タミンD体としだ後C(1)位アリール酸化し、これを
再びビタミンD体へと変換するものであり、1)、2)
いずれの場合にもアリール位酸化の収率はあまりよくな
く、l)の場合には、トランス体からシス体への変換に
光反応を必要とし、2)の場合にはシクロビタミンD体
からビタミンD体への変換に際し、トランス体も副生ず
る等の欠点がある。
(発明が解決しようとする課題)
本願の請求項(1)では従来の化合物に鑑み新規な22
.23−セコ−1α、或いは1β、7.8−1リヒドロ
キシビタミンDまたはその誘導体に係る非常に有用な化
合物を得ようとするものであり、請求項(2)にあって
は、7,8−ジヒドロキシビタミンD2あるいはその誘
導体分子のC(22) 、(23)結合を選択的に開裂
することにより、請求項(1)の新規な化合物を得るも
のであり、更に請求項(3)にあっては、請求項(2)
により開裂された化合物のC(1)位に直接水酸基を導
入するものであり、鋭意研究を重ねることにより、前記
従来の合成法とは概念的にも実施面からしても根本的に
異なり、後述の如き選択的c (22) 、(23)開
裂反応およびアリル醇化によりC(1)位に一つの酸素
官能基を直接に付けるようにすることで、これまでには
達成することのできなかった画期的に工業上有効にして
、かつ効率のよい方法を提供しようとするのが、その目
的である。
.23−セコ−1α、或いは1β、7.8−1リヒドロ
キシビタミンDまたはその誘導体に係る非常に有用な化
合物を得ようとするものであり、請求項(2)にあって
は、7,8−ジヒドロキシビタミンD2あるいはその誘
導体分子のC(22) 、(23)結合を選択的に開裂
することにより、請求項(1)の新規な化合物を得るも
のであり、更に請求項(3)にあっては、請求項(2)
により開裂された化合物のC(1)位に直接水酸基を導
入するものであり、鋭意研究を重ねることにより、前記
従来の合成法とは概念的にも実施面からしても根本的に
異なり、後述の如き選択的c (22) 、(23)開
裂反応およびアリル醇化によりC(1)位に一つの酸素
官能基を直接に付けるようにすることで、これまでには
達成することのできなかった画期的に工業上有効にして
、かつ効率のよい方法を提供しようとするのが、その目
的である。
(課題を解決するための手段)
本願の請求項(1)では、と記の目的を達成するため、
次の式をもつ化合物 下記(I)式 〔ここでR1、RZ 、R3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示し、Raはアルデヒ
ド基または−CH20Rs (Riは水素原子または
ヒドロキシ保護基〕を示し、Xは水素、ヒドロキシ若し
くは、その誘導体を示す〕を提供するものであり、 木lll1′l請求項(2)では 〔ここでR1,R2およびR3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示す、〕で表わされる
7、8−ジヒドロキシビタミンD2または、その誘導体
を不活性溶媒中で選択的にC(22) 、 (23)位
を酸化的開裂反応に付した後、還元反応等を行なうこと
を特徴とする 下記(II )式 下記(III)式 〔ここでRs 、R2、R3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示し、R4はアルデヒ
ド基または−CH20R5(Rsは水素原子またはヒド
ロキシ保護基)を示す〕で表わされる22−セコ誘導体
の製造方法を提供しようとしており、更に本願請求項(
3)では、本願請求項(2)で製造された22−セコ誘
導体(II )式を不活性溶媒中にて二酸化セレン等の
金属酸化物か過酸化物によりアリール酸化することを特
徴とする〔ここでR1、RZ 、R3およびRsは同−
若しくは異なる水素原子またはヒドロキシ保護基を示し
、R4はアルデヒド基または−CH20R5(Rsは水
素原子またはヒドロキシ保護基〕を示す〕で表わされる
22.23−セコ−1,7,8トリヒドロキシビタミン
Dまたはその誘導体の製造方法を提供しようとするもの
である。
次の式をもつ化合物 下記(I)式 〔ここでR1、RZ 、R3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示し、Raはアルデヒ
ド基または−CH20Rs (Riは水素原子または
ヒドロキシ保護基〕を示し、Xは水素、ヒドロキシ若し
くは、その誘導体を示す〕を提供するものであり、 木lll1′l請求項(2)では 〔ここでR1,R2およびR3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示す、〕で表わされる
7、8−ジヒドロキシビタミンD2または、その誘導体
を不活性溶媒中で選択的にC(22) 、 (23)位
を酸化的開裂反応に付した後、還元反応等を行なうこと
を特徴とする 下記(II )式 下記(III)式 〔ここでRs 、R2、R3は同−若しくは異なる水
素原子またはヒドロキシ保護基を示し、R4はアルデヒ
ド基または−CH20R5(Rsは水素原子またはヒド
ロキシ保護基)を示す〕で表わされる22−セコ誘導体
の製造方法を提供しようとしており、更に本願請求項(
3)では、本願請求項(2)で製造された22−セコ誘
導体(II )式を不活性溶媒中にて二酸化セレン等の
金属酸化物か過酸化物によりアリール酸化することを特
徴とする〔ここでR1、RZ 、R3およびRsは同−
若しくは異なる水素原子またはヒドロキシ保護基を示し
、R4はアルデヒド基または−CH20R5(Rsは水
素原子またはヒドロキシ保護基〕を示す〕で表わされる
22.23−セコ−1,7,8トリヒドロキシビタミン
Dまたはその誘導体の製造方法を提供しようとするもの
である。
(実 施 例)
本願請求項(2)に係る製造方法にて使用する前掲CI
)式の化合物としては、次の如ものが公知である。
)式の化合物としては、次の如ものが公知である。
すなわち、7.8−ジヒドロキシ−7,8−ジヒドロビ
タミンDz (Rs =R2=R3=H)(Y。
タミンDz (Rs =R2=R3=H)(Y。
Wang+その他、「^cta、chim、sin、+
J第24巻。
J第24巻。
P、 128,1958年〕等が知られている。
本請求項(2)では、まずm1段階として、上記の如き
式(I)で表わされる化合物をアセトンあるいはし一ブ
タノール等の不活性溶媒中で金属酸化物例えば四酸化オ
スミウム等の酸化物の存在下、選択的にC(22) 、
(23)二重結合のみを酸化し、相当する22.23
−ジヒドロキシ体とし、次にこのジヒドロキシ体をメタ
過ヨウ素酸ソーダ等の酸化剤により酸化的開裂反応に付
してC(22) 。
式(I)で表わされる化合物をアセトンあるいはし一ブ
タノール等の不活性溶媒中で金属酸化物例えば四酸化オ
スミウム等の酸化物の存在下、選択的にC(22) 、
(23)二重結合のみを酸化し、相当する22.23
−ジヒドロキシ体とし、次にこのジヒドロキシ体をメタ
過ヨウ素酸ソーダ等の酸化剤により酸化的開裂反応に付
してC(22) 。
(23)−セコ体であるC (20) −7オルミル体
とした後、さらにこのファルミル基を水素化ホウ素ナト
リウム等の還元剤により還元し式(II )で表わされ
る新規な化合物が得られるのである。
とした後、さらにこのファルミル基を水素化ホウ素ナト
リウム等の還元剤により還元し式(II )で表わされ
る新規な化合物が得られるのである。
請求項(3)はさらに、式(II )で表わされる本化
合物を塩化メチレンあるいはアセトニトリル等の不活性
溶媒中にあって、金属酸化物例えば二酸化セレン等ある
いは過酸化物の存在下これら金属酸化物等によりアリー
ル酸化され、式(m)で表わされる新規な化合物を得る
。
合物を塩化メチレンあるいはアセトニトリル等の不活性
溶媒中にあって、金属酸化物例えば二酸化セレン等ある
いは過酸化物の存在下これら金属酸化物等によりアリー
ル酸化され、式(m)で表わされる新規な化合物を得る
。
なお、このアリール酸化は少量の1α−ヒドロキシ体と
共に主或積体として1β−ヒドロキシ体を与えるが、こ
のlβ−ヒドロキシ体は相当するメシレート体の7セト
リシス等によりlα−ヒドロキシ体へと効率よく変換さ
れる。
共に主或積体として1β−ヒドロキシ体を与えるが、こ
のlβ−ヒドロキシ体は相当するメシレート体の7セト
リシス等によりlα−ヒドロキシ体へと効率よく変換さ
れる。
このようにして製造される上記式(tr )および([
II)式で表わされる化合物は公知の方法(w。
II)式で表わされる化合物は公知の方法(w。
H,Okamura 、その他、 r J、Org、C
hell、 」第48巻、 P、1414 、1983
年;あるいは前出Y、Wang等の文献)により7.8
結合を酸化的に開裂すれば。
hell、 」第48巻、 P、1414 、1983
年;あるいは前出Y、Wang等の文献)により7.8
結合を酸化的に開裂すれば。
ビタミンDM導体合成法の1つである。A環部相当フラ
グメントとC,D環部相当のフラグメントを結合する方
法(E、G、Baggiolini 、その他。
グメントとC,D環部相当のフラグメントを結合する方
法(E、G、Baggiolini 、その他。
rJ、org、chem、 J第516 、 P、30
111111 、198θ年; E、G。
111111 、198θ年; E、G。
13aggiolini 、その他、特願昭59−52
417 、 E、G。
417 、 E、G。
Baggiol ini 、その他、特願昭Go−22
0131、あるいは前出W、H,Okamura等の文
献)の際に用いられるA環部あるいはC,D環部相当の
フラグメントに容易に誘導することができるなど非常に
有用な化合物ということができる。
0131、あるいは前出W、H,Okamura等の文
献)の際に用いられるA環部あるいはC,D環部相当の
フラグメントに容易に誘導することができるなど非常に
有用な化合物ということができる。
以下具体的な実施例につき記述するが、その全体工程説
明図にあって、()内は各実施例の番号を、木印は請求
項(2)による化合物(II )を。
明図にあって、()内は各実施例の番号を、木印は請求
項(2)による化合物(II )を。
・は請求項(3)による化合物(m)を示し、化合物(
TI )及び〔四〕は、請求項(1)に係る新規な化合
物である。
TI )及び〔四〕は、請求項(1)に係る新規な化合
物である。
実施例(1)
3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7,8−ジ
ヒドロキシ−7,8−ジヒドロビタミンD 2 520
mgおよび2.6−ルチジン400mgの乾燥塩化メチ
レン50+++Jl溶液に氷冷下E−ブチルジメチルシ
リルトリフレー) 3001gを撹拌下滴下する。
ヒドロキシ−7,8−ジヒドロビタミンD 2 520
mgおよび2.6−ルチジン400mgの乾燥塩化メチ
レン50+++Jl溶液に氷冷下E−ブチルジメチルシ
リルトリフレー) 3001gを撹拌下滴下する。
反応液は室温にて2時間撹拌した後、塩化メチレン50
m立にて希釈後、水、10%塩酸、水、飽和重炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄後、炭酸カリウムにて乾燥する
。
m立にて希釈後、水、10%塩酸、水、飽和重炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄後、炭酸カリウムにて乾燥する
。
溶媒留去後書られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー〔シリカゲル10g、溶媒;n−ヘキサンー酢
酸エチルエステル(100:1マ/マ)〕に付し、3β
−0−(1−ブチルジメチルシリル) −7−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−8−ヒドロキシ−7,8
−ジヒドロビタミンD2500+sgを得る。
ラフィー〔シリカゲル10g、溶媒;n−ヘキサンー酢
酸エチルエステル(100:1マ/マ)〕に付し、3β
−0−(1−ブチルジメチルシリル) −7−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−8−ヒドロキシ−7,8
−ジヒドロビタミンD2500+sgを得る。
すなわち、h記反応は次式の通りである。
IRスペクトル ymax (CI(4s )am
:3500NMRスペクトル(C:CfL4)δ: 0
.10(8H,S)、O,12(8)1.S)、0.l
35(9H,S)、 0.95(9H,S)。
:3500NMRスペクトル(C:CfL4)δ: 0
.10(8H,S)、O,12(8)1.S)、0.l
35(9H,S)、 0.95(9H,S)。
3.40〜3.90(1B4)、4.90(2H,br
s) 。
s) 。
5.00(1)1.d、J−1082)、5.00〜5
.20(2H1躊)、5.38(IH,d、J=10H
z)マススペクトル(FD)m/e;858(M”)
、841,801,553゜527.509,438,
391,383,382.381実施例(2) 3β−0−(t−ブチルジメチルシリル)−7−(1−
ブチルジメチルシリルオキシ)8−ヒドロキシ−7,8
−ジヒドロビタミンD2100mgおよびN−メチルモ
ルフィリン−N−オキシド30mgのアセトン1OsL
水1厘文の混液に四酸化オスミウム触媒量のt−ブタノ
ールImfL溶液を加え室温にて13時間撹拌する。
.20(2H1躊)、5.38(IH,d、J=10H
z)マススペクトル(FD)m/e;858(M”)
、841,801,553゜527.509,438,
391,383,382.381実施例(2) 3β−0−(t−ブチルジメチルシリル)−7−(1−
ブチルジメチルシリルオキシ)8−ヒドロキシ−7,8
−ジヒドロビタミンD2100mgおよびN−メチルモ
ルフィリン−N−オキシド30mgのアセトン1OsL
水1厘文の混液に四酸化オスミウム触媒量のt−ブタノ
ールImfL溶液を加え室温にて13時間撹拌する。
反応後飽和酸性亜流酸ソーダ溶液を加えた後アセトンを
留去し、得られる残渣を塩化メチレンにて抽出する。
留去し、得られる残渣を塩化メチレンにて抽出する。
抽出液は水、lO%jJl酎、水、飽和重炭酸ソーダ水
にて順次洗浄したのち、炭酸カリウムにて乾燥する。
にて順次洗浄したのち、炭酸カリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶媒;クロロホルム〕
に付し、3β−0−(t−ブチルジメチルシリル) −
7−(t−ブチルジメチルシリルオキシ) −8,22
,23−トリヒドロキシ−7,8゜22.23−テトラ
ヒドロビタミンDz75mgを得る。
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶媒;クロロホルム〕
に付し、3β−0−(t−ブチルジメチルシリル) −
7−(t−ブチルジメチルシリルオキシ) −8,22
,23−トリヒドロキシ−7,8゜22.23−テトラ
ヒドロビタミンDz75mgを得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
rRスペクトル ytsax (CHCfL3)am
:351ONMRスペクトル(CC見4)δ: 0.
08(eH,S) 、0.13(6)1.S)、0.9
0(13H,S)、 0.93(9H,S)。
:351ONMRスペクトル(CC見4)δ: 0.
08(eH,S) 、0.13(6)1.S)、0.9
0(13H,S)、 0.93(9H,S)。
3.20〜3.90(3H,m)、4.138(2)1
.brg)。
.brg)。
5.10(IH,d、J−10Hz) 、5.30(I
H,d、J−10Hz) マススペクトル(FD)m/e;892(M+) 、8
90,872,1358゜841+、633,8.17
,803,590,572ムク口マトグラフィー〔シリ
カゲル5g、溶媒;塩化メチレン〕に付し、3β−7−
ビス−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−20(S
)−フォルミルー8−ヒドロキシ−9,10−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン150腸gを
得る。
H,d、J−10Hz) マススペクトル(FD)m/e;892(M+) 、8
90,872,1358゜841+、633,8.17
,803,590,572ムク口マトグラフィー〔シリ
カゲル5g、溶媒;塩化メチレン〕に付し、3β−7−
ビス−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−20(S
)−フォルミルー8−ヒドロキシ−9,10−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン150腸gを
得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
実施例(3)
3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7−(1−
ブチルジメチルシリルオキシ) −8,22゜23−ト
リヒドロキシ−7,8,22,23−テトラヒドロビタ
ミンD z 2001gのメタノール10m1、水2
Mの溶液に過剰のメタ過ヨウ素酸ソーダを加え、室温に
て2時間撹拌する。
ブチルジメチルシリルオキシ) −8,22゜23−ト
リヒドロキシ−7,8,22,23−テトラヒドロビタ
ミンD z 2001gのメタノール10m1、水2
Mの溶液に過剰のメタ過ヨウ素酸ソーダを加え、室温に
て2時間撹拌する。
メタノールを留去して得られる残渣を塩化メチレンに溶
解し、水にて洗浄し、炭酸カリウムで乾燥する。
解し、水にて洗浄し、炭酸カリウムで乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラrRスペ
クトル yysax (CHC文3)c+s−1:35
00.17!ONMRスペクトル(000文3 )
: 0.07(6H,S)、0.14(8)1.S)
、0.80(3H,S) 、0.87(9)!、S)
。
クトル yysax (CHC文3)c+s−1:35
00.17!ONMRスペクトル(000文3 )
: 0.07(6H,S)、0.14(8)1.S)
、0.80(3H,S) 、0.87(9)!、S)
。
0.91(9H,S) 、 1.07(38,d、J−
9Hz) 。
9Hz) 。
3.50〜3.90(IH,m) 、4.97(2H,
brs) 。
brs) 。
5.07(IH,d、JllIOHz) 、5.35(
IH,d、J−101(z)、11.53(1)1.d
、JII3Hz)マススペクトル(FD)m/e;59
0(M+) 、575,549,531゜474.45
6,444,440,421チルシリル)−7,8ジー
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−7,8−ジヒド
ロビタミンDz1gを得る。
IH,d、J−101(z)、11.53(1)1.d
、JII3Hz)マススペクトル(FD)m/e;59
0(M+) 、575,549,531゜474.45
6,444,440,421チルシリル)−7,8ジー
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−7,8−ジヒド
ロビタミンDz1gを得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
実施例(4)
7.8−ジヒドロキ−7,8−ジヒドロビタミンDz4
QOmgおよび2.6−ルナシン640踵gの乾燥塩化
メチレン5軸文溶液に水冷下t−ブチルジメチルシリル
トリフレー) 950I1gを撹拌下部下する。
QOmgおよび2.6−ルナシン640踵gの乾燥塩化
メチレン5軸文溶液に水冷下t−ブチルジメチルシリル
トリフレー) 950I1gを撹拌下部下する。
反応液は室温にて13時間撹拌した後、IM化メチレン
50m lにて希釈し、水、10%塩酸、水、飽和重炭
酸ナトリウム、水にて順次洗浄後、炭酸カリウムにて乾
燥する。
50m lにて希釈し、水、10%塩酸、水、飽和重炭
酸ナトリウム、水にて順次洗浄後、炭酸カリウムにて乾
燥する。
溶媒留去後書られる残液をシリカゲルがラムクロマトグ
ラフィー〔シリカゲル10g、溶媒; n−へギサン〕
に付し、3β−0−(1−ブチルジメNMRスペクトル
(CC立4)δ: 0.04(9H,S)、0.07(
9)1.s) 、O,[]0(27)1.S) 、 3
.40〜4.00(1)1.m) 、4.85(2)!
、brS)、4.95(IH,d。
ラフィー〔シリカゲル10g、溶媒; n−へギサン〕
に付し、3β−0−(1−ブチルジメNMRスペクトル
(CC立4)δ: 0.04(9H,S)、0.07(
9)1.s) 、O,[]0(27)1.S) 、 3
.40〜4.00(1)1.m) 、4.85(2)!
、brS)、4.95(IH,d。
J−10Hz)、4.98〜5.20(2H,s+)、
5.40(IH,d、J’1OHz) マススペクトル(FD)m#;772(M+) 、71
5,583,5(1?。
5.40(IH,d、J’1OHz) マススペクトル(FD)m#;772(M+) 、71
5,583,5(1?。
455.391,392
実施例(5)
3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7,8−ジ
ー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−7,8−ジヒ
ドロビタミンD z 80hgおよびN−メチルモル
フォリンN−オキシド300mgのアセトン201文、
水311見の混液に、触媒量の四酸化オスミウムを含む
し一ブタノール3層文溶液を加え、室温にて13時間撹
拌する。
ー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−7,8−ジヒ
ドロビタミンD z 80hgおよびN−メチルモル
フォリンN−オキシド300mgのアセトン201文、
水311見の混液に、触媒量の四酸化オスミウムを含む
し一ブタノール3層文溶液を加え、室温にて13時間撹
拌する。
反応後、飽和酸性亜流酸ソーダ溶液を加えた後アセトン
を留去し、得られる残渣を塩化メチレンにて抽出する。
を留去し、得られる残渣を塩化メチレンにて抽出する。
抽出液は水、10%塩酸、水、飼料重炭酸ソーダ水にて
順次洗浄した後、炭酸カリウムにて乾燥する。
順次洗浄した後、炭酸カリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒;クロロホルム〕
に付し、3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7
,El−ジー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−2
2,23−ジヒドロキシ−7,8゜22.23−テトラ
ヒドロビタミンD t 500mgを得る。
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒;クロロホルム〕
に付し、3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7
,El−ジー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−2
2,23−ジヒドロキシ−7,8゜22.23−テトラ
ヒドロビタミンD t 500mgを得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
IRXペクト/l/ pmax (CHClz )c
m−1:350ONにRスペクトル(CDC又3)δ:
0.09(18H,S)、0.93(278,S)、
3.40〜4.00(3H,厘)、4.95(28,b
rg)、5.03(II、d、J−10Hz) 。
m−1:350ONにRスペクトル(CDC又3)δ:
0.09(18H,S)、0.93(278,S)、
3.40〜4.00(3H,厘)、4.95(28,b
rg)、5.03(II、d、J−10Hz) 。
5.47(IH,d、J−1lO1(z)マススペクト
ル(FD)s/e;7?2(M”−34) 、714,
840゜583、509,455,311す る。
ル(FD)s/e;7?2(M”−34) 、714,
840゜583、509,455,311す る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
実施例(8)
3β−0−(1−ブチルジメチルシリル)−7,8−ジ
ー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−22,23−
ジヒドロキシ−7,8,22,23−テトラヒドロビタ
ミンD z 400mgのメタノールl0aJL 、
水2Mの溶液に過剰のメタ過ヨウ素酸ソーダを加え、室
温にて2時間撹拌する。
ー(t−ブチルジメチルシリルオキシ)−22,23−
ジヒドロキシ−7,8,22,23−テトラヒドロビタ
ミンD z 400mgのメタノールl0aJL 、
水2Mの溶液に過剰のメタ過ヨウ素酸ソーダを加え、室
温にて2時間撹拌する。
メタノールを留去して得られる残渣を塩化メチレンに溶
解し、水にて洗浄し、炭酸カリウムで乾燥する。
解し、水にて洗浄し、炭酸カリウムで乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:lマ/マ)〕に付し、
3β、7.8− トリー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−フォルミルー9.lO−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン250mgを
得IRスペクトル pmax (CHCly )cab
−L:172ONMRスペクトル(CC交4)δ: 0
.07(18)1.S)、0.92(27H,S) 、
3.40〜4.00(IH,m) 、4.95(2)1
.brs) 、5.0O(IH,d、J−10Hz)
。
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:lマ/マ)〕に付し、
3β、7.8− トリー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−フォルミルー9.lO−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン250mgを
得IRスペクトル pmax (CHCly )cab
−L:172ONMRスペクトル(CC交4)δ: 0
.07(18)1.S)、0.92(27H,S) 、
3.40〜4.00(IH,m) 、4.95(2)1
.brs) 、5.0O(IH,d、J−10Hz)
。
5.48(1M、d、J=lOHz) 、9.53(I
H,d 、J−2,5)1z) マススペクトル(FD)+s/e;704(M”) 、
647,840,572゜515.339,323 すなわち上記反応は次式の通りである。
H,d 、J−2,5)1z) マススペクトル(FD)+s/e;704(M”) 、
647,840,572゜515.339,323 すなわち上記反応は次式の通りである。
実施例(7)
3β、7.8− )ジー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−フォルミルー9.lO−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン200mgの
メタノール10m文および塩化メチレン5厘文の混液に
水冷撹拌下水素化ホウ素ナトリウム100mgを加える
。
キシ)−20(S)−フォルミルー9.lO−セコプレ
グナ−5(Z) 、10(19)−ジエン200mgの
メタノール10m文および塩化メチレン5厘文の混液に
水冷撹拌下水素化ホウ素ナトリウム100mgを加える
。
反応液は室温にて1時間撹拌する。
溶媒を留去して得られる残渣を塩化メチレンにて抽出し
、抽出液は水洗後戻酸カリウムにて乾燥する。
、抽出液は水洗後戻酸カリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶媒; n−ヘキサン
ー酢醸エチルエステル(100:3マ/マ)〕に付し、
3β、7.8− )リ−(し−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−ヒドロキシメチル−S、tO−セ
コプレグナ−5(Z)、10(19)−ジエン15Gm
gを得る。
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶媒; n−ヘキサン
ー酢醸エチルエステル(100:3マ/マ)〕に付し、
3β、7.8− )リ−(し−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−ヒドロキシメチル−S、tO−セ
コプレグナ−5(Z)、10(19)−ジエン15Gm
gを得る。
IRスペクトル ysax (CHCi3)cm :
3E10ONMRスペクトル(CC文4)δ: 0.0
7(18H,S)、0.94(27H,S)、3.10
〜3.90(l)I、層)、4.95(2H,brs)
、5.00(IH,d、JlllOHz) 。
3E10ONMRスペクトル(CC文4)δ: 0.0
7(18H,S)、0.94(27H,S)、3.10
〜3.90(l)I、層)、4.95(2H,brs)
、5.00(IH,d、JlllOHz) 。
5.46(IH,d、J−10)1z)マススペクトル
(FD)m/e;70G(M”) 、849,574,
517゜455.443,399,381 実施例(8) 3β、7.8− トリー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−ヒドロキシメチル−9,1o−セ
コプレグナ−5(Z) 、10(19)−ジエンI8お
よびジヒドロビラン18011gの塩化メチレン50m
l溶液に水冷下触媒量のP−トルエンスルホン酸を加
え室温にて1時間撹拌する。
(FD)m/e;70G(M”) 、849,574,
517゜455.443,399,381 実施例(8) 3β、7.8− トリー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−ヒドロキシメチル−9,1o−セ
コプレグナ−5(Z) 、10(19)−ジエンI8お
よびジヒドロビラン18011gの塩化メチレン50m
l溶液に水冷下触媒量のP−トルエンスルホン酸を加
え室温にて1時間撹拌する。
反応液は飽和ffi炭酸ナトリウム溶液にて洗浄後炭酸
カリウムにて乾燥する。
カリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル10g、溶4M;n”−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(100:1マ/マ)〕に伺
し、3β、?、8− トリー(t〜ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシ
8.lO−セコプレグナ−5(Z)。
トグラフィー〔シリカゲル10g、溶4M;n”−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(100:1マ/マ)〕に伺
し、3β、?、8− トリー(t〜ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシ
8.lO−セコプレグナ−5(Z)。
10(+9)−ジエンIgを得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
NMRスペクトルCCC立4)δ: 0.07(18H
,S)、0.90(27H,S) 、3.20〜4.0
0(5H,層)、4.47(IH,brs)、4.94
(2H,brs)、5.00(IH。
,S)、0.90(27H,S) 、3.20〜4.0
0(5H,層)、4.47(IH,brs)、4.94
(2H,brs)、5.00(IH。
d、J=Io)Iz) 、5.44(IH,d、J=1
0Hz)マススペクトル(FD)m/e;790(M+
) 、789,733,889゜1359.848,8
33,801,557,527,511゜497.48
3,455 実施例(9) 3β、7.8− )ジー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチ
ル−3,lO−セコプレグナ−5(Z)、10(19)
−ジエンIgおよび二酸化セレン400■gの塩化メチ
レン100−Mとアセトニトリル10m1の懸濁液を撹
拌下18時間加熱還流する。
0Hz)マススペクトル(FD)m/e;790(M+
) 、789,733,889゜1359.848,8
33,801,557,527,511゜497.48
3,455 実施例(9) 3β、7.8− )ジー(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチ
ル−3,lO−セコプレグナ−5(Z)、10(19)
−ジエンIgおよび二酸化セレン400■gの塩化メチ
レン100−Mとアセトニトリル10m1の懸濁液を撹
拌下18時間加熱還流する。
反応液は10%苛性ソーダ水、水にて洗浄後、炭酸カリ
ウムにて乾燥する。
ウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残液をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲルlog 、溶媒; n−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(100:2マハ)〕に付し
、第一フラクションより3β−7,8−)ジー(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−1α−ヒドロオキシ−2
0(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,l
O−セコプレグナ−5(Z) 、10(19)−ジエン
120酩を得る。
トグラフィー(シリカゲルlog 、溶媒; n−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(100:2マハ)〕に付し
、第一フラクションより3β−7,8−)ジー(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)−1α−ヒドロオキシ−2
0(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,l
O−セコプレグナ−5(Z) 、10(19)−ジエン
120酩を得る。
すなわち上記反I8は次式の通りである。
IRスペクトル v saw (CHCl :l )C
I−” :360ONMRスペクトル(CC見4)δ:
0.0?(18H,S)、0.93(27H,S)
、3.20〜3.83(511,勇)、4.40(11
1,brg)、4.50(IH,bts)、5.02(
III。
I−” :360ONMRスペクトル(CC見4)δ:
0.0?(18H,S)、0.93(27H,S)
、3.20〜3.83(511,勇)、4.40(11
1,brg)、4.50(IH,bts)、5.02(
III。
d、J=1011z)、5.17(211,brs)、
5.70(III、d、JIIlollz) マススペクトル(FD)m/e;80BCM”) 、7
90,750.f394゜860.543,510,4
81,438,409第二フラクシ画ンより3β、7.
8− )ジー(を−ブチルジメチルシリルオキシ)−1
β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロピラニル
オキシメチル−8,10−セコプレグナ−5(Z) 、
10(19)−ジエン6835gを得る。
5.70(III、d、JIIlollz) マススペクトル(FD)m/e;80BCM”) 、7
90,750.f394゜860.543,510,4
81,438,409第二フラクシ画ンより3β、7.
8− )ジー(を−ブチルジメチルシリルオキシ)−1
β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロピラニル
オキシメチル−8,10−セコプレグナ−5(Z) 、
10(19)−ジエン6835gを得る。
IRスペクトル v wax (CHCl x )cm
−1:360ONMRスペクトル(CC14) δ:
0.0?(18H,S)、0.93(27H,S) 、
3.20〜4.10(6H,m)、4.50(IH,b
rs)、5.03(IH,d、J=IOHz)。
−1:360ONMRスペクトル(CC14) δ:
0.0?(18H,S)、0.93(27H,S) 、
3.20〜4.10(6H,m)、4.50(IH,b
rs)、5.03(IH,d、J=IOHz)。
5.10(IH,hrg)、5.31(IH,brs)
、5.eO(IH,d、J富10Hz) マススペクトル(FD)+s/s :80B(M?)
、 790.778.750 。
、5.eO(IH,d、J富10Hz) マススペクトル(FD)+s/s :80B(M?)
、 790.778.750 。
678.511.481,439,410実施例(lO
) 3β、7.8−)ジー(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−1β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−9,10−セコプレグナ−5(Z)
、 10 (19)−ジエン880mg 、ピリジン0
.4m交およびM媒fitの4−ジメチルアミノピリジ
ンの111化メチレン50+wjl溶液に氷冷下メタン
スルホニルクロリド150a+gを撹拌子滴下する。
) 3β、7.8−)ジー(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−1β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−9,10−セコプレグナ−5(Z)
、 10 (19)−ジエン880mg 、ピリジン0
.4m交およびM媒fitの4−ジメチルアミノピリジ
ンの111化メチレン50+wjl溶液に氷冷下メタン
スルホニルクロリド150a+gを撹拌子滴下する。
反応液は30分間室温にて撹拌後水、10%111酸。
飽和重炭酸ナトリウム溶液、水にて順次洗浄後。
硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣を精製することなく直ちに
次の反応にて使用する。
次の反応にて使用する。
上記メシレートおよび酢酸セシウム8QQmgと18−
クラウン−8300mgのベンゼン5011文、懸濁液
をQ231−3tark 装置下に16時間加熱還流
する。
クラウン−8300mgのベンゼン5011文、懸濁液
をQ231−3tark 装置下に16時間加熱還流
する。
反応液は水洗後硫醜ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒: n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(+00:2マ/マ)〕に付し、
lα−7セトキシー3β−7,8−トリー(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ) −20(S) −テトラヒド
ロピラニルオキシメチル−3,IO−セコプレグナ−5
(Z) 、 10(+9)−ジ=7500a+g得る。
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒: n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(+00:2マ/マ)〕に付し、
lα−7セトキシー3β−7,8−トリー(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ) −20(S) −テトラヒド
ロピラニルオキシメチル−3,IO−セコプレグナ−5
(Z) 、 10(+9)−ジ=7500a+g得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
マススペクトル(FD)II/I!;848(M+)
、8ニア0,792,718゜877.497,439
,410 IRスペクトル シ■6重(CHC交z)c■ :17
3ONMRスペクトル(CCJ14) δ: 0.07
(18H,S) 、0.93(27H,S)、1:97
(3H,S) 、 3.30〜4.20(5H,s)
、4.50(IH,brg) 、5.10(ILd、J
−10Hz)、5.37(l)l、brs)、 5.4
3(18,brs) 、 5.53(IH,brs)、
5.73(I)l、d、J−10)iZ) 実施例(11) lα−7セトキシー3β、7.8−トリー(1−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−9,10−セコプレグナ−5(Z)、1
0(19)−ジエン480Il1gの111化メチレン
50ral溶液にlθ%メタノール性苛性ソーダ溶液2
m文を加え室温にて15時間撹拌する。
、8ニア0,792,718゜877.497,439
,410 IRスペクトル シ■6重(CHC交z)c■ :17
3ONMRスペクトル(CCJ14) δ: 0.07
(18H,S) 、0.93(27H,S)、1:97
(3H,S) 、 3.30〜4.20(5H,s)
、4.50(IH,brg) 、5.10(ILd、J
−10Hz)、5.37(l)l、brs)、 5.4
3(18,brs) 、 5.53(IH,brs)、
5.73(I)l、d、J−10)iZ) 実施例(11) lα−7セトキシー3β、7.8−トリー(1−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−9,10−セコプレグナ−5(Z)、1
0(19)−ジエン480Il1gの111化メチレン
50ral溶液にlθ%メタノール性苛性ソーダ溶液2
m文を加え室温にて15時間撹拌する。
反応後1反応液は水洗後攻酸カリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:2マ/す〕に付し、f
B−フラクションより、3β、7.8− トリー(L−
ブチルジメチルシリルオキシ)−1α−ヒドロオキシ−
20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,
10−セコプレグナ−5(Z) 、 10(+9)−ジ
エン322mgおよび第二フラクションより3β、7.
8− トリー(し−ブチルジメチルシリルオキシ)−1
β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロピラニル
オキシメチル−8,10−セコプレグナ−5(Z) 、
10(i9)−ジエン82mgを得る。
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒; n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:2マ/す〕に付し、f
B−フラクションより、3β、7.8− トリー(L−
ブチルジメチルシリルオキシ)−1α−ヒドロオキシ−
20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,
10−セコプレグナ−5(Z) 、 10(+9)−ジ
エン322mgおよび第二フラクションより3β、7.
8− トリー(し−ブチルジメチルシリルオキシ)−1
β−ヒドロオキシ−20(S)−テトラヒドロピラニル
オキシメチル−8,10−セコプレグナ−5(Z) 、
10(i9)−ジエン82mgを得る。
すなわち上記反応は次式の通りである。
(発明の効果)
本願請求項(1)に係る化合物は、上記の如く新規物質
であり、前記の如くビタミンDとして極めて有用な物質
を提供することができる。
であり、前記の如くビタミンDとして極めて有用な物質
を提供することができる。
請求項(2)の方法によるときは、7,8−ジヒドロシ
キビタミンDzあるいはそのM導体分子のC(22)
、 (23)結合を選択的に開裂することで請求項(1
)の新規物質を容易に得ることができる。
キビタミンDzあるいはそのM導体分子のC(22)
、 (23)結合を選択的に開裂することで請求項(1
)の新規物質を容易に得ることができる。
請求項(3)の方法にあっては選択的C(22) 。
(23)開裂反応およびアリール酸化によりC(1)位
に一つの酸素官能基を直接に付けるようにしたことで、
有効な新物質を画期的に効率よく提供することができる
。
に一つの酸素官能基を直接に付けるようにしたことで、
有効な新物質を画期的に効率よく提供することができる
。
図は、本願に係る方法の全体工程説明図である。
これらの成績体はボI記実施例(9)で得られた標品と
、各種機器データが完全に一致したことにより同定確認
した。 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 手続補 正 書(方式) 事件の表示 特願平1−35782 発明の名称 22 、23−セコ−1,7,8−トリヒドロキシビタ
ミンDあるいはその誘導体とその製造方法補正をする者 事件との関係 特許出願人 株式会社 は く 七 ん 代 理 人〒100 東京都千代田区有楽町1丁目6番6号小谷ビル補正命令
の日付 (平成 1年 5月30日) 補正の対象 明細書の1図面の簡単な説明Jの欄と図面。 7 補正の内容 l)明細書筒40頁15行目の「図は、」を「第1図は
、」 と補正
、各種機器データが完全に一致したことにより同定確認
した。 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 手続補 正 書(方式) 事件の表示 特願平1−35782 発明の名称 22 、23−セコ−1,7,8−トリヒドロキシビタ
ミンDあるいはその誘導体とその製造方法補正をする者 事件との関係 特許出願人 株式会社 は く 七 ん 代 理 人〒100 東京都千代田区有楽町1丁目6番6号小谷ビル補正命令
の日付 (平成 1年 5月30日) 補正の対象 明細書の1図面の簡単な説明Jの欄と図面。 7 補正の内容 l)明細書筒40頁15行目の「図は、」を「第1図は
、」 と補正
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここでR_1、R_2、R_3は同一若しくは異なる
水素原子またはヒドロキシ保護基を示し、R_4はアル
デヒド基または−CH_2OR_5(R_5は水素原子
またはヒドロキシ保護基)を示し、Xは水素、ヒドロキ
シ若しくは、その誘導体を示す。〕(2)下記〔 I 〕
式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 〔ここでR_1、R_2およびR_3は同一若しくは異
なる水素原子またはヒドロキシ保護基を示す。〕で表わ
される7,8−ジヒドロキシビタミンD_2またはその
誘導体を不活性溶媒中で選択的に22、23位を酸化的
開裂反応に付した後、還元反応等を行なうことを特徴と
する 下記〔II〕式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 〔ここでR_1、R_2、R_3は同一若しくは異なる
水素原子またはヒドロキシ保護基を示し、R_4はアル
デヒド基または−CH_2OR_5(R_5は水素原子
またはヒドロキシ保護基)を示す〕 で表わされる22−セコ誘導体の製造方法。 (3)下記〔II〕式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔II〕 〔ここでR_1、R_2、R_3は同一若しくは異なる
水素原子またはヒドロキシ保護基を示し、R_4はアル
デヒド基または−CH_2OR_5(R_5は水素原子
またはヒドロキシ保護基)を示す〕 で表わされる22−セコ誘導体を、不活性溶媒中にて二
酸化セレン等の金属酸化物か過酸化物によりアリール酸
化することを特徴とする 下記〔III〕式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔III〕 〔ここでR_1、R_2、R_3およびR_6は同一若
しくは異なる水素原子またはヒドロキシ保護基を示し、
R_4はアルデヒド基または−CH_2OR_5(R_
5は水素原子またはヒドロキシ保護基)を示す〕 で表わされる22,23−セコ−1,7,8−トリヒド
ロキシビタミンDまたはその誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1035782A JPH0768208B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 22,23―セコ―1,7,8―トリヒドロキシビタミンdあるいはその誘導体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1035782A JPH0768208B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 22,23―セコ―1,7,8―トリヒドロキシビタミンdあるいはその誘導体とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02215765A true JPH02215765A (ja) | 1990-08-28 |
| JPH0768208B2 JPH0768208B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=12451470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1035782A Expired - Fee Related JPH0768208B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 22,23―セコ―1,7,8―トリヒドロキシビタミンdあるいはその誘導体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768208B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005074943A1 (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ed−71製剤 |
-
1989
- 1989-02-15 JP JP1035782A patent/JPH0768208B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005074943A1 (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ed−71製剤 |
| JPWO2005074943A1 (ja) * | 2004-02-06 | 2007-10-11 | 中外製薬株式会社 | Ed−71製剤 |
| JP2012072169A (ja) * | 2004-02-06 | 2012-04-12 | Chugai Pharmaceut Co Ltd | Ed−71製剤 |
| JP4921794B2 (ja) * | 2004-02-06 | 2012-04-25 | 中外製薬株式会社 | Ed−71製剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0768208B2 (ja) | 1995-07-26 |
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