JPH02225325A - 光学素子の成形装置 - Google Patents
光学素子の成形装置Info
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- JPH02225325A JPH02225325A JP4769889A JP4769889A JPH02225325A JP H02225325 A JPH02225325 A JP H02225325A JP 4769889 A JP4769889 A JP 4769889A JP 4769889 A JP4769889 A JP 4769889A JP H02225325 A JPH02225325 A JP H02225325A
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- molding chamber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/05—Press-mould die materials
- C03B2215/06—Metals or alloys
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/66—Means for providing special atmospheres, e.g. reduced pressure, inert gas, reducing gas, clean room
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学ガラス素材を加熱軟化し、上下一対の成
形用金型を介して所望のレンズ形状に成形するための光
学素子の成形装置に関する。
形用金型を介して所望のレンズ形状に成形するための光
学素子の成形装置に関する。
上記この種の成形装置としては、特開昭６２２８８１１
９号公報に開示された技術がある。この技術の概略構成
を第３図に示すが、図に示すように本成形装置において
は、上下成形型１．２が高温下で酸化されるのを防止す
るために、金型３の周囲を石英ガラス管４で囲み、装置
内部５内に雰囲気ガス供給装置６から窒素ガス等を供給
して金型３の酸化が防止されるように構成しである。
９号公報に開示された技術がある。この技術の概略構成
を第３図に示すが、図に示すように本成形装置において
は、上下成形型１．２が高温下で酸化されるのを防止す
るために、金型３の周囲を石英ガラス管４で囲み、装置
内部５内に雰囲気ガス供給装置６から窒素ガス等を供給
して金型３の酸化が防止されるように構成しである。
しかしながら、上記従来技術の構成においては、装置内
部５の雰囲気の温度が室温（２０℃前後）程度ならば外
部からの酸素の進入をかなり防止でき、酸素濃度を１％
以下にすることが可能であるが、成形時、即ち、金型３
及び加熱炉が高温時においては、装置内部５の雰囲気も
高温になるので非酸化性ガスの対流が発生し、そのため
に主として下型２と下板２ａとの隙より酸素が進入して
内部５の酸素濃度が上ってしまい、その結果、金型３が
酸化を生じ易くなるという問題点があった。
部５の雰囲気の温度が室温（２０℃前後）程度ならば外
部からの酸素の進入をかなり防止でき、酸素濃度を１％
以下にすることが可能であるが、成形時、即ち、金型３
及び加熱炉が高温時においては、装置内部５の雰囲気も
高温になるので非酸化性ガスの対流が発生し、そのため
に主として下型２と下板２ａとの隙より酸素が進入して
内部５の酸素濃度が上ってしまい、その結果、金型３が
酸化を生じ易くなるという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであって、高
温時における酸素濃度の上昇による金型の酸化を防止し
、金型の耐久性の向上を図りうるようにした光学素子の
成形装置を提供することを目的とする。
温時における酸素濃度の上昇による金型の酸化を防止し
、金型の耐久性の向上を図りうるようにした光学素子の
成形装置を提供することを目的とする。
上記問題に鑑み、本発明に係る成形装置は、上下に対向
配置された成形型により所望の光学素子を成形する光学
素子の成形装置において、上型及び下型をそれぞれ保持
する上ベース、下ベース並びに成形部周囲を密閉するカ
バーにて成形室を構成するとともに、前記成形室に窒素
ガス等のガス流入部を設け、前記下型をその上部に固設
し前記下ベースに保持されたプレス軸の下部に、前記成
形室内に供給されるガスの排気装置を設けて構成しであ
る。
配置された成形型により所望の光学素子を成形する光学
素子の成形装置において、上型及び下型をそれぞれ保持
する上ベース、下ベース並びに成形部周囲を密閉するカ
バーにて成形室を構成するとともに、前記成形室に窒素
ガス等のガス流入部を設け、前記下型をその上部に固設
し前記下ベースに保持されたプレス軸の下部に、前記成
形室内に供給されるガスの排気装置を設けて構成しであ
る。
又、上ベース及び下ベースに温度センサーを設け、上ベ
ースの温度が下ベースの温度より高くなった時点で排気
装置を作動させて成形室内のガスに下方向への流れを生
じさせるように構成してもよい。
ースの温度が下ベースの温度より高くなった時点で排気
装置を作動させて成形室内のガスに下方向への流れを生
じさせるように構成してもよい。
上記構成においては、ガス流入部から形成室内に窒素ガ
ス等のガスを供給し、上ベース、下ベースの温度上昇に
伴って排気装置を作動させることにより、成形室内への
酸素の進入が防止される。
ス等のガスを供給し、上ベース、下ベースの温度上昇に
伴って排気装置を作動させることにより、成形室内への
酸素の進入が防止される。
以下、図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明
する。
する。
（第１実施例）
第１図は、本発明に係る光学素子の成形装置１０の第１
実施例を示す縦断面図である。
実施例を示す縦断面図である。
図において１１で示すのは上型で、上型１１は上型ヒー
ター１２を介して上ベース１３に固定しである。１４で
示すのは下型で、下型１４は下型ヒーター１５を介して
プレス軸１６に固定しである。プレス軸１６は、下ベー
ス１７に固定されたハウジング１８に軸受（摺動用軸受
）１９を介して軸方向摺動自在に保持されるとともに、
駆動用エアーシリンダー２０を介して昇降駆動自在に構
成されている。上型１１と下型１４とは同一軸線上に対
向配置してあり、上型１１．下型１４とも、図示を省略
している温度制御装置と接続された前述の上型ヒーター
１２、下型ヒーター１５を介して所定温度に制御自在の
構成となっている。
ター１２を介して上ベース１３に固定しである。１４で
示すのは下型で、下型１４は下型ヒーター１５を介して
プレス軸１６に固定しである。プレス軸１６は、下ベー
ス１７に固定されたハウジング１８に軸受（摺動用軸受
）１９を介して軸方向摺動自在に保持されるとともに、
駆動用エアーシリンダー２０を介して昇降駆動自在に構
成されている。上型１１と下型１４とは同一軸線上に対
向配置してあり、上型１１．下型１４とも、図示を省略
している温度制御装置と接続された前述の上型ヒーター
１２、下型ヒーター１５を介して所定温度に制御自在の
構成となっている。
加熱炉２１及び成形部２２周辺は、石英ガラス管又はス
テンレス製管で成形されたカバー２３及び上下ベース１
３．１７を介して閉塞されており、これらの部材２３，
１．３，１．７により成形室２４が形成されている。上
下ベース１３．１７には、雰囲気ガス供給装置（図示せ
ず）と接続されたガスノズル２５が貫設してあり、この
ガスノズル２５を介して成形室２４内に供給される窒素
ガス、不活性ガス、又は還元性ガスにて成形室２４内部
の酸化を防止しうるように構成しである。上下ベース１
３，１７は、図示を省略している部材を介して結合され
ており、上ベース１３と下ベース１７との間の相互の距
離、位置が変化しない構成となっている。
テンレス製管で成形されたカバー２３及び上下ベース１
３．１７を介して閉塞されており、これらの部材２３，
１．３，１．７により成形室２４が形成されている。上
下ベース１３．１７には、雰囲気ガス供給装置（図示せ
ず）と接続されたガスノズル２５が貫設してあり、この
ガスノズル２５を介して成形室２４内に供給される窒素
ガス、不活性ガス、又は還元性ガスにて成形室２４内部
の酸化を防止しうるように構成しである。上下ベース１
３，１７は、図示を省略している部材を介して結合され
ており、上ベース１３と下ベース１７との間の相互の距
離、位置が変化しない構成となっている。
ハウジング１８の下部には、排気装置３０が固設してあ
り、成形室２４及びハウジング１８内部のガスを排気し
うるようになっている。
り、成形室２４及びハウジング１８内部のガスを排気し
うるようになっている。
上下ベース１３．１７は温度モニター３１と接続してあ
り、上下各ベース１３．１７の温度が測定しうるように
構成しである。３２で示すのは光学ガラス素材３３及び
プレス成形後の光学素子を載置、搬送するキャリアで、
このキャリア３２はキャリア搬送用アーム３４により保
持され、図示しない温度制御′Ｂ装置によって所定の温
度に設定し得る加熱炉２１中を移送され、前記上型１１
と下型１４間に搬送されるように制御構成されている。
り、上下各ベース１３．１７の温度が測定しうるように
構成しである。３２で示すのは光学ガラス素材３３及び
プレス成形後の光学素子を載置、搬送するキャリアで、
このキャリア３２はキャリア搬送用アーム３４により保
持され、図示しない温度制御′Ｂ装置によって所定の温
度に設定し得る加熱炉２１中を移送され、前記上型１１
と下型１４間に搬送されるように制御構成されている。
３５で示すのは０．′ａ度センサー、２１ａで示すのは
加熱炉ヒーターである。
加熱炉ヒーターである。
次に上記構成の成形装置１０にて光学素子を成形する作
用について説明する。
用について説明する。
まず、常温時、即ち加熱開始前において、成形室２４内
部に上下のガスノズル２５から窒素ガス等を供給し、成
形室２４内部の酸素濃度を１％以下に置換する。この際
の酸素濃度は、成形室２４の背面に配設しであるＯ！濃
度センサー３５にて測定する。
部に上下のガスノズル２５から窒素ガス等を供給し、成
形室２４内部の酸素濃度を１％以下に置換する。この際
の酸素濃度は、成形室２４の背面に配設しであるＯ！濃
度センサー３５にて測定する。
次に、加熱炉ヒーター２１ａ、上型ヒーター１２、及び
下型ヒーター１５により、加熱炉２１゜上型１１．下型
１４を所定温度に加熱する。この加熱に伴って上ベース
１３．下ベース１７及び成形室２４内部の温度も上昇す
るので、成形室２４内に対流が生じ、この対流により主
としてハウジング１８より外部の酸素が形成室２４内に
進入し、成形室２４内の酸素濃度が上昇する。このとき
のタイミングは、上ベース１３と下ベース１７の温度と
相関があるので、温度モニター３１によす上下ベース１
３．１７の温度を測定しておくことにより判断できる。
下型ヒーター１５により、加熱炉２１゜上型１１．下型
１４を所定温度に加熱する。この加熱に伴って上ベース
１３．下ベース１７及び成形室２４内部の温度も上昇す
るので、成形室２４内に対流が生じ、この対流により主
としてハウジング１８より外部の酸素が形成室２４内に
進入し、成形室２４内の酸素濃度が上昇する。このとき
のタイミングは、上ベース１３と下ベース１７の温度と
相関があるので、温度モニター３１によす上下ベース１
３．１７の温度を測定しておくことにより判断できる。
そして、この時点において、排気袋２３０を作動させる
とともに下ベース１７例のガスノズル２５からのガス供
給を停止させ、上ベース１３のガスノズル２５からのみ
窒素ガス等を供給し、下方、即ち矢印４０方向へのガス
の流れを発生させる。なお、このときのガス流量は、排
気装置３０により供給と排出のバランスを考慮して最適
に設定する。これにより、成形室２４内は対流のない層
流状態となり、外部からの酸素の進入をしゃ断すること
ができ、その結果、成形室２４内の酸素濃度を１％以下
の低濃度に保つことができる。
とともに下ベース１７例のガスノズル２５からのガス供
給を停止させ、上ベース１３のガスノズル２５からのみ
窒素ガス等を供給し、下方、即ち矢印４０方向へのガス
の流れを発生させる。なお、このときのガス流量は、排
気装置３０により供給と排出のバランスを考慮して最適
に設定する。これにより、成形室２４内は対流のない層
流状態となり、外部からの酸素の進入をしゃ断すること
ができ、その結果、成形室２４内の酸素濃度を１％以下
の低濃度に保つことができる。
この状態において、加熱炉２１．上型１１．下型１４が
所定温度になった時点でキャリア３２内に光学ガラス素
材３３を載置し、キャリア搬送用アーム３４を介して加
熱炉２１内に搬入し、上下のヒーター２１ａを介して光
学ガラス素材３３を成形可能状態になるまで（軟化点温
度まで）加熱軟化処理する。
所定温度になった時点でキャリア３２内に光学ガラス素
材３３を載置し、キャリア搬送用アーム３４を介して加
熱炉２１内に搬入し、上下のヒーター２１ａを介して光
学ガラス素材３３を成形可能状態になるまで（軟化点温
度まで）加熱軟化処理する。
次に、搬送用アーム３４を前進させ、キャリア３２とと
もに光学ガラス素材３３を上下型１１゜１４間に搬送す
る。その後、下型１４をシリンダー２０を介して上動さ
せ、上下の成形型１１゜１４を介して軟化状態にある光
学ガラス素材３３をプレス成形する。
もに光学ガラス素材３３を上下型１１゜１４間に搬送す
る。その後、下型１４をシリンダー２０を介して上動さ
せ、上下の成形型１１゜１４を介して軟化状態にある光
学ガラス素材３３をプレス成形する。
成形が完了したら、下型１４を下動させて離型し、加熱
炉２１に対して反対側に設けた徐冷炉（図示せず）中に
成形後の光学素子を搬送用アーム３４を介して搬送し、
プレス成形された光学素子を冷却し、その後、光学素子
をキャリア３２がら取り出す。
炉２１に対して反対側に設けた徐冷炉（図示せず）中に
成形後の光学素子を搬送用アーム３４を介して搬送し、
プレス成形された光学素子を冷却し、その後、光学素子
をキャリア３２がら取り出す。
以上説明したように本実施例によれば、成形室２４内部
の酸素濃度を高温時においても１％以下の低濃度に保持
することができるので、上下の成形型１１．１４の酸化
を防止でき、成形型１１゜Ｉ４の耐久性の向上が図れる
ものである。
の酸素濃度を高温時においても１％以下の低濃度に保持
することができるので、上下の成形型１１．１４の酸化
を防止でき、成形型１１゜Ｉ４の耐久性の向上が図れる
ものである。
なお、本実施例においては、下ベース１７のガスノズル
２５からのガス供給を停止し、上ベース１３のガスノズ
ル２５だけからガス供給をするようにしたが、下ベース
Ｉ７のガスノズル２５から弱いガス供給をしても成形室
２４内において対流が生じない範囲、即ち、ガスの層流
が確保される範囲にあっては、同様の効果を奏しうるち
のであ（第２実施例） 第２図に本発明の第２実施例を示す６本実施例は、第１
図にて示す構成において、成形室２４と加熱炉２１との
間にシャッター枠５０を介して水平前後方向に可動自在
に保持されたジャッジ中−５１を配備して構成したもの
である。その他の構成は、第１実施例と同様であるので
、同一部材には同一符号を付してその説明を省略する。
２５からのガス供給を停止し、上ベース１３のガスノズ
ル２５だけからガス供給をするようにしたが、下ベース
Ｉ７のガスノズル２５から弱いガス供給をしても成形室
２４内において対流が生じない範囲、即ち、ガスの層流
が確保される範囲にあっては、同様の効果を奏しうるち
のであ（第２実施例） 第２図に本発明の第２実施例を示す６本実施例は、第１
図にて示す構成において、成形室２４と加熱炉２１との
間にシャッター枠５０を介して水平前後方向に可動自在
に保持されたジャッジ中−５１を配備して構成したもの
である。その他の構成は、第１実施例と同様であるので
、同一部材には同一符号を付してその説明を省略する。
本実施例によれば、成形室２４の密閉度の向上を図りう
る効果がある。その他の作用、効果は、第１実施例と同
様であるのでその説明を省略する。
る効果がある。その他の作用、効果は、第１実施例と同
様であるのでその説明を省略する。
以上のように本発明によれば、高温時における成形室内
の酸素濃度の上昇を防止できるので、常に酸素濃度を１
％以下に保つことができ、金型の酸化を防止して金型耐
久性の向上を図りうるものである。
の酸素濃度の上昇を防止できるので、常に酸素濃度を１
％以下に保つことができ、金型の酸化を防止して金型耐
久性の向上を図りうるものである。
第１図は、本発明に係る装置の第１実施例を示す縦断面
図、 第２図は、 す縦断面図、 第３図は従来技術の説明図である。 １１・・・上型 １３・・・上ベース １４・・・下型 １６・・・プレス軸 １７・・・下ヘース ２３・・・カバー ２４・・・成形室 ２５・・・ガスノズル ３９・・・排気装置 本発明に係る装置の第２実施例を示 時 許 出 願 人 オリンパス光学工業株式会社
図、 第２図は、 す縦断面図、 第３図は従来技術の説明図である。 １１・・・上型 １３・・・上ベース １４・・・下型 １６・・・プレス軸 １７・・・下ヘース ２３・・・カバー ２４・・・成形室 ２５・・・ガスノズル ３９・・・排気装置 本発明に係る装置の第２実施例を示 時 許 出 願 人 オリンパス光学工業株式会社
Claims (2)
- （１）上下に対向配置された成形型により所望の光学素
子を成形する光学素子の成形装置において、上型及び下
型をそれぞれ保持する上ベース。 下ベース並びに成形部周囲を密閉するカバーにて成形室
を構成するとともに、前記成形室に窒素ガス等のガス流
入部を設け、前記下型をその上部に固設し前記下ベース
に保持されたプレス軸の下部に、前記成形室内に供給さ
れるガスの排気装置を設けて構成したことを特徴とする
光学素子の成形装置。 - （２）上ベース及び下ベースに温度センサーを設け、上
ベース温度が下ベースの温度より高くなった時点で排気
装置を作動させて成形室内のガスに下方向への流れを生
じさせるように構成したことを特徴とする請求項１記載
の光学素子の成形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4769889A JPH02225325A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 光学素子の成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4769889A JPH02225325A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 光学素子の成形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02225325A true JPH02225325A (ja) | 1990-09-07 |
Family
ID=12782509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4769889A Pending JPH02225325A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 光学素子の成形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02225325A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006096604A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Canon Inc | 光学素子の成形方法及び装置 |
| JP2009242139A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | 成形方法及び装置 |
| JP2009242137A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | 成形方法及び装置 |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP4769889A patent/JPH02225325A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006096604A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Canon Inc | 光学素子の成形方法及び装置 |
| JP2009242139A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | 成形方法及び装置 |
| JP2009242137A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | 成形方法及び装置 |
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