JPH02223572A - チアジアゾール酢酸誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、新規なセフェムおよびセファム化合物に関
するものである。さらに詳しく述べると、この発明は、
抗菌活性を有する新規な７−置換−８−セフェムおよび
セファム−４−カルボン酸、その医薬上許容される塩類
、およびそれらの製造法、それらの製造用中間体、それ
らの中間体の製造法、それらを主成分とする医薬組成物
、並びに人間および動物の感染症に対する予防または治
療のためのそれらの使用方法に関するものである。

したがって、この発明の目的は、ダラム陰性菌およびダ
ラム陽性菌を含む広範囲の病原微生物に対して優れた抗
菌活性を示す、新規な７−置換−３−セフェムおよびセ
ファム−４，−カルボン酸、その医薬」二許容される塩
類、それらの製造法、それらの１つ以」二を有効成分と
する医薬組成物、病原微生物によって起る人間および動
物の感染症に対する予防または治療のためのそれらの使
用方法、それらの医薬的活性を有する７−置換−３−セ
フェムおよびセファム−４１−カルボン酸並びに塩類の
製造用中間体、および中間体の製造法を提供するにある
。

この発明の目的とする７−置換−３−セフェムおよびセ
ファム−４−カルボン酸は、新規であり、下記一般式（
１）で示される。

〔式中、Ｒ１けアミ７基、または保護されたアミノ基、
Ｒ２は水素、アシル基、適当な置換基を有していてもよ
いアリール基、適当な置換基を有する低級アルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキール基、適当な置換基を
有していてもよいシクロアルキル基、シクロ（低級）ア
ルケニル基、またはオキソで置換されたＳもしくはＯ含
有５員複素環式基　Ｒ３は水素、または低級アルキル基
　Ｒ４は水素、アシルオキシ（低級）アルキル基、アシ
ルチオ（低級）アルキル基、適当な置換基を有していて
もよいピリジニウム（低級）アルキル基、適当な置換基
を有していてもよい複素環チオ（低級）アルキル基、低
級アルキル基、ノ１０ゲン、またはヒドロキシ基　Ｒ５
はカルボキシ基、または保護されたカルボキシ基を意味
し、Ｒ４が適当な置換基を有していてもよいピリジニウ
ム（低級）アルキル基の場合にはＲ５はａＯＯ−であり
、太い実線は一重結合または二重結合を意味する〕 この発明によると、目的とする７−置換−３−セフェム
およびセファム−４−カルボン酸（＋）は、下記の方法
により製造される。

方法１ （ｎ） （Ｉｌｌ） はそれらの塩類 に−ｔ第１１）　ＣＩ）星胆 方法２ 方法５ 方法６ （＋） またはその塩類 （Ｊａ） またはその塩類 （１ｂ） またはその塩類 （Ｉｉ） またはその塩類 （ＩＪ） またはその塩類 （］ｋ） またはその塩類 （Ｉｔ？） またはその塩類 方法３ 方法４ 方法７ 方法８ （１ｄ） またはその塩類 （１ｅ） またはその塩類 （１ｆ） またはその塩類 （１ｍ）　−！ｔ−＝＋３　’ｉ＠　Ａ１１ｉ（１ｎ） またはその塩類 （１ｇ） またはその塩類 （ｌｈ） またはその塩類 方法９ 方法１０ またはその塩類 （１ｐ） またはその塩類 （１ｑ） またはその塩類 （Ｉｒ） またはその塩類 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は前と同じ
意味、Ｒ５Ｏは保護されたカルボキシ基、Ｒ４５は適当
な置換基を有していてもよいピリジン、または弐Ｒ４０
−３Ｈ（式中Ｒ４ｅはアシル基、または適当な置換基を
有していてもよい複素環式基を意味する）で示される化
合物、Ａは低級アルキレン基、Ｒ４０は保護されたアミ
ノ（低級）アルキルで置換された複素環チオ（低級）ア
ルキル基　Ｒ４ｄはアミノ（低級）アルキルで置換され
た複素環チオ（低級）アルキル基、Ｒ２Ｏはヒドロキシ
基の保護基　Ｒ４Ｏは式Ｒ４ｆ（式中、Ｈ４ｆは適当な
置換基を有していてもよいピリジニウム基、４ｆｃｌｄ
式−３Ｒ２Ｏ（式中、Ｒ４８ｕ前ト同じ意味）で示され
る基を意味する）で示される基で置換され得る基、Ｒ４
ｆは前と同じ意味、Ｒ２５は保護されたアミノ（低級）
アルキル基、Ｒ２Ｏはアミノ（低級）アルキル基、Ｒ２
ｄは保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、保護さ
れたカルボキシで置換されたアル（低級）アルキル基、
または保護されたカルボキシで置換されたシクロアルキ
ル基、Ｒ２Ｏはカルボキシ（低級）アルキル基、カルボ
キシで置換されたアル（低級）アルキル基、またはカル
ボキシで置換されたシクロアルキル基、Ｒ８は式−００
０Ｒ８で示されるエステル化されたカルボキシ基のエス
テル部分、Ｒ２ｆは保護されたアミノ（低級）アルキル
基、または保護されたアミノ（低級）アルキルで置換さ
れたアル（低級）アルキル基、８２ｇはアミノ（低級）
アルキル基、またはアミノ（低級）アルキルで置換され
たアル（低級）アルキル基をそれぞれ意味する〕 この発明の原料化合物のうち、化合物（１）は新規であ
り、下記の製造法により製造される。

［１］ （Ｉｂ） 〔７］ ＨＮ Ｒ几 （菖■） またはその塩類 ［４・］ ［５１ 「６１ 停） （ｘｘｘ　） （υ団１） またはその塩類 （ＸＸ） （ｘｘエエ） （ＸＸＩＶ） またはその塩類 またはその塩類 〔式中、Ｒ２、Ｂ２ａ、　Ｈｚｆ、　Ｂ２ｇ、オ、１：
　ヒＲ”ｌｄ：前トＩｔｍ　シ意味、Ｒ２ｈ、は適当な
置換基を有していてもよいアリール基、または適当な置
換基を有していてもよいシクロアルキル基、２はカルボ
キシ基、または保護されたカルボキシ基　ＲＩＯは保護
されたアミノ（０３〜Ｃ６）アルキル基、Ｒ１１はアミ
ノ（０３〜ｃ６）アルキル基、Ｒ２はカルボキシ基の保
護基、Ｍはアルカリ金属、Ｘはヒドロキシ基またはそノ
反応性誘導体、Ｒ９ｌ１保護基を有するアミ７基、Ｂｌ
ａは保護されたアミノ基、Ｒ７は低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する〕 この発明の目的化合物（＋）および原料化合物（１）に
おいて、下式 原料化合物はチアジアゾリル基に関する互変異性体を包
含するものとする。すなわち、目的化合物で示される部
分構造は、下式 で示される２種の幾何異性体の両者を含むものとする。

この明細書では、上記部分構造を有する全ての化合物に
おいて、式（Ａ）で示される幾何構造を有する化合物は
「シン異性体」と呼ばれ、式（Ａ）で示されるものは「
アンチ異性体」と呼ばれる。

上記式（１）を有する目的化合物および式（１）を有す
る原料化合物において、これら目的化合物およびＲ１は
前と同じ意味）で示される基である場合には、Ｒ１には
イミノ基、または保護されたイミノ基を意味する）で示
される互変異性体で表わすことができる。これらの基（
Ｅ）および（Ｂ’）は、下式で示される、いわゆる互変
異性の平衡関係にある。

特許請求の範囲および実施例を含めて、この明細書では
、上記の基を有する目的化合物および原料化合物を、単
なる便宜のために、その一方の表目的化合物（１）の適
当な塩類としては、医薬」二許容される塩類、特に慣用
される非毒性塩が含まれ、ナトリウム塩、カリウム塩等
のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土類金属塩のような金属塩、アンモニウム塩等
の無機塩、およびトリメチルアミノ塩、トリエチルアミ
ノ塩、ヒリジン塩、プ７＼カイン塩、ピコリン塩、ジシ
クロヘキシルアミノ塩、Ｌ’Ｊ、Ｎ’−ジベンジルエチ
レンジアミノ塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、ジェタノー
ルアミノ塩、トリエタノールアミノ塩、トリメ（ヒドロ
キシメチルアミノ）メタン塩、フェネチルベンジルアミ
ノ塩、ジベンジルエチレンジアミノ塩等の有機アミノ塩
、ぎ酸塩、酢酸塩、マｖ　イアｅ４、酒石酸塩、メタン
ヌルホン酸塩、ル ベンゼンヌルホン酸塩、１・襲エンスルホン酸塩等の有
機カルボン酸またはスルホン酸塩、塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、アルギニン塩、アス
パラギン酸塩、グルタミン酸塩、リジン塩等の塩基性ま
たは酸性アミノ酸塩等が含まれる。

この明細書中の上記および下記の説明において、種々の
定義に含まれる適当な例を説明すると次の通９である。

低級の語は、特にことわらない限シ、炭素数１ないし６
個の基を包含するものとする。

適当な保護されたアミノ基としては、アシルアミノ基、
およびアシル以外の慣用保護基で置換されたアミノ基が
含まれる。このような慣用保護基としては、ベンジル、
トリチル等のアル（低級）アルキル基、ベンジリデン等
のアル（低級）アルキリデン基、１−エトキシカルボニ
ル−２−プロピリデン、ジメチルアミノメチレン等の低
級アルコキシカルボ二μもしくはジ（低級）アルキルア
ミノで置換された低級アルキリデン基が含まれる。

適当な保護されたイミノ基としては、アシｌレイミノ基
、および上記ア／Ｌ／（低級）アルキル等のアシル以外
の慣用保護基で置換されたイミノ基が含まれる。

適当なアシル基、並びにアシルアミノ、アシルイミノ、
アシルオキシ（低級）アルキル、およびアシルチオ〔低
級）アルキルにおけるアシＮ部分としては、カルバモイ
）Ｖ基、脂肪族アシル基、および芳香環または複索環を
含むアシル基が含まれる。このようなアシルの例として
は、ホルミルアセチル、プロピオニル、ブチリル、イン
ブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサリル、サク
シニル、ピバロイル等の低級アルカノイル基、そのうち
好ましくけ１ないし４個の炭素原子を有する基、さらに
好１しくは１ないし２個の炭素原子ヲ有スる基、メトキ
シカルボニル、エトキシカルシロ ボニル、プロポキシカルボニル、１−シクロプたヒルエ
トキシカルボニル ニル、ブトキシ力ルボニノベ第６級ブトキシカルボニル
、ペンチルオキシカルボニル、第３級ペンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の２ないし７個
の炭素原子を有する低級アルコキシカルボニ／Ｉ／基、
そのうち好ましくは乙ないし６個の炭素原子を有する基
、メシル、エクンスルホニル、プロパンスルホニル、イ
ソプロパンヌルホニＩし、ブクンスルホニｐ等の低級ア
ルカンスルホニル基、ベンゼンヌルホニ７し、トシル等
のアＪレ レーンスルホニル基、ベンゾイル、ト襲オイル、ナフト
イル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイル基
、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のアル（
低級）アルカノイ）Ｖ基、シクロへキシルアセチル、シ
クロペンチルアセチル等のシクロ（低級）アルキル（低
級）アルカメイル基、ベンジルオキシカルボニル、フェ
ネチルオキシカルボニル等のアル（低級）アルコキシカ
ルボニル基等が含まれる。

上記アシル基は、１ないし６個の適当な置換基を有して
いてもよい。適当な置換基としては、塩素、臭素、よう
素、ふつ素等のハロゲン、ヒドロキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポ
キシ等の低級アルコキシ基、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル等の低級アルキル基、ビニル、
アリル等の低級アルケニル基、フェニル、トリル’Ｓ　
４７）　７リール基、アミノ基、保護されたアミノ基等
が含まれる。

このような置換基を有するアシルの適当な例としては、
ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロ
ピルカルバモイル等のジ（低級〕アルキルカルバモイル
基、アミノもしくは低級アルコキシカルボニルアミノで
置換されたフェニル（低級）アルカノイル基、アミノで
置換されたシクロ（低級）アルキ／Ｌ／（低級）アルカ
ノイア１ｚ基等が含まれる。

Ｒ２の適当なアシル基としては、ハロ（低級）アルカノ
イル、好ましくはジクロロアセチル、ジブロモアセチル
等のジハロ（低級）アルカノイル等が含まれる。

適当なアリール基としては、フェニル、トリル、キシリ
ル、メシチル、クメニ／Ｌ／等が含まれ、これらアリー
ル基は１ないし６個の適当な置換基を有していてもよい
。適当な置換基としては、塩素、臭素、ふっ素またはよ
う素等のハロゲン、ニトロ基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ
等の低級アルコキシ基、そのうち好ましくは１ないし４
個の炭素原子を有する基、クロロメチル、ジクロロメチ
ル、トリクロロメチＩし、トリフルオロメチル、トリク
ロロエチル等のハロ低級アルキル基、ソのウチ好ましく
は１ないし６個の炭素原子を有する基、後述の保護され
たカルボキシ基、そのうち好ましくは低級アルコキシカ
ルボニル基、さらに好ましくは２ないし４個の炭素原子
を有する基等が含まれる。

１な低級アルキル基、並びにアシルオキシ（低級）アル
キル、アシルチオ（低級）アルキル、ピリジニウム（低
級〕アルキル、保護されたアミノ（低級）アルキル、ア
ミノ（低級）アルキル、保護されたカルボキシＣ低級）
アルキル、カルボキシ（低級）アルキル、複素環チオ（
低級）アルキル、およびア）Ｖ（低級〕アルキルにおけ
る低級アルキル部分としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第６級ブチル
、ペンチル、第３級ペンチル、ヘキシル等の１ないし６
個の炭素原子を有する直鎖または分枝状の基が含まれる
。

適当な置換基を有する低級アルキル基における適当な置
換基としては、塩素、臭素、ぶつ索またはよう素等のハ
ロゲン、シアノ基、カルボキシ基、後述の保護されたカ
ルボキシ基、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
ブチルチオ等の低級アルキルチオ基、フェニル、トリル ジチル、クメニル等のアリール基、フェノキシ、トリル
オキシ、メシチルオキシ等のアリールオキシ基、前述の
アシル基、メトキシメトキシ、メトキシメトキシ、エト
キシエトキシ、プロポキシエトキシ、ブトキシエトキシ
、ペンチルオキシメトキシ、ヘキシルオキシメトキシ、
ヘキシルオキシエトキシ等の低級アルコキシ（低級）ア
ルコキシ基、前述の保護されたアミノ基、好ましくはア
シルアミノ基、すらに好ましくは低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アミノもしくは低級アルコキシカルボニ
ルアミノ アルカノイルアミノ基、アミノで置換されたシクロ（低
級）アルキル（低級）アルカノイルアミノ基、捷たはア
ミノ基等が含まれ、上記低級アルキル基の置換基として
のアリールは、アミノメチル、アミノエチル、アミノプ
ロピル等のアミノ（低ｉ）アルキ／Ｌ／または保護され
たアミノ（低級）アルキルで置換さ九でいてもよく、上
記低級アルキ／Ｉ／基の適当な置換基数としては、１な
いし６個が含まれる。

適当な保護されたカルボキシ基としては、エステル化さ
れたカルボキンが含まれ、そのエステル部分としては、
メチルエステル、エチルエステル、プロビルエヌテｌし
、イソブチルエステル、ブチルエステル、イソブチルエ
ステル、第３９ブチルエステル、ペンチルエステル、第
３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１−シクロ
プロピルエステル等の低級アルキルエステル、そのうち
好ましくは低級アルキル部分が１ないし４個の炭素原子
を有するもの、ビニルエステル、アリルエステル等の低
級アルケニルエステル、エチニルエステル、プロピニル
エステル等の低級アルキニルエステル、２−ヨードエチ
ルエステル、２．２．２−トリクロロエチルエステル等
の七ノ（もしくハシもしくはトリ）ハロ（低級）アルキ
ルエステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニル
オキシメチルエステル、１−アセトキシプロピルエステ
ル、バレリルオキシメチルエステル、ヒバロイルオキシ
メチルエステノペヘキザノイルオキシメチルエステル、
１−アセトキシエチルエステノベ２−プロピオニルオキ
シエチルエヌテル、１−イソブチリルオキシエチルエス
テル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキルエス
テル、メシルエチルエステル、２−メシルエチルエステ
ル等の低級アルカンスルホニルＣ低級）アルキルエステ
ル、ベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル
、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル、
１゛リチルエステル、ジフェニルメチルエステノへビス
（メトキシフェニル）メチルエステル、６．４−ジメト
キシベンジルエステル、４−ヒトａキシ−３，５−”第
３級ブチルベンジルエステル等の１個以上の適当な置換
基を有していてもよいアル（低級）アルキル〔例えばフ
ェニル（低級〕アリールエステル、メトキシカルボニル
＝６４．− オキシメチルエステル、エトキシカルボニルオキ玉゛ シメ’ｆ−ルエステル、エトキシカル永ニルオキシエチ
ルエステル等の低級アルコキシカ！レポニＩレオキまし
くはオキソで置換されていてもよいペンゾテトラヒドロ
フリルエヌテル、さらに好ましくはフタリジルエステル
、ベンゾイルオキシメチルエステル、ペンゾイルオキシ
エチルエヌテル、トルオイルオキシエチルエステル等の
アロイルオキシ（低級）アルキルエステル、フェニルエ
ステル、１゛リルエステル、第３Ｍブチルフェニルエス
テル、キシリルエステル、メチルエステル、クメニルエ
ステル等の１個以上の置換基を有していてもよいアリー
ルエステル等が含まれる。

保護されたカルボキシ基の好捷しい例としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、第６級ブトキシカルボニル
、第６級ペンチルオキシカルホニル、ヘキシルオキシカ
ルボニ／Ｖ等の２ないし７個の炭素原子を有する低級ア
ルコキシカルボニル基／基、さらに好ましくは２ないし
５個の炭素原子ヲ含ム基、４−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルベンジルオキシカルボニル、４−二ｌーロフエ
ネチルオキシカルボニ／Ｉ／等のニトロで置換されてい
てもよいフエニ／Ｖ（低級）アルコキシカルボニル基、
アセトキシメトキシカフレボニル、ピパロイルオキシメ
トキシカルボニル、ヘキサノイルオキシメトキシ力ルポ
二μ、１−アセトキシエトキシカルボニル −イソブチリルオキシエトキシカルボニル等の低級アル
カノイルオキシ（低級）アルコキシカルボニ）ｖ基、そ
のうち好ましくは乙ないし８個の炭素原子を有する基、
エトキシカルボニルオキシエトキシカルボニル、エトキ
シカルボニルオキシエトキシカルボニル等の低級アルコ
キシ力ルポニルオキシ（低級）アルコキシカルボニル（
これラバアジドで置換されていてもよい）、そのうち好
ましくは５ないし７個の炭素原子を有する基、フタリジ
ルオキシカルボニル基、およびベンゾイルオキシメトキ
シカルボニル、ベンゾイルオキシエトキシカルボニル等
のアロイルオキシ（低級）アルコキシカルボニル基が含
まれる。

適当な低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、イ
ンプロペニル、１−プロペニル、２−フチニル、６−ペ
ンテニルが含まれ、そのうち２ないし４個の炭素原子を
有する基が好ましい。

適当な低級アルキニル基としては、エチニル、２−プロ
ピニル、２−ブチニル、６−ペンチニル、６−ヘキジニ
ル等が含壕れ、そのうち２ないし４個の炭素原子を有す
るものが好ましい。

適当ナシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル等の６ないし８個の炭素原子を有するものが含
まれ、そのうち４ないし７個の炭素原子を有するものが
好ましい。

シクロアルキル基の適当な置換基としては、低級アルキ
ル基の置換基として例示したものが含まれ、そのうちカ
ルボキンまたは保護されたカルボキシが好ましい。

適当なシクロ（低級）アルケニル基としては、シクロペ
ンテニル、シクロへキセニル等の６ないし６個の炭素原
子を有するものが含まれ、そのうち５′または６個の炭
素原子を有するものが好ましい。

適当な８もしくは０含有５員複索環式基としては、ジヒ
ドロフリル、テトラヒドロフリル、チオラニル等の飽和
または不飽和環が含まれ、これらは１または２個のオキ
ソで置換されていてもよい。

適当な複素環式基、および複素環チオ（低級）アルキル
における複素環部分としては、酸素、硫黄、窒素等の少
なくとも１個の複素原子を含む飽和または不飽和、単環
または多環複素環式基が含まれ、そのうち特に好ましい
ものとしては、ヒフｏリル、ピロリニル、イミダゾリル
、ピラゾリル、ピリジｗｋよびそのＮ−オキサイド、ピ
リミジル、ピラジニル、ピリダジニル、例えば４１−１
−１．２．４−トリアゾリル、１１Ｌ−１，２，３−）
リアゾリル、２１−１−１．２．３−）リアゾリルのよ
うなトリアゾリル、例えば１■−テトラゾリル、２■−
テトヲゾリＩしのようなテ１−ヲゾリル、ジヒドロトリ
アジニル等の１ないし４個の窒素原子を含む不飽和乙な
いし８員単環複索環式基、ピロリジニル、イミダゾリジ
ニル、ピペリジノ、ピリダジニル等の１ないし４個の窒
素原子を含む飽和６ないし８員単環複素環式基、インド
リル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイミダ
ゾリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベン
ゾトリアゾリル、テトラゾロピリジル、テトラシロピリ
ダジニル、ジヒドロトリアゾロピリダジニル等の１ない
し５個の窒素原子を含む不飽和縮合複索環式基、オキサ
シリＩし、インオキサシリル、例えば１．２．４−オキ
サジアゾリル、１．３．４−オキサジアゾリル、１．２
．５−オキサジアゾリルのようなオキサジアゾリル等の
１ないし２個の酸素原子と１ないし６個の窒素原子とを
含む不飽和乙ないし８員単環複素環式基、モルホリニル
等の１ないし２個の酸素原子と１ないし６個の窒素原子
とを含む飽和６ないし８員単環腹素環式基、ベンズオキ
サシリル、ベンズオキサジアゾリル等の１ないし２個の
酸素原子と１ないし６個の窒素原子とを含む不飽和縮合
複索環式基、チアゾリル、チアゾリニル、例えば１．２
．４−チアジアゾリル、１．６．４−チアジアゾリル、
１．２．５−チアジアゾリルのようなチアジアゾリル等
の１ないし２個の硫黄原子と１ないし６個の窒素原子と
を含む不飽和乙ないし８員単環複素環式基、チアゾリジ
ニル等の１ないし２個の硫黄原子と１ないし６個の窒素
原子とを含む飽和６ないし８員弔店°１複素環式シｊ（
、チェニ／Ｌ／等の硫黄原子を含む不飽和６ないし８員
単環複索環式基、ベンゾチアゾｌ）　／し、ベンゾチア
ジアゾリル等の１ないし２個の硫Ｒ原子と１ないし６個
の窒素原子とを含む不飽和縮合複素環式基等が含まれる
。

上記複素環式基は、１ないし６個の適当な置換基を有し
ていてもよく、適当な置換基としては、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、ペン
チル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等の
低級アルキル基、メチルチオ、エチルチオ、グロピルチ
オ等の低級アルキルチオ基、ビニル、アリル、ブテニＪ
ｖ等の低級アルケニル ニルチオ等の低級アルケニルチオ基、ヒドロキシ基、フ
ェニル、トリル等のアリール基、塩素、臭素、ふっ素、
よう素等のハロゲン、アミノ基、ジメチルアミノメチル
、ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノプロピル、ジ
エチルアミノプロピル、ジエチルアミノブチル等のジ（
低級）アルキルアミノ（低級）アルキル基、カルボキシ
メチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、等の
カルボキシ〔低級）アルキル基、前に例示したエステル
化されたカルボキシ部分を有するエステル化されたカル
ボキン（低級）アルキル基、アミノメチル、アミノエチ
ル、アミノプロピル、１−アミノメチルエチル、アミノ
ブチル、アミノヘキシル等のアミノ（低級）アルキル基
、それぞれ前に例示した保護されたアミノ部分と低級ア
ルキル部分を有する保護されたアミノ（低級］アルキル
ｖ基、好ましくハフ１−キシカルボニルアミノメチル、
工１−キシカルボニルアミノメチル、第６級ブトキシカ
ルボニルアミノメチル、第６級ブトキシカルボニルアミ
ノメチル、第６級プ１ーキシカルボニルアミノプロピル
等の低級アルコキシカルボニルアミノ（低級）アルキル
基、またはアセチルアミノメチル、アセチルアミノエチ
ル、アセチルアミノプロピル、１−アセチルアミノメチ
ルエチル等の低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル
基、カルボキシ基、オキソ基、前に例示したエステル化
された力！レボキシ基、好ましくはアルコキシカルボニ
ル基、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロ
ピＩし、工ｊ〜キシメチル、エトキシエチル等の低級ア
ルコキン（低級）アルキル、ヒドロキシメチル、ヒドロ
キシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル等
のヒドロキシ（低級）アルキル基、メチルチオメチル、
メチルチオエチル、メチルチオプロピル、エチルチオメ
チル等の低級アルキルチオ（低級）アルキル基、スルホ
メチル、スルホエチル、スルホプロビル、スルホブチ／
Ｌ／等のスルホ（低級）アルキ）ｖ基、それぞれ前に例
示したアシル部分および低級アルキル部分を有するアシ
ル（低級）アルキル基、好ましくはメシルメチル の低級アルカンスルホニル（低級）アルキｌｖ基、それ
ぞれ前に例示したアシル部分および低級アルキル部分を
ｌ−るアシルアミノ（低級）アルキル基、好−１：Ｌ＜
はメシルアミノメチル、メシルアミノエチル、メシルア
ミノエチル、エタンスルホニルアミノメチル等の低級ア
ルカンスルホニルアミノ（低級）アルキ／ｌ／基、カル
ボキシメチルチオカルボキシエチルチオ等のカルボキシ
（低級）アルキルチオ基、モルホリノメチル、モルホリ
ノエチル、モルホリノプロピル等のモルホリノ（低級）
アルキル基、ピペリジノメチル、ピペリジノエチル、ピ
ペリジノプロピル等のピペリジノ（低級）アルキル基、
４−メチ／Ｖ−１−ピペラジニルプロビル等の低級アル
キルで置換されていてもよいピペヲジニ／Ｌ／（低級）
アルキル基等が含まれる。

ピリジニウム（低級）アルキル基、ピリジンおよびピリ
ジニウム基の適当な置換基としては、カルバモイル基が
含まれる。

適当なハロゲンとしては、前に例示したものが含まれる
。

適当な低級アルキレン基どしては、メチレン、エチレン
、メチルエチレン、プロピレン、トリメチレン、２−メ
チ／Ｉ／１〜リメチレン等の直鎖または分枝状２価脂肪
族炭化水素残基が含棟れ、そのうち好ましくは１ないし
２個の炭素原子を有する基、特に好ましくは１個の炭素
原子を有する基が含まれる。

ＢＩＧおよびＩｔ　　の複素環チオ（低級）アルキルの
置換基としての保護されたアミノ（低級）アルギルおよ
びアミノ（低級〕アルキル　１−＜、２１）および几２
０の保護されたアミノ（低級）アルキルおよびアミノＣ
低級）アルキル、並びに几２ｄおよび１．（２０の保護
されたカルボキシ（低級）アルキルおよびカルボキシ（
低級）アルキルとしては、前に例示したものが含まれる
。

ヒドロキシ基の適当な保護基としては、前述のアシル基
、ア／Ｉ／（低級）アルキル基等が含まれる。

適当な４４４ａとしては、前述のアシルオキシ基、ハロ
ゲン、アジド等が含まれる。

適当なＩｔ８としては、前述の保護されたカルボキシと
して例示したエステル部分が含まれる。

適当なカルボキシ保護基としては、前述のエステル化さ
れたカルボキシのエステル部分が含まれる。カルボキン
保護基の好ましいものとしては、前述の低級アルキルが
含まれる。

適当なアルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム、
リチウム等が含まれる。

Ｘにおける適当なヒドロキシ基の反応性誘導体としては
、前述のハロゲン等の酸残基が含まれる。

Ｉｔ９の適当な保護基を有するアミノ基としては、フタ
ルイミド、サクシンイミド、エトキシカルボニルアミノ
等が含まれ、そのうちフタルイミドが好ましい。

適当なアル（低級）アルキル基としては、ベンジル、フ
ェネチル等のフエニ／Ｌ／　（低級）アルキル基が好ま
しい。

アミノ（０３−ｅ６）　　アルキルおよび保護されたア
ミノ（ｅ３−ｅ６）　　アルキルにおける適当な（Ｃ３
−０６）アルキルとしては、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル等の３ないし
６個の炭素原子を有するアルキル基が含まれる。

几２１°およびＬＬ２ｇの適当な保護されたアミノ（低
級）アルキルおよびアミノ（低級〕アルキル、並びに保
護されたアミノ（Ｃ３−０６）アルキルにおける保護さ
れたアミノ部分としては、前述のものが含まれる。

目的化合物（１）の好捷しい実施態様は、次の通りであ
る。

几１の好ましい例としては、アミノ基、アシルアミノ基
（さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ基）、また
はジ（低級）アルキルアミノ（低級）アルキリデンアミ
ノ基が挙ケラ；ｈ、ル。

Ｉｔ２の好捷しい例としては、水素、アリール基（さら
に好ましくはフェニル基）、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シアノ（低級）アルキル基、アル（低級）
アルキル基〔さらに好ましくはフェニル（低級）アルキ
ｌし基またはトリフェニル（低級〕アルキル基〕、アリ
ールオキシ（低級〕アルキル基〔さらに好ましくはフェ
ノキシＣ低級〕アルキル基〕、ハロ（低級）アルキル１
ｉｌｌらに好ましくはトリハロ（低級）アルキル基〕、
低級アルキルチオ（低級）アルキル基、エステル化され
たカルボキシ（低級）アルキニル基〔さらに好ましくは
低級アルコキシ力ルボニ／Ｉ／（低級〕アルキル基〕、
ジ（低級）アルキル力ルバモイ）ＶＣ低級）アルキル基
、低級アルコキシ（低級）アルコキシ（（Ｉｌｌ）アル
キル基、低級アルカンスルホニ／Ｌ／（低級）アルキル
基、アシルアミノ（低級）アルキル基〔さらに好ま県〈
は低級アルコキシ力ルポニルアミノ（低級〕アルキル基
〕、アミノ（低級〕アルキル基、カルボキシ（低級）ア
ルキル基、シクロアルキ）Ｖ基、シクロ（低級）アルケ
ニル基、ハロゲン、ニトロと低級アルコキシ、ハロ（低
級〕アルキル、または低級アルコキシカルボニルで置換
されたアリール基（さらに好ましくはフェニル７、ｂ）
、２個のオキソで置換されたチオフニ７１ｚ基、カルボ
キシまたは低級アルコキシカルボニルで置換されたアル
（低級）アルキ／Ｌ／基、カルボキシまたは低級アルコ
キシカルボニルで置換されたシクロアルキル基、アミノ
（低級〕アルキルまたは低級アルコキシ型カルボニルア
ミノ（低級）アルキルで置換されたア／Ｉ／（低級〕ア
ルキ／Ｉ／基〔好ましくハフエニ／Ｌ／（低級〕アルキ
ル基〕、シクロアルキルオキシカルボニ／Ｌ／（低級）
アルキル基、アル（低級）アルコキシカルボニル（低級
）アルキル基、アミノまたは低級アルコキシカルボニル
アミノで置換されたア／Ｌ／（低級）アルカノイルアミ
ノ（低級）アルキル基、シクロ（低級）アルキ／Ｉ／（
低級）アルカノイルアミノ（低級）アルキル基、オキソ
で置換されたテトラヒドロフリル基が挙げられる。

凡３の好ましい例としては、水素または低級アルキ／Ｉ
／基が挙げられる。

１４’の好ましい例としては、水素；アシルオキシ（低
級）アルキ／Ｌ／基〔さらに好ましくは低級アルカノイ
ルオキシ（低級〕アルギル基またはカルバモイルオキシ
（低級）アＩレキル基、特に好ましくは低級アルカノイ
ルオキシメチル基またはカルバモイルオキシメチル基〕
２アシルチオ（低級）ア）Ｖキル基〔さらに好ましくは
低級アルカノイルチオ（低級〕アルキ）ｖ基、特に好寸
しくけ低級アルカノイルチオメチ／Ｌ／基〕ミ低級アｌ
レキｌし、低級アルケニル、低級アルコキシ（低級）ア
ルキル、低級プルキルチオ（低級）アルキル、ヒドロキ
シ（低級〕アルキル、アミノ（低級）アルキル、低級ア
ルコキシカルボニルアミノ（低級）アルキル、低級アル
カノイルアミノ（低級）アルキル、ジ（低級）アルキル
アミノ（低級）アルキル、スルホ（低級）アルキル、カ
ルボキシ（低級）アルキル、アリ−／ｌ／（さらに好ま
しくけフェニル）、低級アルコキシ力ルボニ／Ｉ／（低
級）アルキル、モルホリノ（低級〕アルキル、ピペリジ
ノ（低級）アルギルまたは低級アルキ／Ｌ／置換ピペヲ
ジニｔｖ　（低級）アルキルで置換されたテトラゾリル
チオ（低級）アルキル基（さらに好ましくはテトラゾリ
ルチオメチル基〕ミ低級アルキル、低級アルコキシ（低
級）アルキル、低級アルキルチオ（低級）アルキル、低
級アルケニルチオ、カルボキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、ヒドロキシ（低級）アルキル、アミノ（低級）ア
ルキル、低級アルコキシカルボニルアミノ（低ｉ）アル
キル、低級アルカノイルホニ／Ｌ／（低級〕アルキル、
低級アルヵンスルホニルアミノ（低級）アルキルまたは
カルボキシ（低級）アルキルチオで置換されていてもよ
いチアンアゾリルチオ（低級）アルキル基（さらに好ま
しくはチアシアシリフレチオメチ）Ｖ［有］；カルバモ
イルで置換されたピリジニウム（低級）アルキ／Ｉ／基
：低級アルキ／Ｌ／基；ハロゲンミヒドロキシ基１、オ
キシおよびカルボキシ（低級）アルキルで置換されたジ
ヒドロトリアゾロピリダジニルチオ（低級）アルキル基
（さらに好ましくはジヒドロトリアゾロピリダジニルチ
オメチル→２オキソ、ヒドロキシおよび低級アルキルで
置換されたジヒドロＩ・リアジニルチオ（低級）アルキ
ル基（さらに好ましくはジヒドロトリアジニルチオメチ
ル基）ミテトヲゾロピリダジニルチオ〔低級）アルキル
基（さらに好ましくはテトラシロピリダジニルチオメチ
ル基〕等が挙げられる。

ｔｔ５の好筐しい例としては、カルボキシ基、ニトロで
置換されたフエニ／Ｌ／（低級）アルコキシカルボニル
基、低級アルカノイルオキシ（低級）アルコキシカルボ
ニル基、アジドで置換されていてもよい低級アルコキシ
カルボニルオキシ（低級）アルコキシカルボニル基、フ
タリジルオキシカルボニル基、またはアロイ／Ｌ／（好
ましくはベンゾイル）オキシ（低級）アルコキシカルボ
ニル基が挙げられ、Ｒ４がカルバモイルで置換されたピ
リジニウム（低級〕アルキル基の場合には几５はＣＯＯ
である。

目的化合物の製造法をさらに詳細に説明すると、次の通
りである。

方法１ 目的化合物山は、化合物（［Ｊ）もしくはそのアミノ基
における反応性誘導体またはそれらの塩類に化合物０１
υもしくはそのカルボキシ基における反応性誘導体また
はそれらの塩類を反応させることにより製造される。

化合物（ロ）のアミノ基における適当な反応性誘導体と
しては、アミド化反応に慣用される反応性誘導体、例え
ば化合物（ロ）とカルボニ）ｖ化合物との反応で得られ
るシッフ塩基型イミノ化合物、またはその互変異性エナ
ミン化合物、化合動用）とビス（トリメチルシリル）ア
セトアミド、トリメチルシリルアセトアミド等のシリル
化合物との反応で得られるシリル誘導体、化合物（ロ）
と６塩化燐、ホスゲン等との反応で得られる誘導体が含
まれる。

化合物口）の適当な塩としては、酢酸塩、マレイン酸塩
、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンヌルホン
酸塩等の有機酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸塩のような酸付加塩、ナトリウム塩、カ
リウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の金属塩、
アンモニウム塩、トリエチルアミノ塩、ジシクロヘキシ
ルアミノ塩等の有機アミノ塩等が含まれる。

化合物（ＩＩυのカルボキシ基における適当な反応性誘
導体としては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性アミ
ド、活性エステル等が含まれるが、特に好ましいものと
しては、酸クロリド、酸アジド、置換燐酸（例えばジア
ルキル燐酸、フエニｌｖ燐酸、ジフエニ）Ｖ％酸、ジベ
ンジル燐酸、ハロゲン化燐酸）混合無水物、ジアルキル
亜燐酸混合無水物、亜硫酸混合無水物、チオ硫酸混合無
水物、硫酸混合無水物、アルキル炭酸混合無水物、脂肪
族カルボン酸（例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペ
ンタン酸、２−エチルブタン酸、酢酸、トリクロロ酢酸
）混合無水物、芳香族カルボン酸（例えば安息香酸）混
合無水物等の混合無水物、苅昨型酸無水物、イミダゾー
ル、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール
等との活性アミド、シアノメチルエステル、メトキシメ
チルエステル、ジメチ、〜ミ、メチ）Ｖ（−（Ｃ馬〕２
古＝　０１：ｌ−）エフチル、ビニルエステル、グロパ
ルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４
−ジニトロフェニルエステル ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル テル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシ基チルチ
オエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピ
ペリジルエステル、８−キノリルチオエステル、Ｎ−ヒ
ドロキン化合物（　例えばＮ、Ｎ−ジメチルヒドロキシ
ルアミノ、１−ヒドロキシ−２　−　（　Ｉ　Ｈ　）−
ピリドン、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ−ヒドロ
キシフクルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ−１１
１−ベンゾトリアシール等）とのエステル等の活性エス
テル等、が挙げられる。これらの反応性誘導体は、化合
物の１）の種類に応じて適宜選択される。

化合物叫の塩類としては、ナトリウム塩、カリウム塩等
のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土類金属塩のような無機塩基との塩類、トリメ
チルアミノ塩、トリエチルアミノ塩、ピリジン塩等の有
機塩基との塩類、および塩酸塩、臭化水素酸塩等の酸塩
等が含捷れる。

この反応は、通常水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、メチレンクロフイド、エチレン
クロフィト、テ１−フヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他この反応
に悪影響を及ぼさない溶媒等の、慣用される溶媒中で行
なわれる。これらのうち、親水性の溶媒は水と混合して
用いることができる。

この反応において、化合物ｕｎ）を遊離酸またはその塩
の状態で使用する際は、例えばＮ、ＮＩ−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モル
ホリノエチルカルホシイミ）−１Ｎ−シクロへギシルー
Ｎ’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシ／Ｌ／）カル
ボジイミド、Ｎ１Ｎ’−ジエチルカルボジイミド、Ｎ、
Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ
’−（３−ジメチルアミノブロヒＩし）カルボジイミド
、Ｎ、Ｎ’−カμボニ〜ビス（２−メチルイミダゾール
）、ペックメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン
、ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、工１
−キシアセチレン、ポリ燐酸エチル、ポリ燐酸インプロ
ピノペ　ジエチルホスホロクロリダイト、オキシ塩化燐
、６塩化燐、５塩化燐、塩化チオニル、塩／ 化オキサリル、ｌ−リフェニルホスフイ％ｒ、Ｎ−エチ
ル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウムフルオロ
ボレート、２−エチル−５−（ｒｎ−スルホフエニ／Ｌ
／）イソオキサゾリウムヒドロキサイド分子内：ＬＬ　
　１−　（Ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６
−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール、ジメチルホルム
アミトド塩化チオニル、ホヌゲン等との反応で得られる
（クロロメチレン〕ジメチルアンモニウムクロフィト、
ジメチルホノーミドとオキシ塩化燐との反応で得られる
化合物等のいわゆるピルヌマイヤー試薬等の慣用される
縮合剤の存在下に反応を行なうことが望ましい。

この反応ｆｄ、水酸化アルカリ金属、炭酸水素アルカリ
金属、炭酸アルカリ金属、酢酸アルカリ金属、トリ（低
級）アルキルアミノ、ピリジン、Ｎ−（低ａ）アルキル
モルホリン、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミ
ノ、後記Ｎ１ページ（低級）アルキルアニリン等の無機
または有機塩基の存在下に行なうことができる。塩Ｊｌ
たは縮合剤が液体の場合には、溶媒を兼ねて用いてもよ
い。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
程度で行なわれることが多い。

この反応において、目的化合物（１）のシン異性体を得
るためには、化合物（０）を原別化合物圃のシン異性体
と反応させることが望捷しい。

またこの反応において、反応条件により、化合物（ＬＩ
Ｄにおけるｆｔｌのアミノ基が反応中に保護されたアミ
ノ基に変化して、」（１が保護されたアミノ基である化
合物中が得られることがあり、また几２のアシル基が反
応中に水素に変化することがあるが、これらの場合もこ
の発明に包含さｈる。

＝８９＝ 方法２ 目的化合物（ｌｂ）才たはその塩類は、化合物（ｆａｃ
ｔたはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応にイ」す
ことにより製造される。

化合物（ｌａ）の塩類としては、化合物（［１）につい
て例示したのと同種のものが含まれる。

この反応は、加水分解、還元等の慣用される方法によっ
て行なわれる。

保護基がエヌテルの場合には、加水分解によシ保護基が
脱離される。加水分解は、塩基または酸の存在下に行な
うのが好ましい。適当な塩基としては、ナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルンウム等
のアルカリ土類金属、それらの水酸化物、炭ｅ塩または
重炭酸塩、トリメチルアミノ、ｌ−リエチルアミノ等の
トリアルキルアミノ、ピコリン、１．５−ジアザビシク
ロ〔４、乙、０〕−５−ノネン、１．４−ジアザビンク
ロ〔２，２，２〕オクタン、１．８−ジアザビシクロ〔
５，４，０〕−７−ウンデセン等の無機唸たは有機塩基
が含まれる。適当な酸としては、ぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、および塩酸、臭化
水素酸、硫酸等の無機酸が用いられる。

こ（７）反応ｔｄ、　ａ常水、メタノール、エタノール
等のアルコール、これらの混合物、その他この反応に悪
影響を及ぼさない溶媒等の溶媒中で行なわれる。液体の
塩基または酸は、溶媒を兼ねて用いてもよい。反応温度
は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温下に行な
われる。

還元は、４−ニトロベンジル、２−ヨードエチル、２．
２．２−トリクロロエチル等のような保護基の脱離に用
いられる。ｌＢｐ離に用いる還元方法としては、亜鉛、
亜鉛アマルガム等の金属寸たは塩化第１クロム、酢酸第
１クロム等のクロム塩と酢酸、プロピオン酸、塩酸等の
有機または無機酸との組合せ、およびパラジウム炭素等
の慣用触媒を用いた慣用接触還元が含まれる。

方法３ 目的化合物（１ｄ）またはその塩類は、化合物（ｌｃ）
またはその塩類に化合物■〕またはその反応性誘導体を
反応させることによシ製造される。

化合物（ｌＣ）の適当な塩類としては、化合物ｆｆＪ）
について例示したのと同種のものが含まれる。

化合物θＶ）の適当な反応性誘導体としては、ナトリウ
ム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩のような金属塩が
含まれる。

この反応は、水、燐酸緩衝液、アセトン、クロロホルム
、ニトロベンゼン、メチレンクロライド、エチレンクロ
フィト、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー
ル、エーテル、テトフヒドロフフン、ジメチルスルホキ
ザイド、その他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で
行なうことができ、そのうち極性溶媒が好ましい。上記
の溶媒中、親水性溶媒は水と混合して用いることができ
る。

この反応は、中性附近の条件下で行なうことが望ましい
。化合物（１０）または化合物＋ＩＶ）を遊１ｉ３１Ｌ
の形で用いる際には、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカ
リ金属、炭酸水素アルカリ金属等の無機塩ノｉ（、トリ
アルキルアミノ等の有機塩）ｉ（のような塩基の存在下
に反応を行なうことが重重しい。反応温度は特に限定さ
れないが、通常室温、加温または僅かに加熱する程度で
行なわれることが多い。

この反応において、反応中に保護されたカルボキシ基が
遊離カルボキシ基に変化する場合があるが、この場合も
この発明に包含される。

方法４ 化合物（１１’）−ｉたけその塩類は、化合物（ｌｅ）
またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に（＝Ｊすこ
とによシ製造される。

化合物（ｌｃ）の適当な塩類としては、前に例示したよ
うな金属塩、アンモニウム塩、有機アミノ塩等が含まれ
る。

脱離反応は、加水分解、還元、によシ、または保護基が
アシル基である化合物（ｌｅ）にイミノハロゲン化剤、
次いでイミノエーテル化剤を反応させ、得られる化合物
を必要に応じて加水分解する方法等の慣用される方法に
より行なわれる。加水分解には、酸、塩基、またはヒド
ラジノを用いる方法が含まれる。これらの方法は、脱離
する保護基の種類に応じて選択される。

これらの方法のうち、酸を用いる方法は、第６級ペンチ
ルオキシカルボニル、第６級ブトキシカルボ二〜等の置
換または非置換アルコキシカルボニル基、ホルミル等の
アルカノイル基、シクロアルコキシカルボニル基、ベン
ジルオキγカルポニチオ基、置換アラルキリデン基、置
換アルキリデフ基、ｔ？を換シクロアルキリデン基、ベ
ンジル、トリチル等のアル（低級）アルキル基等のよう
な保護基のｌＢ８　ｆｉｌに用いられる一般的で好まし
い方法の１つである。

適当な酸としては、ぎ酸、１−リフルオロ酢酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ｐ　−ｌ−ルエンスルホン酸、塩酸等の
有機および無機酸が含まれ、そのうち好ましいのは、ぎ
酸、トリフルオロ酢酸、塩酸である。適当な酸は、脱離
する保護基の種類に応じて選択される。酸による脱離反
応は、溶媒の存在下または不存在下に行なわれる。適当
な溶媒としては、慣用される有機溶媒、水、およびそル
らの混合物が含寸れる。トリフルオロ酢酸を用いる場合
、脱離反応はアニソールの存在下に行なうのが好ましい
。

ヒドラジノを用いる加水分解は、一般にサクシエル、フ
タロイル等のような保護基の脱離に用いられる。

塩基を用いる加水分解は、ジクロロアセチル、トリフル
オロアセチル等のハロアルカノイ／Ｌ’基のようなアシ
ル基の脱離に用いるのが好ましい。適当な塩基としては
、水酸化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等の水酸化アルカリ金属、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属、炭酸すトリ
ウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、炭酸マグネ
シウム、俵酸力Ｉレシクム等の酢酸アルカリ土類金属、
炭酸水素ナトリウム、酢酸水素カリウム等の炭酸水素ア
ルカリ金属、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の酢酸ア
ルカリ金属、燐酸マグネシウム、燐酸カルシウム等の燐
酸アルカリ土類金属、燐酸水素２ナトリウム、燐酸水素
２カリウム等の燐酸水素アルカリ金属等の無機塩基、ト
リメチルアミノ、トリエチルアミノ等の・トリアルキル
アミノ、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチル
モルホリン、１．５−ジアザビシクロ〔４，６、ｏ〕−
５−ノネン、１．４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オ
クタン、１．５−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−５−
ウンデセン等の有機塩基が含まれる。

塩基による加水分解は、水、慣用される有機溶媒、また
はそれらの混へ岸で行なわれることが多い。

保護基のうち、アシル基は一般に上記の加水分解または
それ以外の慣用される加水分解によって脱離される。ア
シ）Ｖ基がハロゲン置換アルコキシカルボニｐ基または
８−キノリルオキシカルボニｌｖ基の°場合、これらは
銅、亜鉛等の重金属と処理することにより脱離される。

還元による脱離は、一般にトリクロロエトキシカルボニ
ル等のハロアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル、置換ベンジルオキシカルボニル等の置換マた
は非置換アラルコギシ力ルボニ）Ｖ基のような保護基の
脱離に用いられる。適当な還元方法としては、水素化は
う素す１−リウム等の水素化はう素アルカリ金属を用い
る還元が含まれる。

反応温度は特に限定されず、上記アミノ保護基および脱
離方法の種類に従って選択されるが、この反応は冷却、
室幅または僅かに加＆ｌする程度の緩和な条件に行なう
のが好ましい。

この反応において、几２および／または几３の保護され
たカルボキシ基が上記脱離反応中“または反応混合物も
しくは生成物の後処理中に遊離カルボキシ基に変化する
場合があるが、この場合もこの発明に包含される。

方法５ 目的化合物（ｉＭ）またはその塩類は、化合物（Ｉ＋　
）またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すこと
により製造される。

化合物（１１）の適当な塩類としては、化合物伯）につ
いて例示したのと同種のものが含せれる。

この１１２４反応は、上記方法４について述べたのと実
質的に同様に行なわれる。

この反応において、Ｒ４の複Ｊオ（低級］アルキル基に
おける置換分としての保護されたアミノＣ低級）アルキ
ル基がアミノ（低級）アルキル基に変化する場合がある
が、この場合もこの発明に包含される。

方法６ 目的化合物（Ｉｆ）またはその塩類は、化合物（Ｉｋ）
またはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこ
とによ！ｌｌ製造される。

化合物（ｆ　Ｉｃ　）の適当な塩類としては、化合物（
ロ）について例示したのと同種のものが含まれる。

この脱離反応は、上記か法２について述べたのと実質的
に同様に行なわれる。

この反応において、几４の複素環チオＣ低級）アルキル
基における置換分としての保護されたアミノ（低ｍ）ア
ルキル基がアミノ（低級）アルキル基に変化する場合が
あるが、この場合もこの発明に包含される。

方法７ 目的化合物（Ｉｎ）ｉたばその塩類は、化合物（Ｉ　＋
ｎ　）−ｊｆたはその塩類をエステル化反応に（＝Ｉす
ことにより製造される。

化合物（Ｉ　ｍ）の適当な塩類としては、化合物引〕に
ついて例示したのと同種のものが含まれる。

この反応は、化合物（Ｉｍ）またはそのＪｊＬ類にＸ−
１ｖ　　　　　　　　　　　　ＣＸＶ口　）Ｃ式中、■
ｔ８およびＸは前と同じ意味）で示される化合物が含ま
れる。

この反応は、通常ジメチルホルムアミド、ピリジン、ヘ
キサメチ／Ｌ／％酸トリアミド、その他この反応に悪影
響を及ぼさない溶媒のような溶媒中で行なわれる。

化合物（Ｉｍ）を遊離酸の状態で用いる場合、反応を前
述のような塩基の存在下に実施するのが有利である。

反応温度は特に限定されないが、冷却下、室温または僅
かに加温する程度で反応を行なうことが望ましい。

方法８ 目的化合物（Ｉｈ）またけその塩類は、化合物（Ｉｇ）
またはその塩類をヒドロキシ保護基の１Ｊｆ２離反応に
付すことにより製造される。

化合物（１ｇ）の適当な塩類としては、化合物（ロ）に
ついて例示したのと同種のものが含壕れる。

この脱離反応は、上記方法４について述べたのと実質的
に同様に行なわれる。

方法９ 目的化合物（Ｉｐ）またはその塩類は、化合物（１０）
−ｊたはその塩類を脱水反応にイ」すことにより製造さ
れる。

この反応は、化合物（１０〕またはその塩類に脱水剤を
反応させることにより行なうのが好ましい。適当な脱水
剤としては、ピバリン酸、１−リフルオロ酢酸等のハロ
ゲンで置換されていてもよいアルカン酸、トルエンヌル
ホン酸等のアレーンス）Ｖホ７Ｄのような酸、塩化トリ
フルオロアセチル、塩化トシル、塩化ヒバロイル、オキ
シ塩化燐等の管ハフイド、非対称混合酸無水物、ジケテ
ン等の反応性誘導体、フロリジル、ジラード試薬Ｔ、エ
チ／Ｉ／（カルポキンスルファモイ／Ｌ／）、トリエチ
ルアンモニウムヒドロキサイド分子内塩等のイリド化合
物等が含まれる。

この反応は、塩基の存在下に行なうのが好ましい。塩基
としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属
水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネ
シウム等の金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等の金属重炭酸塩のような無機塩基、トリメチ
ルアミノ、トリエチルアミノ、ピリジン等の第６級アミ
ノ、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド
等のアルカリ金属アルコキキイド等のような有機塩基が
含まれる。

この反応は、通常アルコール、テ１−ラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、クロロホルム、メチレンクロラ
イド等の慣用溶媒、その他この反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中で、冷却、室温、または僅かに加温して行なわ
ハる。

Ｉｑ）またはその塩類をアミノ保護基の導入反応にイ」
すことにより製造される。

化合物（Ｉｑ）の適当な塩類としては、化合物（ＩＪ）
について例示したのと同種のものが含まれる。

この反応は、上記方法１について述べたのと実均 質墜に同様に行なわれる。

原料化合物（２）の製造法をｆｌ−紬に説明すると、次
の通シである。

製造法（１） 化合物（■は、化合物（Ｖ）ｔたはその塩類にハロゲン
化剤および化合物（■を反応させることにより製造され
る。

この反応で用いる適当なハロゲン化剤としては、臭素、
塩素等が含まれる。

この反応は、炭酸アルカリ金属、アルカリ金属アルコキ
サイド、トリアルキルアミノ等の無機塩基または有機塩
基のような塩基の存在下に行なうことが望ましい。この
反応は、通常メタノール、エタノール等のアルコール、
その低反応に悪影響を及ぼさない溶媒等の溶媒中で行な
われる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし室温で反応が行なわれる。

変化する場合があるが、この場合もこの方法に包含され
る。

製造法（２１ 化合物（イ）は、化合物（ｖＩｌをアミノ保護基の導入
反応に付すことにより製造される。

この反応は、慣用きれる方法で行なうことができ、アミ
ノ基に導入されるアミノ保護基がアシル基の場合には、
上記方法１について述べたのと実質的に同様に行なわれ
る。したがって、詳細な説明については方法１の説明を
援用する。

製造法（３） 化合物［Ｘ）は、化合物（ＶＩＱに化合物（１ｘ）を反
応させるつ五等の水素化アルカリ金属、水素化カルシウ
ム等の水素化アルカリ土類金属のような塩基の存在下に
行なわれ、また通常ジメチルホルムアミド、その低反応
に悪影響を及ぼさない溶媒等の溶媒中で行なわれる。反
応温度は特に限定されないが、通常冷却下、室温または
加温下に反応が行なわれる。

製造法（４） 化合物（ｘｌ）は、化合物００に酢酸および／または無
水酢酸のような酸および／または酸無水物を反応式せる
ことによシ製造される。

この反応は、過塩素酸ナトリウム、過よう素酸ナトリウ
ム、過塩素酸カリウム等の過ハロゲン酸アルカリ金属、
過塩素酸マグネシウム、過塩素酸カルシウム等の過塩素
酸アルカリ土類金Ｉｇｅ、およびぎ酸等の有機酸または
塩酸等の無機酸の存在下に行なうのが好ましい。反応温
度は特に限定されないが、通常加温下に反応が行なわれ
る。

製造法（５〕および（７） 製造法（５）および（７）は、製造法（２）および（４
）で説明した慣用方法によって行なわれる。

製造法（５）（（おいて、反応条件により、Ｒｌａを有
４５化合物（Ｘｉ　ａ　）が得られることもあり、凡１
ａの代りに遊離アミノ基を有する化合物（ＸＩ　ｂ　）
が得られることもあるが、これらは、製造法（６］に示
すように、何れも次いで化合物（ＸＩ）との反応により
それぞれ化合物（ｌｌｌａ）−ｉたけＣｌｌ１ｂ）を生
ずる。

製造法（６） 化合物（ＸＵ　）の適当な塩類としては、　塩酸塩等の
無機酸塩、ｐ−）ルエンヌルホン酸塩等の有機酸塩のよ
うな慣用される酸塩が含捷れる。

この反応において、上記化合物（Ｘｒｌ　）の塩類を用
いる場合には、通常水酸化す１−リウム、水酸化カリウ
ム等の水酸化アルカリ金属のような塩基の存在下に反応
が行なわれる。この反応は、通常水、メタノール、エタ
ノール等のアルコール、その他この反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒等の溶媒中で行なわれる。反応温度は特に限
定されないが、通常室温程度の温度で行なわれることが
多い。

製造法（８） 化袷物（ｌ（１）は、化合物（１１０）をヒドロキシ保
護基の導入反応にイ」すことにより製造される。

この反応は、慣用される方法で行なうことができ、ヒド
ロキシ基に導入される保護基がアシル基の場合には、上
記方法１について述べたのと実質的に同様に行なわれる
。導入される保護基がアルＣ低級）アルキ）Ｖ基の場合
、この反応は化合物（１１１０）に式 ％式％） 〔式中、１ｔ２１はア／Ｌ／（低級〕アルキル基、Ｙは
酸残基を意味する〕 で示される化合物を反応させることにより行なわれる。

適当な酸残基としては、塩酸、臭化水素酸等のハロゲン
化水素駿、硫酸のような無機酸、またはメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、ベ
ンゼンヌルホン酸、Ｐ−トルエンスルホン酸等のアレー
ンスルホン酸のような有機酸の残基が含まれる。この反
応は、前述のような塩基の存在下に行なうのが好ましく
、通常ジメチルホルムアミド等の溶媒中で行なわれる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下、室温また
は加温下に反応が行なわれる。

製造法（９） 化合物（ＸＶ　）は、化合物（Ｘ１ｌｌ　）に化合物（
ＸＩＶ　）を反応させることにより製造される。

この反応は、Ｘが酸残基の場合には、方法１で例示した
ような塩基の存在下に行なうのが好捷しく、Ｘがヒドロ
キシ基の場合には、トリフェニルホヌフインとジエチル
アゾホルメートとの反応生成物のような縮合剤の存在下
に行なうのが好ましい。この反応は、通常アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、その
他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒等のような溶媒中
で行なわれる。反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下ないし溶媒の沸点程度の加熱下に反応が行なわれる
。

製造法ＧＯ 化合物（ＸＶＩ　）またはその塩類は、化合物（ＸＶ）
をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造される
。

化合物（ＸＶ　）のアミノ保護基の脱離反応は、上記方
法４について述べたのと同様に行なわれる。適当す溶媒
としては、水、エタノール、クロロホルム、ジエチルエ
ーテル等が含まれる。反応温度は特に限定されないが、
通常加温または加熱下に反応が行なわれる。

この反応において、ｌｔ２の保護されたアミノ基が遊離
アミノ基に変化する場合があるが、この場合もこの方法
に包含される。

製造法ａｎ 化合物（ＸＸ　）　ｔたはその塩類は、化合物（ＸＩＸ
）またはその塩類をアミノ保護基の導入反応に付すこと
により製造される。

この反応は、上記方法１について述べたのと嚢質的に同
様に行なわれる。導入される保護基が低級アルコキシカ
ルボニル基の場合、この反応は化合物（ＸＩＸ　）に式 Ｃ式中、旧２は低級アルコキシカルボニル基、１（１３
はアリール基をそれぞれ意味する） で示される化合物を反応させることにより有利に行なわ
れる。

製造法Ｑり 化合物（ＸＸｒＪ　１またはその塩類は、化合物（ＸＸ
ｌ）またはその塩類をヒドロキシ基土の置換基導入反応
に付すことにより製造される。

導入される置換基が適当な置換基を有していてもよいア
リール基の場合、この反応は化合物（ＸＸｌ）またはそ
の塩類に式 ％式％ （式中、Ｂ１１は適当な置換基を有していてもよいアリ
−）Ｖ基、Ｘ２はハロゲン、ｙは酸残基をそれぞれ意味
する） で示される化合物を反応させることにより行なうことが
できる。適当な酸残基としては、ハロゲン、トノレニン
スルホニルオキシ基、硫、＠残基等が含まレル。この反
応は、通常メタノール、エタノール等のアルコール、水
、それらの混合物、その他この反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒のような溶媒中で、好ましくは塩基の存在下に行
なわれる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下
、室温ないし加温下に行なわれる。

導入される置換基が適当な置換基を有していてもよいシ
クロアルキル基の場合、反応は化合物（ＸＸＩ　）また
はその塩類に式 ％式％） Ｃ式中、几２Ｊは適当な置換基を有していてもよいシク
ロアルキル基を意味し、Ｙは前と同じ意味）で示される
化合物を反応させることにより行なわれる。この反応は
、上記製造法（８）について述べたのと実質的に同様に
行なわれる。

製造法Ｕ 化合物（ＸＸＩＶ　）またはその塩類は、　化合物（（
ＸｘＩＩｌ）またはその塩類を閉環反応にイー１すこと
により製造される。

この反応は、通常メタノール、エタノール等のアルコー
ルのような溶媒中で行なわれる。寸だ、この反応は、硫
酸マグネシウム、無水酢酸等の酸無水物のような脱水剤
の存在下に行なわれる。反応温度は特に限定されないが
、通常加温、加熱下または室温で反応が行なわれる。

製造法０勺 化合物（ＸＸＶＩ　）またはその塩類は、化合物（ＸＸ
Ｖ　）にＫＨ２またはその塩類を反応させることにより
製造される。

１（Ｎ３の適当な塩類としては、アルカリ金属塩が含ま
れる。この反応は、通常水、ジオキサン、これらの混合
物、その他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒等の溶媒
中で行なわれる。反応温度は特に限定されないが、通常
加熱下に行なわれる。

製造法α９ 化合物（ＸＸＶ［ｌ　）−またけその塩類は、化合物（
ＸＸＶＩ　）またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応
に付すことにより製造される。

この反応は、上記方法４について述べたのと実質的に同
様に行なわれる。

製造法０Ｑ 化合物（ＸＸｖＩＩＩ）またはその塩類は、化合物（Ｘ
ｆｆｌ）またはその塩類をアミノ保護基の導入反応に付
すことにより製造される。

この反応は、上記製造法（イ１）について述べたのと実
質的に同様に行なわれる。

この発明の方法において、上記反応および／または後処
理中に、前述の互変異性体が他の瓦間異性体に変化する
場合があるが、この場合もこの発明に包含される。

また、目的化合物（１）の４位が遊離酸の形で得られた
場合および／または目的化合物（幻が遊離アミノ基をも
つ場合、これらは常法により塩類に導くことができる。

この発明の目的化合物（１〕およびその医薬上許容され
る塩類は、すべてすぐれた抗菌活性を有する新規化合物
であり、グラム陽性菌およびグフム陰性閑を含む広範囲
の病原微生物の生育を阻止し、抗菌性物質として有用で
ある。

次に、目的化合物（１）の有用性を示すもために、代表
的な化合物について試験管内抗菌性試験の結〔試験化合
物〕 （ｎ７−（２−シクロペンチルオキシイミノ−２−（５
−アミノ−１，２，４，−チアジアゾール３−イル）ア
セトアミドシー３−セフェム４−カルボン酸（シン異性
体） ＋２１　７−（２−シクロペンチルオキシイミノ−２−
（５−アミノ−１，２，４，−チアジアゾール−３−イ
ル）アセトアミド）−３−（１，３，４−チアジアゾー
ル−２−Ｌ−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）（３）　　７−（２−（２−ジ
クロペンテン−１−イル）オキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアシー／Ｉ／−３−イル）ア
セトアミドシー３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）（４）　’１−（２−（２−シクロペンテン−１
−イル）オキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３−（
１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−
３−セフェム−４，−カルボン酸（シン異性体） ＋５１　７−１：２−（２−シクロヘキセン−１−イル
）オキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾール−３−、イル）アセトアミド〕−３−（１，
３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−
セフェム−４・−カルボン酸（シン異性体） ＋６１　７−Ｃ２−（４−々ロロフエノキシイミノ）−
２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾル−３−イ
ル）アセトアミド）−３−（１，３，４−チアジアゾー
ル−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体） ＋７１７−（２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトア
ミド：］−３−（１−アリル−ＩＨ−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）＋８１　　’ｉ　−〔２−カルボキシメト
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）アセトアミド）−３−（１−（２−
アミノエチル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＋９＋　　７−〔２−（１−カルボキシエトキシイミノ
）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）アセトアミド）−３−〔１（３−アミノプロ
ピル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル〕チオメチルー
３−セフェムー４＝カルボン酸（シン異性体） ｆｌＯ）　　７−　〔２−シクロペンチルオキシイミノ
−２（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）アセトアミド）−３−（テトラシロ〔１，５−ｂ
〕ビリタジン−６−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体） （ＩＩ）　　Ｎ−Ｃ７−（２−シクロペンチルオキシイ
ミノ−２−（５−アミノ−１，２，４噴−チアジアシー
／Ｉ／−３−イル）アセトアミド）−３−セフェム−３
−イルメチル：ｌ：ｌ　　４．１−カルバモイルピリジ
ニウム−４−カルボキシレート（シン異性体） 〔試験方法〕 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内抗菌活性を
測定した。

トリプチケース・ソーイ・ブロス（菌数１０８／ｍ（’
）中で一夜培養した試験菌株の１白金耳を、各濃度ノ試
験化合物を含むハート・インフュージョン・アガー（Ｈ
工寒天）に接種し、３７°Ｃで２０時間培養した後、最
低発育阻止濃度（Ｍ工０）を／１ｙ／ｍｅ単位で測定し
た。

〔試験結果〕

下表の通り。

ｌ　２　〇− この発明の目的化合物（１）を治療の１ゴ的で投与する
にあたっては、上記化合物を主成分として含み、これに
医薬上許容される担体、例えば経口、非経口もしくは外
用に適した有機または無機、固体または液体の賦形薬を
加えて得られる製剤の形で使用することができる。この
ような製剤としては、カプセル、錠剤、顆粒剤、軟膏等
の固体、および液剤、けんだく剤、乳剤等の液体が含ま
れる。さらに、必要に応じて前記製剤中に補助剤、安定
剤、湿潤側もしくは乳化剤、緩衝剤、その他慣用される
添加剤を含有させることができる。

化合物の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種類、化
合物（１）の種類等により異なるが、この発明の目的化
合物（１）を平均１回につき約５　Ｑ　ｍｇ、１００ｍ
ｇ、２５０ｍＦｌまたＩｄ５００ｎｑの爪で投与すれば
、病原微生物による疾病に対して有効であることがｒｉ
ＩＭかめられた。

一般に、１日当りの投与量として、５〃ノ２ないし約ａ
　ｏ　ｏ　ｏ　ｍｙまたはそれ以上の爪を患者に対して
投与することができる。

次に、この発明を製造例、実施例および参考例によって
さらに詳細に説明する。

製造例１ （１）Ｎ−ヒドロキシフタルイミド（８，ｔ５ｇ）、ト
ノエチルアミノ（５，０５ｇ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（６０ｍ１＋　）及び１−ブロモ−２−シクロ
ヘキセン（８，０５ｇ）の混合物を室温で３５時間攪拌
した。反応混合物を水（３００Ｉｄ　）に注ぎ、析出物
を濾取して水とｎ−ヘキサンの順で洗浄した後乾燥する
と、Ｎ−（２−シクロヘキセン−１−イルオキシ）フタ
ルイミド（９，８ｇ　）　、ｍｐ　８７℃が得られた。

１、、Ｒ，（スジ９−ル）　　’　　１７７０．　１７
２０．　１６１０　　ｃｍ’Ｎ、　Ｍ−Ｒ−（ｄｓ−Ｄ
ＭＳＯ９Ｅ　）　’　１．５０−２．１７　＜　６Ｎ１
ｍ）。

４．６０−４．７７　　（ＩＨ，ｍ）、　　５．７３−
６．２７　　（２Ｈ，ｍ）。

７．９０　＜４Ｈ，５） （２）Ｎ−ヒドロキシフタルイミド（５２，１６ｇ　）
、ブロモシクロへブタン（６２，４１ｇ　）　、ジメチ
ルスルホキシド（３８５１１９）及び戻酸カリウム（４
４，１６ｇ）の混合物を７０″Ｃで７４時間攪拌した。

反応混合物を氷冷し、氷水（１，５り中に加えた。析出
物を濾取し氷水で２度洗浄した後乾燥すると、Ｎ−（シ
クロへブチルオキジ）フタルイミド（６３ｇ）、ｍｐ１
１０〜１１２℃が得られた。

Ｎ、　Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　１５７　
（８Ｈ，ｍ＞、　１．９０　（４Ｈ。

ｍ）、　４．２０　（ＩＨ，ｍ＞、　７．９３　（４Ｈ
，５）（３）Ｎ−ヒドロキシフタルイミド（５８，２ｇ
）、１クロロ−２−シクロペンテン（３６，９ｇ）、ト
リエチルアミノ（５３，９ｇ）のアセトニトリル（３７
０ｍ＋１）中の混合物を製造例１−（１）、１−（２）
と同様の方法に従って処理すると、Ｎ−（２−シクロペ
ンテン−１−イルオキシ）フタルイミド（５６，５ｇ）
が得られた。

１、Ｒ（ヌジョール）　　’　　１７８０．　１７３０
．　１６１０　　ｃｍ−１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−Ｄ
ＭＳＯ，δ）　：　７．９２　（４Ｈ，ｓ）、　６．２
８　（ＩＨ。

ｍ）、　６．００　（１８，ｍ＞、　５．４２　（１８
，ｍ）、　２．９−１．９８　（４Ｈ，ｍ） 製造例２ Ｎ−（シクロヘプチルオキシ）フタルイミド（２，５９
ｇ）、ヒドラジン水和物（０，４５ｇ）のエタノール（
１２ｍＱ）中温合物を５分間還流した。反応混合物を冷
却して濾過すると、シクロへブチルオキシアミノを含む
濾液が得られた。

実施例１ （１）Ｎ−（２−シクロペンテン−１−イルオキシ）フ
タルイミド（２２，９ｇ）とヒドラジン水和物（４，７
５ｇ）のエタノール（１１５ｎ＋Ｉｌり中温合物を５分
間攪拌した。反応混合物を濾過し、（２−シクロペンテ
ン−１−イル）オキシアミノを含有する濾液を、２−（
５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）グリオキシル酸ナトリウム（２２，４ｇ）の水溶
液に加えた。混合物を１０％塩酸でｐＨ２とし、２時間
攪拌した後、濃縮した。

濃縮液を１０％塩酸でｐＨ１とし、析出物を濾取乾燥す
ると、２−（２−シクロペンテン−１−イル）オキシイ
ミノ−２−（５−ホルムアミド−１，２゜４−チアジア
ゾール−３−イル）酢酸（シン異性体：２０．Ｏｇ）、
ｍｐ　１５０°Ｃ（分解）が得られた。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　３４００．　３１００
．　１７２０．　１６９０゜１５４０　ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　’　１．８
０−２．５０　（４）１．ｍ）。

５．３０−５．５０　（ＬＨ，ｍ＞、　　５．８３−６
．３０　（２Ｈ，ｍ＞。

８．９０　（ＬＨ，５） （２）Ｎ−（２−シクロヘキセン−１−イルオキシ）フ
タルイミド（７，２９ｇ）、ヒドラジン水和物（１，５
ｇ）のエタノール（４０ｍＱ　）中混液を５分間攪拌し
た。反応混合物を冷却し濾過すると、（２−シクロヘキ
セン−１−イル）オキシアミノ含有濾液（濾液Ａ）が得
られた。他方２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）チオグリオキシル酸のＳ−メ
チルエステル（６，９３ｇ）とＩＮ＊酸化ナトリウム水
溶液（９０ｍ１１）の混合物を室温で３０分間攪拌した
。２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）グリオキシル酸ナトリウムを含む反応混
合物を１０％塩酸でｐＨ７とし、これに濾液Ａを加えた
後、１０％塩酸でｐ）Ｉを３とした。この混合物を室温
で３時間攪拌した。反応混合物を濃縮し、酢酸エチルを
加えた。これに１０％塩酸を加えてｐＨ１とし、析出物
を濾取すると、２−（２−シクロヘキセン−１−イル）
オキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−１，２，４−
チアジアゾール−３〜イル）酢酸（シン異性体：２．５
ｇ）が得られた。他方酢酸エチル層を濾液かも分離し蒸
発乾燥した。

残渣をジエチルエーテルで処理して粉末化すると、同一
目的物質（１，５ｇ）が得られた。総収量：　４．Ｏｇ
、　ｍｐ１９０〜１９２℃（分解）。

１、Ｒ，（スジミール）　　：　　３５５０．　３４０
０．　３２００．　２５００．　１６９０゜１５９０、
１５４０　ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　１．５
−２．３　（６Ｈ，ｍ）、　４．７３−５．０　（ＩＨ
，ｍ）、　５．７６−６．２３　＜２Ｈ，ｍ）、　８．
９７（ＩＨ，ｓ）、　　１３．６０　（ＩＨ，ｂｒｏａ
ｄ　５）（３）水酸化ナトリウム（１１，２ｇ　）の水
（１４０＋ｎＱ）溶液に、２−（５−ホルムアミド−１
，２，４−チアジアゾール−３−イル）チオグリオキシ
ル酸のＳ−メチルエステル（２７ｇ）を１０℃で加えた
。この混合物を２０°Ｃで３０分攪拌した。２−（５−
ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル
）グリオキシル酸ナトリウム含有反応混合物を冷却し、
１０％塩酸でｐＨ７に調整した後、これにシクロペンチ
ルオキシアミノ（１５，３ｇ）のエタノール（１５０ｍ
Ｑ　）溶液を加えた。この混合物を１０％塩酸でｐＨ３
とし、１．５時間攪拌した。反応混合物を戻酸水素ナト
リウム水溶液でｐ）１７に調整し、エタノールを留去し
た。残渣を酢酸エチルで洗浄した。水層に酢酸エチルを
加え、１０％塩酸でｐＨ１に調整した。析出物を濾取す
ると、２−シクロペンチルオキシイミノ−２−（５−ホ
ルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）
酢酸（シン異性体：３．９９ｇ）が得られた。濾液を酢
酸エチルで抽出し、抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し
た後濃縮した。析出物を濾取し、濾取してジエチルエー
テルで洗浄すると、同一の目的物質（８，１ｇ）が得ら
れた。総収量：　１２．（１９ｇ　ＳｍｐＬ８０〜１１
３５”ｃ（分解）。

１、Ｒ，（ｘジａ−ル）　　：　　３１３０．　３０４
０．　２６８０．　２６１０．　２５２０゜１７２０、
１６９０．１６６０．１６００゜１５５０　ａｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ　６−ＤＭＳＯ，δ　ン　　：　
　１．３３−２．１０　　（８Ｈ，ｍ＞。

４．６７−５．０　（１）１．ｍ）、　８．８８　（Ｌ
Ｈ，ｓ）、　１３．５０（ＬＨ，ｓ） ＜４）実施例１（１）〜（３）と同様の方法に従って次
の化合物を製造した。

２−シクロへブチルオキシイミノ−２−（５−ホルムア
ミド−１，２，４−チアジアゾール−３イル）酢酸（シ
ン異性体）。

Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　１．５
０　（８）１．ｍ＞、　１．８０　（４）１゜ｒｎ’）
、　４．３７　（ＩＨ，ｍ＞、　８．８１　（ＩＨ，ｓ
）、　９．８８（ＬＨ，ｓ） 実施例２ ２−（２−シクロペンテン−１−イル）オキシイミノ−
２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）酢酸（シン異性体：２０、Ｏｇ）とＩＮ水
酸化ナトリウム水溶液（２００眠）の混合物を５０〜５
５°Ｃで１時間攪拌した。反応混合物を冷却し、１０％
塩酸でｐＨ７にした後、酢酸エチルを加え、更に１０％
塩酸でｐＨ１にしてから酢酸エチルで抽出した。抽出液
を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後溶媒を留去した。残渣をジイソプロピル
エーテルで処理して粉末化すると、２〜（２−シクロペ
ンテン−１−イル）オキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異
性体）　（１４，０ｇ　）、ｍｐ１５０°Ｃ（分解）が
得られた。

１、Ｒ，（スジミール）　　：　　３３００．　３１５
０．　１７１０．　１６２０゜１５２０ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　’　１．８０
−２．５０　＜４Ｈ，ｍ）。

５．３０−５．５０　（ＬＨ，ｍ）、　　５．８３−６
．３０　（２Ｈ，ｍ）。

８．２０　（２Ｈ，ｓ） 実施例３ 実施例２と同様の方法に従って下記の化合物を製造した
。

（１）２−（２−シクロヘキセン−１−イル）オキシイ
ミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）酢酸（シン異性体）、叩１７３℃。

１、Ｌ（スジミール）　　：　　３４００．　３３００
．　３２００．　１７２０．　１６２０゜１６００、１
５２０　ａｍ−１ Ｎ−Ｍ−Ｒ８（ｄ６−ＤＭＳＯｌＥ　）　’　１．５０
−２．１７　（６Ｈ９ｍ）　。

４．５３−４．８３　（ＩＨ，ｍ）、　　５．５７−６
．１３　（２Ｈ，ｍ＞。

８．１８　　（２）１．５） （２）　２−シクロペンチルオキシイミノ−２−（５ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（
シン異性体）、ｍｐ　１６０−１６５°Ｃ（分解〉。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４７０．　３２９
０．　３２００．　２４００．　１７１５゜１６１５、
１６００．１５２０　ｃｍ−１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６
−ＤＭＳＯ，δ）　’　１．１７−２．１０　（８Ｈ，
ｍ＞。

４．６０−４．９７　（ＩＨ，ｍ）、　８．２２　（２
Ｈ，５）（３）２−シクロへブチルオキシイミノ−２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル
）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１１６−１１９°Ｃ（分
解）。

１、Ｒ，（ヌジ日−ル）　　：　　３２５０．　３２０
０．　１６５０．　１６００．　１５２０゜１４００、
１２６０．１１５０．１０００．８２０゜７２０　ｃｍ
−’ 製造例３ （１）臭化テトラブチルアンモニウム（３，２２ｇ）と
塩化メチレンｃ　ｓｏｏｍＱ）の混合物にクロロ義酸エ
チル（１０８，５ｇ　）を−２０℃で加え、更に−１０
〜−１３℃で１５分間を要してシアノ化ナトリウム（４
９ｇ）の水（２００ｎＱ　）溶液を加えた後、−１３°
Ｃで１分間攪拌した。有機層を反応混合物から分離し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後、室温まで暖めた。塩化
メチレン層を傾しゃ法によって分離し、不溶物を塩化メ
チレンで洗浄した。塩化メチレン層を合しく　３７０１
１１Ｑ　）、常圧下に蒸留すると、シアノ義酸エチル含
有溶液（３３５ｎＱ　）がｂｐ　４２〜１１７℃で得ら
れた。

（２）塩化水素（３２，５ｇ）のエタノール（３４，５
ｇ）溶液を一１０°Ｃに冷却し、製造例３（１）で得た
シアノ義酸エチル含有溶液（３３５ｒｎＱ）を予め一１
０℃に冷却したものに加えた。得られた溶液を一５〜５
℃で６時間攪拌し、−１０°Ｃに冷却した後、塩化メチ
レン（４００ｍＥｌ　）を加えた。この混合物に、トリ
エチルアミノ（８５，８ｇ）、塩化メチレン（８０ｍ１
１　）及び水（２００ｍ１１　）の混合溶液を一５〜０
°Ｃで滴下した。

塩化メチレン層を分離し、水（２００ｎＱ　ｘ　２　）
で洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
すると、７８８％の２−イミノ−２−エトキシ酢酸エチ
ルを含む生成物（１１２ｇ）が得られた。本品を蒸留法
で精製するとｂｐ　８０〜ｂ純品が得られた。

（３〉２−イミノ−２−エトキシ酢酸エチル（純度７８
．８％：６０ｇ）と塩化アンモニウム（１７，４ｇ）の
メタノール（１８０ｍｇ、）との混合物を室温で攪拌し
、−１５〜−１０℃に冷却した。１−メトキシカルボニ
ルホルムアミジン塩酸塩を含む混合物に１０分を要して
臭素（５１２ｇ）を滴下し、更に３０分を要してトリエ
チルアミノ（７１，１ｇ）更に３０分を要してチオシア
ノ酸カリウム（３１，０ｇ）のメタノール（１５ｏｍｕ
　）溶液を夫々加えた。反応混合物を−１０〜−５°Ｃ
で１５分、０〜５℃で更に１．５時間攪拌した。

析出物を濾取し、メタノールで洗浄した後、冷水（２０
０ｍＪｌ　）を加えた。混合物を攪拌し、析出物を濾取
して冷水で洗浄後乾燥すると、５−アミノ１．２．４−
チアジアゾール−３−カルボン酸メチル（３２，５ｇ）
が得られた。

（４）シアノ義酸エチル（２５，０ｇ）の塩化メチレン
（５ｇｍｕ　）溶液に塩化水素（１５，８ｇ　）　（７
）４３．５％エタノール性溶液を３°Ｃで攪拌しながら
加え、３〜５°Ｃで５時間攪拌した後、−５〜−３°Ｃ
で一夜放置した。生成混合物に６°Ｃ以下で塩化メチレ
ン（１２０ｎＱ）を加え、更に６℃以下でトリエチルア
ミノ（２０，２ｇ　）の塩化メチレン（２０１ｎＱ　）
溶液を３０分かかって加えた。この混合物を４０分攪拌
し、６°Ｃ以下で水（４０ｍ１ｌ　）を追加した。生成
混合物を３分間攪拌し、塩化メチレン層を分離して硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去した。ジイソプ
ロピルエーテル（４０ｍｆｌ　）を残渣に加え、不溶物
を濾去した後、ジイソプロピルエーテル（１０ｍＱ　）
で洗浄した。母液と洗液を合し、溶媒を留去すると、淡
黄色消状の２−イミノ−２−エトキシ酢酸エチル（２６
，２ｇ）が得られた。この油状物（２６，２ｇ）に塩化
アンモニウム（６，４ｇｇ）とメタノール（９０ｍＱ　
）を加えた混合物を室温で２時間攪拌し、ジイソプロピ
ルエーテル（４５０ｎＱ）を加えた。混合物を氷冷し、
３０分攪拌した。析出物を濾取すると、白色粉末状の１
−メトキシカルボニルホルムアミジン塩酸塩（１３，８
ｇ）、ｍｐ　１５０〜１５５℃（分解）が得られた。

１　Ｒ１（ヌ九−ル）　　：　　３３５０−３０５０．
　１７８０．　１７１０．　１６９５゜１２９０，１２
７０．１０７０，９８０゜８００　ｃｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　３．９
７　（３）１．ｓ）、　９．８　（４）１゜ｂｒｏａｄ
　５） （５）１−メトキシカルボニルホルムアミジン塩酸塩（
７，６ｇ）のメタノール（５５１ｄ　）溶液に、〜５〜
０°Ｃで５分間を要して臭素（８，８ｇ）を滴下した。

これにトリエチルアミノ（ｔｔ、ｔｇ）を、１０分を要
して加え、更にチオシアノ酸カリウム（５，３ｇ）のメ
タノール（３０１１Ｑ　）溶液を、２０分を要して加え
た。反応混合物を０〜５°Ｃで１．５時間攪拌し、析出
物を濾取してメタノール（ＩＩＩＩＩＱ）で洗浄した後
乾燥し、水（１５，５１１ｕ　）を加えた。この混合物
を３０分攪拌し、析出物を濾取して３回水洗（５載ずつ
）して乾燥すると、白色粉末状の５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール−３−カルボン酸メチル（６，３ｇ
）が得られた。

（６）２−イミノ−２−エトキシ酢酸エチル（３６２ｇ
）、臭化アンモニウム（２ｔ、２ｇ）、メタノール（１
８０ｍ１＋　）の混合物を室温で４時間攪拌し、攪拌を
続けながらジイソプロピルエーテル（４００ｍＱ　）を
加えた。混合物を３０分放置し、沈殿物を濾去した。濾
液にジイソプロピルエーテル（２００ｍＱ　）　’？：
加え、１０分放置した。析出物を濾取すると白色粉末状
の１−メトキシカルボニルホルムアミジン臭化水素酸塩
（１６，１ｇ）が得られた。一方濾液を約１５０１１１
９まで濃縮し、ジイソプロピルエーテル（２０〇−）を
加えて３０分放置した。析出物を濾取すると、白色粉末
状の同一物質（１１，６ｇ）が得られた。総収量：２７
．７ｇ。

１、Ｒ，（メタノール）　　：　　３３５０−３１５０
．　１７８０．　１７１０．　１６９０゜１２９０、１
２７０．１０６０．９８０．８５０゜８００、７３０　
ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　３．９
１　（３Ｈ，ｓ）、　１１．０　（４）１、ｂｒｏａｄ
　５） （７）２−イミノ−２−エトキシ酢酸エチル（１８，１
ｇ）、塩化アンモニウム（５，８ｇ）をエタノール（９
０１ｎｌｌ）に加えた混合物を室温で６時間攪拌した。

不溶物を濾去し、母液をエタノールで洗浄した。濾液と
洗液を合わせ溶媒を留去した。残留油状物にアセトン（
５０＋ｎＱ　）を加えた。析出物を濾取し、アセトンで
２回（各１０戚）洗浄すると白色粉末状の１−エトキシ
カルボニルホルムアミジン塩酸塩（ｔ、ｚｇ）が得られ
た。濾液と混液を合わせ、蒸発乾燥した。残渣をアセト
ンで処理して粉末化した後濾過し、アセトン、塩化メチ
レン、ジイソプロピルエーテルの順で洗浄すると白色粉
末状の同一物質（７，３ｇ）が得られた。総収量二８５
ｇ　＠ １、Ｒ，（メタノール）　：　　３４００−３１００．
　１７７０．　１７３０−１６８０゜１６５０、１３０
０−１２６０．１１２０．１０１０゜８６０、７６０　
ｃｍ”−１ 製造例４ ５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３カルボン
酸メチルの製造 １−ニドキシカルボニルホルムアミジン臭化水素酸塩（
１６，６ｇ　）の無水メタノール（８４ｍＱ　）溶液に
ナトリウム（１，９３ｇ）の無水メタノール（４２ｍＲ
）溶液をＯ″Ｃに加えた。この混合物に、臭素（１２，
８ｇ　）と、ナトリウム（１，９３ｇ）の無水メタノー
ル（４２１１１１１）溶液を０℃で交互に加え、生成し
た懸濁液にチオシアノ酸カリウム（８，１ｇ）の無水メ
タノール（１０ＱＩｎＱ　）溶液を加え、０°Ｃで１時
間攪拌し、更に室温で６時間攪拌した。この混合物をセ
ルロース粉末で濾過し、濾液を蒸発乾燥きせた。残渣を
酢酸エチルと水の混合物に溶解し、酢酸エチル層を分離
して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を蒸発し、
残渣をジエチルエーテルで処理して結晶化すると表題の
化合物（９，０ｇ　）　、ｍ９２０２〜２０５℃が得ら
れた。

１、Ｒ，（メタノール）　　：　　３４００．　３２５
０．　３１００．　１７１０．　１６１０゜１５４０　
ａｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ、−ＤＭＳＯ） ｆ；　　：３．８５　（３Ｈ，ｓ）、　８．２５　（２
Ｈ，ｓ）製造例５ ５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−
カルボン酸メチルの製造 義酸（３３ｇ）と無水酢酸（２２ｇ）の混合物に、５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−力ルボン酸
メチル（６，２ｇ）を加え、室温で２日間攪拌した。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残渣をジエチルエーテルと
ｎ−ヘキサンの混合物で処理して結晶化きせると、表題
の化合物（７，ｚｇ）ｍｐ２１０〜２１５℃が得られた
。

１、Ｒ，（ヌジョール）　　＝　３１００．　１７２０
．　１６８０　　ｃｍ−１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−Ｄ
ＭＳＯ＞ δ　：　３．９０　（３）１．ｓ）、　８．８５　（Ｌ
Ｈ，ｓ）製造例６ ５−ホルムアミド−３−（２−メチルチオ−２メチルス
ルフイニルアセチル）−１，２，４−チアジアゾールの
製造 ５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−
カルボン酸メチル（９，２ｇ）とメチルメチルチオメチ
ルスルホキシド（６，１ｇ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド（１００ｍＱ　）に加えた混合物を水浴中で冷却
しておきながら、５０％水素化ナトリウム（７，１ｇ）
を加えた。得られた混合物を室温で１時間、更に４０℃
で１時間夫々攪拌した。室温まで冷却した反応混合物に
、塩化メチレン（３００ｍＱ　）を加え、生成した沈殿
物を濾取して塩化メチレンで洗浄した。他方塩酸（１４
，７ｍＱ　）、氷水（２０〇−）及び塩化メチレンＣ２
００ｍＡ　）の混合物を攪拌しておき、これに上記の沈
殿物を加えた。不溶物を濾去し、塩化メチレン層を分離
して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られる残渣をジエチルエーテルで処理して結晶化する
と、表題の化合物（４，５ｇ）、ｍｐ　１３０〜１３２
℃が得られた。

１、Ｒ，（スジシール）　　’　　３１００．　１６８
０．　１６７０　　ａｍ−１Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭ
ＳＯ） ”　　’　”２２）　（３）１，２ｓ）２．２８ ２°６８）　（２Ｈ，２ｓ） ５°７０）　（ＩＨ，２ｓ） ５．８０ ８．８６　　　（ＬＨ，ｓ） 製造例７ （５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）チオグリオキシル酸Ｓ−メチルエステルの製造 ５−ホルムアミド−３−（２−メチルチオ−２メチルス
ルフイニルアセチル）−１，２，４−チアジアゾール（
０，８５ｇ）と過沃素酸ナトリウム（０，２ｇ）を氷酢
酸（１０ｍＱ　）に加えた混合物を７０°Ｃで４５分攪
拌した。反応混合物から溶媒を留去し、残渣を酢酸エチ
ルと水の混合物に溶解した。

この混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７
とし、チオ硫酸ナトリウムの水溶液で処理した。有機層
を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留
去した。残渣をジエチルエーテルと石油エーテルの混合
物で処理して結晶化すると、表題の化合物（２８０ｍｇ
）　、ｍｐ　１８６−１８７°Ｃが得られた。

１、Ｒ，（スジ３−ル）　　：　　３１００．　１６８
０．　１６６０　　ａｍ−’Ｎ、Ｍ、’Ｒ，（九−ＤＭ
ＳＯ） δ　：　２．５５　（３Ｈ，ｓ）、　８．９５　（ＩＨ
，ｓ）実施例４ ５−ホルムアミド−３−（２−メチルチオ−２メチルス
ルフイニルアセチル）−１，２，４チアジアゾール（１
０ｇ）と過沃素酸ナトリウム（２，０ｇ）を氷酢酸（５
０ｍＮ　）に加えた混合物を、７０°Ｃで５０分攪拌し
た。溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄した。残
渣にＩＮ水酸化ナトリウム水溶液（１６０ｍｆｌ　）を
加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物にＯ−アリル
ヒドロキシルアミノ塩酸塩（４，３１ｇ）を加え、１０
％塩酸でｐＨ３〜４に調整した。不溶物を濾去した後、
濾液を酢酸エチルで洗浄し、１０％塩酸でｐＨ１にｉｌ
ｌ！Ｉ１．シてから酢酸エチルで抽出した。抽出液を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発乾燥した。ジ
エチルエーテルとジイソプロピルエーテルの混合物で残
渣を処理して粉末化すると、２−アリルオキジイミノ−
２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）酢酸（シン異性体、５．６ｇ）、ｍｐ　１
６９〜１７２°Ｃ（分解）が得られた。

１、Ｒ，（ヌジョール）　　：　３１３０．　２５００
．　１７２０．　１６９０．　１５９０゜１５５０ｃｍ
−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） ｌ；　　：　４．７９　（２Ｈ，ｄ、Ｊ：６Ｈｚ）、　
　５．１−５．６　（２Ｈ。

ｍ）、　　５．８−６．４　（１Ｍ、ｍ）、　　８．８
８　（ＬＨ，ｓ）実施例５ 実施例４と同様の方法によって下記の化合物を得た。

（１）　２−ベンジルオキシイミノ−２−（５−ホルム
アミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸
（シン異性体）、ｍｐ９０〜９５℃（分解）。

１、Ｒ，（スジジール）　　：　　１７２０．　１６８
０．　１５９０．　１５５０゜１５３０　ｃｍ”” Ｎ、Ｍ、Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ） １；　　：　５．２８　（２Ｈ，ｓ）、　７．３７　（
５）１．ｓ）。

８．８３　（１）１，５） （２）２−（２−プロピニルオキシイミノ）−２−（５
−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール３−イル
）酢酸（シン異性体）　、ｍｐ　１５０〜１５５”Ｃ（
分解）。

１、Ｒ，（スジジール）　　：　　３５７０．　３３６
０．　３２６０．　３１２０．　１７２０゜１６７０、
１５５０．１５３０　ｃｍ−’Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６
−ＤＭＳＯ） δ　：　３．５５　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ＞、　４．
８８　（２ＨｄＪ＝２Ｈｚ）、　８．８５　（ＬＨ，５
）（３）２−（２−フェノキシエトキシイミノ）−２−
（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１４７〜１５０”
Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（Ｘジａ−４＞　　’　　３２００．　１７４
０．　１７２０．　１６４０．　１５９０゜１５３０ｃ
ｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ＞ ８　　　：　　４．０−４．７　　（４Ｈ，ｍ＞、　　
６．７−７．５　　（５Ｈ，ｍ）８．８３　（ＩＨ，５
） （４）　２−ヒドロキシイミノ−２−（５−ホルムアミ
ド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シ
ン異性体）、ｍｐ　２４０〜２４１°Ｃ（分解）。

１、Ｒ１（スジョール）　　：　　３５５０．　３４６
０．　１６６５．　１６３５１５６０　ａｍ’ 実施例６ （５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）チオグリオキシル厳ｓ−メチルエステル（６，
６４ｇ）をＩＮ水酸化ナトリウム水溶液（８ＱｍＱ　）
に溶解し、次に１０％塩酸でｐＨ８，５に１１Ｉ粧した
後室温で３０分攪拌した。他方Ｎ−（２，２，２一トリ
フルオロエトキシ）フタルイミド（８，７８ｇ）とヒド
ラジン水和物（１，７ｇ）のエタノール（４０１１Ｑ　
）との混合物を５分間攪拌し、次いで水浴中で冷却した
。析出物を濾去し、濾液をエタノールで洗浄した。濾液
と洗液を合わせ、０−（２゜２．２−トリフルオロエチ
ル）ヒドロキシルアミノを含有するこの混合液を、上記
水性溶液に加えた。１０％塩酸で混合物のｐＨを３〜４
に調整し、室温で１．５時間攪拌した。この溶液を炭酸
水素ナトノウム水溶液で中和し、真空中で半量になる迄
濃縮した後、酢酸エチルで洗浄した。水性溶液を１０％
塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発乾燥せしめた後
の残渣をジイソプロピルエーテルで処理して結晶化する
と、２−（２，２，２−トリフルオロエトキシイミノ）
−２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）酢酸（シン異性体、２．４６ｇ）、ｍｐ
　１８０〜１８５°Ｃ（分解）が得られた。

Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（九−ＤＭＳＯ） Ｅ　　：　　４．８０　ａｎｄ　５．０７　（２Ｈ，Ａ
ＢｑＪ＝９）１ｚ）。

８．８５　（ＩＨ，ｓ） 実施例７ 実施例６と同様の方法によって下記の化合物を得た。

（１）２−メチルチオメトキシイミノ−２−（５−ホル
ムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢
酸（シン異性体）、ｍｐ　１４６〜１４８°Ｃ（分解）
。

１、Ｒ，（スジ３−ル）　　：　　３３００．　２６０
０．　２５５０．　１７３０．　１７０５゜１６８０、
１６００．１５３０　ａｍ”−１Ｎ、Ｍ、Ｒ，（九−Ｄ
ＭＳＯ） δ　：　　２．２３　（３Ｈ，ｓ）、　　５．４０　（
２Ｈ，ｓ）、　　８．８７（ＬＨ，５） （２）２−（２−メチルチオエトキシイミノ）−２（５
−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）酢酸（シン異性体）。

１、Ｒ（スジ９−ル）　　：　　３２３０．　１７２０
．　１６９０．　１５９０゜１５２０　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） Ｓ　　：　　２．１７　　（３Ｈ，ｓ）、　　２．８２
　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７）１ｚ）。

４．４２　＜２８．ｔ、Ｊ＝７）１ｚ）、　　８．８７
　（ＬＨ，５）（３）　２−フェノキシイミノ−２−（
５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１４５−１４７°Ｃ
（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　５ｔ３ｏ、　　１７
２０．　１６９０．　１５８５゜１５５００ｍ１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） ８　　：　　７．０−７．６　（５Ｈ，ｍ）、　　８．
８８　（ＩＨ，５）（４）２−［２−（２−へキシルオ
キジエトキシ）エトキシイミノ］−２−（５−ホルムア
ミド１．２．４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シ
ン異性体）。

１、Ｒ，（ＣＨＣＬ３）　：　３４２０．３１８０．１
７４０．１７００．１６００゜１５３０、１４６０　ｃ
ｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（九−ＤＭＳＯ＞ δ　：　　０．８７　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　
０．８７−１．７３（８Ｈ，ｍ）、　　３．２０−３．
９０　　＜８８．ｍ＞、　　４．２３−４．５３　（２
Ｈ，ｍ）、　８．８４　（ＬＨ，ｓ）、　１３．５５（
ＬＨ，ｂｒｏａｄ　５） （５）２−トリチルオキジイミノ−２−（５−ホルムア
ミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（
アンチ異性体）、ｍｐ１８８〜１９０’Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３１５０．　１６２
０．　１６００．　１５４０　　ｃｍ−ＩＮ、　Ｍ、　
Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） δ　：　７．００　（１５Ｈ，ｓ）、　−８，９２（Ｉ
Ｈ，ｓ）実施例８ （５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）チオグリオキシル酸Ｓ−メチルエステル（６ｇ
）と水酸化ナトリウム（４，２ｇ）の水（５０ｍｆｌ　
）溶液との混合物を５０〜５５°Ｃで１時間攪拌した。

反応終了後室温まで冷却し、１０％塩酸でｐＨ７に調整
した。他方Ｎ−（エトキシカルボニルメトキシ）フタル
イミド（１２，９ｇ）とヒドラジン水和物（２，０８ｇ
）をエタノール（６０１１１１１）に加えた混合物を５
分間加熱還流し、水浴中で冷却した。

析出沈殿を濾去し、濾液をエタノールで洗浄した。濾液
と洗液を合わせ、ｏ−（エトキシカルボニルメチル）ヒ
ドロキシルアミノを含むこの液を上記の水溶液に加えた
。この混合物を１０％塩酸でｐＨ３〜４とし、室温で１
．５時間攪拌した。この溶液を次酸水素ナトリウム水溶
液で中和し、減圧下に半量になる迄減圧濃縮し酢酸エチ
ルで洗浄した。この水溶液を１０％塩酸で酸性とし、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した後、残渣をジイソプロピルエーテル
で処理して結晶化すると、２−エトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）酢酸（シン異性体、１．８ｇ）、ｍ
ｐ　１３５〜１４０°Ｃ（分解）を得た。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３５００．　３３３
０．　３２１０．　２６７０．　２５５０゜１７４０、
１６１０．１５４０　ａｍ’Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−
ＤＭＳＯ） ８　　：　１．２４　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　
４．１４　（２Ｈ，ｑ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．８０　（２）１．ｓ）、　８．１
５　（２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　ｓ） 実施例９ 実施例８と同様の方法によって下記の化合物を得た。

（１）２−シアノメトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異
性体）、ｍｐ　１３０〜１３５℃（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３３５０．　３１５
０．　１７３０．　１６３０゜１５４０　ａｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） Ｓ　　：　５．１７　（２Ｈ，ｓ＞、　８．２８　（２
Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（２）２−（１−エトキシカルボ
ニル−１−メチルエトキシイミノ）−２−（５−アミノ
−１，２゜４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン
異性体）、ｍｐ　１６５〜１６８°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（Ｘジ１−Ａ）　　：　　３４５０．　３３５
０．　３２４０．　１７５０．　１７３０゜１６３０、
１５３０　ｃｒｎ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） １；　　：　１’、１８　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７）１ｚ）
、　１．５０　（６Ｈ，ｓ）。

４．１５　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　８．２３　（
２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　ｓ） （３）　２−　（Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイルメトキ
シイミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、琴１５０〜１
５５℃（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３４００．　３１５
０．　１７４５．　１６３５．　１６１０゜１５９５、
１５３５　ｃｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） Ｓ：　１．０３　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．１
０　（３）１．ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．２８　（４Ｈ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ＞
。

４．９０　（２）１．ｓ）、　８．２３　（２Ｈ，ｂｒ
ｏａｄ　５）（４）２−メシルメトキシイミノ−２−（
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）
酢酸（シン異性体）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４５０．　３４０
０．　３２７０．　２６００．　２４６０゜１７３５、
１６４０．１６２０．１５３０　ｃｍ−ＩＮ、　Ｍ、Ｒ
，（ｄ６−ＤＭＳＯ） ８　　：　３．００　（３Ｈ，ｓ）、　５．３８　（２
８，ｓ）、　８．２２（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ） 実施例１０ 実施例２と同様の方法によって下記の化合物を得た。

（１）２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１
，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性
体）、ｍｐ　９３〜９５℃（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４３０．　３１０
０．　１７１０．　１６１５゜１５２５　ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） ８　　：　４．７２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　５
．１−５．５　（２Ｈ。

ｍ）、　５．７−６．３　（ＬＨ，ｍ）、　８．１７　
（１Ｍ。

ｂｒｏａｄ　５） （２）２−ヘンシルオキシイミノ−２−（５−アミノ−
１２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性
体）、ｍｐ　１５８〜１６０°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　３４３０．　３３８０
．　３２６０．　１７３０．　１６４０゜１６１０、１
５３５０ｍ　Ｉ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（九−ＤＭＳＯ） Ｅ　　：　５．２２　（２Ｈ，ｓ）、　７．３３　（５
Ｈ，ｓ）、　８．１７（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　　ｓ） （３）２−（２−プロピニルオキシイミノ）−２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢
酸（シン異性体）、ｍｐ　１５５−１５７°Ｃ（分解）
。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３５００．　３３１
０．　３１６０．　２６００．　２４８０１７４５、１
６１０．１５３５　ｃｍ−１Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭ
ＳＯ） Ｅ　　　：　　３．５３　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２）１ｚ
）、　　４．８７　　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ）、　８．２３　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）
（４）２−（２−フェノキシエトキシイミノ）−２−（
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）
酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１５０〜１５３°Ｃ（分解
）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４７０．　３３０
０．　３１５０．　２５５０．　１７５０゜１６２０、
１６００．１５４０．１５００　ｃｍ　ＩＮ、　Ｍ、　
Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） δ　：　４．０−４．７　（４Ｈ，ｍ）、　６．７−７
．５　（５Ｈ，ｍ）。

８’、２０　　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　　５）（５）　２
−　（２，２，２−トリフルオロエトキシイミノ）−２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ１４０〜１４３°Ｃ（分
解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４５０．　３３５
０．　３２６０．　１７４５．　１６７０゜１６４５、
１６１５．１５１５　ｃｍ−１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（九−
ＤＭＳＯ） ｌ；　　：　４．７２　ａｎｄ　４．９５　（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ、Ｊ＝９Ｈｚ＞。

８．２５　（２）１．ｂｒｏａｄ　５）（６）２−メチ
ルチオメトキシイミノ−２−（５アミノ−１，２，４−
チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ
　１４０〜１４３°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３５００．　３３０
０．　３１５０．　２６７０．　２５８０゜１７４０．
１６１５．１６０５．１５３０　ａｍ’Ｎ、　Ｍ、　Ｒ
，（ｄ６−ＤＭＳＯ） δ　：　２．２２　（３）１．ｓ）、　５．３３　（２
Ｈ，ｓ）、　８．２０（２Ｍ、ｂｒｏａｄ　ｓ） ＜７）２−（２−メチルチオエトキシイミノ）−２−（
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール３−イル）酢
酸（シン異性体）、ｍｐ　１４０〜１４３℃（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４３０．　３３４
０．　３２３０．　２６５０．　２４５０１７２０、１
６１０．１５２０　ｃｍ−１Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭ
ＳＯ＞ δ　：　２．０８　（３Ｈ，ｓ）、　　２．７２　＜２
）１．ｔ、Ｃ７）１ｚ）。

４．２８　（２Ｈ，ｔ、ｃ７Ｈｚ）、　　８．１７　（
２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　５） （８）２−フェノキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体
）、ｍｐ　１４５−１４７’Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジミール）　　：　　３３５０．　３１７
０．　２５００．　１７３０．　１７１０゜１６４５、
１６３０．１５９５．１５３５　ｃｍ−１Ｎ、　Ｍ、　
Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） １；　　：　７．０−７．５　（５Ｍ、ｍ）、　　８．
３０　（２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　５） （９）２−［２−（２−ヘキシルオキシエトキシ）エト
キシイミノコ−２−（５−アミノ−１，２゜４−チアジ
アゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）。

１、Ｒ，（ＣＨＣＬ３）　：　３３５０．３２３０．２
６００．２５００．１７３０゜１６２０、１５２０．１
４６０　ａｍ　１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） ｆ；　　：　　０．８７　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、
　　０．８７−１．７３（８Ｈ，ｍ）、　　３．２０−
３．９０　（８Ｈ，ｍ）、　　４．１３−４．４７　（
２Ｈ，ｍ）、　　８．１７　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）
（１０）　２−トリチルオキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シ
ン異性体）、ｍｐ　１７３〜１７４℃（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４５０．　１７３
５．　１６２０．　１５４０　　ｃｍ−’Ｎ、　Ｍ、　
Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ） δ　：　７．３５　（１５Ｈ，ｓ）、　８．２２　（２
Ｈ，５）（１１）１１リチル才キシイミノー２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸
（アンチ異性体）、ｍｐ　１７０〜１７１℃。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３３００．　３１５
０．　１６８０．　１６３５゜１５２０　ｃｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，’（ｄ６−ＤＭＳＯ＞ δ　：　　７．３３　（１５Ｈ，ｓ）、　　８．１３　
　（２）！、ｓ）実施例１１ ２−ヒドロキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体
、３．３ｇ）とジクロロ酢酸クロリド（９，０ｇ）を塩
化メチレン（５ｏｍＱ）に加えた混合物を室温で６．５
時間攪拌した。析出物を濾取し、酢酸エチルに溶解した
。不溶物を濾去した後、母液を蒸発乾燥した。残渣をジ
イソプロピルエーテルで処理して結晶化させると、２−
ジクロロアセトキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−
１，２゜４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異
性体、２．３ｇ）、ｍｐ　１２３°Ｃが得られた。

１、Ｒ，（スジョール）　　’　　３１５０．　１７９
０．　１６９０．　１５５０　　ａｍ’実施例１２ ２−ヒドロキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体
、９．５ｇ）とジメチルホルムアミド（ｓｏｍＱ）の混
合物に、室温攪拌下塩化トリチル（２２，８ｇ）を加え
、３分間攪拌した後、トリエチルアミノ（４，１ｇ）を
徐々に加えた。得られた混合物を１０分間攪拌し、酢酸
エチル（２５０ｎｌＱ　）を追加した。この混合物を水
で３回洗浄し、塩化ナトノウム飽和水溶液で洗浄した後
、硫謙マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣に炭酸水
素ナトリウム水溶液（５０ｍＡ　）とジイソプロピルエ
ーテル（１００ｍｕ　）を加えた。析出物を濾取し、母
液中の水層部分を分離した。析出物を集めて上記の水層
中に懸濁させ、酢酸エチルを追加した。１０％塩酸を加
えてｐＨ２とし、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣をヘキ
サンで洗浄すると、２−トリチルオキシイミノ−２−（
５−ホルムアミド−１，２゜４−チアジアゾール−３−
イル）酢酸（シン異性体、１７．１ｇ）、ｍｐ　１７５
〜１７６°Ｃ（分解）が得られた。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３１８０．　３０７
０．　１７００．　１６００゜１５４０　ｃｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ＞ Ｅ　　：　７．３５　＜１５Ｈ，ｓ）、　８．８３　（
ＩＨ，ｓ）、　１３．５２（ＬＨ，ｂｒｏａｄ　ｓ） 製造例８ よう素（７，７ｇ）および濃硫酸（７０ｍＡ　）の溶液
に、よう素酸カリウム（２０，０ｇ）を攪拌下室温で加
え、混合物を３５ないし４０°Ｃで１．５時間攪拌する
。

無水酢酸（３０１１９）を１０°Ｃ以下で０．５時間を
要して加え、次いで１．２−ジクロロベンゼン（４４，
６９ｇ）を１０℃以下で０．５時間を要して加える。混
合物を同温度で１時間攪拌し、次いで室温で１９時間攪
拌する。反応混合物を氷水（５００１１ＬＱ　）中に注
入し、ジエチルエーテルで洗浄する。水層に塩化ナトリ
ウム（８，９ｇ）水溶液（５０ｍＵ　）を加え、沈殿を
濾取し、氷水で洗浄すると、ｍｐ　１８３〜１８６°Ｃ
（分解）の３．４．３’、４’−テトラクロロジフェニ
ルヨウドニウムクロライド（５８ｇ）を得る。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　１５５５．　１４５０
．　１２５０．　１２１０．　１１７（＋。

１１２５、１０３０　ｃｍ’ １、Ｒ，（スジ９−ル）　　：　　３６００−３２００
．　１６００．　１４２０．　１３２０゜１３１０、　
１１９０．　１１７０，１１２０，１０９５゜１０８５
、　１０５５．　８００．　７００゜６８５ｃｍ″１ （２）３．３’　−ジカルボキシジフェニルヨードニウ
ムブロマイド １、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４００．　１７０
０．　１２９０．　１２５０、１２１０゜１１７０、１
０５０．７５０　ａｍ　’（３）３．３’　−ジ（エト
キシカルボニル）ジフェニルヨードニウムブロマイド　
ｍｐ　１５４〜１５７℃。

１、Ｒ，（ヌ九−ル）　　：　　１７３０．　１２９５
．　１２８０．　１２５５．　１１１０゜ＬＯ２０，７
５０ｃｍ−’ 製造例９ 製造例８と同様にして次の化合物を得た。

（１）３．３’　−ジ（トリフルオロメチル）ジフェニ
ルヨードニウムクロライド 製造例１０ 製造例１−＜１）および１−＜２）と同様にして次の化
合物を得た。

（１）Ｎ−（３−フタルイミドプロポキシ）フタルイ　
ミ　ド、ｍ９１６３〜１７０℃。

１、Ｒ，（スジョール）　　’：　　１７９０．　１７
７０．　１７３（１，１７１０，１３９０゜１０６０、
７２５．７０５　ａｍ”” （２）Ｎ−（１−シクロへキシルオキシカルボニルエト
キシ）フタルイミド、ｍｐ　５０〜５４℃。

Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄｓ−ＤＭＳＯ，δ）　：　１．５
１　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７）１ｚ）。

０．９−２．１　（１０Ｈ，＋＋＋）、　４．７　（Ｌ
Ｈ，ｍ）、　４．８２（１）１．ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　
　７．８７　　（４Ｈ，５）（３）Ｎ−（α−第３級ブ
トキシカルボニルベンジルオキシ）フタルイミド。

＜４）Ｎ−（１−第３級ブトキシカルボニル−２−メチ
ルプロポキシ）フタルイミド。ｍｐ　８４〜８７℃。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　１７９０．　１７３
０．　１３６０．　１１６０．　１１４０゜１０００、
８８０．７８０．７００　ａｍ−１（５）Ｎ−（１−第
３級プトキシ力ルポニルプロボキシ）フタルイミド、ｍ
ｐ　４９〜５２℃。

Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄｓ−ＤＭＳＯ，δ）　：　１．０
２　＜３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．４０　（９Ｈ，ｓ＞、　１９（２Ｈ，ｍ＞、　４．
５５　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝６）１ｚ）、　７．８２　＜４Ｈ，ｓ）＜６）Ｎ−
（１−第３級ブトキシカルボニルエトキシ）フタルイミ
ド、ｍｐ　８０〜８２℃。

Ｎ、Ｍ−Ｒｏ（ｄｓ−ＤＭＳＯ９ｌ；　）　’　１．４
２　（９Ｈ１ｓ）、１４８　（３）１゜ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ
）、　４．７２　＜ＩＨ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．８
６（４Ｈ，５） （７）Ｎ−（１−第３級ブトキシカルボニル−１〜メチ
ルエトキン）フタルイミド、ｍｐ　９６〜１００℃。

Ｎ、　Ｍ、　Ｒ１（ｄｓ−ＤＭＳＯｌｌ；　）　’　１
．４２　（９）１．　ｓ）、１　、４８　（６Ｈ。

ｓ）、　７．８７　（４）１，５） （８）Ｎ−（１−ブトキシカルボニルエトキシタルイミ
ド、ｍｐ４Ｂ−５３°Ｃ。

Ｉ　Ｒ．（スジ３−ル）　　：　　１７５５，　　１７
２０，　　１２１０，　　１１４０，　　１１１０。

１０Ｂ０．　８７５，　６９５　ｃｍ’（９）Ｎ−（１
−ベンジルオキシカルボニルエトキシ）フタルイミド、
ｍｐ　６５〜６８℃。

１、Ｒ．（スジョール）　　：　　１７９０，　　１７
４０，　　１４５０，　　１２１０．　　１１９０。

１１１０、　１０８０，　９８０．　８８０，　７３５
。

７００　ａｍ−１ （１０）　Ｎ−　（　２−オキソ−３−テトラヒドロフ
リルオキシ）フタルイミド、ｍｐ　１４０−１４２°Ｃ
１、Ｒ．（スジョール）　　：　　１７８５，　　１７
６０．　　１７２０，　　１６０５，　　１２１５。

１１８５、　８７０，　６９５　ｃｍ−１製造例１１ 製造例２と同様にして次の化合物を得た。

（１）３−アミノプロポキシアミノジ塩酸塩Ｎ、　Ｍ、
　Ｒ，（Ｄ２０．δ）　’　２．２０　（２Ｈ，ｍ）、
　３．２７　（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．３３　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）
（２）　　１−フェニルエトキシアミノ（３）１−第３
級ブトキシカルボニル−２−メチルプロポキシアミノ （４）α−第３級ブトキシカルボニルベンジルオキシア
ミノ （５）１−ブトキシカルボニルエトキシアミノ実施例１
３ 実施例８と同様にして次の化合物を得た。

（１）２−（第３級ブトキシカルボニルメトキシイミノ
）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１５０〜１５５
°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　（３４２０，３２３０，３
１００，１７２５，１６１０゜１５３０　ｃｍ　’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−九、　ｌ；　）　：　１
．４５　（９Ｈ，ｓ）、　４．７０　（２Ｈ。

ｓ）、　８．１２　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（２）２
−（１−シクロヘキシルオキシカルボニルエトキシイミ
ノ）−２−（５−アミノ−１，２゜４−チアジアゾール
−３−イル）酢酸（シン異性体）。ｍｐ　１７５〜１８
０″Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジａ−Ｊ　　：　　３３ｇ０．　３２６０
．　３１７０．　１７２０．　１６１０゜１５２０、１
２２０．９９０．７１０　ｃｍ−’Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ６
−ＤＩ（Ｓｏ、δ）　’　０．９−２．１　（１３８，
ｍ）、　４．７（ＬＨ，ｍ）、　　４．８５　　（ＩＨ
，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　８．１３　　（２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　５） （３）２−（チオラン−１，１−ジオキサイド−３−イ
ルオキシイミノ）−２−（５−アミノ−１゜２．４−チ
アジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）ｍｐ２０
０〜２０５℃（分解）。

１、Ｒ，（Ｘジａ−ル）　　：　　３３００．　１７２
０．　１６２０．　１５３０　　ｃｍ−ＩＮ、Ｍ、Ｒ，
（ｄ　−ＤＭＳＯ，Ｅ　）　：　２．２０−２．ＥｉＯ
（２Ｈ，ｍ）、　３、ｏ。

−３，５０（４Ｈ，ｍ）、　５．００−５．２７　（Ｉ
Ｈ，ｍ）、　８．２０（２Ｈ，５） （４）２−（α〜第３級ブトキシカルボニルベンジルオ
キシイミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４チアジア
ゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）　　ｍｐ　１５
５−１６０°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３４４０．　３３５
０．　３２５０．　１７５０．　１７３０゜１６４０、
１５３５ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ５δ）　：Ｌ３７　（
９Ｈ，ｓ）、　５．６７　（ＬＨ。

ｓ）、　７．４５　（５Ｈ，ｓ）、　８．２５　（２Ｈ
，ｂｒｏａｄ　５）（５）２−（１−第３級ブトキシカ
ルボニル−２−メチルプロポキシイミノ）−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸
（シン異性体）　　ｍｐ　１５８〜１６２°Ｃ（分解）
。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３６００．　３４０
０．　１７４０．　１７２０゜１６３０　ａｍ−１ Ｎ　、　Ｍ、　Ｒ１（ｄａ−ＤＭＳｏ、８　）　’　ｏ
、　９５　（６Ｈ１ｄ７Ｊ＝７Ｈｚ　＞。

１．８−２．４　（ＩＨ，ｍ）、　４．３３　（ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

８．１３　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５） （６）２−（１−第３級プトキシ力ルポニルプロボキシ
イミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−３−イル）酢酸（シン異性体）ｍｐ　１５２〜１
５５℃（分解）。

Ｎ−Ｍ−Ｒ−（ｄｓ−ＤＭＳｏ、８　）　’　ｏ、　９
４　（３Ｈ９ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ　＞。

１．４２　＜９Ｈ，ｓ）、　　１．８０　　（２Ｈ，ｍ
）、　　４．５１　　（ＬＨ，ｔ。

Ｊ＝６Ｈ２）、８゜１６　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（
７）２−（１−第３級ブトキシカルボニルエトキシイミ
ノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）酢酸（シン異性体）、−１５５〜１５６℃
（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３４００．　３３０
０．　３２００．　１７２０．　１７１０゜１６２０、
１５２０　ａｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ−＜ｄ６−ＤＭＳＯｌｌ；　）　：Ｌ２
−１−７　（１２Ｈ１ｍ）、４．７２（ＬＨ，ｑ、Ｊ＝
７Ｈｚ）、　８．２　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（８）
２−（１−第３級ブトキシカルボニル−１−メチルエト
キシイミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１８
０〜１８１°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，’（スジシール）　　：　　３４００．　３３
００．　３２００．　１７４５．　１７１５゜１ｆｔ３
０．１５３０　ｃｍ−’ Ｎ、Ｍ、Ｒ−（ｄｓ−ＤＭＳＯｌＳ）　：ｉ、　３８　
（９Ｈ１ｓ）、１．４３　（６Ｈ１ｓ）、　８．１５　
（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（９）２−（１−ブトキシカ
ルボニルエトキシイミノ）−２−（５−アミノ−１，２
，４−チアジアソール−３−イル）酢酸（シン異性体）
、ｍｐ　１２０〜１２３°Ｃ（分解）。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　３４００．　３３００
．　３２００．　１７２５、１６１５゜１５１０、１４
１０．１２１０．１１７０．１１３５゜１１００、１０
４０．９９０．８７０ ７２０　ｃｍ”” Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（［）ＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　０．
８５　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝６）１ｚ）。

１．４３　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　　１．０−１
．７　（４Ｈ，ｍ＞。

４．１２　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ＞、　　４．８５　
（ＩＨ，Ｑ、Ｊ＝７）１ｚ）。

８．０４　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５） （１０）２−（１−ベンジルオキシカルボニルエトキシ
イミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−３−イル）酢酸（シン異性体）ｍｐ　１２９〜１
３３℃（分解）。

１、Ｒ，’（スジａ−ル）　　：　　３３００．　３２
００．　１７２０．　１６２０゜１５３０ｃｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　１．４５　
（３８，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

４．９７　（１８，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　５．１８　（
２Ｈ，ｓ）、　７．３１（５Ｈ，ｓ）、　８．１７　（
２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ）実施例１４ 実施例６と同様にして次の化合物を得た。

（１）２−（チオラン−１，１−シオキサイド−３イル
オキシイミノ）−２−（５−ホルムアミド１．２．４−
チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ
　２１４°Ｃ（分解）。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　３２００．　１７２０
．　１６８０．　１６００゜１５３０ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　２．３
０−２．５０　（２Ｍ、ｍ＞。

２．９０−３．８３　（４Ｈ，ｍ）、　５．１０−５．
５０　（ＬＨ，ｍ）。

８．９２　　（ＬＨ，ｓ＞ （２）２−（１−フェニルエトキシイミノ）−２−（５
−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１７４〜１７５℃（分
解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３１００．　１７２
０．　１６９０．　１５５０　　ｃｍ　　’Ｎ、Ｍ、Ｒ
，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ　）　　：　　１．５８　　（
３）１．ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

５．４４　＜ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　７．３２　（
５Ｈ，ｍ）、　８．７８（１）１．ｍ）、　　１３．３
４　　（１）１．ｂｒｏａｄ　　ｓ）実施例１５ 実施例６と同様にして製造した２−（３−アミノプロポ
キシイミノ）−２−（５−ホルムアミド−１，２，４−
チアジアゾール−３−イル）酢酸ナトリウム（シン異性
体）を含む水溶液に、トリエチルアミノ（２０ｇ）およ
び２−第３級ブトキシカルボニルオキシイミノ−２−フ
ェニルアセトニドノル（２７ｇ）とジオキサン（２７０
＋１１１　）の溶液を滴下し、混合物を室温で２時間攪
拌する。ジオキサンを留去した後、水層を１０％塩酸で
ｐＨ６に調整し、酢酸エチルで洗浄する。水層に酢酸エ
チルを加え、混合物を１０％塩酸でｐＨ３に調整する。

有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
濃縮乾固する。残留物をジイソプロピルエーテル中です
りつぶすと、ｍｐＨ５〜１１７°Ｃ（分解）の２−［３
−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルアミノ）プロボキシ
イミノコ−２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チア
ジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）　（１４，
２ｇ　）を得る。

１、Ｒ，（スジ９−ル）　　：　　３３２０．　３１５
０．　１７４０．　１６８０．　１５６（１−１５３０
、１４００，１２３０，１１４０，１０４０１０３０、
８９０ｃｍ’ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ　　ｌ；　）　：　１．４
７　（９Ｈ，ｓ）、　１．９７　（２Ｈ。

６′ ｍ）、　３．１０　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．
３０　（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　　８．８０　（ＩＨ，ｓ）実施例１６ 実施例４および１５と同様にして次の化合物を得た。

（１）２−［２−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルアミ
ノ）エトキシイミノ］−２−’（５−ポルムアミド−１
，２，４−チアジアゾール−３〜イル）酢酸（シン異性
体）、ｍｐ　１３９〜１５４℃（分解）１、Ｒ，（Ｘジ
＊−ル）　　’　　３４００．　３１５０．　１７４８
．　１７００．　１６９０゜１５４０　ａｍ　Ｉ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ６＋Ｄ２０．δ）　：
　１．４５　（９Ｈ，ｓ）、　３．４０（２Ｈ，ｔＪ＝
６Ｈｚ）、　　　４．３２　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ
う、８．０７（ＬＨ，５） （ｚ）２−［：４−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルア
ミノメチル）ベンジルオキシイミノ−２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン
異性体）。

１．Ｒ，（ヌンヨール）　　：　　３３００、３１５０
．　１７００　　ｃｍ　　−１Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６．δ）　’　１．６５　（９Ｈ１ｓ）、　４
．１２　（２Ｈ。

ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　５．１９　（２Ｈ，ｓ）、　
７．２１　（４Ｈ，ｓ）実施例１７ 実施例２と同様にして次の化合物を得た。

（１）２−［２−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルアミ
ノ）エトキシイミノコ−２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍ
ｐ　１７２〜１７７°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３３００．　３１４
０．　１７３８．　１６８０．　１６２８゜１５９５、
１５５０．１５２７．１２８５．１２４５゜１１６５、
１１２０　ａｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ６＋Ｄ２０．δ）　’
　１．４２　（９Ｍ、ｓ）、　３．３５（２Ｈ，ｔ、、
Ｃ６Ｈｚ）、　４．２２　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）（
２）２−［３−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルアミノ
）プロポキシイミノ］−２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）。

１、Ｒ，（スジジール）　　：　　３３００、３１５０
．　２６００−２４００．　１７２０１６６０、　１６
２０．　１５３０．　１２５０．　１１６０゜１０３０
、７２０　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−九、δ）　：Ｃ３３（９
Ｈ，ｓ）、　１．８２　（２Ｈ。

ｍ）、　　３．０３　　（２）１．ｍ）、　　４．１７
　　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ＞。

６．７３　（ＬＨ，ｂｒｏａｄ　ｓ）、８．１３　（２
Ｈ，ｂｒｏａｄ　５）（３）２−（４−クロロフェノキ
シイミノ）−２−（５−アミノ−１，，２，４−チアジ
アゾール−３イル）酢酸（シン異性体）　、ｍｐ　１５
０　１５５℃（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３３００．　３２０
０．　１７１０．　１６４０．　１５８０゜１５３０　
ｃｍ’ Ｎ０Ｍ、ＲくＤＭＳＯ−ｄ６．Ｓ　）　：　７．３７　
（２Ｈ１ｄ、Ｊ＝９Ｈ２）。

７．６７　　（２）１．ｄ、Ｊ二９Ｈｚ＞、　　８．５
０　　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　　５）（４）２−（４−フ
ルオロフェノキシイミノ）−２（５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍ
ｐ　１４０〜１４５°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　３４５０．　３３００
．　３２００．　１７３０．　１６３０゜１５３０、１
５００　ｃｍ　’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　’　７．１
７　＜２）！、ｓ）、　７．２７　（２Ｈ。

ｓ）、　　８．２７　（２Ｈ，５） （５）２−［１−第３級ブトキシカルボニル−１シクロ
ペンチルオキシイミノ−２−（５−アミノ１．２．４−
チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ
　１７４−１７５°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３４００．　３３０
０．　３２００．　１７４５．　１７１５゜１６３０、
１５３０　ｃｍ−’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：　１．３
７　（９Ｈ，ｓ）、　１．６５　＜４）１゜ｍ）、　１
．９７　（４Ｈ，ｍ）、　８．１７　（２）１．ｂｒｏ
ａｄ　５）（６）２−（１−フェニルエトキシイミノ）
−２（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３イ
ル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１０３〜１０７°Ｃ（
分解）。

工、Ｒ，（７，ジａ−４）　　：　　３２５０．　３１
５０．　１７１０．　１６１０゜１５２０　ａｍ　Ｉ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　：Ｃ５７（
３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ＞。

５．４２　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　７．４０　
（５Ｈ，ｍ）、　　８．２０（２Ｈ，ｍ） 実施例１８ ２−ヒドロキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−１２
，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）
（７，２ｇ）、とメタノール（８３，７ｍＱ　）および
ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液（８３，７−）から製した
含水メタノール性水酸化ナトリウムとの溶液に、４．４
’　−ジフルオロジフェニルヨードニウムクロライド（
ｔｌ、８ｇ）を加え、混合物を室温で１時間攪拌する。

生成する油状物を傾斜で除き、溶液を減圧濃縮してメタ
ノールを除く。水溶液を１０％塩酸で酸性にし、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮乾固する。残留物をジイソプロピルエーテ
ル中ですりつぶすと、ｍｐ　１３０〜１３５℃（分解）
の２−（４−フルオロフェノキシイミノ）−２−（５−
ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル
）酢酸（シン異性体）（６，０ｇ）を得る。

１、Ｒ，（スジョール）　　：　　３１００．　３０５
０．　１７３０．　１６９０．　１５３０゜１５００ｃ
ｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　’　７．１
７　（２Ｈ，ｓ）、　７．２７　（２Ｈ。

ｓ）、　　８．８３　（ＩＨ，ｓ）、　　１３．４３　
（ＩＨ，ｓ）実施例１９ 実施例１８と同様にして次の化合物を得た。

（１）２−（４−クロロフェノキシイミノ）−２−（５
−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１５５〜１６０’ｃ（
分解）。

１、Ｒ，（スジタール）　　：　　３１８０．　１７２
５．　１６９０．　１５８０゜１５３０　ｃｍ’ Ｎ　、　Ｍ、　Ｒ、（ＤＭＳＯ−ｄ　ａ　、８　）　’
　７．３０　（２Ｈ、ｄ　、Ｊ　＝９Ｈｚ　＞　。

７．５７　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ＞、　　９．０　　
（ＬＨ，５）（２）２−（２−メトキシ−５−ニトロフ
ェノキシイミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍ２１
２５〜１２８℃（分解）。

１、Ｒ，（スジタール）　　：　　３４００．　３２８
０．　１７４０．　１７２０．　１６９０゜１６３０、
１５９０．１５１０．１３４０．１２７５゜９７０、７
２０　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　３．９
３　（３Ｈ，ｓ）、　７．２７　（ＬＨ。

ｄ、Ｊ−８Ｈｚ＞、　　８．０１　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）、　　８．０７（ＬＨ，ｓ）、　　８．３０　
　（２）１．ｂｒｏａｄ　　ｓ）実施例２０ 実施例１２と同様にして次の化合物を得た。

２−（１−第３級ブトキシカルボニル−１−シクロペン
チルオキシイミノ）−２−（５−ホルムアミド−１，２
，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）
、ｍｐ　１４０〜１４１°Ｃ（分解）。

Ｉ　Ｒ１（スジタール）　　：　　３５５０．　１７３
０．　１６７０．　１５５０．　１５４０゜１２８０、
１２５５．１１５０．９８０゜７２０　ｃｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　１．４
８　＜９）［、ｓ）、　１．８３　（４Ｈ。

ｍ）、　２．０３　（４Ｈ，ｍ）、　８．８７　（１）
１．ｓ）、　１３．６（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　ｓ） 実施例２１ 実施例１８において、原料化合物として実施例２と同様
にして製造した２−ヒドロキシイミノ−２（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３イル）酢酸（シン異
性体）を用い、同様に操作して次の化合物を得た。

＜１）２−（ｏおよびｐ−トリルオキシイミノ）−２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール３−イル）
酢酸（シン異性体） Ｎ、　Ｍ、　Ｒ−（ｄｓ−ＤＭＳＯｌＥ　）　’　２．
２０　（ＩＨ−ｓ）、２．２７　＜２）１゜ｓ）、　６
．９７−７．４３　（４）１．ｍ＞、　８．３３　（２
Ｈ，ｂｓ）（２）２−（３，４−ジクロロフェノキシイ
ミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル３−イル）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１７７〜１７
８℃。

１、Ｒ，（スジタール）　　：　　３３００．　１７１
０．　１６２５．　１５８５．　１５３０゜１３００、
１２１０．１１２０．９８０　ｃｍ−ＩＮ、　Ｍ、　Ｒ
，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　６．８３−７．７３　
（３Ｈ，ｍ）、　８．３８（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　５） （３）２−（３−トリフルオロメチルフェノキシイミノ
）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）酢酸（シン異性体）ｍｐ　１６７〜１６８℃
（分解）。

１、Ｒ，（スジタール’）　　＝　３２５０．　１６４
５．　１６２０．　１５９０．　１４５０゜１３２０、
１１７０．１１４０．１０１０．９９５゜８４５、７３
０　ｃｍ　’ Ｎ、　Ｍ、Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　’　７．６３
　（４Ｈ，ｍ）、　８．４４　（２Ｈ。

ｂｒｏａｄ　５） （４）２−（３−エトキシカルボニルフェノキシイミノ ゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）ｍｐ　１６１〜
１６４℃（分解）。

１、Ｒ．（スジタール）　　；　　３４００，　　３３
００．　　３１Ｂ０．　　１７５５，　　１７２０。

１６９０、　１６３０．　１５９０，　１５４５．　１
４１０。

１２９０、　１２７５．　９７０，　９００。

７５５　ｏｍ”−’ Ｎ．　Ｍ．　Ｒ．　（ＤＭＳＯ−ｄｓ，δ）　：　１．
３６　（３Ｈ，ｔＪ＝７）１ｚ）。

４、４０　（１２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．４−８
．０　（３）１，ｍ）。

８、５　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ） （５）２−（３−カルボキシフェノキシイミノ）−２−
（５−アミノ−１，２．４−チアジアゾール−３−イル
）酢酸（シン異性体）、ｍｐ　１８６〜１８８°Ｃ（分
解）。

１、Ｒ．（スジタール）　　’：　　３４２０，　　３
１５０，　　１７３５，　　１６９０，　　１６２０。

１５８０、　１２６５，　１２００，　１０００，　９
８０。

７６０　ｃｍ−１ Ｎ、　Ｍ、Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ＞　’　７．３−
８．０　（４Ｈ，ｍ）、　８．３０（２Ｈ，ｂｒｏａｄ
　５） （６）２−フェノキシイミノ−２−（５−アミノ１．２
．４−チアジアゾール−３−イル）−酢酸（シン異性体
）、ｍｐ　１４５−１４７°Ｃ（分解）。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３３５０．　３１７
０．　２５００．　１７３０．　１７１０゜１５４５、
１６３０．１５９５．１５３５　ａｍ’Ｎ、　Ｍ、Ｒ（
ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　）　’　７．０−７．５　（５Ｈ
１ｍ＞　、８．３０（２Ｍ、ｂｒｏａｄ　ｓ） 実施例２２ （５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）チオグリオキシル酸Ｓ−メチルエステル（６４
，ｇｇ）と、Ｎ−（２−才キソー３−テトラヒドロフリ
ルオキシ）フタルイミド（６５，０ｇ）を濃塩酸（５（
＋ｍ１１）および水（２００１１１Ｑ　）と１時間加熱
還流して製造した１−カルボキシ−３−ヒドロキシプロ
ポキシアミノとを、実施例８と同様に処理すると、ｍｐ
　１８６〜１８８℃（分解）の２−（１−カルボキシ−
３−ヒドロキシプロポキシイミノ）−２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン
異性体）　（３３，２ｇ）を得る。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３４００．　３２５
０．　３１００．　１７１０．　１６２０１５４０　ｃ
ｍ’ Ｎ、　Ｍ、　Ｒ，（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８＞　’　１．７
３−２．１０　（２Ｈ１ｍ＞、３．５０（２）１．ｔｊ
−６Ｈｚ）、　　４．７３　（１）！、ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ
）、　　８．１３（２）１．ｓ） 実施例２３ ２−（１−カルボキシ−３−ヒドロキシプロポキシイミ
ノ）−２−＝（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）酢酸（シン異性体）（３３，０ｇ）およ
びメタノール（２，８４りの溶液に、無水硫酸マグネシ
ウム（１２０ｇ）および無水酢酸（６０ｇ）を加える。

混合物を室温で３０分間攪拌し、濾過し、濾液を濃縮乾
固する。残留物をアセトン（ｚｏｏｍｕ　）中ですりつ
ぶし、酢酸エチル（１りを加える。混合物を室温で１時
間攪拌し、沈殿を濾取し、酢酸エチルで洗浄する。沈殿
を水（２００ｍＱ　）に溶かし、酢酸エチ、Ｌ　（５０
０ｍ１ｌ　）、アセトン（２ｏｏｍＱ）および６Ｎ塩酸
（４０ｍ１１　）を加え１８〇− −１８す る。有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出する。有
機層を合わせ、無水マグネシウムで乾燥し、濃縮乾固す
る。残留物をジエチルエーテル中ですりつぶし、濾取し
、ジイソプロピルエーテルで洗浄すると、ｍｐ　１８５
〜１８７℃（分解）の２−（２−才キソー３−テトラヒ
ドロフリルオキシイミノ）−２−（５−アミノ−１，２
，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体）
　（２６，５ｇ）を得る。

１、Ｒ，（スジシール）　　：　　３４００．　３３０
０．　３２００．　１７７５．　１７３０゜１６４０、
１６０５．１５３５　ｃｍ−’Ｎ、　Ｍ、　Ｒ（ｄｓ−
ＤＭＳＯｌｌ；　）　’　２．２７−２．７０　（２Ｈ
１ｍ＞　、４．１７−４．５０　（２）１．ｍ）、　５
．２７　（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ＞、　８．２２（２Ｈ
，ｓ） 参考例１ ５塩化燐（４５０ｍｇ）の塩化メチレン（１０畝）冷溶
液に、２−（４−クロロフェノキシイミノ）２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）酢酸
（シン異性体：　６５０ｍｇ）を−１５°Ｃで加え、同
温度で３０分攪拌した。他方７−アミノ３−（１，３，
４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（７８５ｍｇ）とトリメチルシリ
ルアセトアミド（２，１ｇ）を塩化メチレン（１０ｍＱ
　）に加えた混合物を加温して澄明液とし、−２０℃に
冷却した。この溶液を一２０℃で上記の活性溶液に加え
、−１５°Ｃで４０分攪拌した。反応混合物を災酸水素
ナトリウム冷水溶液（２０ｍＱ　）に注ぎ、室温で３０
分攪拌した。塩化メチレンを留去し、残留水溶液に酢酸
エチルを加えた。この混合物を１０％塩酸でｐ）１３〜
４に調整してから酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸
マグネシウムで乾燥し、活性羨で処理した後溶媒を留去
した。残渣をジエチルエーテルで処理して溶解し、アセ
トンとジエチルエーテルの混液を加えて再沈殿した。析
出物を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解し、１０％塩酸
でｐＨ１〜２にすると沈殿が得られた。これを濾取水洗
すると、７−［２−（４クロロフエノキシイミノ）−２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）アセトアミトコ−３−（１，３，４−チアジアゾー
ル−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体：０．３５ｇ）、ｍｐ　１５０〜１５
５℃（分解）が得られた。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　３３００．　３２００
．　１７７０．　１６７０．　１６２０゜１５２０　ｃ
ｍ−１ Ｎ、Ｍ、Ｒ，（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）　’　３．６７　
（２）１．ｂｒｏａｄ　ｓ）。

４２７および４．５０　（２）１．ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）。

５．１７　（１）１．、ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞、　５．８０
　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および８）１ｚ）、　７．００
−７．５０　（４Ｈ，ｍ）、　８．２２（２Ｈ，ｓ）、
　９．５０　（ＬＨ，ｓ）、　９．８０　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） 参考例２ ジメチルホルムアミド（６ｍＱ）とオキシ塩化燐（＋ｎ
ｓｍｇ）の混合物を室温で３０分攪拌した。これに塩化
メチレン（６１＋１１１）を加え、更に２−ジクロロア
セトキシイミノ−２−（５−ホルムアミド−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）酢酸（シン異性体、１．
６ｇ）を−２０〜−２５°Ｃを加えた。この混合物を−
１０〜−１５℃で３０分攪拌した。この混合物に、７−
アミノ−３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イル
）チオメチル−３−セフェム−４力ルボンＭ（２，０ｇ
）とトリメチルシリルアセトアミド（６ｇ）の塩化メチ
レン（３０１１１Ｑ　）溶液を−５〜−１５℃で加えた
。反応混合物から塩化メチレンを留去し、残渣に氷水と
酸ｍエチルを加えた。

７−［２−ジクロロアセトキシイミノ−２−（５−ホル
ムアミド−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）ア
セトアミド］−３−（１，３，４−チアジアゾール−２
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）を含む混合物を、炭酸水素ナトリウム水溶
液でｐＨ５とし、水層を分離して酢酸エチルを加えた。

この混合物に１０％塩酸を加えてｐ）１２とし、不溶物
を濾去した。濾液を酢酸エチルで３回抽出し、抽出液を
硫酸マグネシウムで乾燥した後、蒸発乾燥した。残渣を
ジエチルエーテルで処理し、結晶化したものをジエチル
エーテルで洗浄すると、７−［２−ヒドロキシイミノ−
２−（５−ホルムアミド−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）アセトアミド］−３−（１，３，４−チア
ジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフェムー４
−カルボン酸（シン異性体、０．９ｇ）、ｍｐ　１５５
〜１６０℃（分解）が得られた。

１、Ｒ（スジョール）　　：　　３２００．　１７８０
．　１６８０．　１６２０　　ｃｍ−’Ｎ、Ｍ、Ｒ，（
ｄ６−ＤＭＳＯ，Ｓ　）　：　３．６７　（２Ｈ，ｂｒ
ｏａｄ　ｓ）。

４．２７および４．７３　（２）１．ＡＢｑ、Ｊ＝１３
Ｈｚ）。

５．１３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞、　　５．８３　
（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および８Ｈｚ）、　８．８０　（
ＩＨ，Ｓ）、　９．５０　（ＩＨ，ｄ。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基、または保護されたアミノ基
   、Ｘ＾１はカルボニル基、または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２は水素、アシル基、適当な置換基を有し
   ていてもよいアリール基、適当な置換基を有する低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、適当
   な置換基を有していてもよいシクロアルキル基、シクロ
   （低級）アルケニル基、またはオキソで置換されたＳも
   しくはＯ含有５員複素環式基を意味する）で示される基
   をそれぞれ意味する］ で示されるチアジアゾール酢酸誘導体およびそのカルボ
   キシ基における反応性誘導体並びにそれらの塩類。
2. （２）Ｒ＾１がアミノ基であり、Ｘ＾１がカルボニル基
   である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
3. （３）Ｘ＾１が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
4. （４）シン異性体である特許請求の範囲第３項記載の化
   合物。
5. （５）Ｒ＾１がアミノ基であり、Ｒ＾２が水素、ハロ（
   低級）アルカノイル基、ハロゲン：低級アルコキシ：ニ
   トロ：ハロ（低級）アルキルおよび保護されたカルボキ
   シから選ばれた１ないし３個の置換基を有していてもよ
   いアリール基、アル（低級）アルキル基、低級アルキル
   チオ（低級）アルキル基、ハロ（低級）アルキル基、ア
   リールオキシ（低級）アルキル基、シアノ（低級）アル
   キル基、保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、ジ
   （低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキル基、低
   級アルコキシ（低級）アルコキシ（低級）アルキル基、
   低級アルカンスルホニル（低級）アルキル基、保護され
   たアミノ（低級）アルキル基、アミノ（低級）アルキル
   基、カルボキシ（低級）アルキル基、保護されたカルボ
   キシで置換されたアル（低級）アルキル基、カルボキシ
   で置換されたアル（低級）アルキル基、保護されたアミ
   ノ（低級）アルキルで置換されたアル（低級）アルキル
   基、アミノ（低級）アルキルで置換されたアル（低級）
   アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、カ
   ルボキシまたは保護されたカルボキシで置換されていて
   もよいシクロアルキル基、シクロ（低級）アルケニル基
   、２個のオキソで置換されたチオラニル基、またはオキ
   ソで置換されたテトラヒドロフリル基である特許請求の
   範囲第４項記載の化合物。