JPH02218947A - 碍子汚損量測定方法及びその装置 - Google Patents
碍子汚損量測定方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH02218947A JPH02218947A JP1040482A JP4048289A JPH02218947A JP H02218947 A JPH02218947 A JP H02218947A JP 1040482 A JP1040482 A JP 1040482A JP 4048289 A JP4048289 A JP 4048289A JP H02218947 A JPH02218947 A JP H02218947A
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- sulfur
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は主として懸垂碍子や長幹碍子等の各種碍子の
表面に付着した塩分、硫化物、硫酸塩、石膏、あるいは
セメント等の汚損物の測定時に使用される標準試料に関
するものである。
表面に付着した塩分、硫化物、硫酸塩、石膏、あるいは
セメント等の汚損物の測定時に使用される標準試料に関
するものである。
［従来の技術］
送電線の碍子の塩害事故等を未然に防止するため、碍子
に付着した汚損物を等価塩分付着密度として正確に把握
することが重要である。
に付着した汚損物を等価塩分付着密度として正確に把握
することが重要である。
クロムやチタン等をターゲットとするＸ線管球からの一
次Ｘ線を碍子に照射し、付着している汚損物から発生す
る螢光Ｘ線強度から汚損量を求めるいわゆるＸ線による
汚損度測定方式は、第１に田子に非接触で汚損量が測定
できること、第２に碍子の雨洗効果を正確に掴むことが
でき、累積汚損Ｉが測定できること、第３に測定精度が
高く、かつ測定時間が短いことの３つの理由で理想的な
碍子の汚損量測定方式である。しかし、このＸ線方式に
よる汚損測定を正確に行うためには、標準試料が必要と
なる０例えば、海塩汚損を例にした場合、標準試料とし
ては、碍子表面に塩化ナトリウムを均一に、かつ段階的
に付着させたものを用いるのが最も望ましいが、碍子表
面に塩化ナトリウムを均一に付着させるのは非常に回能
で、又、塩化ナトリウムは潮解性を有するため保存性が
悪く長期の使用に耐えないので、この標準試料を日常の
測定で定常的に使用することはできない。
次Ｘ線を碍子に照射し、付着している汚損物から発生す
る螢光Ｘ線強度から汚損量を求めるいわゆるＸ線による
汚損度測定方式は、第１に田子に非接触で汚損量が測定
できること、第２に碍子の雨洗効果を正確に掴むことが
でき、累積汚損Ｉが測定できること、第３に測定精度が
高く、かつ測定時間が短いことの３つの理由で理想的な
碍子の汚損量測定方式である。しかし、このＸ線方式に
よる汚損測定を正確に行うためには、標準試料が必要と
なる０例えば、海塩汚損を例にした場合、標準試料とし
ては、碍子表面に塩化ナトリウムを均一に、かつ段階的
に付着させたものを用いるのが最も望ましいが、碍子表
面に塩化ナトリウムを均一に付着させるのは非常に回能
で、又、塩化ナトリウムは潮解性を有するため保存性が
悪く長期の使用に耐えないので、この標準試料を日常の
測定で定常的に使用することはできない。
前述した螢光Ｘ線測定方式に使用される標準試料として
は、米国国立標準局（ＮＢＳ：Ｎａｔ−１ｏｎａｌ
Ｂｕｒｅａｕ ｏｆ ５ｔａｎｄ−ａｒｄｓ）の螢
光Ｘ線分析用のものがあるが、これは金属元素用のもの
が多く、非金属元素用のものは少い０例えば、ＮＢＳ標
準試料のガラス（ＳＲＭ８９．９１等）は塩素（Ｃｊ
）を含有しているものがあるが、その濃度が極端に低く
検藍線作成が回能で、市販の標準試料では碍子の汚損量
測定に使用することができない。
は、米国国立標準局（ＮＢＳ：Ｎａｔ−１ｏｎａｌ
Ｂｕｒｅａｕ ｏｆ ５ｔａｎｄ−ａｒｄｓ）の螢
光Ｘ線分析用のものがあるが、これは金属元素用のもの
が多く、非金属元素用のものは少い０例えば、ＮＢＳ標
準試料のガラス（ＳＲＭ８９．９１等）は塩素（Ｃｊ
）を含有しているものがあるが、その濃度が極端に低く
検藍線作成が回能で、市販の標準試料では碍子の汚損量
測定に使用することができない。
一方、固形パラフィンに塩素、硫黄等の標準物質を撹拌
混合して固形化し、これを標準試料とする方法もあるが
、この試料も長期的な保存性や安定性に問題がある。
混合して固形化し、これを標準試料とする方法もあるが
、この試料も長期的な保存性や安定性に問題がある。
さらに、固体の塩化ナトリウムと硼酸を粉砕混合してプ
レス成形したり、あるいは塩化ナトリウムとセルロース
を粉砕混合してプレス成形し、これを標準試料とする方
法もあるが、長期間繰り返し使用した場合、測定の安定
性に問題がある。
レス成形したり、あるいは塩化ナトリウムとセルロース
を粉砕混合してプレス成形し、これを標準試料とする方
法もあるが、長期間繰り返し使用した場合、測定の安定
性に問題がある。
この発明の目的はＸ線を用いる鉤子汚損測定装置におい
て、碍子表面の塩分、硫化物、硫酸塩、石膏、あるいは
セメント等の汚損物の付着密度に換算するための長期間
安定して使用することができる標準試料を提供すること
にある。
て、碍子表面の塩分、硫化物、硫酸塩、石膏、あるいは
セメント等の汚損物の付着密度に換算するための長期間
安定して使用することができる標準試料を提供すること
にある。
［課題を解決するための手段］
この発明は上記目的を達成するため、アルカリ金属酸化
物と硼酸を主成分とし、はぼ０．０１〜１０重量％の塩
素、はぼ０．０１〜１０重量％の硫黄、又はほぼ０．０
１〜１０重量％の弗素、又は塩素、硫黄及び弗素の内そ
れらの成分が合計０．０１〜１０重量％を含有する硼酸
アルカリ系ガラスの成形体を使用するという手段をとっ
ている。
物と硼酸を主成分とし、はぼ０．０１〜１０重量％の塩
素、はぼ０．０１〜１０重量％の硫黄、又はほぼ０．０
１〜１０重量％の弗素、又は塩素、硫黄及び弗素の内そ
れらの成分が合計０．０１〜１０重量％を含有する硼酸
アルカリ系ガラスの成形体を使用するという手段をとっ
ている。
［作用コ
この発明は上記手段をとったことにより、塩素、硫黄、
弗素の元素が水分や温度の変化等の気象条件に影響され
ることなく、長期間安定してｌ１１１酸アルカリ系ガラ
スの内部に均一に存在するため、次Ｘ線を照射した場合
に、常に塩素等の含有量に応じた螢光Ｘ線の強度が正確
に検出され、標準試料として長期間安定して使用するこ
とができ、碍子の汚損量の測定時に正確な検量線を作成
することができる。
弗素の元素が水分や温度の変化等の気象条件に影響され
ることなく、長期間安定してｌ１１１酸アルカリ系ガラ
スの内部に均一に存在するため、次Ｘ線を照射した場合
に、常に塩素等の含有量に応じた螢光Ｘ線の強度が正確
に検出され、標準試料として長期間安定して使用するこ
とができ、碍子の汚損量の測定時に正確な検量線を作成
することができる。
［実施例］
以下、この発明の標準試料の一実施例を第１図〜第５図
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
この実施例では主成分であるアルカリ金属酸化物として
四硼酸リチウム（四硼酸ナトリウムでもよい）を使用し
、この四硼酸リチウムと塩化ナトリウムをほぼ０．０１
〜１４重量％混合し、これらを加熱して撹拌溶融した後
、所定の成形型内に注入して、第１図に示すように円板
状に成形し、硼酸アルカリ系ガラス成形体を成形し塩素
含有量の異なる標準試料１〜３とする。
四硼酸リチウム（四硼酸ナトリウムでもよい）を使用し
、この四硼酸リチウムと塩化ナトリウムをほぼ０．０１
〜１４重量％混合し、これらを加熱して撹拌溶融した後
、所定の成形型内に注入して、第１図に示すように円板
状に成形し、硼酸アルカリ系ガラス成形体を成形し塩素
含有量の異なる標準試料１〜３とする。
前記四硼酸リチウムあるいは四１ｉＩＩｌ酸ナトリウム
は化合物として市販されているが、これに代えて、無水
硼酸に対し炭酸リチウムあるいは炭酸ナトリウムを混合
した後、これに塩化ナトリウムをほぼ０．０１〜１４重
１％混合し、これらを加熱して撹拌溶融してもよい、又
、塩化ナトリウムの代わりに塩化カリウム等他の塩化物
を添加してもよい。
は化合物として市販されているが、これに代えて、無水
硼酸に対し炭酸リチウムあるいは炭酸ナトリウムを混合
した後、これに塩化ナトリウムをほぼ０．０１〜１４重
１％混合し、これらを加熱して撹拌溶融してもよい、又
、塩化ナトリウムの代わりに塩化カリウム等他の塩化物
を添加してもよい。
このようにして製造した標準試料１〜３は、塩害地域等
に設置した碍子の付着塩分濃度測定時にＸ線発生装置の
Ｘ線照射管からＸ線を照射して検量線を作成するのに使
用されるのであるが、硼酸アルカリ系ガラスであるため
、水分や温度変化等の気象条件により組成が変化するこ
とはほとんどなく、かつＸ線を照射しても組成変形しな
いので、長期間に亘って安定性を有するものである。
に設置した碍子の付着塩分濃度測定時にＸ線発生装置の
Ｘ線照射管からＸ線を照射して検量線を作成するのに使
用されるのであるが、硼酸アルカリ系ガラスであるため
、水分や温度変化等の気象条件により組成が変化するこ
とはほとんどなく、かつＸ線を照射しても組成変形しな
いので、長期間に亘って安定性を有するものである。
次に、碍子の汚損量を測定する場合の前記標準試料１〜
３の使用方法について説明する。
３の使用方法について説明する。
最初に、塩素濃度の異なる複数の標準試料１〜３以外に
、塩素を含有しない標準試料４及び表面が汚損されてい
ない碍子と同じ磁器よりなる８準試料５を用意する。
、塩素を含有しない標準試料４及び表面が汚損されてい
ない碍子と同じ磁器よりなる８準試料５を用意する。
これらの各標準試料１〜５を第２図に示すように取付デ
ィスク６に嵌合固定し、図示しない回転支持装置により
支持する。
ィスク６に嵌合固定し、図示しない回転支持装置により
支持する。
次に、標準試料１〜５にＸ線発生装置のＸ線照射管７か
ら一次Ｘ線を順次照射して、その螢光Ｘ線を検出３８に
より検出し、各標準試料１〜５の螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ
５を測定する。そして、前記螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ３か
ら塩素を含有しない標準試料４の螢光Ｘ線強度Ｍ４をそ
れぞれ減算し、第３図に示すように標準試料１〜３の塩
素含有量と螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ３ （Ｋｃｐｓ）との
各データをプロットし、これを基に最小二乗法を用い検
量線Ｈ１を作成し、この検量線Ｈ１を方程式として制御
装置のメモリ（図示路）に記憶する。なお、第３図にお
いては６個の標準試料から得られたデータがプロットさ
れている。又、第３図に示す標準試料の塩素含有量を示
す検量線Ｈ１において、もし塩素を含有しない標準試料
４の測定値を減算しない場合には、同図に二点銀線で示
すように塩素含有量の少い領域において、検量線Ｈ１の
傾きは緩かになり測定精度が低下する。しかも、０８１
重量％以下の低濃度の塩素量の測定が困難となる。
ら一次Ｘ線を順次照射して、その螢光Ｘ線を検出３８に
より検出し、各標準試料１〜５の螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ
５を測定する。そして、前記螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ３か
ら塩素を含有しない標準試料４の螢光Ｘ線強度Ｍ４をそ
れぞれ減算し、第３図に示すように標準試料１〜３の塩
素含有量と螢光Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍ３ （Ｋｃｐｓ）との
各データをプロットし、これを基に最小二乗法を用い検
量線Ｈ１を作成し、この検量線Ｈ１を方程式として制御
装置のメモリ（図示路）に記憶する。なお、第３図にお
いては６個の標準試料から得られたデータがプロットさ
れている。又、第３図に示す標準試料の塩素含有量を示
す検量線Ｈ１において、もし塩素を含有しない標準試料
４の測定値を減算しない場合には、同図に二点銀線で示
すように塩素含有量の少い領域において、検量線Ｈ１の
傾きは緩かになり測定精度が低下する。しかも、０８１
重量％以下の低濃度の塩素量の測定が困難となる。
一方、第４図に示すように磁器表面の塩素濃度と螢光Ｘ
線強度との関係は、磁器表面に塩分を付着させた試料を
作成し、この試料の螢光Ｘ線強度を前述した検量線）Ｉ
１の作成時期と同時期に測定し、これを検量線）（２
として作成しておくことができる。
線強度との関係は、磁器表面に塩分を付着させた試料を
作成し、この試料の螢光Ｘ線強度を前述した検量線）Ｉ
１の作成時期と同時期に測定し、これを検量線）（２
として作成しておくことができる。
従って、第３図に示す検量線Ｈ１と第４図に示す検量線
Ｈ２とを螢光Ｘ線強度をパラメータとして第５図に示す
ように一つの検量線Ｈ３に合成し、磁器表面の塩素濃度
及び標準試料の塩素含有量の関係を示す検量線Ｈ３を方
程式として制御装置のメモリに記憶する。
Ｈ２とを螢光Ｘ線強度をパラメータとして第５図に示す
ように一つの検量線Ｈ３に合成し、磁器表面の塩素濃度
及び標準試料の塩素含有量の関係を示す検量線Ｈ３を方
程式として制御装置のメモリに記憶する。
この検量線Ｈ３の作成時期から所定期間が経過して被測
定碍子の汚損量を測定する場合には、まず、前記標準試
料１〜５に再びＸ線を照射して、前記検量線Ｈ１の作成
と同様にして検量線Ｈ１−を作成し、これを方程式とし
て制御装置のメモリに記憶する。この動作を行う理由は
Ｘ！ｌ１８！ｌ定装置自体が縫装置自体ることにより、
標準試料１〜３の塩素含有量が変化しなくても、その螢
光Ｘ線強度Ｍ１−〜Ｍ３−が第３図に一点鎖線で示すよ
うに低下して検量線Ｈ１−となるからである。
定碍子の汚損量を測定する場合には、まず、前記標準試
料１〜５に再びＸ線を照射して、前記検量線Ｈ１の作成
と同様にして検量線Ｈ１−を作成し、これを方程式とし
て制御装置のメモリに記憶する。この動作を行う理由は
Ｘ！ｌ１８！ｌ定装置自体が縫装置自体ることにより、
標準試料１〜３の塩素含有量が変化しなくても、その螢
光Ｘ線強度Ｍ１−〜Ｍ３−が第３図に一点鎖線で示すよ
うに低下して検量線Ｈ１−となるからである。
さらに、前記検量線Ｈ１−の作成と同期して、被測定碍
子の表面にＸ線を照射して、各測定点Ｐ１〜Ｐｎの螢光
Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍｎを測定し、この強度Ｍ１〜Ｍｎから
塩素を付着してない磁器のみの標準試料５のＸ線強度Ｍ
５を減算し、この減算された螢光Ｘ線強度Ｍ１°〜Ｍｎ
−から第３図の検量線１１１゛を使用して制御装置によ
り標準試料の塩素含有ｉＲ１〜Ｒｎを演算する。前記標
準試料５を作成する目的は、被測定碍子から発生した螢
光Ｘ線強度がより正確になるように実際のＸ線強度Ｍ１
〜Ｍｎから標準試料５のＸ線強度Ｍ５をそれぞれ減算し
て、測定精度を向上するためである。
子の表面にＸ線を照射して、各測定点Ｐ１〜Ｐｎの螢光
Ｘ線強度Ｍ１〜Ｍｎを測定し、この強度Ｍ１〜Ｍｎから
塩素を付着してない磁器のみの標準試料５のＸ線強度Ｍ
５を減算し、この減算された螢光Ｘ線強度Ｍ１°〜Ｍｎ
−から第３図の検量線１１１゛を使用して制御装置によ
り標準試料の塩素含有ｉＲ１〜Ｒｎを演算する。前記標
準試料５を作成する目的は、被測定碍子から発生した螢
光Ｘ線強度がより正確になるように実際のＸ線強度Ｍ１
〜Ｍｎから標準試料５のＸ線強度Ｍ５をそれぞれ減算し
て、測定精度を向上するためである。
さらに、制御装置により、そのメモリに予め記憶された
第５図に示ず検Ｘ線Ｈ３の方程式に基づいて、制御装置
により前記塩素含有ＪｉＲ１〜ｋｎから被測定碍子の各
測定点Ｐ１〜Ｐｎにおける塩素濃度Ｔ１〜Ｔｎを演算す
る。
第５図に示ず検Ｘ線Ｈ３の方程式に基づいて、制御装置
により前記塩素含有ＪｉＲ１〜ｋｎから被測定碍子の各
測定点Ｐ１〜Ｐｎにおける塩素濃度Ｔ１〜Ｔｎを演算す
る。
そして、前記塩素濃度１゛１〜Ｔｎが演算されると、こ
の値から塩分量Ｗ１〜Ｗｎが制御装置により演算される
。塩化ナトリウム（ＮａＣ１）の原子量をＥとし、塩素
の原子量をＦとすると、塩分量Ｗ１〜Ｗｎは、制御装置
のメモリに記憶された次の式により演算される。
の値から塩分量Ｗ１〜Ｗｎが制御装置により演算される
。塩化ナトリウム（ＮａＣ１）の原子量をＥとし、塩素
の原子量をＦとすると、塩分量Ｗ１〜Ｗｎは、制御装置
のメモリに記憶された次の式により演算される。
Ｗ１〜Ｗｎ＝Ｔ１〜Ｔｎ×（Ｅ／Ｆ）
又、この発明は次のように具体化することも可能である
。
。
（１）前記実施例では標準試料１〜３により塩素濃度含
有１のみを測定するようにしたが、例えば第６図に示す
ように硫黄含有量と螢光Ｘ線強度との検量線を作成する
ための硫黄分析用ｗＡ準試料を作成してもよい。
有１のみを測定するようにしたが、例えば第６図に示す
ように硫黄含有量と螢光Ｘ線強度との検量線を作成する
ための硫黄分析用ｗＡ準試料を作成してもよい。
又、第７図に示すように螢光Ｘ線強度と弗素含有量との
関係を示す検量線を作成するための弗素定量分析用の標
準試料としてもよい。
関係を示す検量線を作成するための弗素定量分析用の標
準試料としてもよい。
さらに、図示しないが螢光Ｘ線強度とカルシウム含有量
との関係を示す検量線を作成するための標準試料を作成
したり、さらには塩素、硫黄、弗素及びカルシウムのう
ち少くとも２種類以上均一に混合して標準試料とする等
、この発明の趣旨から逸脱しない範囲で任意に構成を変
更して具体化してもよい。
との関係を示す検量線を作成するための標準試料を作成
したり、さらには塩素、硫黄、弗素及びカルシウムのう
ち少くとも２種類以上均一に混合して標準試料とする等
、この発明の趣旨から逸脱しない範囲で任意に構成を変
更して具体化してもよい。
（２）前記実施例では円盤状の標準試料１〜４を成形し
たが、この形状を測定面が平面状をなす三角形、四角形
等の任意の形状にすること。
たが、この形状を測定面が平面状をなす三角形、四角形
等の任意の形状にすること。
（３）前記実施例では碍子の汚損量の測定用標準試料と
して説明したが、これ以外に例えばコンクリ−、ト、岩
石、高分子フィルム、樹脂ガラス等の塩素分や硫黄分等
を測定するための態率試料として使用してもよい。
して説明したが、これ以外に例えばコンクリ−、ト、岩
石、高分子フィルム、樹脂ガラス等の塩素分や硫黄分等
を測定するための態率試料として使用してもよい。
（４）被測定碍子の汚損量を測定する場合、用いる被測
定元素を含有する標準試料は１個以上でよく、個数が多
くなるほど測定精度がよい、ただし被測定元素を含有す
る標準試料が１個の場合、検量線Ｈ１−は前記の方法で
得られた測定値とＨ１の傾きを用いて作成する。
定元素を含有する標準試料は１個以上でよく、個数が多
くなるほど測定精度がよい、ただし被測定元素を含有す
る標準試料が１個の場合、検量線Ｈ１−は前記の方法で
得られた測定値とＨ１の傾きを用いて作成する。
・、［発明の効果コ
・、以上詳述したように、この発明は碍子の汚損を検出
するための塩素含有量と螢光Ｘ線強度との関係、硫黄含
有量と螢光Ｘ線強度との関係あるいはカルシウム含有量
と螢光Ｘ線強度との関係を示す検量線を容易に作成する
ことができるとともに、水分や温度変化に影響されず長
期に亘って安定して使用することができる効果がある。
するための塩素含有量と螢光Ｘ線強度との関係、硫黄含
有量と螢光Ｘ線強度との関係あるいはカルシウム含有量
と螢光Ｘ線強度との関係を示す検量線を容易に作成する
ことができるとともに、水分や温度変化に影響されず長
期に亘って安定して使用することができる効果がある。
第１図は標準試料の斜視図、第２図は標準試料を取付デ
ィスクに嵌合した状態を示す斜視図、第３図は螢光Ｘ線
強度と標準試料の塩素含有量との関係を示す検量線グラ
フ、第４図は螢光ｘｉ強度と磁器表面の塩素濃度との関
係を示す検量線グラフ、第５図は第３図及び第４図の検
量線に基づいて作成した塩素含有量と塩素濃度との関係
を示す検量線グラフ、第６図は螢光Ｘ線強度と硫黄含有
量との関係を示す検量線グラフ、第７図は螢光Ｘ線強度
と弗素含有量との関係を示す検量線グラフである。 １〜３・・・標準試料。 特許出願人 日本ｉυ子 株式会社代 理 人
弁理士 恩ＥＩＩ 博宣第１図 第３図 第２ｆｆｌ 標準試料の多＄衆含有量 （ｗｔ％） 磁器表面の塩素濃度（ｍｇ／ｃｍつ 硫黄含有量（ｗｔ％ 第５１！Ｉ 磁器表面の４ｔ、ｍ度（ｍａ／ｃｍ’）０．１ １．０ （ｗｔ泊゛ 弗紫含有量 （ｗｔ％）
ィスクに嵌合した状態を示す斜視図、第３図は螢光Ｘ線
強度と標準試料の塩素含有量との関係を示す検量線グラ
フ、第４図は螢光ｘｉ強度と磁器表面の塩素濃度との関
係を示す検量線グラフ、第５図は第３図及び第４図の検
量線に基づいて作成した塩素含有量と塩素濃度との関係
を示す検量線グラフ、第６図は螢光Ｘ線強度と硫黄含有
量との関係を示す検量線グラフ、第７図は螢光Ｘ線強度
と弗素含有量との関係を示す検量線グラフである。 １〜３・・・標準試料。 特許出願人 日本ｉυ子 株式会社代 理 人
弁理士 恩ＥＩＩ 博宣第１図 第３図 第２ｆｆｌ 標準試料の多＄衆含有量 （ｗｔ％） 磁器表面の塩素濃度（ｍｇ／ｃｍつ 硫黄含有量（ｗｔ％ 第５１！Ｉ 磁器表面の４ｔ、ｍ度（ｍａ／ｃｍ’）０．１ １．０ （ｗｔ泊゛ 弗紫含有量 （ｗｔ％）
Claims (1)
- １、アルカリ金属酸化物と硼酸を主成分とし、０．０１
〜１０重量％の塩素、０．０１〜１０重量％の硫黄、又
は０．０１〜１０重量％の弗素、又は塩素、硫黄及び弗
素の内それらの成分が合計０．０１〜１０重量％を含有
する硼酸アルカリ系ガラス成形体であることを特徴とす
る元素分析用標準試料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1040482A JP2507580B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 碍子汚損量測定方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1040482A JP2507580B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 碍子汚損量測定方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02218947A true JPH02218947A (ja) | 1990-08-31 |
| JP2507580B2 JP2507580B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=12581825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1040482A Expired - Fee Related JP2507580B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 碍子汚損量測定方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2507580B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100449278B1 (ko) * | 2001-09-21 | 2004-09-18 | 스톨베르그 앤드 삼일 주식회사 | 형광엑스선을 이용한 몰드플럭스 중의 불소 함량 분석 방법 |
| CN103837559A (zh) * | 2014-02-26 | 2014-06-04 | 南京航空航天大学 | 多靶扫描式快速测硫仪 |
| CN109490348A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-03-19 | 长沙开元仪器有限公司 | Xrf探测器及用于xrf探测器的标样校准装置 |
| CN113092510A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-09 | 成都中光电科技有限公司 | 一种高铝玻璃原材料硝酸钾的x荧光测定方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2615279B2 (ja) | 1991-05-31 | 1997-05-28 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光ｘ線分析装置における窓材の汚染検出方法 |
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| JPS5931439A (ja) * | 1982-08-16 | 1984-02-20 | Kawasaki Steel Corp | 螢光ｘ線分析用ガラスビード標準試料の作成方法 |
-
1989
- 1989-02-20 JP JP1040482A patent/JP2507580B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2507580B2 (ja) | 1996-06-12 |
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