JPH02219228A - Washing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、ＩＣ素子用基板のマスクエツチング後のマス
キング剤除去などに用いられる洗浄装置に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a cleaning apparatus used for removing a masking agent after mask etching of an IC element substrate.
「従来の技術」
１個のＩＣ素子用リード端子（４０）として、例えば第
１１図の鎖線内に示すようなものがマスクエツチングに
より形成されるが、これは、第１Ｏ図に示すように、１
枚の基板（１７）上に多数のリード端子（４０）・・・
・・・を写真印刷などの方法で一度にマスキング剤（３
９）を印刷し、マスキング剤（３９）の印刷されていな
い部分をエツチングにより除去して形成される。前記基
板（１７）の上部には、洗浄の際にリフト（８）に吊り
下げるための吊り孔（３８）が穿設されている。``Prior Art'' As one lead terminal (40) for an IC element, for example, the one shown within the chain line in FIG. 11 is formed by mask etching, as shown in FIG. 1O. 1
Many lead terminals (40) on one board (17)...
... by photo printing or other methods to apply masking agent (3
9), and the unprinted portions of the masking agent (39) are removed by etching. A hanging hole (38) for hanging the board (17) from the lift (8) during cleaning is bored in the upper part of the board (17).
従来、基板（１７）からマスキング剤（３９）を除去す
る装置は、第１２図に示すように、膨潤液剤（２）を溜
めた槽（１）と、膨潤液剤（２）で膨潤したマスキング
剤（３９）を洗い流す洗浄部（３）とを設け、リフトコ
ンベア（４）に基板（１７）を吊り下げて運搬しつつ、
自動的に前記槽（１）に浸漬し、洗浄部（３）で基板（
１７）に水などの洗浄液（４１）を吹き付け、膨潤した
マスキング剤（３９）を洗い落すものであった。Conventionally, a device for removing a masking agent (39) from a substrate (17), as shown in FIG. (39) is provided, and while the substrate (17) is suspended and transported on a lift conveyor (4),
The substrate (
17) was sprayed with a cleaning liquid (41) such as water to wash off the swollen masking agent (39).
「考案が解決しようとする課題」
このような装置は、膨潤洗浄は自動的に行われ −゛る
ので、薬品などの人体への悪影響や事故を防止する。と
ころが、基板（１７）に形成されたリード端子（４０）
は極めて細く、僅かな抵抗で折れ曲がることがあるので
、槽（１）では移動方向と一直線としてできるだけ膨潤
液剤（２）による抵抗がかがらないようにしなければな
らない。そのため、リフトコンベア（４）への基板（１
７）の供給時のを吊り下げ時と取外し時は手作業によら
ざるを得す、装置の前後にそれぞれの作業をする人員を
配置していた。``Problems to be solved by the invention'' Since this type of device automatically performs swelling and cleaning, it prevents the harmful effects of chemicals on the human body and accidents. However, the lead terminal (40) formed on the substrate (17)
Since the tube is extremely thin and may bend with the slightest resistance, it must be kept in line with the direction of movement in the tank (1) so that the resistance caused by the swelling liquid (2) is not increased as much as possible. Therefore, the substrate (1) to the lift conveyor (4)
7) During supply, hanging and removal had to be done manually, and personnel were assigned to perform each task before and after the device.
したがって、徹底した合理化を図ることができない、と
いう問題点を残していた。Therefore, the problem remained that thorough rationalization could not be achieved.
「課題を解決するための手段」
本考案は以上のような課題を解決するためになされたも
ので、リフトコンベアで基板を吊り下げて運搬しつつ、
基板を薬品の溜められた槽に浸漬し、前記槽から引き上
げ後、洗浄部に搬入し洗浄する洗浄装置において、前記
リフトコンベアに臨ませて、前・記槽の基板搬入側に基
板吊り下げ機を設け、前記洗浄部の基板搬出側に基板取
外し機を′設け、前記基板吊り下げ機と前記基板取外し
機の前後にそれぞれリフトの変向機を設けてなるもので
、基板吊り下げ機は、基板を搬入するロ−ラーコンベア
と、基板を定位置に停止させるストッパーと、基板を前
記ロ−ラーコンベアの中心に位置修正する修正機とから
なり、基板取外し機は、細いベルトコンベアを複数並列
し、リフトコンベアを前記ベルトコンベアに基板を載せ
つつペルトコンベアから離れる方向に案内するように構
成し、リフトコンベアは２本の平行するコンベアケーブ
ルの中間に水平面内に回動自在なリフトを吊り下げ、リ
フトと一体に水平軸とローラを設け、変向機は前記ロー
ラの位置を移動させる案内板からなることものである。"Means for solving the problem" This invention was made to solve the above problems, and while the board is suspended and transported by a lift conveyor,
In a cleaning device that immerses a substrate in a tank filled with chemicals, lifts it from the tank, and transports it to a cleaning section for cleaning, a substrate hanging machine is provided on the substrate loading side of the tank, facing the lift conveyor. , a substrate removal machine is provided on the substrate unloading side of the cleaning section, and a lift changing device is provided before and after the substrate hanging machine and the substrate removal machine, respectively, and the substrate hanging machine is The board removal machine consists of a roller conveyor that carries in the board, a stopper that stops the board in a fixed position, and a correction machine that corrects the position of the board to the center of the roller conveyor. The lift conveyor is configured to guide the substrate in a direction away from the belt conveyor while placing the substrate on the belt conveyor, and the lift conveyor has a lift rotatable in a horizontal plane suspended between two parallel conveyor cables. , a horizontal shaft and rollers are provided integrally with the lift, and the deflection machine includes a guide plate for moving the position of the rollers.
「作用」
リフトは、基板吊り下げ機の前で変向機によって基板を
吊り下げ可能な向きに変えられ、ロ−ラーコンベアで搬
入された基板はストッパーと修正機によって吊り下げ位
置に置かれ、回ってきたリフトに吊り下げられる。基板
を吊り下げ後、リフトは再び変向機によって、抵抗の少
ない向きに変えられ、吊り下げられた基板は、槽に浸漬
された後、洗浄部によって洗浄される。洗浄された基板
は、基板取外し機の前で変向機によって基板を取外し可
能な向きに変えられ、基板取外し機によって基板はリフ
トから外され、ベルトコンベアによって搬出される。基
板の外されたリフトはもう１回変向機によって変えられ
、最終的に１回転して元の向きに戻る。``Operation'' The lift is changed to a direction in which the board can be hung by a turning machine in front of the board hanging machine, and the board brought in by the roller conveyor is placed in a hanging position by a stopper and a correction machine. It is suspended from the lift that has come around. After suspending the substrate, the lift is again changed to a direction with less resistance by the turning machine, and the suspended substrate is immersed in the bath and then cleaned by the cleaning section. The cleaned substrate is changed to a direction in which the substrate can be removed by a turning machine in front of the substrate removal machine, and the substrate is removed from the lift by the substrate removal machine and carried out by a belt conveyor. The removed lift of the substrate is turned once more by the turning machine, and finally returns to its original orientation after one rotation.
「実施例」
第１図ないし第９図に基づいて、本発明の一実施例を説
明する。"Embodiment" An embodiment of the present invention will be described based on FIGS. 1 to 9.
第１図は、本発明による洗浄装置全体を示すもので、（
１）は膨潤液剤（２）を溜めた槽、（３）は洗浄部、（
４）は基板（１７）を運搬するリフトコンベアである。FIG. 1 shows the entire cleaning device according to the present invention.
1) is a tank containing swelling liquid (2), (3) is a washing section, (
4) is a lift conveyor that transports the substrate (17).
このリフトコンベア（４）は、２本のコンベアケーブル
（６）（６）がガイドローラー（９）（９）・・・によ
って案内され、コンベアケーブル（６）（６）に吊り下
げられたリフト（８）（８）・・・が前記槽（１）に基
板（１７）を浸漬した後、前記洗浄部（３）に運搬する
ように周回している。This lift conveyor (4) has two conveyor cables (6) (6) guided by guide rollers (9) (9)..., and a lift (6) suspended from the conveyor cables (6) (6). 8) (8) . . . rotates so as to immerse the substrate (17) in the tank (1) and then transport it to the cleaning section (3).
前記リフト（８）は第２図に示すように、軸受体（１０
）に略垂直方向の回動軸（１１）が貫通して取付けられ
ている。この軸受体（１０）は左右のステー（１８）（
１８）に固定されて前記コンベアケーブル（６）（６）
に所定間隔毎に取付けられ、内部の軸受（１０ａ ）に
てリフト（８）の回動軸（１１）を上下動と回動自在に
軸支している。リフト（８）の回動軸（１１）の側面か
らは、位置決めピン（１２）が突出しており、抜は止め
になるとともに、前記軸受体（１０）の上面の窪みに設
けられた第４図に示すような十字状のＶ型溝（１６）に
リフト（８）の自重で係合するようになっている。回動
軸（１１）の下端には略Ａの字状の吊り金具（１３）が
固定され、この金具（１３）の先端は第３図に示すよう
に鉤状にフック（１３ａ ）が形成されている。回動軸
（１１）の上端には水平軸（１４）が前記吊り金具（１
３）と同一垂直面上に位置して固定され、この水平軸（
１４）の両端にはやや上方にローラ（１５）が突出して
いる。The lift (8) has a bearing body (10) as shown in FIG.
) is attached with a substantially vertical rotation shaft (11) passing through it. This bearing body (10) has left and right stays (18) (
18) fixed to said conveyor cable (6) (6)
The lifts (8) are mounted at predetermined intervals, and the rotation shaft (11) of the lift (8) is supported by an internal bearing (10a) so as to be vertically movable and rotatable. A positioning pin (12) protrudes from the side surface of the rotation shaft (11) of the lift (8), and serves as a stop for removal, as well as a positioning pin (12) provided in a recess on the upper surface of the bearing body (10). The lift (8) engages with the cross-shaped V-shaped groove (16) as shown in the figure by its own weight. A substantially A-shaped hanging metal fitting (13) is fixed to the lower end of the rotation shaft (11), and a hook (13a) is formed at the tip of this metal fitting (13) in the shape of a hook, as shown in Fig. 3. ing. A horizontal shaft (14) is attached to the upper end of the rotation shaft (11).
3) is located and fixed on the same vertical plane as this horizontal axis (
Rollers (15) protrude slightly upward from both ends of the roller (14).
前記リフトコンベア（４）の前記槽（１）の前であって
基板（１７）の搬入側には、基板吊り下げ機（１９）が
設けられ、前記洗浄部（３）の後であって基板（１７）
の搬出側には、基板取外し機（２０）が設けられている
。A substrate hanging machine (19) is provided in front of the tank (1) of the lift conveyor (4) and on the side where the substrates (17) are carried in, and after the cleaning section (3) and on the substrate (17) loading side. (17)
A board removing machine (20) is provided on the unloading side of the board.
前記基板吊り下げ機（１９）は第５図に示すように、基
板（１７）を搬入するロ−ラーコンベア（２１）と、搬
入されてきた基板（１７）を定位置で停止させるストッ
パー（２２）と、基板（１７）をロ−ラーコンベア（２
１）の中心にあわせるための位置修正機（２３）とで構
成されている。前記リフトコンベア（４）はこの基板吊
り下げ機（１９）の位置では垂直に引き上げられるよう
に案内されている。前記ストッパー（２２）は油圧ピス
トン（２５）などによって進退自在に構成されている。The board hanging machine (19), as shown in FIG. ) and the board (17) on a roller conveyor (2
1) and a position corrector (23) for aligning the position to the center. The lift conveyor (4) is guided to be lifted vertically at the position of the substrate hanger (19). The stopper (22) is configured to be movable forward and backward by a hydraulic piston (25) or the like.
前記位置修正機（２３）は、修正板（２９） （２９）
にロ−ラーコンベア（２１）のローラー（２４）が接触
しないように切欠（２７）が設けられて、ローラー（２
４）の軸方向に移動自在に設けられ、第６図に示すよう
にロ−ラーコンベア（２１）の下面に設けられた駆動装
置（２８）によって２枚の修正板（２９） （２９）の
幅間隔を変えるもので、中央から半分が正ねじ、残りの
半分が逆ねじのスクリュー（３０） （３０）に前記修
正板（２９） （２９）に固定されたナツト（３１）
（３１）が螺合しており、スクリュー（３０） （３０
）の中央に固定されたプーリー（３２）に駆動モータか
らのベルト（図示せず）が掛けられ駆動される。また、
前記修正板（３０）（３０）の両端部には平行に移動さ
せるための２本のガイド軸（４３） （４３）が設けら
れている。また、リフトコンベア（４）の基板吊り下げ
機（１９）の位置には−８＝
前記リフト（８）のすて−（１８）が通過する幅をもっ
て振れ止め（４２） （４２）が設けられている。The position corrector (23) includes a correction plate (29) (29)
A notch (27) is provided so that the roller (24) of the roller conveyor (21) does not come into contact with the roller (24).
4), and as shown in FIG. 6, the two correction plates (29) (29) are A nut (31) fixed to the correction plate (29) (29) to a screw (30) that changes the width interval, half of which has a normal thread from the center and the other half of which has a reverse thread.
(31) are screwed together, and screws (30) (30
) is driven by a belt (not shown) from a drive motor attached to a pulley (32) fixed at the center of the pulley (32). Also,
Two guide shafts (43) (43) for parallel movement are provided at both ends of the correction plates (30) (30). Further, at the position of the board hanging machine (19) of the lift conveyor (4), a steady rest (42) (42) is provided with a width that allows the end (18) of the lift (8) to pass. ing.
前記基板取外し機（２０）は第７図に示すように、複数
の細いベルトコンベア（３３） （３３）・・・を並列
して構成され、前記リフトコンベア（４）はこの基板取
外し機（２０）の位置ではベルトコンベア（３３） （
３３）・・・と反対方向に逃げるように斜め下方向に案
内されている。前記ベルトコンベア（３３） （３３）
・・・は各々隙間（３４）をもって並列されており、前
記吊り金具（１３）のフック（Ｌ３ａ）がこの隙間（３
４）を通過するように配置されている。As shown in FIG. 7, the board removing machine (20) is composed of a plurality of thin belt conveyors (33) (33)... in parallel, and the lift conveyor (4) is connected to this board removing machine (20). ), the belt conveyor (33) (
33)... is guided diagonally downward so as to escape in the opposite direction. The belt conveyor (33) (33)
... are arranged in parallel with each other with a gap (34), and the hook (L3a) of the hanging fitting (13) is connected to this gap (34).
4).
前記基板吊り下げ機（１＠）と前記基板取外し機（２０
）の前後にはそれぞれリフト（８）の向きを９０度変え
る変向機（３５ａ ） （３５ｂ ０３５ ｃ ）（３
５ｄ ）が設けられている。The board hanging machine (1@) and the board removing machine (20
), there are turning devices (35a) (35b 035c) (3
5d) is provided.
前記基板吊り下げ機（１９）の前に設けられた変向機（
３５ａ ）は第９図（ａ）に示すような案内板（３６ａ
）が設けられており、この案内板（３６ａ ）に前記
リフト（８）のローラ（１５）が当接すると、鎖線のよ
うに水平軸（１４）がリフトコンベア（４）の進行方向
に対して左側に傾き、前記位置決めピン（１２）がＶ型
溝（１６）から脱出して、吊り金具（１３）とともに回
動軸（１１）が９０度回転して、再び位置決めピン（１
２）が９０度偏位した■型溝（１６）に係合するように
なっている。A direction changing machine (
35a) is a guide plate (36a) as shown in Fig. 9(a).
) is provided, and when the roller (15) of the lift (8) comes into contact with this guide plate (36a), the horizontal axis (14) is rotated relative to the traveling direction of the lift conveyor (4) as shown by the chain line. It tilts to the left, the positioning pin (12) escapes from the V-shaped groove (16), the rotation shaft (11) rotates 90 degrees together with the hanging bracket (13), and the positioning pin (1
2) is adapted to engage with the ■-shaped groove (16) offset by 90 degrees.
前記基板吊り下げ機（１９）の後に設けられた変向機（
３５ｂ ）は第９図（ｂ）に示すような案内板（３６ｂ
）が設けられており、この案内板（３６ｂ ）に前記
リフト（８）のローラ（１５）が当接すると、鎖線のよ
うに水平軸（１４）が傾き、第９図（ａ）と同様に吊り
金具（１３）が９０度回転するようになっている。A direction changing machine (
35b) is a guide plate (36b) as shown in Fig. 9(b).
) is provided, and when the roller (15) of the lift (8) comes into contact with this guide plate (36b), the horizontal axis (14) tilts as shown by the chain line, and the horizontal axis (14) tilts as shown in FIG. 9(a). The hanging fitting (13) is designed to rotate 90 degrees.
前記基板取外し機（２０）の前に設けられた変向機（３
５ｃ ）は第９図（ｃ）に示すような案内板（３６ｃ
）が設けられており、第９図（ａ）の案内板（３６ａ
）と同様に吊り金具（１３）が９０度回転するようにな
っている。A direction changing machine (3) provided in front of the board removing machine (20)
5c) is a guide plate (36c) as shown in Figure 9(c).
) is provided, and the guide plate (36a) shown in Fig. 9(a) is provided.
), the hanging fitting (13) can be rotated 90 degrees.
前記基板取外し機（２０）の後に設けられた変向機（３
５ｄ）は第９図（ｄ）に示すような案内板（３６ｄ）が
設けられており、第９図（ｂ）の案内板（３６ｂ ）と
同様に吊り金具（１３）が９０度回転するようになって
いる。リフト（８）は、これら４つの偏向機（３５ａ
）（３５ｂ ） （３５ｃ ）（３５ｄ ）を通過する
と、１回転する。A direction changing machine (3) provided after the substrate removing machine (20)
5d) is provided with a guide plate (36d) as shown in Fig. 9(d), which allows the hanging bracket (13) to rotate 90 degrees like the guide plate (36b) in Fig. 9(b). It has become. The lift (8) has these four deflectors (35a
)(35b)(35c)(35d), it rotates once.
前記洗浄部（３）は、第８図に示すように、基板（１７
）を吊り下げたリフト（８）の片側にプーリ（４４）（
４４）に掛は渡された振り止め膜（３７）をこのリフト
（８）と同期して移動するようにを設け、反対側から洗
浄液（４１）を吹き付けて洗浄するようになっており、
一方の面を洗浄した後、他方の面を洗浄する。As shown in FIG. 8, the cleaning section (3) cleans the substrate (17).
) on one side of the lift (8) from which the pulley (44) (
44) is provided with a swing stopper membrane (37) passed over the lift (8) so as to move in synchronization with the lift (8), and the cleaning liquid (41) is sprayed from the opposite side to clean it.
After cleaning one side, clean the other side.
以上のような構成において、図示しないエツチングなど
の前工程の終了後、一定の長さに切断され、かつ吊り孔
（３８）があけられた基板（１７）となり、ロ−ラーコ
ンベア（２１）に載せられて搬入すると、基板（１７）
はストッパー（２２）に当接して定位置に停止し、かつ
位置修正機（２３）の修正板（２９） （２９）の間隔
が挟まり、基板（１７）はロ−ラーコンベア（２１）の
所定位置中央に位置する。ここでストッパー（２２）が
退き、リフト（８）が上昇してきて吊り金具（１３）の
フック（１３ａ ）が基板（１７）の吊り孔（３８）に
係合して吊り上げられる。基板（１７）を吊り上げたリ
フト（８）は、ガイドローラー（９）に案内されて変向
機（３５ｂ ）に達し、第９図（ｂ）の鎖線で示すよう
にローラ（１５）が案内板（３６ｂ）に当接してリフト
（８）全体が左に９０度回転する。この後、リフト（８
）は槽（１）の膨潤液剤（２）に基板（１７）を浸漬し
つつ進行し表面に塗布されたマスキング剤を膨潤させ、
浸漬が終わると基板（１７）を洗浄部（３）に搬入する
。In the above configuration, after the pre-process such as etching (not shown) is completed, the substrate (17) is cut to a certain length and has hanging holes (38) drilled therein, and then the substrate (17) is placed on the roller conveyor (21). When loaded and carried in, the board (17)
The board (17) comes into contact with the stopper (22) and stops at a fixed position, and the gap between the correction plates (29) of the position correction machine (23) is pinched, and the board (17) is moved to a predetermined position on the roller conveyor (21). Located in the center. At this point, the stopper (22) retreats, the lift (8) rises, and the hook (13a) of the hanging fitting (13) engages with the hanging hole (38) of the board (17) to lift it up. The lift (8) that has hoisted the board (17) is guided by the guide rollers (9) and reaches the turning machine (35b), and the rollers (15) touch the guide plate as shown by the chain line in FIG. 9(b). (36b) and the entire lift (8) rotates 90 degrees to the left. After this, lift (8
) proceeds while immersing the substrate (17) in the swelling liquid (2) in the tank (1) to swell the masking agent applied to the surface;
When the immersion is finished, the substrate (17) is carried into the cleaning section (3).
洗浄部（３）はリフト（８）と基板（１７）の一方の面
に振り止めｌｌｉ （３７）を当てた状態で反対側の面
に洗浄液（４１）を吹き付け、基板（１７）を洗浄し、
他方の面も同様にして洗浄を行う。洗浄部（３）から出
てきたリフト（８）は変向機（３５ｃ・）に達し、第９
図（ｃ）の鎖線で示すようにローラ（１５）が案内板（
３６ｃ ）に当接してリフト（８）全体が左に９０度回
転する。The cleaning section (3) cleans the substrate (17) by spraying the cleaning liquid (41) on the other side with the swing stop lli (37) applied to one side of the lift (8) and the substrate (17). ,
The other side is cleaned in the same manner. The lift (8) that came out of the cleaning section (3) reaches the turning machine (35c) and moves to the 9th
As shown by the chain line in Figure (c), the roller (15) is connected to the guide plate (
36c) and the entire lift (8) rotates 90 degrees to the left.
９０度回転したリフト（８）はガイドローラー（９）に
案内されて、基板取外し機（２０）に向かって降下し、
基板（１７）が前記ベルトコンベア（３３） （３３）
・・・に載ると、リフト（８）はベルトコンベア（３３
） （３３）・・・と反対方向に逃げるように斜め下方
向に案内され、吊り金具（１３）のフック（１３ａ ）
が基板（１７）の吊り孔（３８）から外れて、基板（１
７）はベルトコンベア（３３）（３３）・・・によって
搬出される。基板（１７）が外されたリフト（８）は変
向機（３５ｄ）に達し、第９図（ｄ）の鎖線で示すよう
にローラ（１５）が案内板（３６ｄ）に当接してリフト
（８）全体が左に９０度回転する。さらにリフト（８）
は基板吊り下げ機（１９）の前で、もう−度変向機（３
５ａ ）に達し、第９図（ａ）の鎖線で示すようにロー
ラ（１５）が案内板（３６ａ ）に当接してリフト（８
）全体が左に９０度回転し、最初の向きに戻る。The lift (8) rotated 90 degrees is guided by guide rollers (9) and descends toward the substrate removal machine (20),
The substrate (17) is connected to the belt conveyor (33) (33)
..., the lift (8) will move onto the belt conveyor (33).
) The hook (13a) of the hanging fitting (13) is guided diagonally downward so as to escape in the opposite direction to (33)...
comes off from the hanging hole (38) of the board (17), and the board (1
7) is carried out by belt conveyors (33) (33)... The lift (8) from which the board (17) has been removed reaches the turning machine (35d), and as shown by the chain line in FIG. 9(d), the roller (15) comes into contact with the guide plate (36d) and the lift ( 8) The whole body is rotated 90 degrees to the left. Further lift (8)
is in front of the board hanging machine (19).
5a), the roller (15) comes into contact with the guide plate (36a) as shown by the chain line in FIG.
) The whole unit rotates 90 degrees to the left and returns to its original orientation.
［発明の効果］
本発明は、以上のように構成したので、基板を洗浄する
にあたって、前工程から送られてきた基板の洗浄を自動
的に行うことができ、しかも洗浄後はベルトコンベアに
載せられるので、そのまま後工程に供給できる。すなわ
ち、洗浄工程に全く人手を掛けずに済み、徹底した合理
化を図ることができる、という効果を有するものである
。[Effects of the Invention] Since the present invention is configured as described above, when cleaning the substrate, it is possible to automatically clean the substrate sent from the previous process, and furthermore, after cleaning, the substrate is not placed on the belt conveyor. Therefore, it can be supplied to subsequent processes as is. In other words, there is an effect that the cleaning process does not require any manual labor and can be thoroughly streamlined.
【図面の簡単な説明】
第１図ないし第９図は本発明の一実施例を示すもので、
第１図は洗浄装置の全体図、第２図はリフトの構造と取
り付は方をしめず一部断面した正面図、第３図は第２図
の側面図、第４図は軸受体の平面図、第５図は基板吊り
下げ機とリフトの斜視図、第６図は位置修正機とロ−ラ
ーコンベアとストッパーの底面図、第７図は基板取外し
機とリフトの斜視図、第８図は洗浄部の動作を説明する
ための概略図、第９図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は変向
機の作用を説明する案内板とリフトの平面図、第１０図
は基板の正面図、第１１図はＩＣ素子の拡大正面図、第
１２図は従来例を示す略図である。
（１）・・・槽、（２）・・・膨潤液剤、（３）・・・
洗浄部、（４）・・・リフトコンベア、（６）・・・コ
ンベアケーブル、（８）・・・リフト、（９）・・・ガ
イドローラー、（１０）・・・軸受体、（１１）・・・
回動軸、（１２）・・・位置決めビン、（１３）・・・
吊り金具、（１４）・・・水平軸、（１５）・・・ロー
ラ、（１６）・・・Ｖ型溝、（１７）・・・基板、（１
８）・・・ステー、（１９）・・・基板吊り下げ機、（
２０）・・・基板取外し機、（２１）・・・ロ−ラーコ
ンベア、 （２２）・・・ストッパー、（２３）・・・
位置修正機、（２４）・・・ローラー５． （２５）・
・・油圧ピストン、（２７）・・・切欠、（２８）・・
・駆動装置、（２９）・・・修正板、（３０）・・・ス
クリュー、（３１）・・・ナツト、（３２）・・・プー
リー（３３）・・・ベルトコンベア、（３４）・・・隙
間、（３５ａ ） （３５ｂ ） （３５ｃ ） （３
５ｄ ）−変向機、（３６ａ ）（３６ｂ ）（３６ｃ
）（３６ｄ）・・・案内板、（３７）・・・振り止め
板、（３８）・・・吊り孔、（３９）・・・マスキング
剤、（４０）・・・リード端子、（４１）洗浄液、（４
２）・・・振れ止め、（４３）・・・ガイド軸、（４４
）・・・プーリ。[Brief Description of the Drawings] Figures 1 to 9 show an embodiment of the present invention.
Figure 1 is an overall view of the cleaning device, Figure 2 is a partially sectional front view showing the structure and installation of the lift, Figure 3 is a side view of Figure 2, and Figure 4 is a view of the bearing body. Plan view, Figure 5 is a perspective view of the board hanging machine and lift, Figure 6 is a bottom view of the position correction machine, roller conveyor, and stopper, Figure 7 is a perspective view of the board removal machine and lift, and Figure 8 is a perspective view of the board lifting machine and lift. The figure is a schematic diagram to explain the operation of the cleaning section, Figures 9 (a), (b), (c), and (d) are plan views of the guide plate and lift to explain the operation of the direction changer, and Figure 10 is a schematic diagram to explain the operation of the cleaning section. FIG. 11 is an enlarged front view of the IC element, and FIG. 12 is a schematic diagram showing a conventional example. (1)...tank, (2)...swelling liquid, (3)...
Washing section, (4)...Lift conveyor, (6)...Conveyor cable, (8)...Lift, (9)...Guide roller, (10)...Bearing body, (11) ...
Rotating axis, (12)...Positioning pin, (13)...
Hanging bracket, (14)...Horizontal shaft, (15)...Roller, (16)...V-shaped groove, (17)...Substrate, (1
8)... Stay, (19)... Board hanging machine, (
20)... Board removal machine, (21)... Roller conveyor, (22)... Stopper, (23)...
Position corrector, (24)...Roller5. (25)・
... Hydraulic piston, (27) ... Notch, (28) ...
・Drive device, (29)... Correction plate, (30)... Screw, (31)... Nut, (32)... Pulley (33)... Belt conveyor, (34)...・Gap, (35a) (35b) (35c) (3
5d)-changer, (36a)(36b)(36c
)(36d)...Guide plate, (37)...Sway stop plate, (38)...Hanging hole, (39)...Masking agent, (40)...Lead terminal, (41) Cleaning liquid, (4
2) Steady rest, (43) Guide shaft, (44
)...Pulley.
Claims (3)
基板を薬品の溜められた槽に浸漬し、前記槽から引き上
げ後、洗浄部に搬入し洗浄する洗浄装置において、前記
リフトコンベアに臨ませて、前記槽の基板搬入側に基板
吊り下げ機を設け、前記洗浄部の基板搬出側に基板取外
し機を設け、前記基板吊り下げ機と前記基板取外し機の
前後にそれぞれリフトの変向機を設けたことを特徴とす
る洗浄装置。(1) While suspending and transporting the board on a lift conveyor,
In a cleaning device that immerses a substrate in a tank filled with chemicals, lifts it from the tank, and carries it into a cleaning section for cleaning, a substrate hanging machine is provided on the substrate loading side of the tank, facing the lift conveyor. . A cleaning apparatus, characterized in that a substrate removal machine is provided on the substrate unloading side of the cleaning section, and a lift changing device is provided before and after the substrate hanging machine and the substrate removal machine, respectively.
ベアと、基板を定位置に停止させるストッパーと、基板
を前記ロ−ラーコンベアの中心に位置修正する修正機と
からなり、基板取外し機は、細いベルトコンベアを複数
並列し、リフトコンベアを前記ベルトコンベアに基板を
載せつつベルトコンベアから離れる方向に案内するよう
に構成したものからなる請求項（１）記載の洗浄装置。(2) The board hanging machine consists of a roller conveyor that carries in the board, a stopper that stops the board in a fixed position, and a correction machine that adjusts the position of the board to the center of the roller conveyor. 2. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the machine comprises a plurality of thin belt conveyors arranged in parallel, and a lift conveyor configured to guide the substrate in a direction away from the belt conveyor while placing the substrate on the belt conveyor.
ルの中間に水平面内に回動自在なリフトを吊り下げ、リ
フトと一体に水平軸とローラを設け、変向機は前記ロー
ラに接しつつ水平軸を直角に偏向させる案内板からなる
請求項（１）記載の洗浄装置。(3) The lift conveyor suspends a rotatable lift in a horizontal plane between two parallel conveyor cables, and a horizontal axis and rollers are installed integrally with the lift, and the turning machine is in contact with the rollers and has a horizontal axis. 2. The cleaning device according to claim 1, further comprising a guide plate that deflects at right angles.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3984989A JPH02219228A (en) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | Washing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3984989A JPH02219228A (en) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | Washing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02219228A true JPH02219228A (en) | 1990-08-31 |
Family
ID=12564412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3984989A Pending JPH02219228A (en) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | Washing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02219228A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0722380A (en) * | 1993-07-06 | 1995-01-24 | Mitsubishi Materials Shilicon Corp | Dielectric isolation substrate manufacturing equipment |
| JP2017047386A (en) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日新製鋼株式会社 | Masking cured film removal device, and manufacturing apparatus of etching metal plate |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128638A (en) * | 1986-11-18 | 1988-06-01 | Sankee Denki:Kk | Carryer raising and lowering device in conveying device for washing |
| JPS63141689A (en) * | 1986-12-03 | 1988-06-14 | 株式会社 フロ−ム | Lifting method and device having rolling mechanism of tabular body |
| JPH0263119A (en) * | 1988-08-29 | 1990-03-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Chemical liquid treatment apparatus and chemical liquid treatment by using it |
-
1989
- 1989-02-20 JP JP3984989A patent/JPH02219228A/en active Pending
Patent Citations (3)
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