JPH022240B2 - - Google Patents

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JPH022240B2
JPH022240B2 JP20424581A JP20424581A JPH022240B2 JP H022240 B2 JPH022240 B2 JP H022240B2 JP 20424581 A JP20424581 A JP 20424581A JP 20424581 A JP20424581 A JP 20424581A JP H022240 B2 JPH022240 B2 JP H022240B2
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JP
Japan
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output
circuit
memory
signal
level
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JP20424581A
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Hiroshi Iwahashi
Kyobumi Ochii
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase the reliability, by obtaining a binary output without flowing a current at all times to a nonvolatile storage element even in case a normal circuit is faulty, by providing the nonvolatile storage element, a switching element and a contol means which controls the switching element. CONSTITUTION:The gate of an MOSFETQE1 is turned on by the program signal P level 1, and a large current flows to a fuse element F. Thus the element F is fused. If a power supply VD is applied under such conditions, the output of an inverter I1 is set at level 1. Then an MOSFETQE2 is turned on, and the signal of an output terminal Out is set at level 0. On the other hand, when the element F is not fused, the output of the I1 is set at level 0 and the MOSFETQE2 is cut off with the application of the VD. In this case, a current is not supplied at all times to the element F to avoid the misfusing. Thus the reliability is increased for a semiconductor integrated circuit.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 この発明は正規回路が不具合な場合に予備回路
に切換えることのできる冗長性機能を持つた半導
体集積回路において、正規回路が不具合な場合に
予備回路に切換える際の切換制御信号として用い
られる信号を発生する半導体集積回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] Technical Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a redundancy function capable of switching to a backup circuit when the regular circuit is defective. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit that generates a signal used as a switching control signal.

発明の技術的背景 最近、半導体集積回路、特に半導体メモリにお
いては、正規のメモリセル回路と予備のメモリセ
ル回路を予め形成しておき、製造時に正規のメモ
リセル回路内に不良ビツトがあつた場合にはこの
不良ビツト部分を予備のメモリセル回路に置き換
えて使用するような冗長性機能を持つたものが増
加している。これは、正規のメモリセル回路にわ
ずか1ビツトの不良セルがあつてもメモリ全体と
しては不具合なため、このようなメモリは不良品
として捨てられている。
Technical Background of the Invention Recently, in semiconductor integrated circuits, especially semiconductor memories, regular memory cell circuits and spare memory cell circuits are formed in advance, and if a defective bit is found in the regular memory cell circuit during manufacturing, In recent years, an increasing number of devices have a redundancy function that allows the defective bit portion to be replaced with a spare memory cell circuit. This is because even if a normal memory cell circuit has just one defective cell, the memory as a whole is defective, so such memories are discarded as defective products.

しかしながら、メモリ容量が増大するのに伴な
い不良のメモリセルが発生する確率は高くなつて
きており、不良が発生しているメモリを捨ててい
たのでは製品のコストが極めて高価なものとなつ
てしまう。したがつて、全体の歩留り向上のため
に予備のメモリセル回路を形成し、正規のメモリ
セル回路の一部が不良の場合にこれを切り換えて
使う方法が採用されてきたのである。そして切り
換えのための情報は不揮発性記憶素子に書き込ま
れている。
However, as memory capacity increases, the probability of defective memory cells is increasing, and if defective memory is thrown away, the cost of the product becomes extremely high. Put it away. Therefore, in order to improve the overall yield, a method has been adopted in which a spare memory cell circuit is formed and used by switching when a part of the regular memory cell circuit is defective. Information for switching is written in a nonvolatile memory element.

第1図は上記予備のメモリセル回路が形成され
ている半導体メモリのブロツク構成図である。第
1図において、1はアドレス信号が与えられるア
ドレスバツフアであり、このアドレスバツフア1
からの出力は正規のアドレスデコーダ2および予
備のアドレスデコーダ3に並列的に与えられる。
正規のアドレスデコーダ2のデコード出力は正規
のメモリセル回路4に与えられ、このデコード出
力によつて正規のメモリセル回路4内の1つある
いはそれ以上のメモリセルが選択され、この後、
この選択されたメモリセルにデータが記憶された
りデータが読み出されたりする。また、上記正規
のアドレスデコーダ2は予備のアドレスデコーダ
3からの出力によつてそのデコード動作が制御さ
れる。予備のアドレスデコーダ3のデコード出力
は予備のメモリセル回路5に与えられ、このデコ
ード出力によつて予備のメモリセル回路5内のメ
モリセルが選択され、この後、この選択されたメ
モリセルにデータが記憶されたりデータが読み出
されたりする。また、上記予備のアドレスデコー
ダ3の出力は、正規のアドレスデコーダ2のデコ
ード動作を制御するための信号としても出力され
る。さらに上記予備のアドレスデコーダ3のデコ
ード動作は、正規のメモリセル回路4内に不良の
ビツトがあり、この不良部分を予備のメモリセル
回路5内のメモリセルと交換する際に、メモリセ
ル交換のための情報が予め不揮発性記憶素子に書
き込まれている交換制御信号発生部6から出力さ
れる交換制御信号によつて制御される。すなわ
ち、このような構成の半導体メモリにおいて、正
規のメモリセル回路4に不良ビツトがなければ交
換制御信号は出力されず、正規のアドレスデコー
ダ2のみが動作して正規のメモリセル回路4内の
メモリセルがアクセスされる。一方、正規のメモ
リ回路4内に不良ビツトがあれば、この不良ビツ
トを含む行あるいは列アドレスに相当するデコー
ド出力が得られるように予め予備のアドレスデコ
ーダ3をプログラムしておくとともに、交換制御
信号発生部6から1レベルまたは0レベルの交換
制御信号が得られるように前記不揮発性記憶素子
をプログラムしておく。したがつて、いまアドレ
スバツフア1で正規のメモリセル回路4の不良ビ
ツトを含む行または列アドレスに対応する出力が
得られると、予備のアドレスデコーダ3によつて
予備のメモリセル回路5内のメモリセルが選択さ
れる。さらにこのときの予備のアドレスデコーダ
3のデコード出力によつて正規のアドレスデコー
ダ3のデコード動作が停止され、正規のメモリセ
ル回路4はアクセスされない。このような操作に
よつて、正規のメモリセル回路4内の不良部分が
予備のメモリセル回路5と交換されるものであ
る。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory in which the above-mentioned spare memory cell circuit is formed. In FIG. 1, 1 is an address buffer to which an address signal is applied, and this address buffer 1
The output from the address decoder 2 is given to a regular address decoder 2 and a spare address decoder 3 in parallel.
The decoded output of the regular address decoder 2 is given to the regular memory cell circuit 4, one or more memory cells in the regular memory cell circuit 4 are selected by this decoded output, and then,
Data is stored in or read from the selected memory cell. Further, the decoding operation of the regular address decoder 2 is controlled by the output from the spare address decoder 3. The decode output of the spare address decoder 3 is given to the spare memory cell circuit 5, a memory cell in the spare memory cell circuit 5 is selected by this decode output, and data is then transferred to the selected memory cell. is stored and data is read. Further, the output of the spare address decoder 3 is also output as a signal for controlling the decoding operation of the regular address decoder 2. Furthermore, the decoding operation of the spare address decoder 3 is performed when there is a defective bit in the regular memory cell circuit 4 and when this defective part is replaced with a memory cell in the spare memory cell circuit 5. It is controlled by an exchange control signal output from an exchange control signal generator 6 in which information for the exchange is written in advance in a nonvolatile memory element. That is, in a semiconductor memory having such a configuration, if there is no defective bit in the regular memory cell circuit 4, the exchange control signal is not output, and only the regular address decoder 2 operates to replace the memory in the regular memory cell circuit 4. A cell is accessed. On the other hand, if there is a defective bit in the regular memory circuit 4, the spare address decoder 3 is programmed in advance to obtain a decode output corresponding to the row or column address containing the defective bit, and the exchange control signal is The non-volatile memory element is programmed so that a 1 level or 0 level exchange control signal can be obtained from the generator 6. Therefore, if the address buffer 1 now obtains an output corresponding to the row or column address containing a defective bit in the normal memory cell circuit 4, the spare address decoder 3 will output the output in the spare memory cell circuit 5. A memory cell is selected. Furthermore, the decoding output of the spare address decoder 3 at this time stops the decoding operation of the regular address decoder 3, and the regular memory cell circuit 4 is not accessed. Through such operations, the defective portion in the regular memory cell circuit 4 is replaced with the spare memory cell circuit 5.

第2図a,bは上記交換制御信号発生部6の従
来の構成を示す回路図である。第2図aに示す回
路は、電源VD印加点と出力端子Outとの間に不
揮発性記憶素子の一つであるポリシリコンによつ
て構成されたフユーズ素子Fを挿入し、出力端子
Outとアース点との間にプログラム用のエンハン
スメントモードのMOSFETQEを挿入し、かつ出
力端子Outとアース点との間にデイプレツシヨン
モードのMOSFETQDを挿入し、MOSFETQE
ゲートにはプログラム信号Pを与えるようにする
とともにMOSFETQDのゲートはアース点に接続
するようにしたものである。また、第2図bに示
す回路は、電源VD印加点と出力端子Outとの間
にプログラム用のエンハンスメントモードの
MOSFETQEを挿入し、同様に電源VD印加点と
出力端子Outとの間にデイプレツシヨンモードの
MOSFETQDを挿入し、かつ出力端子とアース点
との間にフユーズ素子Fを挿入し、MOSFETQE
のゲートにはプログラム信号Pを与えるようにす
るとともにMOSFETQDのゲートは出力端子Out
に接続するようにしたものである。
FIGS. 2a and 2b are circuit diagrams showing the conventional configuration of the exchange control signal generating section 6. FIG. In the circuit shown in Figure 2a, a fuse element F made of polysilicon, which is one of the nonvolatile memory elements, is inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out, and the output terminal
Insert MOSFET Q E in enhancement mode for programming between Out and the ground point, and MOSFET Q D in depletion mode between the output terminal Out and the ground point, and the gate of MOSFET Q E for programming. In addition to applying signal P, the gate of MOSFET Q D is connected to the ground point. The circuit shown in Figure 2b also has an enhancement mode connection between the power supply VD application point and the output terminal Out.
Insert MOSFETQ E and similarly set the depresion mode between the power supply VD application point and the output terminal Out.
Insert MOSFETQ D , and insert fuse element F between the output terminal and the ground point, and then
The program signal P is given to the gate of MOSFETQ D, and the gate of MOSFETQ D is connected to the output terminal Out.
It was designed to connect to.

第2図aの回路において、フユーズ素子Fが溶
断されていないとき、出力端子Outのレベルは
MOSFETQDとフユーズ素子Fとの抵抗比によつ
て1レベルに保たれている。一方、MOSFETQE
のゲートに1レベルのプログラム信号Pを与える
と、このMOSFETQEがオンしてフユーズ素子F
に大きな電流が流れ、このときに発生するジユー
ル熱によつてフユーズ素子Fが溶断されると、信
号Pは再び0レベルとなつてMOSFETQEがカツ
トオフし、今度はMOSFETQDを介して出力端子
Outが0レベルに放電される。そして、上記出力
端子Outの信号、すなわち前記交換制御信号のレ
ベルがたとえば1レベルのときには予備のアドレ
スデコーダ3のデコード動作は停止され、たとえ
ば0レベルのときにデコード動作が行なわれる。
In the circuit of Figure 2a, when fuse element F is not blown, the level of output terminal Out is
It is maintained at one level by the resistance ratio between MOSFETQ D and fuse element F. On the other hand, MOSFETQ E
When a 1-level program signal P is applied to the gate of MOSFET Q E, this MOSFET Q E is turned on and the fuse element F
When a large current flows through the fuse element F and fuse element F is blown out by the Joule heat generated at this time, the signal P becomes 0 level again and MOSFETQ E is cut off, and this time the output terminal is passed through MOSFETQ D.
Out is discharged to 0 level. When the level of the signal at the output terminal Out, that is, the exchange control signal, is, for example, 1 level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped, and when it is, for example, 0 level, the decoding operation is performed.

第2図bの回路では第2図aの回路とは反対
に、フユーズ素子Fが溶断されていないとき、出
力端子OutのレベルはMOSFETQDとフユーズ素
子Fとの抵抗比によつて0レベルに保たれてい
る。そしてMOSFETQEのゲートに1レベルのプ
ログラム信号Pを与えると同記と同様にフユーズ
素子Fが溶断され、その後、出力端子Outは
MOSFETQDを介して1レベルに充電される。こ
の場合には、出力端子Outの信号、すなわち交換
制御信号のレベルがたとえば0レベルのときには
予備のアドレスデコーダ3のデコード動作は停止
され、たとえば1レベルのときにデコード動作が
行なわれる。
In the circuit of Fig. 2b, contrary to the circuit of Fig. 2a, when fuse element F is not blown, the level of the output terminal Out becomes 0 level due to the resistance ratio of MOSFET Q D and fuse element F. It is maintained. Then, when a 1-level program signal P is applied to the gate of MOSFETQ E , the fuse element F is blown out in the same way as described above, and then the output terminal Out is
Charged to level 1 via MOSFETQ D. In this case, when the level of the signal at the output terminal Out, that is, the exchange control signal, is, for example, 0 level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped, and when it is, for example, 1 level, the decoding operation is performed.

第3図は前記予備のアドレスデコーダ3の一つ
のデコード回路の構成の一例を示す回路図であ
る。この回路は負荷用のデイプレツシヨンモード
のMOSFETQLDと、前記アドレスバツフア1か
ら出力される各アドレス信号A00,A11
……nをゲート入力とする駆動用の、複数のエ
ンハンスメントモードのMOSFETQDRと、これ
ら複数の各MOSFETQDRと上記MOSFETQLD
の間に挿入される複数のフユーズ素子FBとから
構成されている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of the configuration of one decoding circuit of the spare address decoder 3. This circuit uses a depletion mode MOSFETQ LD for the load and each address signal A 0 , 0 , A 1 , 1 output from the address buffer 1.
It is composed of a plurality of enhancement mode MOSFETQ DRs for driving with n as a gate input, and a plurality of fuse elements FB inserted between each of the plurality of MOSFETQ DRs and the MOSFETQ LD .

このようなデコード回路では、たとえば前記正
規のメモリセル回路4のメモリセルのうちアドレ
スA0=A1=……=An=0に対応するものが不良
の場合には、このアドレスに相当するデコード出
力が得られるように各フユーズ素子FBがプログ
ラム、すなわち01,nをゲート入力とす
るMOSFETQDRに接続されているフユーズ素子
FBが溶断される。
In such a decoding circuit, for example, if one of the memory cells of the normal memory cell circuit 4 corresponding to the address A 0 =A 1 =...=An=0 is defective, the decoding circuit corresponding to this address is Each fuse element F B is programmed so that an output is obtained, that is, a fuse element connected to a MOSFET Q DR with gate inputs of 0 , 1 , and n.
F B is fused.

背景技術の問題点 ところで前記第2図a,bに示す従来の交換制
御信号発生部にあつては、フユーズ素子Fが溶断
されていないときはこのフユーズ素子Fには常に
電流が流れた状態になつている。一方、このフユ
ーズ素子Fは溶断され易くするためにそのパター
ン形状の幅が極めて細く作られている。このた
め、上記フユーズ素子Fに定常的に電流を流すこ
とは信頼性上好ましくない。たとえば何らかの原
因によつて電源VDにノイズが乗つたり、誤まつ
て電源電圧を高くしてしまつたような場合には、
フユーズ素子Fに異常電流が流れ、誤まつて溶断
される恐れがある。
Problems with the Background Art By the way, in the conventional exchange control signal generator shown in FIGS. 2a and 2b, when the fuse element F is not blown, current always flows through the fuse element F. It's summery. On the other hand, the width of the pattern of the fuse element F is made extremely narrow so that it can be easily blown out. For this reason, it is not preferable in terms of reliability to constantly flow current through the fuse element F. For example, if noise is added to the power supply VD for some reason, or if the power supply voltage is increased by mistake,
There is a risk that an abnormal current will flow through the fuse element F and it may be accidentally blown out.

発明の目的 したがつて、この発明の目的とするところは、
不揮発性記憶素子を用いて二値の出力を得ること
のできる信頼性の高い半導体集積回路を提供する
ことにある。
Purpose of the invention Therefore, the purpose of this invention is to:
An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit that can obtain a binary output using a nonvolatile memory element.

発明の概要 この発明の半導体集積回路は、電源と出力端子
との間にフユーズ素子等両端間のインピーダンス
が不揮発的に変化する不揮発性記憶素子を挿入
し、上記出力端子とアースとの間にMOSFETか
らなるスイツチング素子を挿入し、さらに上記出
力端子にこの端子の信号を検出する奇数個のイン
バータを含む回路の入力端を接続し、この回路の
出力を上記MOSFETのゲートに与えることによ
つて、上記不揮発性記憶素子の両端間のインピー
ダンスが低い状態になつているときでも、この不
揮発性記憶素子に常時電流を流す必要なしに二値
の出力を得るようにして信頼性を高めるようにし
たものである。
Summary of the Invention The semiconductor integrated circuit of the present invention includes a nonvolatile memory element such as a fuse element whose impedance between both ends changes in a nonvolatile manner between a power supply and an output terminal, and a MOSFET between the output terminal and ground. By inserting a switching element made of Even when the impedance between both ends of the nonvolatile memory element is low, reliability is improved by obtaining a binary output without the need for constant current flow through the nonvolatile memory element. It is.

発明の実施例 以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明
する。第4図はこの発明の一実施例の構成を示す
回路図である。この回路は、電源VD印加点(一
方電位供給端)と出力端子Outとの間にポリシリ
コンによつて構成されたフユーズ素子Fを挿入
し、出力端子Outとアース(他方電位供給端)と
の間にプログラム用のエンハンスメントモードの
MOSFETQE1を挿入し、かつ出力端子Outとアー
スとの間にもう1つのエンハンスメントモードの
MOSFETQE2を挿入し、上記出力端子Outにこの
端子の信号を検出するためのインバータI1の入力
端を接続し、このインバータI1の出力を上記
MOSFETQE2のゲートに与え、さらに上記
MOSFETQE1のゲートにプログラム信号Pを与
えるようにしたものである。そして出力端子Out
の信号は、たとえば前記第1図回路内の予備のア
ドレスデコーダ3に与えられる。
Embodiments of the Invention Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. This circuit inserts a fuse element F made of polysilicon between the power supply VD application point (one potential supply end) and the output terminal Out, and connects the output terminal Out and ground (the other potential supply end). Enhancement mode for programs in between
Insert MOSFETQ E1 and connect another enhancement mode between output terminal Out and ground.
Insert MOSFETQ E2 , connect the input terminal of inverter I 1 for detecting the signal of this terminal to the above output terminal Out, and connect the output of this inverter I 1 to the above output terminal Out.
given to the gate of MOSFETQ E2 and further above
A program signal P is applied to the gate of MOSFETQ E1 . And output terminal Out
The signal is applied to the spare address decoder 3 in the circuit shown in FIG. 1, for example.

このような構成の回路において、フユーズ素子
Fを溶断する場合には、MOSFETQE1のゲート
に1レベルのプログラム信号Pが与えられる。す
るとこのMOSFETQE1がオンしてフユーズ素子
Fに大きな電流が流れ、このときに発生するジユ
ール熱によつてフユーズ素子Fが溶断される。プ
ログラム後、フユーズ素子Fが溶断されている状
態で電源VDが投入されると、出力端子OutはVD
によつて充電されることがないのでインバータI1
の出力は1レベルになる。したがつて、
MOSFETQE2がオンし出力端子Outの信号は0レ
ベルに設定される。
In a circuit having such a configuration, when fuse element F is blown out, a 1-level program signal P is applied to the gate of MOSFET Q E1 . Then, this MOSFET Q E1 is turned on and a large current flows through the fuse element F, and the fuse element F is blown out by the Joule heat generated at this time. After programming, if the power supply VD is turned on with fuse element F blown, the output terminal Out will be VD
Since it is not charged by the inverter I 1
The output of will be level 1. Therefore,
MOSFETQ E2 is turned on and the signal at the output terminal Out is set to 0 level.

一方、フユーズ素子Fが溶断されていないと
き、電源VDが投入されると、出力端子Outは1
レベルに充電され、インバータI1の出力が0レベ
ルになつてMOSFETQE2はカツトオフする。こ
の場合、出力端子Outの信号は1レベルに設定さ
れる。またこのとき、MOSFETQE1,QE2は共に
カツトオフしているので、従来のようにフユーズ
素子Fに常時電流が流れることがないので、誤ま
つて溶断されることはなく、信頼性を高くするこ
とができる。なお、フユーズ素子Fの抵抗と
MOSFETQE2のオン抵抗との間の抵抗比は、出
力端子Outの信号が1レベルになるように設定さ
れるのが望ましい。
On the other hand, when the power supply VD is turned on when the fuse element F is not blown, the output terminal Out becomes 1.
The output of inverter I1 becomes 0 level, and MOSFET Q E2 is cut off. In this case, the signal at the output terminal Out is set to 1 level. Also, at this time, MOSFETs Q E1 and Q E2 are both cut off, so current does not constantly flow through the fuse element F as in the conventional case, so it will not be accidentally blown out, increasing reliability. Can be done. In addition, the resistance of fuse element F and
The resistance ratio between MOSFETQ E2 and the on-resistance is desirably set so that the signal at the output terminal Out is at 1 level.

第5図はこの発明の他の実施例の構成を示す回
路図である。この回路では出力端子Outの信号を
検出するための手段として、直列接続された3個
のインバータI2〜I4とインバータI3,I4間とアー
スとの間に挿入されたコンデンサCとからなる回
路を用いるようにしたものである。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the invention. In this circuit, the means for detecting the signal at the output terminal Out is from three inverters I 2 to I 4 connected in series and a capacitor C inserted between the inverters I 3 and I 4 and the ground. This circuit uses the following circuit.

この回路ではインバータI3とコンデンサCによ
る信号遅延時間を利用して、MOSFETQE2がフ
ユーズ素子Fの状態に対応して確実にオン、オフ
制御されるようにしている。
This circuit uses the signal delay time caused by inverter I3 and capacitor C to ensure that MOSFET Q E2 is turned on and off in accordance with the state of fuse element F.

なお、この発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、たとえばフユーズ素子Fは
MOSFETQE1を用いて溶断する場合について説
明したが、これはレーザ光線等のエネルギー線を
照射することによつて溶断するようにしてもよ
い。そしてこの場合にはMOSFETQE1は不要で
ある。さらにフユーズ素子Fの代りにMNOS、
FAMOS等の不揮発性記憶素子を用いてもよく、
要するに両端間のインピーダンスが不揮発的に変
化するようなものであればフユーズ素子Fの代り
に用いることができる。またポリシリコンによつ
て作られたフユーズ素子を使用する場合、初期状
態では高抵抗状態にして溶断されたときと同じ状
態にし、その後、レーザアニールして低抵抗化し
溶断されていない状態と同じ状態にするようにし
てもよい。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments; for example, the fuse element F is
Although the case where the MOSFETQ E1 is used for fusing has been described, the fusing may be performed by irradiating energy beams such as laser beams. In this case, MOSFETQ E1 is not necessary. Furthermore, instead of fuse element F, MNOS,
A non-volatile memory element such as FAMOS may be used,
In short, it can be used in place of the fuse element F as long as the impedance between both ends changes in a non-volatile manner. Furthermore, when using a fuse element made of polysilicon, the initial state is set to a high resistance state to be in the same state as when it was blown, and then laser annealed to lower the resistance to the same state as when it was not blown out. You may also do so.

さらに第4図においてインバータを1個設ける
場合について説明したが、これは奇数個であれば
よい。
Furthermore, although the case where one inverter is provided in FIG. 4 has been described, it is sufficient if the number is an odd number.

発明の効果 以上説明したようにこの発明によれば、不揮発
性記憶素子を用いて二値の出力を得ることのでき
る信頼性の高い半導体集積回路を提供することが
できる。
Effects of the Invention As described above, according to the present invention, it is possible to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit that can obtain a binary output using a nonvolatile memory element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は予備のメモリセル回路が形成された半
導体メモリのブロツク構成図、第2図a,bは上
記半導体メモリの一部回路の従来の構成を示す回
路図、第3図は上記半導体メモリの他の部分の構
成を示す回路図、第4図はこの発明の一実施例の
構成を示す回路図、第5図はこの発明の他の実施
例の構成を示す回路図である。 1……アドレスバツフア、2……正規のアドレ
スデコーダ、3……予備のアドレスデコーダ、4
……正規のメモリセル回路、5……予備のメモリ
セル回路、6……交換制御信号発生部、QE
QDR,QE1,QE2……エンハンスメントモードの
MOSFET、QD,QLD……デイプレツシヨンモー
ドのMOSFET、F,FB……フユーズ素子、I1
I4……インバータ、C……コンデンサ。
FIG. 1 is a block configuration diagram of a semiconductor memory in which a spare memory cell circuit is formed, FIGS. 2a and 2b are circuit diagrams showing the conventional configuration of some circuits of the semiconductor memory, and FIG. 3 is a block diagram of the semiconductor memory in which a spare memory cell circuit is formed. FIG. 4 is a circuit diagram showing the structure of one embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram showing the structure of another embodiment of the present invention. 1... Address buffer, 2... Regular address decoder, 3... Spare address decoder, 4
... Regular memory cell circuit, 5 ... Spare memory cell circuit, 6 ... Exchange control signal generator, Q E ,
Q DR , Q E1 , Q E2 ...Enhancement mode
MOSFET, Q D , Q LD ...depression mode MOSFET, F, F B ... fuse element, I 1 ...
I 4 ...Inverter, C...Capacitor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一方電位供給端と出力端との間に挿入され両
端間のインピーダンスが不揮発的に変化する不揮
発性記憶素子と、上記出力端と他方電位供給端と
の間に挿入されるスイツチング素子と、上記出力
端の信号を検出しこの検出信号によつて上記スイ
ツチング素子をスイツチ制御するインバータ手段
と、上記インバータ手段の入力信号あるいは出力
信号と上記他方電位供給端との間に設けられた容
量とを具備したことを特徴とする半導体集積回
路。 2 前記不揮発性記憶素子がポリシリコンによつ
て構成されているフユーズ素子である特許請求の
範囲第1項に記載の半導体集積回路。 3 前記インバータ手段が奇数個のインバータを
含んでいる特許請求の範囲第1項に記載の半導体
集積回路。 4 前記半導体集積回路は正規メモリ回路および
予備メモリ回路を備えた半導体メモリ内に形成さ
れ、正規メモリ回路内に不良メモリが発生した際
に不良メモリを予備メモリ回路内のメモリと交換
する場合に用いられる交換制御信号として前記出
力端の信号を用いるようにした特許請求の範囲第
1項に記載の半導体集積回路。
[Scope of Claims] 1. A nonvolatile memory element inserted between one potential supply end and an output end and whose impedance between both ends changes in a nonvolatile manner, and a nonvolatile memory element inserted between the output end and the other potential supply end. a switching element, an inverter means for detecting a signal at the output terminal and controlling the switching element according to the detection signal, and a switching element provided between the input signal or output signal of the inverter means and the other potential supply terminal. 1. A semiconductor integrated circuit characterized by having a capacitance of 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the nonvolatile memory element is a fuse element made of polysilicon. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the inverter means includes an odd number of inverters. 4. The semiconductor integrated circuit is formed in a semiconductor memory having a regular memory circuit and a spare memory circuit, and is used when a defective memory occurs in the regular memory circuit and the defective memory is replaced with a memory in the spare memory circuit. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the signal at the output terminal is used as an exchange control signal.
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