JPH0221599A - 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置Info
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- JPH0221599A JPH0221599A JP16912088A JP16912088A JPH0221599A JP H0221599 A JPH0221599 A JP H0221599A JP 16912088 A JP16912088 A JP 16912088A JP 16912088 A JP16912088 A JP 16912088A JP H0221599 A JPH0221599 A JP H0221599A
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
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- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は荷電粒子ビーム加速器、特にサイクロトロンの
運転制御の際に用いられる調整パラメータの設定及び表
示を行う設定表示装置に関する。
運転制御の際に用いられる調整パラメータの設定及び表
示を行う設定表示装置に関する。
（従来の技術）
一般に、サイクロトロンでは、サイクロトロンを構成す
る要素（例えば、メインコイル、Ｑマグネット、デフレ
クタ等）ごとにｆｆｆｆ１パラメータ（運転パラメータ
）か設定されており、これら調整パラメータに基づいて
各構成要素の制御を行っている。
る要素（例えば、メインコイル、Ｑマグネット、デフレ
クタ等）ごとにｆｆｆｆ１パラメータ（運転パラメータ
）か設定されており、これら調整パラメータに基づいて
各構成要素の制御を行っている。
サイクロトロンを運転制御する際には、デイスプレィ上
に現時点における各種の調整パラメータを数値として表
示するともに荷電粒子ビームの電流値を検出しく以下こ
の電流値を検出ビーム電流値という）、この検出ビーム
電流値を表示して、これら調整パラメータ及び検出ビー
ム電流値を対比して、オペレータか最適のビーム電流値
が得られるように調整パラメータを調節（変化）してい
る。
に現時点における各種の調整パラメータを数値として表
示するともに荷電粒子ビームの電流値を検出しく以下こ
の電流値を検出ビーム電流値という）、この検出ビーム
電流値を表示して、これら調整パラメータ及び検出ビー
ム電流値を対比して、オペレータか最適のビーム電流値
が得られるように調整パラメータを調節（変化）してい
る。
（発明が解決しようとする課題）
ところで、従来の場合、上述のようにデイスプレィ上に
調整パラメータ（数値）及び検出ビーム電流値を単に表
示しているから、複数の調整パラメータ相互のｒ！Ａ係
を直接認識することができず、その結果、パラメータの
調整には熟練を必要とし、オペレータに過度の負担を強
いるばかりでなく、荷電粒子ビームの調整に時間がかか
るという問題点がある。
調整パラメータ（数値）及び検出ビーム電流値を単に表
示しているから、複数の調整パラメータ相互のｒ！Ａ係
を直接認識することができず、その結果、パラメータの
調整には熟練を必要とし、オペレータに過度の負担を強
いるばかりでなく、荷電粒子ビームの調整に時間がかか
るという問題点がある。
本発明の目的は容易にパラメータの調整が行うことので
きる調整パラメータ表示設定装置を提供することにある
。
きる調整パラメータ表示設定装置を提供することにある
。
（課題を解決するための手段）
本発明によれば、荷電粒子ビーム加速器を運転制御する
際に用いられる複数の調整パラメータを設定表示する際
に用いられ、該調整パラメータを記憶する記憶手段と、
前記調整パラメータを二軸座標系に表示する表示手段と
、前記調整パラメータを設定する設定手段と、前記調整
パラメータの相互の相関係数を算出するとともに該相関
係数を用いて前記調整パラメータを前記二軸座標系に変
換する演算手段とを有し、現時点で荷電粒子ビーム加速
器の運転制御に用いられている調整パラメータの変換値
と他の調整パラメータの変換値とを区別して表示するよ
うにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器の調整
パラメータ表示設定装置が得られる。
際に用いられる複数の調整パラメータを設定表示する際
に用いられ、該調整パラメータを記憶する記憶手段と、
前記調整パラメータを二軸座標系に表示する表示手段と
、前記調整パラメータを設定する設定手段と、前記調整
パラメータの相互の相関係数を算出するとともに該相関
係数を用いて前記調整パラメータを前記二軸座標系に変
換する演算手段とを有し、現時点で荷電粒子ビーム加速
器の運転制御に用いられている調整パラメータの変換値
と他の調整パラメータの変換値とを区別して表示するよ
うにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器の調整
パラメータ表示設定装置が得られる。
（作 用）
本発明では、記憶手段に記憶された調整パラメータを用
い、演算手段によってこれら調整パラメータ相互の相関
係数を算出して、この相関係数を用いて上記の調整パラ
メータを表示手段上の二軸座標系に変換する。
い、演算手段によってこれら調整パラメータ相互の相関
係数を算出して、この相関係数を用いて上記の調整パラ
メータを表示手段上の二軸座標系に変換する。
オペレータは、この相関係数が考慮された二軸座標系上
の変換値と検出ビーム電流値を対比して調整パラメータ
の変更を行う、この新たな調整パラメータは記憶手段に
記憶され、演算手段は上述の相関係数を用いてこの新た
な調整パラメータを表示手段上の二軸座標系に変換する
。この際、荷電粒子ビーム加速器の運転制御に現時点で
用いられている調整パラメータと他の調整パラメータと
は区別して表示される。そして、以下同様にして調整パ
ラメータが変更され、表示手段上に表示される。
の変換値と検出ビーム電流値を対比して調整パラメータ
の変更を行う、この新たな調整パラメータは記憶手段に
記憶され、演算手段は上述の相関係数を用いてこの新た
な調整パラメータを表示手段上の二軸座標系に変換する
。この際、荷電粒子ビーム加速器の運転制御に現時点で
用いられている調整パラメータと他の調整パラメータと
は区別して表示される。そして、以下同様にして調整パ
ラメータが変更され、表示手段上に表示される。
（実施例）
以下本発明について実施例によって説明する。
まず、第１図を参照して、サイクロトロン等の荷電粒子
ビーム加速器システム１には制御用コンピュータシステ
ム２が連結されており、この制御用コンピュータシステ
ム２には調整パラメータ入力装置３及びデイスプレィ装
置（ＣＲＴ）４が接続されている。
ビーム加速器システム１には制御用コンピュータシステ
ム２が連結されており、この制御用コンピュータシステ
ム２には調整パラメータ入力装置３及びデイスプレィ装
置（ＣＲＴ）４が接続されている。
制御用コンピュータシステム２は中央処理装置（ＣＰＵ
）２ａ、制御プログラムが格納されたメモリ２ｂ、及び
磁気ディスク装置２ｃを備えており、前述の入力装置３
及びＣＩ”ｔＴ４はそれぞれインタフェース２ｄ及び２
ｅを介してＣＰ ＬＪ ２ ａに接続されている。また
、ＣＰ ｔＪ ２ ａにはインタフェース２ｆ及び１ａ
を介してビーム電流検出用プローブ１ｂが接続されてい
る。
）２ａ、制御プログラムが格納されたメモリ２ｂ、及び
磁気ディスク装置２ｃを備えており、前述の入力装置３
及びＣＩ”ｔＴ４はそれぞれインタフェース２ｄ及び２
ｅを介してＣＰ ＬＪ ２ ａに接続されている。また
、ＣＰ ｔＪ ２ ａにはインタフェース２ｆ及び１ａ
を介してビーム電流検出用プローブ１ｂが接続されてい
る。
磁気ディスク装置２ｃには、従前（過去）において、サ
イクロトロン１の運転制御に用いられた全ての調整パラ
メータが予め格納されており、ＣＰＵ２ａはこれら過去
の調整パラメータを統計解析して第（１）式に示す相関
係数行列Ａを求める。
イクロトロン１の運転制御に用いられた全ての調整パラ
メータが予め格納されており、ＣＰＵ２ａはこれら過去
の調整パラメータを統計解析して第（１）式に示す相関
係数行列Ａを求める。
即ち、過去の調整パラメータの相関性を求める。
なお、予め過去の調整パラメータに基づいて相関係数行
列Ａを求めて、オペレータからの入力によりメモリ２ｂ
に格納しておいてもよい。
列Ａを求めて、オペレータからの入力によりメモリ２ｂ
に格納しておいてもよい。
上述の過去の調整パラメータ及び相関係数行列を用いて
、ＣＰＵ２ａは第（２）式によって二軸座標系（Ｘ−Ｙ
座標系）に変換する。
、ＣＰＵ２ａは第（２）式によって二軸座標系（Ｘ−Ｙ
座標系）に変換する。
ここで、Ｐ、、Ｐ、、・・・Ｐ７はサイクロトロン運転
中のある時点における調整パラメータを示ず。
中のある時点における調整パラメータを示ず。
従って、調整パラメータが１つでも変化すると、新たに
Ｘ−Ｙ座標系上にプロット点が表示される。
Ｘ−Ｙ座標系上にプロット点が表示される。
ここで、サイクロトロン１の運転制御を開始する際に、
新たに調整パラメータを入力装置３から入力する（以下
これを現時点の調整パラメータという）。そして、この
現時点の調整パラメータ（Ｐ、 ′、Ｐ２ ・・・、Ｐ
、 ′）に基づいてサイクロトロンの各構成要素が制御
される。この際、ＣＰ ＬＪ ２ ａは、上述の第（２
）式によって現時点の調整パラメータを二軸座標系に変
換する。
新たに調整パラメータを入力装置３から入力する（以下
これを現時点の調整パラメータという）。そして、この
現時点の調整パラメータ（Ｐ、 ′、Ｐ２ ・・・、Ｐ
、 ′）に基づいてサイクロトロンの各構成要素が制御
される。この際、ＣＰ ＬＪ ２ ａは、上述の第（２
）式によって現時点の調整パラメータを二軸座標系に変
換する。
一方、サイクロトロン１における荷電粒子ビームの電流
値がプローブ１ｂによって検出され、検出ビーム電流値
としてＣＰＵ２ａに入力される。
値がプローブ１ｂによって検出され、検出ビーム電流値
としてＣＰＵ２ａに入力される。
ＣＰ ｔＪ ２ ａは過去の調整パラメータをＸ−Ｙ座
標系に変換したプロット点を第２図（ｂ）に示すように
順次ＣＲＴ４上に表示していく（＋で示す）。また、現
在の調整パラメータをＸ−Ｙ座標系に変換したプロット
点をＣＲＴ４上に表示する（ムで示す）。この際、第２
図（ａ）に示すようにＣＲＴ４上に検出ビーム電流値が
表示される。
標系に変換したプロット点を第２図（ｂ）に示すように
順次ＣＲＴ４上に表示していく（＋で示す）。また、現
在の調整パラメータをＸ−Ｙ座標系に変換したプロット
点をＣＲＴ４上に表示する（ムで示す）。この際、第２
図（ａ）に示すようにＣＲＴ４上に検出ビーム電流値が
表示される。
調整パラメータを二軸座標系に変換した値をＣＲＴ４上
に表示する際には、予め、サイクロトロン１の構成要素
で相互に関連する構成要素が設定されており、この構成
要素の制御量をそれぞれＸ軸及びＹ軸に対応させる０例
えば、サイクロトロン１の第１〜第３の電磁石に流す電
流量をそれぞれＱ、、Ｑ、及びＱ３とし、この電流量Ｑ
ｔ十Ｑ３と電流量Ｑ２とが相互に関連すれば、Ｘ軸にＱ
ｌ−トＱ、をとり、Ｙ軸にＱ２をとる。従って、この場
合には、第１〜第３の電磁石の調整パラメータをそれぞ
れＰ、、Ｐ、及びＰ、とすれば、二軸座標系への変換式
は第（３）式で示される。
に表示する際には、予め、サイクロトロン１の構成要素
で相互に関連する構成要素が設定されており、この構成
要素の制御量をそれぞれＸ軸及びＹ軸に対応させる０例
えば、サイクロトロン１の第１〜第３の電磁石に流す電
流量をそれぞれＱ、、Ｑ、及びＱ３とし、この電流量Ｑ
ｔ十Ｑ３と電流量Ｑ２とが相互に関連すれば、Ｘ軸にＱ
ｌ−トＱ、をとり、Ｙ軸にＱ２をとる。従って、この場
合には、第１〜第３の電磁石の調整パラメータをそれぞ
れＰ、、Ｐ、及びＰ、とすれば、二軸座標系への変換式
は第（３）式で示される。
・・・（３）
よって、相互に関連するサイクロ１−ロン１の構成要素
が他にもある場合には、ＣＲＴＪ上には複数のＸ−Ｙ座
標系が表示されることになる。
が他にもある場合には、ＣＲＴＪ上には複数のＸ−Ｙ座
標系が表示されることになる。
オペレータはＣＲＴ ４上に表示された相関係数及びビ
ーム電流検出値を見て、最適の粒子ビームに調整する。
ーム電流検出値を見て、最適の粒子ビームに調整する。
即ち、粒子ビームを調整する際には、調整パラメータを
変更する。
変更する。
ここで、第（３）式に基づいて説明すると、調整パラメ
ータＰ２を変更した場合、この変更パラメータは磁気デ
ィスク２Ｃに記憶され、ＣＰＵ２ａは、調整パラメータ
（Ｐ、、Ｐ２′、Ｐ３ ）に基づいて、Ｘ−Ｙ座標系の
プロット点を求め、ＣＲＴ４上にこのプロット点を他ρ
プロット点と区別して表示する。
ータＰ２を変更した場合、この変更パラメータは磁気デ
ィスク２Ｃに記憶され、ＣＰＵ２ａは、調整パラメータ
（Ｐ、、Ｐ２′、Ｐ３ ）に基づいて、Ｘ−Ｙ座標系の
プロット点を求め、ＣＲＴ４上にこのプロット点を他ρ
プロット点と区別して表示する。
このプロット点が第２図（ｂ）に示すプロット群（＋で
示す）からずれる方向に移動した場合には、Ｎｕパラメ
ータｐ、、ｐ、をも変更しなければならないことがわか
る。
示す）からずれる方向に移動した場合には、Ｎｕパラメ
ータｐ、、ｐ、をも変更しなければならないことがわか
る。
従って、この場合には、調整パラメータＰ１Ｐ２．及び
Ｐ、を調整しなければならないことがわかる。即ち、従
来、調整パラメータはそれぞれ独立して数値で表示され
ていただけであるから、多数の調整パラメータが相互に
関連していた場合、最適の粒子ビームを得るためにはど
の調整パラメータを変更すればよいか表示画面を見ただ
けではわからないが、本実施例の場合、各調整パラメー
タの相互相関が二軸座標系に表示されているから、変更
後のプロット点が過去のプロブ１−群から離れるかどう
かによって、どの調整パラメータを変更すればよいかが
表示画面から直ちにわかる。
Ｐ、を調整しなければならないことがわかる。即ち、従
来、調整パラメータはそれぞれ独立して数値で表示され
ていただけであるから、多数の調整パラメータが相互に
関連していた場合、最適の粒子ビームを得るためにはど
の調整パラメータを変更すればよいか表示画面を見ただ
けではわからないが、本実施例の場合、各調整パラメー
タの相互相関が二軸座標系に表示されているから、変更
後のプロット点が過去のプロブ１−群から離れるかどう
かによって、どの調整パラメータを変更すればよいかが
表示画面から直ちにわかる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明では、調整パラメータを二
軸座標系に変換して相互相関図を表示するようにしたか
ら、調整パラメータを変更する際、複数の調整パラメー
タのうちどの調整パラメータを変更すればよいかが直ち
にわかり、その結果、最適粒子ビームを得るためのパラ
メータ変更が極めて容易となる。
軸座標系に変換して相互相関図を表示するようにしたか
ら、調整パラメータを変更する際、複数の調整パラメー
タのうちどの調整パラメータを変更すればよいかが直ち
にわかり、その結果、最適粒子ビームを得るためのパラ
メータ変更が極めて容易となる。
第１図は本発明による調整パラメータ表示設定装置の一
実施例を説明するための図、第２図（ａ）はデイスプレ
ィ上に表示される検出ビーム電流値を示す図、第２図（
ｂ）は調整パラメータの相互相関を示すための相互相関
図である。 ■・・・加速器システム、 ２・・・制御コンピュータシ ステム、 ３・・・パラメータ入力装置、 １１・・・デイスプ レイ （ＣＲ′ｒ’ ）
実施例を説明するための図、第２図（ａ）はデイスプレ
ィ上に表示される検出ビーム電流値を示す図、第２図（
ｂ）は調整パラメータの相互相関を示すための相互相関
図である。 ■・・・加速器システム、 ２・・・制御コンピュータシ ステム、 ３・・・パラメータ入力装置、 １１・・・デイスプ レイ （ＣＲ′ｒ’ ）
Claims (1)
- １ 荷電粒子ビーム加速器を運転制御する際に用いられ
る複数の調整パラメータを設定表示する際に用いられ、
該調整パラメータを記憶する記憶手段と、前記調整パラ
メータを二軸座標系に表示する表示手段と、前記調整パ
ラメータを設定する設定手段と、前記調整パラメータの
相互の相関係数を算出するとともに該相関係数を用いて
前記調整パラメータを前記二軸座標系に変換する演算手
段とを有し、現時点で荷電粒子ビーム加速器の運転制御
に用いられている調整パラメータの変換値と他の調整パ
ラメータの変換値とを区別して表示するようにしたこと
を特徴とする荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表
示設定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16912088A JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16912088A JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221599A true JPH0221599A (ja) | 1990-01-24 |
| JPH07118399B2 JPH07118399B2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=15880664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16912088A Expired - Lifetime JPH07118399B2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 荷電粒子ビーム加速器の調整パラメータ表示設定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07118399B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0662250A4 (en) * | 1991-12-20 | 1995-05-04 | Grace W R & Co | MULTI-LAYER BATTERY SEPARATOR AND MANUFACTURING PROCESS. |
| US9234214B2 (en) | 2009-10-14 | 2016-01-12 | Purac Biochem Bv | Fermentation process at reduced pressure |
| CN119670516A (zh) * | 2024-11-21 | 2025-03-21 | 西安电子科技大学 | 基于高斯集成信念传播的数字孪生加速器调束方法 |
-
1988
- 1988-07-08 JP JP16912088A patent/JPH07118399B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0662250A4 (en) * | 1991-12-20 | 1995-05-04 | Grace W R & Co | MULTI-LAYER BATTERY SEPARATOR AND MANUFACTURING PROCESS. |
| US9234214B2 (en) | 2009-10-14 | 2016-01-12 | Purac Biochem Bv | Fermentation process at reduced pressure |
| CN119670516A (zh) * | 2024-11-21 | 2025-03-21 | 西安电子科技大学 | 基于高斯集成信念传播的数字孪生加速器调束方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07118399B2 (ja) | 1995-12-18 |
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