JPH02216787A - 円板ヒータ - Google Patents
円板ヒータInfo
- Publication number
- JPH02216787A JPH02216787A JP3618289A JP3618289A JPH02216787A JP H02216787 A JPH02216787 A JP H02216787A JP 3618289 A JP3618289 A JP 3618289A JP 3618289 A JP3618289 A JP 3618289A JP H02216787 A JPH02216787 A JP H02216787A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- electrodes
- heater
- disk
- disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Heating Bodies (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野１
本発明は円板ヒータに関するものであり、特に、大口径
化、透明化、低抵抗化等に対応し、かつ温度分布の均一
化に秀れた円板ヒータに関するものであり、プラズマ処
理装置の電極等に使用可能なものである。
化、透明化、低抵抗化等に対応し、かつ温度分布の均一
化に秀れた円板ヒータに関するものであり、プラズマ処
理装置の電極等に使用可能なものである。
〔従来の技術〕
円板ヒータは従来、例えば、中外商工（株）ｒＣＥＲＡ
ＨＥＡＴＪカタログの構造図に示されているように
、アルミナセラミックのシート（母材）上に抵抗パター
ンをプリントし、これに絶縁保護層をコーティングして
製作される。
ＨＥＡＴＪカタログの構造図に示されているように
、アルミナセラミックのシート（母材）上に抵抗パター
ンをプリントし、これに絶縁保護層をコーティングして
製作される。
［発明が解決しようとする課題］
上記製作されるヒータでは抵抗パターン上とその周辺で
は温度分布を有するため、大口径化すると割れが生じ、
現状で可能な技術はφ１５０である。また、アルミナセ
ラミック及び抵抗パターンは不透明であり、光を通過さ
せたい部材には用いることができない。
は温度分布を有するため、大口径化すると割れが生じ、
現状で可能な技術はφ１５０である。また、アルミナセ
ラミック及び抵抗パターンは不透明であり、光を通過さ
せたい部材には用いることができない。
本発明の第１の目的は大口径化が容易で透明化にも対応
でき、かつ温度分布の均一な円板ヒータを提供すること
である。
でき、かつ温度分布の均一な円板ヒータを提供すること
である。
本発明の第２の目的は上記円板ヒータを使用したプラズ
マ処理装置等の応用システムを提供することである。
マ処理装置等の応用システムを提供することである。
さらに本発明の第３の目的は上記円板ヒータ等に適用が
可能な電極や抵抗体等の構成要素を提供することである
。
可能な電極や抵抗体等の構成要素を提供することである
。
前記従来ヒータの問題点を解決するため、全面に抵抗体
、周辺に電極を設置して円板ヒータを構成した。
、周辺に電極を設置して円板ヒータを構成した。
［作 用］
円板の全面に抵抗体が設けられているため局部的な温度
分布がなくなり、それに伴って大口径の円板ヒータを製
作することが可能となる。
分布がなくなり、それに伴って大口径の円板ヒータを製
作することが可能となる。
このように構成した円板ヒータの温度分布をより均一に
するためには電極自身に抵抗分布を持たせ、一方向Ｘか
ら電流が流れる際の等電位線をＸに垂直な直線状になす
のが有効である。このような温度分布の均一化は円板状
抵抗体自身に抵抗値の分布を与えることによっても達成
し得る。
するためには電極自身に抵抗分布を持たせ、一方向Ｘか
ら電流が流れる際の等電位線をＸに垂直な直線状になす
のが有効である。このような温度分布の均一化は円板状
抵抗体自身に抵抗値の分布を与えることによっても達成
し得る。
大口径の円板ヒータは一般に直径がφ２００〜３００の
放電電極を作ることが可能であり、エツチング装置等の
プラズマ処理装置を構成することにより、放電電極の加
熱が容易に可能となる。
放電電極を作ることが可能であり、エツチング装置等の
プラズマ処理装置を構成することにより、放電電極の加
熱が容易に可能となる。
さらに、円板ヒータの母材及び抵抗体として透明な材料
を用いることにより透明円板ヒータの製作が可能であり
、これを用いたプラズマモニタ等円板ヒータを通過して
受光するモニタにも適用が可能となる。
を用いることにより透明円板ヒータの製作が可能であり
、これを用いたプラズマモニタ等円板ヒータを通過して
受光するモニタにも適用が可能となる。
以下本発明をいくつかの実施例を示して説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す円板ヒータ１であり、
その断面図を第２図に示す。２は円板全面に一様に設け
られた抵抗体であり、母材４上に薄膜状にコーティング
されている。３Ａ、３Ｂは周辺に設けた電極であり、リ
ード線取付口４Ａ、４Ｂが設けられている。５は抵抗体
２の保護膜であり、５ｉＯ−膜が適している。母材とし
ては真空処理装置等で絶縁材として使用されている石英
としている。抵抗体としては薄膜コーティングが容易で
、適度な抵抗体４０Ω／口程度が得られるＳ ｎ Ｏ＊
やＩＴＯ（インジウム、スズ、オキサイド）が適してい
る。
その断面図を第２図に示す。２は円板全面に一様に設け
られた抵抗体であり、母材４上に薄膜状にコーティング
されている。３Ａ、３Ｂは周辺に設けた電極であり、リ
ード線取付口４Ａ、４Ｂが設けられている。５は抵抗体
２の保護膜であり、５ｉＯ−膜が適している。母材とし
ては真空処理装置等で絶縁材として使用されている石英
としている。抵抗体としては薄膜コーティングが容易で
、適度な抵抗体４０Ω／口程度が得られるＳ ｎ Ｏ＊
やＩＴＯ（インジウム、スズ、オキサイド）が適してい
る。
このように円板ヒータを構成することにより、従来のよ
うに線状の抵抗体を設けるのと比較して大巾に温度分布
のばらつきを小さくできるので、大口径の円板ヒータの
製作が可能となる。また、抵抗体２、母材４、保護膜５
を透明体で構成することができるので、円板ヒータ１を
透明化が必要な部位に適用することができる。さらに、
薄膜状の抵抗体２は線状でパターン化されていないので
電極３Ａ、３Ｂ間の比抵抗を小さくすることができる。
うに線状の抵抗体を設けるのと比較して大巾に温度分布
のばらつきを小さくできるので、大口径の円板ヒータの
製作が可能となる。また、抵抗体２、母材４、保護膜５
を透明体で構成することができるので、円板ヒータ１を
透明化が必要な部位に適用することができる。さらに、
薄膜状の抵抗体２は線状でパターン化されていないので
電極３Ａ、３Ｂ間の比抵抗を小さくすることができる。
抵抗が小さいと同一電位で電流が大きく得られ、従って
高い温度が設定できる。
高い温度が設定できる。
第１図、第２図に示した実施例の等電位線６と等電流線
７を第３図及び第４図に示す、これらの結果は抵抗体２
の抵抗を全て均一と仮定し電極３Ａ、３Ｂを図示するよ
うに７２°に渡って外周部に設定した場合の計算結果で
ある。この結果より、電極３Ａ、３Ｂの端部付近に電流
の大きくなる部分を生じており、この対策を行うことに
より、温度分布の均一化がさらに可能となる。
７を第３図及び第４図に示す、これらの結果は抵抗体２
の抵抗を全て均一と仮定し電極３Ａ、３Ｂを図示するよ
うに７２°に渡って外周部に設定した場合の計算結果で
ある。この結果より、電極３Ａ、３Ｂの端部付近に電流
の大きくなる部分を生じており、この対策を行うことに
より、温度分布の均一化がさらに可能となる。
第５図は本発明の第２の実施例を示す図であり電極８は
全周に設けられており、電極そのものにも抵抗を持たせ
、第６図に示すように座標軸Ｘに対して中心に近づくに
つれて増大する分布を設定している。従って、等電位線
９はｙ軸と平行とすることができ、面内の電流分布を等
しくすることができる。第３図で示した等電位線６と比
較すればその効果が容易に理解することができる。
全周に設けられており、電極そのものにも抵抗を持たせ
、第６図に示すように座標軸Ｘに対して中心に近づくに
つれて増大する分布を設定している。従って、等電位線
９はｙ軸と平行とすることができ、面内の電流分布を等
しくすることができる。第３図で示した等電位線６と比
較すればその効果が容易に理解することができる。
第７図は本発明の第３の実施例を示すもので、電極自身
に抵抗を持たせる上記実施例と異なり、導伝体の電極ｌ
Ｏをい（つかに分割しそれぞれに別途抵抗を設けて電圧
を供給し、同様の効果をねらったものである６本実施例
では電極を１８分割しており、抵抗Ｒ０〜Ｒ４はそれぞ
れ第８図に示すように設定する。温度分布の均一化は第
５図の実施例と比較すると幾分低下するが、抵抗分割が
容易であり、安価となる。
に抵抗を持たせる上記実施例と異なり、導伝体の電極ｌ
Ｏをい（つかに分割しそれぞれに別途抵抗を設けて電圧
を供給し、同様の効果をねらったものである６本実施例
では電極を１８分割しており、抵抗Ｒ０〜Ｒ４はそれぞ
れ第８図に示すように設定する。温度分布の均一化は第
５図の実施例と比較すると幾分低下するが、抵抗分割が
容易であり、安価となる。
第９図に本発明の第４の実施例を示す１本実施例では電
極３Ａ、３Ｂは導電体で構成しており、抵抗体１１の膜
厚分布を変化させ、先に示した第４図の等電流線を補正
するように等抵抗線図を与えている。従って、本実施例
によっても面内の温度分布を均一化することができる。
極３Ａ、３Ｂは導電体で構成しており、抵抗体１１の膜
厚分布を変化させ、先に示した第４図の等電流線を補正
するように等抵抗線図を与えている。従って、本実施例
によっても面内の温度分布を均一化することができる。
先の実施例と比較すると面内の薄膜厚さを制御する分高
価となる。
価となる。
第１０図に本発明の第５の実施例を示す、電極１３を円
周上の３ケ所に設け、これに３層交流電源１４を接続さ
せている。従って１本実施例によれば、電極１３にそれ
ぞれ位相差１２０°となる電圧が印加されるので温度分
布の均一化が可能となる。第１１図に示す本発明の第６
の実施例は同様の効果と２対の電極１５Ａ、１５Ｃ５及
び１５Ｂ、１５Ｄとスイッチ回路１６Ａ、１６Ｂにより
実現させたものでこれら２対の電極にそれぞれ１８０°
ずらして交流電圧を印加することにより同様の効果が得
られる。
周上の３ケ所に設け、これに３層交流電源１４を接続さ
せている。従って１本実施例によれば、電極１３にそれ
ぞれ位相差１２０°となる電圧が印加されるので温度分
布の均一化が可能となる。第１１図に示す本発明の第６
の実施例は同様の効果と２対の電極１５Ａ、１５Ｃ５及
び１５Ｂ、１５Ｄとスイッチ回路１６Ａ、１６Ｂにより
実現させたものでこれら２対の電極にそれぞれ１８０°
ずらして交流電圧を印加することにより同様の効果が得
られる。
上記実施例では母材を石英としているが、上記薄膜より
大きい抵抗値を有しかつ温度伝導率の良い材料を用いる
ことによって、母材表面での温度分布の均一化が可能と
なる。このような適切な母材材料としてＳｉＣが有効で
ある。
大きい抵抗値を有しかつ温度伝導率の良い材料を用いる
ことによって、母材表面での温度分布の均一化が可能と
なる。このような適切な母材材料としてＳｉＣが有効で
ある。
また、使用用途によってはＳｉＣそのものを抵抗体とし
て用いることも可能である。
て用いることも可能である。
本発明の第７の実施例を第１２図に示す６本実施例は本
発明による円板ヒータをプラズマ処理装置の１つである
反応性イオンエツチング装置のアノード（電極）カバー
２４として用いたものである。２０はウェハ、２１はＲ
Ｆを印加するカソード、２２．２５は絶縁材、２６はチ
ャンバ側壁である０本実施例により、アノード表面をψ
３００の広範囲に渡って加熱できるので、アノード側へ
の反応生成物の付着を防止、活性種の制御等に大きな効
果を発揮する。さらに、アノードカバー２４を透明体の
円板ヒータで構成すれば、アノード２３にのぞき窓を設
けて発光モニタを設置すれば、ウェハ２０上のプラズマ
発光を正確に検出することができる。
発明による円板ヒータをプラズマ処理装置の１つである
反応性イオンエツチング装置のアノード（電極）カバー
２４として用いたものである。２０はウェハ、２１はＲ
Ｆを印加するカソード、２２．２５は絶縁材、２６はチ
ャンバ側壁である０本実施例により、アノード表面をψ
３００の広範囲に渡って加熱できるので、アノード側へ
の反応生成物の付着を防止、活性種の制御等に大きな効
果を発揮する。さらに、アノードカバー２４を透明体の
円板ヒータで構成すれば、アノード２３にのぞき窓を設
けて発光モニタを設置すれば、ウェハ２０上のプラズマ
発光を正確に検出することができる。
上記実施例はプラズマ処理装置の１例としてエツチング
装置を取り上げたがＣＶＤ等成膜装置にも広（適用でき
るものである。
装置を取り上げたがＣＶＤ等成膜装置にも広（適用でき
るものである。
〔発明の効果１
以上説明したように、本発明によれば円板の全面に抵抗
体が設けられているので局部的な温度分布のばらつきを
小さくすることができ、大口径の円板ヒータを製作する
ことができる。
体が設けられているので局部的な温度分布のばらつきを
小さくすることができ、大口径の円板ヒータを製作する
ことができる。
大口径の円板ヒータは直径２００〜３００の放電電極あ
るいはそのカバーとして適用が可能であリ、エツチング
装置等のプラズマ処理装置を構成することにより放電電
極の加熱が容易に可能となる。
るいはそのカバーとして適用が可能であリ、エツチング
装置等のプラズマ処理装置を構成することにより放電電
極の加熱が容易に可能となる。
さらに本発明により、円板ヒータの母材及び抵抗体とし
て透明な材料を用いることにより、透明円板ヒータの製
作が可能であり、これを用いたプラズマモニタ等、円板
ヒータを通過して受光するモニタにも適用が可能となる
。
て透明な材料を用いることにより、透明円板ヒータの製
作が可能であり、これを用いたプラズマモニタ等、円板
ヒータを通過して受光するモニタにも適用が可能となる
。
第１図、第２図は本発明の一実施例を示す円板ヒータの
平面図、縦断面図、第３図、第４図はその等電位線図と
等電流線図、第５図、第６図は、本発明の第２の実施例
を示す円板ヒータの平面図と電極自身の抵抗分布図、第
７図、第８図は本発明の第３の実施例を示す円板ヒータ
の平面図と電極自身の抵抗分布図、第９図は本発明の第
４の実施例の円板ヒータの温度分布向上のための抵抗体
等抵抗線図、第１Ｏ図、第１１図は本発明の第５及び第
６の実施例を示す円板ヒータの平面図、第１２図は本発
明の第７の実施例のプラズマ処理装置の要部縦断面図で
ある。 ２．１１−−−−一抵抗体、３Ａ、３Ｂ、８．１Ｏ，１
３，１５−−−−−電極、１６Ａ、Ｂ−−−−−スイッ
チ回路（制御回路）、１４．１７−−−−−電源、４−
−−−−一母材、２４−−−−−−イ ｌ 図 １３ 圀 イ ４ 閃 ４２ 目 第 図 わ図 ｔ＆日身の狼坑Ｒｅ オ を 圀 ／ｌ 第 図 電極１１四囚仇Ｒｅ オ 囚 オ 図
平面図、縦断面図、第３図、第４図はその等電位線図と
等電流線図、第５図、第６図は、本発明の第２の実施例
を示す円板ヒータの平面図と電極自身の抵抗分布図、第
７図、第８図は本発明の第３の実施例を示す円板ヒータ
の平面図と電極自身の抵抗分布図、第９図は本発明の第
４の実施例の円板ヒータの温度分布向上のための抵抗体
等抵抗線図、第１Ｏ図、第１１図は本発明の第５及び第
６の実施例を示す円板ヒータの平面図、第１２図は本発
明の第７の実施例のプラズマ処理装置の要部縦断面図で
ある。 ２．１１−−−−一抵抗体、３Ａ、３Ｂ、８．１Ｏ，１
３，１５−−−−−電極、１６Ａ、Ｂ−−−−−スイッ
チ回路（制御回路）、１４．１７−−−−−電源、４−
−−−−一母材、２４−−−−−−イ ｌ 図 １３ 圀 イ ４ 閃 ４２ 目 第 図 わ図 ｔ＆日身の狼坑Ｒｅ オ を 圀 ／ｌ 第 図 電極１１四囚仇Ｒｅ オ 囚 オ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、全面に抵抗体、周辺に電極を有することを特徴とす
る円板ヒータ。 ２、前記電極自身に抵抗分布を持たせた第１請求項に記
載の円板ヒータ。 ３、前記抵抗体の抵抗値に面内分布を持たせた第１請求
項に記載の円板ヒータ。 ４、前記電極を複数対設け、各対間で位相差を有する電
圧を印加する制御回路を設けた第１請求項に記載の円板
ヒータ。 ５、前記電極を３個設置し、これらの電極に３層電流を
印加する電源装置を設置した第１請求項に記載の円板ヒ
ータ。 ６、前記抵抗体を母材とその母材上に施した薄膜抵抗体
で構成した第１請求項に記載の円板ヒータ。 ７、前記母材の材料を前記薄膜抵抗体の抵抗値より大き
い抵抗値を有する材料とした第６請求項に記載の円板ヒ
ータ。 ８、前記母材の材料をＳｉＣとした第７請求項に記載の
円板ヒータ。 ９、前記母材として透明な絶縁物を用い、前記薄膜抵抗
体に透明な材料を用いた第６請求項に記載の円板ヒータ
。 １０、前記抵抗体としてＳｉＣを使用した第１請求項に
記載の円板ヒータ。 １１、全面に抵抗体、周辺に電極を有する円板ヒータを
放電電極のカバーとして設置したことを特徴とするプラ
ズマ処理装置。 １２、全面に抵抗体、周辺に電極を有する円板ヒータを
放電電極として設置したことを特徴とするプラズマ処理
装置。 １３、全面に透明な抵抗体、周辺に電極を有する円板ヒ
ータ、該円板ヒータを通過して受光する受光器からなる
ことを特徴とする発光モニタ。 １４、全面に透明な抵抗体、周辺に電極を有する円板ヒ
ータ、該円板ヒータを通過して受光する受光器で構成さ
れた発光モニタからなることを特徴とするプラズマ処理
装置。 １５、一対の電極であり、該電極の抵抗値が部分的に異
なることを特徴とする電極。 １６、全面に抵抗体を有する円形の抵抗体であり、該抵
抗体の抵抗値が部分的に異なることを特徴とする円形抵
抗体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3618289A JPH02216787A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | 円板ヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3618289A JPH02216787A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | 円板ヒータ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02216787A true JPH02216787A (ja) | 1990-08-29 |
Family
ID=12462589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3618289A Pending JPH02216787A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | 円板ヒータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02216787A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020153224A1 (ja) * | 2019-01-25 | 2020-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | ヒータの温度制御方法、ヒータ及び載置台 |
| JP2022020098A (ja) * | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 株式会社デンソーウェーブ | センサ収容装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6116153A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-24 | Toyota Motor Corp | 自動車用導電性透明部材 |
| JPS6113661B2 (ja) * | 1978-12-27 | 1986-04-15 | Nippon Electric Co | |
| JPS63146401A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-18 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜発熱抵抗体 |
-
1989
- 1989-02-17 JP JP3618289A patent/JPH02216787A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6113661B2 (ja) * | 1978-12-27 | 1986-04-15 | Nippon Electric Co | |
| JPS6116153A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-24 | Toyota Motor Corp | 自動車用導電性透明部材 |
| JPS63146401A (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-18 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜発熱抵抗体 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020153224A1 (ja) * | 2019-01-25 | 2020-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | ヒータの温度制御方法、ヒータ及び載置台 |
| JP2020119834A (ja) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | ヒータの温度制御方法、ヒータ及び載置台 |
| CN113330819A (zh) * | 2019-01-25 | 2021-08-31 | 东京毅力科创株式会社 | 加热器的温度控制方法、加热器和载置台 |
| KR20210114481A (ko) * | 2019-01-25 | 2021-09-23 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 히터의 온도 제어 방법, 히터 및 탑재대 |
| US20220151026A1 (en) * | 2019-01-25 | 2022-05-12 | Tokyo Electron Limited | Heater temperature control method, heater, and placement stand |
| CN113330819B (zh) * | 2019-01-25 | 2024-11-22 | 东京毅力科创株式会社 | 加热器的温度控制方法、加热器和载置台 |
| US12356508B2 (en) * | 2019-01-25 | 2025-07-08 | Tokyo Electron Limited | Heater temperature control method, heater, and placement stand |
| JP2022020098A (ja) * | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 株式会社デンソーウェーブ | センサ収容装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10159116B2 (en) | Modular layered heater system | |
| CA2314125C (en) | Touch sensitive screen and its manufacturing method | |
| EP0249417B1 (en) | Touch sensitive device with increased linearity | |
| US3302002A (en) | Uniformly heated conductive panels | |
| JP2000332091A (ja) | 静電チャックおよび処理装置 | |
| WO2011008055A2 (ko) | 전도체 및 이의 제조방법 | |
| US4650288A (en) | Electrically conductive materials for devices | |
| KR910020834A (ko) | 반도체 또는 광학장치에 사용하는 장치 및 그 방법 | |
| EP1010163A1 (en) | Touch screen | |
| JP7793012B2 (ja) | アーク発生を防止または抑制するための化学蒸着ツール | |
| US6242722B1 (en) | Temperature controlled thin film circular heater | |
| JP4171591B2 (ja) | タッチスクリーン重畳電極装置 | |
| EP0134599B1 (en) | Improved electrically conductive materials for devices | |
| KR100649913B1 (ko) | 패터닝에 의하여 저항을 조절하는 도전성 기판 구조물 및그 제조 방법 | |
| US20250038489A1 (en) | Electrode for Acting on a Surface of Conducting or Non-Conducting Material | |
| KR950021197A (ko) | 드라이에칭장치 | |
| US2947801A (en) | Contamination and moisture resistant insulator | |
| JP2001318318A (ja) | 顕微鏡用の検体温度管理器 | |
| JPS622544A (ja) | 無声放電型ガスプラズマ処理装置 | |
| JPH11200027A (ja) | スパッタ陰極 | |
| JPH05181149A (ja) | 液晶表示素子の電極構造 | |
| KR100300433B1 (ko) | 터치패널 | |
| JPH0471183A (ja) | パネルヒーターの製造方法 | |
| JPH05226065A (ja) | 面状発熱体 | |
| KR20260072179A (ko) | 가변 전극 패턴을 가지는 면상 발열 히터 |