JPH02233643A - Ｆｋ―５０６及びトリカルボニル中間体の合成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はマクロライド免疫抑制剤ＦＫ−５０６を生成す
る全合成方法及びその重要なトリカルボニル法中間体に
関する． 田中、黒田及び共同研究者らによって単Ｍ確認された新
規な２３員環トリシクロマクロライドＦＫ−５　０　６
　　（ＪＡＣＳ、第１０９巻、５０３１一頁、１９８７
年及び欧州特許出願第０．１８４．１６２号参照）は、
特に免疫抑制剤活性を有することが知られている．独特
な構造と相まってかかる薬剤の骨髄及び器官移植に於け
る潜在的な有用性は、この分野に於いて多《を刺激し、
ＦＫ−５０６（１）の全合成に対する努力を開始させた
。

ＦＫ−５　０　６の合成に対する一般的な特定溶液に於
ける難しい問題点は特にオレフィン部分の存在下でのＦ
Ｋ−５　０　６のトリカルボニルラク外一ル部分（ラク
トール形のＣｓ　−Ｃｑ　−Ｃ＋。トリカルボニル部分
）の生成である。具体的には２，３ージヒドロキシカル
ボキシレートの酸化及びオレフィン部分も有するマクロ
ライド分子の付随ラクトン化による２，３−ジケトカル
ボキシレート、カルボキシアミド又は対応するラクトー
ル誘導体の製造方法の具体例がないことである（トリ力
ルボニル官能基の製造に関する総説としてＭ．Ｂ．ルビ
ン（Ｒｕｂｉｎ）、ケミカルレビュース（Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌＲｅｖｉｅｗｓ）第７５巻、１７７頁、１９７５年
、参照、ここに引用する）． ２．３−ジケトカルボキシル官能基の従来製造法はβ−
ケトエステルの酸化（Ｈ．Ｈ．ワッセルマン（Ｈａｓｓ
ｅｒｍａｎ）、一．↑．ハン（．Ｈａｎ）　、テトラヘ
ドロンレターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ）　，第２５巻、３７４３頁、１９８４年又はウィ
リアムス（Ｗｉｌｌｉａｍｓ）、Ｄ．Ｒ．ベンボウ　（
Ｂｅｎｂｏｗ）　Ｊ．Ｗ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．　
１９８８年、第５３＠、４６４３頁）あるいはオキサレ
ートアニオン等価物、例えば１，２−ジェトキシ−１，
２−ビス−（トリメチルシリルオキシ）一エチレンの適
当な求電子試薬例えば酸塩化物又はその活性エステル誘
導体によるアシル化（　？１．Ｔ．リーツ（Ｒｅｅｔｚ
）、Ｓ．Ｈ．キュング（Ｋｙｕｎｇ）　、テトラヘドロ
ンレターズ、第２６巻、６３３３頁、１１８５年参照）
を包含している． これらの操作は各方法に於ける反応条件の厳しさのため
ＦＫ−５０６系に応用できない．β−ケトエステルの２
，３−ジケトエステルへの酸化は、ＦＫ−５０６系に存
在するオレフィン結合が酸化を受けやすいために適合し
ない。同様にリーツの研究で用いられるオキサレート等
価物の酸塩化物への添加に必要な強ルイス酸条件は、Ｆ
　Ｋ　−５０６の多くの鋭敏な水酸基又は保護水酸基の
存在で適用できない． 当該技術に必要とされることは、容易に入手し得る出発
物質を利用してオレフィン官能基の存在下でＦＫ−５　
０　６のトリカルボニル部分を合成さセるＦＫ−５　０
　６の一般的な全合成である．我々は対応するアルデヒ
ド■から出発する２．３−ジケトエステル、アミド又は
イミド（下゜の図式；に示される）ｌａ−ｃ（大環状ト
リカルボニルラクトールＦ　Ｋ　−　５　０　６　（１
）に存在する）の高収率選択合成方法を見い出した．最
初にアルデヒド■は適当に保護された２−ヒドロキシ酢
酸誘導エステルエノレート等価物■を添加することによ
り、同族２．３−ジヒドロキシアミド又はエステル■に
変換される．化合物■はイミド加水分解、カルボニル活
性化及びアミド又はエステル生成からなる連続系反応に
よって製造することができる．得られた２−アルコキシ
−３−ヒドロキシーアミド又はエステル■は次に脱保護
されて所望の２．３一ジヒドロキシ化合物Ｖが得られる
．−７８℃に於けるジメチルスルホキシドと塩化オキサ
リルを用いた水酸基の酸化は所望の２．３−ジケトエス
テル又はアミド■を生成する． 我々はまた■を室温でトリフルオロ酢酸又はフッ化水素
酸と処理することにより、対応する６員環ラクトール配
列に順次変換する緩和で高い選択的な方法を見い出した
．この方法は、所望の６員環ラクトール誘導トリカルボ
ニル生成物の収一率及び純度を極めて低下させる副生成
物の複雑な混合物を除去することによって、きれいな高
収率の変換ができる． 本ラクトール化操作の個々の実施態様は、ＦＫ一５０６
のフラグメント、２，３−ジケトー７ーヒドロキシル（
又は保護ヒドロキシル）ヘプタノエート■又は長鎖アル
カノエートをＴＨＦ中室温に於でトリフルオロ酢酸で処
理することにより、対応する２−ヒドロキシ−２−（２
’−オキソー２′−アセチル）一テトラヒドロピラン■
へ選択変換するものである． 本発明によれば （ａ）　　不活性雰囲気下水酸基を持たない無水不活性
有機溶媒中、アルデヒド■を水酸基保護酢酸塩エノレー
ト等価物■と−１００゜〜２０℃の温度範囲で付加生成
物■が十分生成する時間接触させ；偽）工程（ａ）で得
た生成物■の２一水酸基を脱保護してＶを生成し； （Ｃ）　　工程０））で得た水酸基脱保護生成物Ｖを不
活性雰囲気下水酸基を持たない無水不活性溶媒中塩化オ
キサリルとジメチルスル゛ホキシドの両方の存在下−７
８〜０℃で処理し、次にトリエチルアミンで２．３−ジ
カル．ボキシレート化合物■が十分生成する時間処理す
る： という工程を包含している構造Ｉの２．３−ジヵルボキ
シレート化合物の合成方法が提供される．ＧＭ Ｒ ＋１ ｂ　Ｘ．ＯＲＩ 〔式中、Ｒは置換された又は置換されない直鎖又は有技
［Ｃ１〜Ｃ４。アルキル（置換基はＯＨ，Ｃｌ〜Ｃ４ア
ルコキシ、Ｃ．〜Ｃ，フェノキシ，−ＳＲ，Ｃ，〜Ｃ４
アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ．アリールチオ、ＮＨｇ　ＳＮ
（Ｃｔ〜Ｃ４アルキル）いＦＫ−５０６のＣ．．”’Ｃ
．．炭素骨格であることができる）であり；Ｐ３は直鎖
又は有枝鎖Ｃ．−Ｃ．。アルキル、一Ｃ，〜Ｃｌ（ｌア
リール又はベンジル（ハロ又はＣ，〜Ｃ４アルコキシで
置換することができる）、トリヒドロカルボシリル（該
ヒドロカルボシリル基はＣ１〜Ｃ４直鎖又は有技鎖アル
キル、フエニル又はベンジルから独立して選択される）
であり；Ｋ　％　ＣＳ％　Ｃａｓ　ｌ！　，　Ｚｎｓ　
’ｒｉ，　Ｓｎ及びＢ（アルキル）よ（アルキルはＣ１
〜４直鎖又は脊枝鎖である）である．〕一 更に不活性有機溶媒中■を水性フン化水素酸又は水性ト
リフルオロ酢酸で−ｌＯ〜５０℃に於でラクトール■が
十分生成する時間処理する工程を包含しているラクトー
ル化方法が捉供される。

エステル｛Ｒ＋／Ｒｚ／ＲｓはＨＳＣ．〜Ｃ４直鎖又は
有技鎖アルキル、ベンジル、フェニル（八ロ又はＣ．−
Ｃ４アルコキシで置換することができる）から独立して
選択される｝であり；ＭはＬｉ，　Ｎａ、式中、Ｘは上
記で示した置換基から選択される。

Ｐ１及びＰ８は通常のトリヒド口カルボシリル保護基か
ら選択され、ＰＩはＰ！の存在下当該技術で標準の脱保
護反応条件の適当な選択（例一えば、酸が触媒する加水
分解の場合の反応温度、反応溶媒、試薬濃度、反応時間
又は試薬の強さの選択）によって選択的に除去すること
ができる。

更にその上本明細書に記載される方法によって免疫抑制
剤Ｐ　Ｋ　−　５　０　６　１）の合成の中間体に変換
することができる以下の式の化合物が提供される。

が好ましい．） 更にＬＩＩ （式中、Ｘ及びＰの各々は独立して上で定義した通りで
ある．但しＰ，Ｐ’及びＰ２は次の順序で除去すること
ができる。ＰはＰＩ及びＰ２の存在下で選択的に除去す
ることができる　ｐｌはＰ８の存在下で選択的に除去す
ることができる。更にその上Ｐ３はＰ，Ｐ’及びｐｇの
存在下試薬及び／又は加水分解条件の変化によって選択
的に除去することができるように定義される。Ｐ３は好
ましくはトリヒドロカルボシリルではなく、Ｐ１ｐ＋，
ｐｇはトリヒドロカルボシリルであること（式中Ｐ’　
／Ｐ”はＨ又はトリ　（ヒドロカルボ）シリルとして独
立して定義され、該ヒドロカルボ基はＣ　Ｉ”　Ｃ　ａ
直鎖又は有技鎖アルキル、フ，エニル又はベンジルから
独立して選択され、例えばｐｌはＰ８の存在下選択的に
除去され、Ｒはアリル、プロビル、エチル又はメチルか
ら選択され、Ｒ，はメチル又はエチルである．） を構造： 匪里弐星二ヱＮ７固： 換Ｌ一及びＤ一形（及びラセミ化合物）を包含する｝ 盟ぷｍ葭： Ｒｄ Ｗｂ ｛式中、Ｒ　ａ　一〇　＋〜ＣＯＯアルキル、アリール
又は置換アルキル；　Ｒｂ−Ｈ，Ｃ．〜Ｃ，。アルキル
、アリール又は置換アルキル；及びＲｃ　＝Ｈ，Ｃ．〜
ＣＩ．アルキル、アリール又は置換アルキル、該置換基
は八ロ、Ｃ，〜Ｃ４アルコキシを包含し、該非環式アミ
ノ酸はアラニン、パリン、ロイシン、イソロイシン、フ
ェニルアラニン、チロジン、ジョードチロシン、チロキ
シン、セリン、トレオニン、メチオニン、システイン、
シスチン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン、ア
ルギニン、その公知の合成変異体及びサルコシンのＮ−
メチル、Ｎ一エチル、Ｎ−ベンジル、Ｎ−フェニル置｛
式中、Ｒｄ−Ｈ，Ｃ．−Ｃ．。アルキル、アリール又は
有技鎖アルキル（α又はβ配置にあることができる）；
Ｒｅ及びＲｆはＮＨと結合した炭素含有鎖であり、飽和
、不飽和又は一部不飽和であることができ、１種以上の
０、Ｓ又はＮヘテロ原子を含有することができ、環置換
されることができる４〜１０員環炭素一窒素環を形成し
、該環状アミノ酸は、プロリン、ヒドロキシブロリン、
Ｎ−メチルトリプトファン、Ｎ−メチルヒスチジン、２
−ビペコリン酸、その公知の合成変異体のＬＤ一及びラ
セミ形を包含し、該置換基はハロ及び０１〜Ｃ，アルコ
キシを包含する｝ のＮ一保護第ニアミノ酸ＡＡ　−　ＣＯＯＨと接触させ
、該接触を窒素雰囲気下不活性無水溶媒中ジシクロヘキ
シルカルボジイミドと第三アミンプロトンー受容体の存
在下−４０〜−６０℃でＬｍが十分生成する時間行なう
工程を包含する方法が提供される．また、式 （ａ）　　ＬＩＩ　（ＰＩ　／Ｐ”はＨ又はトリ（ヒド
ロカルポ）シリルと独立に定義され、該ヒドロカルボ基
はＣ．−Ｃ．直鎖又は有技鎖アルキル、フェニル又はベ
ンジルから独立して選択され、例えばＰｌはＰ″の存在
下で選択的に除去することができ、Ｒはアリル、プロビ
ル、エチル又はメチルから選択されＲ１はメチル又はエ
チルである）を構造：韮！人員二１ｌム酪： Ｌｌｌ （式中Ｐ寥、Ｐ’　、Ｒ，Ｒｔ及びＡＡは上で定義した
通りである） の化合物が提供される． また、更にその上 Ｒｈ ｛式中、Ｒａ　””　Ｃ　ｒ　〜Ｃ　ｔｏアルキル、ア
リール又は置換アルキル；　Ｒｂ　＝ＨＳＣ．−Ｃ．。

アルキル、アリール又は置換アルキル；及びＲｃ　＝Ｈ
，Ｃ．〜Ｃｌｌ＋アルキル、アリール又は置換アルキル
、該置換基は八口、Ｃ．−Ｃ．アルコキシを包含し、該
非環式アミノ酸はアラニン、パリン、ロイシン、イソロ
イシン、フェニルアラニン、チロシン、ジヨードチ口シ
ン、チロキシン、セリン、トレオニン、メチオニン、シ
ステイン、シスチン、アスパラギン酸、グルタミン酸、
リシン、アルギニ”ン、その公知の合成変異体及びサル
コシンのＮ−メチル、Ｎ−ベンジル、Ｎ一エチル、Ｎ−
フェニル置換し一及びＤ一形（及びラセミ化合物）を包
含する）１上１ニヱ亙１鼠： ρｄ トファン、Ｎ−メチルヒスチジン、２−ピペコリン酸、
その公知の合成変異体のＬ−、Ｄ一及びラセミ形を包含
する｝ のＮ一保護第ニアミノ酸Ａ＾−ＣＯＯＨと接触させ、該
接触は窒素雰囲気下不活性無水溶媒中ジシクロヘキシル
カルボジイミドと第三アミンプ′ロトン受容体の存在下
−４０〜６０℃でＬＩ［［が十分生成する時間行ない； ｛式中Ｒｄ　”　Ｈ　，　Ｃ　＋　〜Ｃ　ｌｏアルキル
、アリール又は脊技鎖アルキル（α又はβ配置にあるこ
とができる）；Ｒｅ及びＲｆはＮＨと結合した炭素含有
鎖で飽和、不飽和又は一部不飽和であることができ、１
種以上の０、Ｓ又はＮヘテロ原子を含むことができ、環
置換されることができる４〜ｌＯ員環炭素一窒素環を形
成し、該環状アミノ酸はプロリン、ヒドロキシプロリン
、Ｎ−メチルトリプしｎ Ｌｌｌ （ｂｌ　　横造ＬＩ［Ｉを不活性雰囲気下無水不活性有
ａ溶媒中グリオヰシル酸及び酢酸と１０〜４０℃でアル
デヒドＩｊＶが十分生成する時間接触させ；（ｄ）　　
イミドＬＶを、アルカリ金属水酸化物を含む水混和性水
性有機溶媒中水性過酸化水素と０〜５℃でカルボン酸Ｌ
ＶＩが七分生成する時間接触させ；（Ｃｌ　　アルデヒ
ドＬＩＶを不活性雰囲気下無水不活性溶媒中置換アセト
イミドχｖ１有機アミンプロトン受容体及びジアルキル
ボロン塩と−４０〜−６０℃でイミドＬＶが十分生成す
る時間接触させ；や１ （ｅ）　　カルボン酸ＬＶＩを、アミンプロトン受容体
を含む無水不活性存ａ溶媒中Ｐ−シリル化剤と０〜１０
℃で保護アミノ＃ＲＬＶＩＡが十分生成する時間接触さ
せ； １ｉ１　　ジケ｝ＬＸを不活性有機溶媒中水性ＨＦと０
〜ｌＯ℃でＣ−２２ジヒドロ類似体ＬＸＩが十分生成す
る時間接触させ； ＬＸ ＬＸＩ ０）　　化合物ＬＸＩを不活性雰囲気下無水有機溶媒中
アミンプロトン受容体の存在下Ｐ−シリル化剤とθ〜５
℃でビスーＰ−シリル化化合物ＬχＩｔ−が十分生成す
る時間接触させ； （ｋ）　　ＬＸＩＩを窒素下無水有機溶媒と第三アミン
中、ペリオインダンと２０〜３０℃でケトンＬＸＩＩＩ
が十分生成する時間接触させ； という工程を包含している方法が提供される．本発明は
図式ｉによって容易に理解される．０Ｍ （１）　　ＬＸＩＩＩを不活性有機溶媒中水性ＨＦと０
〜５℃でＦＫ−５０６型マクロライドＬＸＩＶが十分生
成する時間接触させる； 示される通り、アルデヒド■は工程１ａ）に於で水酸基
保護酢酸塩エノレート等価物■と反応させて、付加生成
物■を生成し、２一水酸基は保護される．アルデヒドの
Ｒ基は置換された又は置換されない直鎖又は有技槓Ｃ＋
”Ｃａｓアルキルであり、反応条件下で不活性な置換基
はＯＨ，Ｃ，〜Ｃ４アＬＸＩＩＩ ＬＸｒＶ ルコキシ、０６〜Ｃ．フェノキシ、ＳＨ，Ｃｌ　〜Ｃ４
アルキルチオ、Ｃｈ〜Ｃ６アシルチオ、ＮＨｔ　，Ｎ　
（Ｃ．〜Ｃ，アルキル）２又はＦＫ−５０６−分子のＣ
．〜Ｃ３４炭素骨格であることができる．Ｒの代表例は
イソブロビル、ｎ−ブチル、イソブチル等である。下の
アルデヒドＩ［ａ及びｎｂが好ましい。■のＰ３は標準
保護基例えばｐ−メトキシベンジルから選択され、トリ
ヒドロカルボシリルでないことが好ましい。

エノレート■は ピペコリン酸又はエステルであることができるＸ基を含
み、Ｒ　＋　／　Ｒ　ｔ　／　Ｒ　ｓはＨ，Ｃ．〜Ｃ４
直鎖又は有技鎖アルキル、フェニル又はベンジルから独
立して選択され、八ロ又は０１〜Ｃ，アルコキシで置換
されることができる． 代表例はｐ−メトキシベンジル、ベンジル、フェニＢｖ
、２．４−ジメトキシベンジル、ブチル等を包含する。

オキサゾリジノン部分Ｒ．一αＨ１Ｒ２−βベンジル、
Ｒｓ”Ｈが好ましい．保護基Ｐ′及びＰ！は当該技術で
通常のものであり、直鎖又は有枝ｖＡＣＩ−ＣＩアルキ
ル、Ｃ，〜ＣＩ●アシル又はベンジル（１種以上の八ロ
又はＣ，〜Ｃ，アルコキシで置換することがてきる）、
トリヒドロカルボシリル（該ヒドロカルボ基はＣ，〜Ｃ
４直頷又は有枝鎖アルキル、フェニル又はベンジル、そ
の混合物から独立して選択される）を包含する． トリヒドロカルボシリル基の代表例はトリメチルー、ト
リエチルー、イソプロビルジメチルーｔ−プチルジメチ
ルー　トリイソブロピルー　トリフェニルー　トリベン
ジルー、フェニルジメチルー、ベンジルジメチルー、ジ
エチルイソブロピルシリル等を包含し、但しＰｚの存在
下ではｐｌを除去することができる． Ｐ３基の代表例は、ｐ−メトキシベンジル、トリクロロ
エチル、２．４−ジメトキシベンジル等を包含する。ｐ
−メトキシベンジルが好ましい．カチオンＭはＬｉｓ　
Ｎａｓ　Ｋ　，　Ｃｓ，　ＣａＳＡＪ　，　Ｚｎ，Ｔｆ
，　Ｓｎ及びＢ（アルキル）：から選択される．Ｂ（ア
ルキル）！の代表例はＢＭｅ．、Ｂ（ｎＢｕ）ｚ　、Ｂ
（Ｅｔ）ｔ等である。この工程に於けるカチオンＭとし
てＢ　（ｎＢｕ）よ（ｎＢｕはｎ−ブチルである）が好
ましい。

出発アルデヒド■は公知であり、文献の常法で調製する
ことができる．Ｃ１１〜ｃｓｔ　　ＦＫ−５０６炭素骨
格は本明細書に記載される． 出発エノレート■は引用文献に記載される通り製造する
ことができる：エバンス（Ｅｖａｎｓ）、−Ｏ．ａ．；
カルドール（Ｋａｌｄｏｒ）、Ｓ．一．及びジョンズ（
Ｊｏｎｅｓ）、Ｔ．Ｋ．　１　９　６回開催ＡＣＳ国際
会合、ＯＲＧＮ　１７７、１７８、ロスアンジェルス（
Ｌｏｓ　Ａｎｇｅｌｅｓ）、１９８８年；エバンス、Ｄ
．Ａ．．ペングー（Ｂｅｎｄｅｒ）、Ｓ．Ｌ．　；モー
リス（？１ｏｒｒｉｓ）　、Ｊ．；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ
．Ｓｏｃ．１９８８年、第１１０巻、２５０６頁． 工程（ａ）を実施する条件は、不活性雰囲気例えば乾燥
窒素又はアルゴン下、無水不活性有機溶媒例えばＣ２〜
Ｃ，エーテル即ちテトラヒドロフラン、塩化メチレン、
トルエン中、アルデヒド■とエノレート■を一緒に−１
００〜２０゜Ｃ、好ましくは−５０〜０゜Ｃの温度で、
付加生成物■が十分生成する時間反応させることを包含
する。必要とされる時間は一般に３〜２４時間の範囲で
ある。分離は一般に水性過酸化水素で急冷した後抽出す
ることにより達成される．精製は一般にシリカゲルによ
るクロマトグラフィーによって達成される。

収率は一般に■に対して７０〜９５％の範囲である． 本方法の工程伽》は２一水酸基の脱保護であ゜り、当該
技術で通常の工程である。

Ｐ３がｐ−メトキシベンジル（ＰＭＢ）である場合、■
は、１〜１０気圧好ましくは１気圧の圧力に於ける水素
雰囲気下、溶媒例えば（一般的）好ましくは酢酸エチル
中、５〜１５％水酸化パラジウム／炭素の存在下、０〜
１、００℃好ましくは２５〜５０℃で、ジオール■が十
分生成する時間例えば１〜２４時間、処理される． しかしながら、ＦＫ−５０６でのようにオレフィン部分
が存在する場合、■は例えばトリエチルシリルオキシト
リフレート（ＴＩ！ＳＯＴｆ）　／２．　　６−ルチジ
ンでシリル化され、次にジクロロジシアノキノン、ジク
ロロメタン、水（１　８　：　１）で２０℃に於て１〜
２０時間好まし《は４時間処理されてＰＭＢ基が除去さ
れ、次にトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）　／　ＨｚＯ／Ｔ
ＨＦ　テ処理されてｖが生成する．Ｐ３雪“ｔｒｏｃ”
（２，２．２−　｝リクロロエチル）の場合、工程（ｂ
ｌは、不活性雰囲気下無水有機溶媒例えばＴＨＦ，ジメ
トキシエタン、イソプロビルアセテート、エチルエーテ
ル中、１〜１００当一量好ましくは１６当量のカルボン
酸例えば酢酸の存在下、■を１〜１０倍過剰量好ましく
は１０倍量の亜鉛末と２０〜１００℃の温度で好ましく
は超音波により好ましくは２０℃で、所望のジオール■
が十分生成する時間例えば２時間、処理することからな
る． 工程偽）の生成物の収率は一般に■に対して６４％であ
る．分離、精製はＮａＨＣＯ３中和、抽出及びシリカゲ
ルクロマトグラフィーによる常法で達成される． 工程（Ｃ）は、工程（ｂ）で得た生成物■を、無水有機
溶媒例えばジクロロメタン、１．１．２．２−テトラク
ロロエタン好まし《はジクロロメタン中、両方が約２〜
２０当量の塩化オキサリル及びジメチルスルホキシドを
用い、スウェルン（Ｓ％１ｅｒｎ）酸化条件下で、−７
８〜０℃好ましくは−７８〜−６０℃の範囲の温度で、
十分な時間例えば１〜５時間処理し、次に５〜ｌＯ当量
のＩＩ！ｔｓＮを加え、３０℃で１時間保持して、■に
対して２０〜９０％の範囲の収率でトリカルボニル化合
物Ｉｆ生成することにより行なわれる． 構造■の化合物の有用性はＦＫ−５０６型免疫抑制剤の
中間体であることである． 上記化合物の分離、精製並びに反応を実施する装置は常
法である． ＦＫ−５０６の２３員環大環状系（１）の合成の場合に
は、存在する多《の官能基の相互作用を最小にし、Ｃ．
１　−Ｃ．１０ピペコリン酸誘導体トリカルボニル配列
が遊離する前に大環状環を有効に構成させるために、上
記反応の順序を少し変更することが必要である（この配
列は求核水酸化物媒介条件下で不安定であることが知ら
れており、従ってこの導入は合成の後の方に延期されね
ばならない；アスキン（Ａｓｋｉｎ）らにより１９８８
年１０月１２日に出願されメルクアンドカンパニー社ｃ
　Ｍｅｒｃｋ＆　Ｃｏ．Ｉｎｃ．）に譲渡された米国特
許出願第２５６．　７８４号（整理番号１７８２０）参
照、この引例をこの特定の目的に対して引用する》．こ
の具体例として反応の順序が示される次の図式ｉｉを参
照せよ． 工程（ａ′）は、実施例６のアルコール２ｌから製造し
たアルデヒド２（Ｄ．アスキン、Ｒ．Ｐ，ボランテ（Ｖ
ｏｌａｎｔｅ）、Ｒ．Ａ．リーマー（Ｒｅａｍｅｒ）、
Ｋ．Ｍ．リャン（Ｒｙａｎ）、Ｉ．シンカイ（Ｓｈｉｎ
ｋａｉ）、；　Ｔｅｔｔ．Ｌｅｔｔ．１９８８年、第２
９巻、２７７頁）を本明細書に記載した操作（実施例６
Ａ−６　Ｉ，実施例７）により２−ｐ−メトキシベンジ
ルアセテートジアルキルボラン誘導エノレート等価物３
（実施例１の範囲内）と処理して、２−ｐ−メトキシー
ベンジル−３−ヒドロキシーイミド４を単一異性体とし
て得ることを包含している．この条件は一般に上記工程
（ａｌで記載したものと同一である．工程（ｂ′）は、
４を１〜１０当量の過酸化水素リチウムで水と混和し得
る有機溶媒即ちテトラヒドロフラン中０〜１０℃で０．
５〜５時間処理してヒドロキ゛シ酸５を生成することを
包含している．工程（Ｃ′）は、ヒドロキシ酸５を２〜
５当量のトリエチルシリルトリフレー｝／２．６−ルチ
ジンで不活性有機溶媒例えば塩化メチレン中、−５０〜
０℃で処理して、３−トリエチルシリルオキシ酸６を得
、分離し、シリカゲルクロマトグラフィー後に精製する
ことができる． 工程（ｄ′）は、酸６をヨウ化Ｎ−メチル２″＝クロロ
ービリジニウム（１〜５当量）及びＲ−ビペコリン酸の
ｔ−ブチルエステルで、不活性有機溶媒例えばＣＨｔＣ
　ｌ　ｔ中、−２０〜２５℃で１〜２４時間処理して、
とベコリン酸誘導アミド７を得ることを包含している． アミド７は、工程（ｅ′）に於て１〜５当量のジクロロ
ジシアノ−１．４−キノンで不活性有機溶媒例えばＣＨ
ｇＣｊ！ｘと水中Ｏ〜２５℃で１〜５時間脱保護されて
、２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルオキシアミド
８を得る． 工程（ｆ′）は、アミド８をトリフルオロ酢酸と水混和
性水性有機溶媒中Ｏ〜２５℃で処理して、ジオール９を
得ることを包含している．工程（ｇ′）は、ジオール９
を上記工程（Ｃｌと大体同様の条件により２．３−ジケ
トーアミド１０に酸化することを包含している。

水と混和し得る有機溶媒例えばＣＨ．ＣＮ中、１０をフ
ッ化水素酸で脱保護すると対応する非環式ＦＫ−５　０
　６１［位体１１を生成する．２，３−ジケトー４．１
０−ジメチル−６，８一ジメトキシ−７−トリエチルシ
リルオキシー１−トリイソブロビルシリルオキシウンデ
カノイルイミド■の場合に、ラクトール化は■を１〜１
０当量のトリフルオロ酢酸で無水不活性有機溶媒好まし
くはＴＨＦ中−１０〜５０℃好ましくは２０〜２５℃で
、ラクトール■が十分生成する時間例えば１時間、処理
することを包含している．別のＦＫ−５０６型マクロラ
イドは中間体５２で出発する本発明の方法により製造す
ることができる．（実施例２４の３８から５２を製造す
る方法参照）。

５２をＮ一保護第ニアミノ酸例えばＮ−ｔ−Ｂｏｃ一サ
ルコシン及びＮ−ｔ−Ｂｏｃ−プロリンで、無水不活性
有機溶媒例えば０２〜Ｃ６エーテル即ちジエチルエーテ
ル又はＣ．−Ｃ．ハロゲン化アルカン即ちジクロロメタ
ン中、−６０〜−２０゜Ｃの温度で、脱水剤即ちジシク
ロへキシルカルボジイミド及び有機窒素プロトン受容体
即ちジメ゜チルアミノピリジンの存在下で、縮合すると
縮合生成物例えば５３、６６を生成し、これはＣＩ〜Ｃ
τ．セグメントが異なるＦＫ−５　０　６型マクロライ
ドを生成する． 実施例２５にある５２で縮合される場合、Ｎ−ｔ−Ｂｏ
ｃ−サルコシンは実施例２６〜３６により例示されるＣ
ｉ〜Ｃ，。サルコシンＦＫ−５０６８１導体を生成する
．実施例２５の縮合後、化合物５３はＮ−　ｔ−Ｂｏｃ
−ピペコリン類イ以体４０に類領しており、実施例１２
〜２２で述べる反応工程によりＦＫ−５　０　６の合成
を生ずることに注目せよ。

同様に、実施例３７の５２で縮合した場合、Ｎ−ｔ−Ｂ
ｏｃ−Ｌ−プロリンは実施例３７〜４８で具体的に記載
される同様の反応工程系によりＰＫ−５２５を生じる． 更に５２の一般形即ち構造ＸＩを使用する場合、（式中
Ｒはアリル、プロビル、エチル又はメチルであることが
できる．これは別の出願《ケース１７９３１）に記載さ
れ、この出願をこの特定の目的に対して引用する）特に
ブロリンとサルコシン類僚体を製造することができる。

例えばＲ一エチルの場合、対応するＦＫ−５２０１１｛
１１１体を得ることができる． また別の第ニアミノ酸（例えばそのＮ一保護形、例えば
Ｎ−ｔ−Ｂｏａ）は、化合物５２縮合工程で出発する合
成に使用することができ、天然アミノ酸及び以下の式の
化合物を包含する当該技術で公知の合成変異体を全て包
含する． 蓮！式員二ヱｌム囮 置換はハロ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、例えばクロロ、メ
トキシ等を包含する． 代表例は、アラニン、パリン、ロイシン、λソロイシン
、フェニルアラニン、チロシン、ジョードチロシン、チ
ロキシン、セリン、トレオニン、メチオニン、システイ
ン、シスチン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン
、アルギニン、その公知の合成変異体、サルコシン等の
Ｎ−メチル、Ｎ一エチル、Ｎ−ベンジル、Ｎ−フェニル
置換し一及びＤ一形（及びラセミ化合物）を包含する．
星秋第二ヱｌ込敢 Ｒｄ Ｒｈ 式中、Ｒ　ａ　＝　Ｃ　ｒ〜Ｃ，。アルキル、アリール
又は置換アルキル．　Ｒｂ−Ｈ，Ｃ＋〜Ｃ，。アルキル
、アリール又は置換アルキル：及びＲｃ　＝Ｈ，Ｃ＋〜
Ｃ１。アルキル、アリール又は置換アルキル、該式中、
Ｒｄ−Ｈ，Ｃｌ〜Ｃ１。アルキル、アリール又は有枝鎖
アルキル（α又はβ配置にあることができる）；Ｒｅ及
びＲｆはＮＨと結合した炭素含有鎖で、飽和、不飽和又
は一部不飽和であることができ、１種以上のｏ，Ｓ又は
Ｎヘテロ原子を含むことができ、環置換されることがで
きる４〜ｌＯ員環炭素一窒素環を形成する． 上記第ニアミノ酸は常法によりＮ−ｔ−Ｂｏｃ保護形態
に変換され、サルコシン、ブロリン又はビペコリン酸の
代わり利用することができる．代表例はプロリン、ヒド
ロキシブロリン、Ｎ−メチルトリプトファン、Ｎ−メチ
ルヒスチジン、２−ピペコリン酸その公知の合成変異体
等のＬ一及びＤ一形を包含し、該置換基はハロ、Ｃ，〜
Ｃ，アルコキシ即ちクロロ、メトキシ等を包含する．５
２とＮ一保護アミノ酸の縮合生成物（例えばジチアン３
９から最初に製造される生成物５３、６６及び４０）で
出発してＦＫ−５　０　６型マクロライドを生成する一
般的合成図式は、実施例２５〜３６で述べるサルコシン
類似体の合成によって容易に見ることができる。

上述した縮合工程はジメチルアセタール縮合生成物５３
を生成する． ジメチルアセタール５３は、乾燥窒素雰囲気下不活性有
機溶媒例えばエーテル又はハロゲン化アルカン即ちジク
ロロメタン中グリオキシル酸及び酢酸で２５〜４０℃に
於で処理することによーリアルデヒド５４に変換される
． アルデヒド５４は、Ｎｔ雰囲気下乾燥有機溶媒例えばト
ルエン中、有機アミン塩基例えばトリエチルアミン及び
ジアルキルボロン試薬例えばジブチルボロントリフレー
トの存在下−６０〜−３０℃に於で不均斉剤ｐ−メトキ
シベンジルアセトイミドで縮合されて、生成物５５を生
成する。

生成物５５は、水酸化リチウムの存在下０℃で溶媒テト
ラヒドロフラン／Ｈ２０中、水性過酸化水素で酸化され
て、カルボン酸５６を生成する．カルボン酸５６は、Ｎ
−ｔ−Ｂｏｃ部位で脱保護され、θ〜５℃に於で不活性
有機溶媒例えばジクロロメタン中有機アミン塩基例えば
２．６−ルチジンとトリアルキルシリル化剤例えばトリ
エチルシリルトリフレートで処理することによりヒドロ
キシルが保護されて、アミンー酸５６Ａを生成する． アミンー酸５６Ａは、有機プロトン受容体例えばトリエ
チルアミンの存在下有機溶媒、例えばジクロロメタン中
室温に於でヨウ化２−クロロ−Ｎ一メチルピリジニウム
で処理することにより閉環されて、ヘキサヒドロＦＫ−
５　０　６のサルコシン類位体５７が生成される． ５７のサルコシン部分に隣接した２つの水酸基の脱保護
は、２５℃でジクロロメタン／水中例えば２．３−ジク
ロロ−５．６−ジシアノ−１．４一ペンゾキノンで、次
に２５℃でＴＨＦ／ＨｇＯ／　｝リフルオロ酢酸で処理
して達成され、ジオール５９を生成する． ジオール５９は、有機プロ・トン受容体例えばトリエチ
ルアミンの存在下塩化メチレン中−７５〜一８０℃に於
て塩化オキサリルとジメチルスルホキシドでスウェルン
条件下で処理することによりトリケト類僚体６０に酸化
される． トリケト類似体６０は、不活性有機溶媒即ちアセトニト
リル中例えば５０％水性ＨＦで−１０〜０℃に於で処理
することにより類僚のジヒドロＦＫ−５　０　６類似体
に変換される．類似体６１は、乾燥Ｎ２雰囲気下θ〜５
℃で、溶媒としても働く有機塩基例えばピリジンの存在
下、シリル化削例えば塩化トリエチルシリルで処理する
ことによりビス保護されて、ビス保護アルコール６２が
生成する。

ビス保護アルコール６２は、乾燥窒素雰囲気下２０〜２
５℃で溶媒例えばクロロホルム及びピリジンの存在下ペ
リオインダンで処理することによりビスー保護ケトン６
３に酸化される。

６３をア七トニトリル中θ〜５℃で５０％水性ＨＦで処
理することにより脱保護するとサルコシンＦＫ−５０６
類像体６４が生成する。

実質的に同じ上述した操作に従い、Ｎ−ｔ−Ｂｏｃプロ
リン生成物６６で出発させると、Ｆ　Ｋ　−５２５生成
物が実施例３７〜４８により生成される。

実施例１１で始まる記載したＦＫ−５０６合成に於て、
Ｎ−ｔ−ＢｏＣピベコリン酸はジチアン類似体３８と縮
合されて３９を生成し、次にジメチルアセクール類像体
４０に加水分解されることに注目する．他方、Ｎ−ｔ−
Ｂｏｃピペコリン酸は５２と縮合されて４０を生成し、
次に実施例１３〜２２より最終のＦＫ−５０６に進める
ことができる． 更に上述した別のＮ−ｔ−Ｂｏｃ保護第ニアミノ酸は、
３８と縮合されて縮合生成物を生成し、次に４０の類似
体に変換することができる．しかしながら５２の使用は
保護アミノ酸の縮合に好ましい． 構造ＬＸＩＶの一般のＦＫ型マクロライドを製造する方
法は、本明細書で記載したＦＫ−５　０　６型マクロラ
イドの分解工程によって生成された一般式中間体Ｌｎで
開始する． Ｌｎは、不活性雰囲気下例えば乾燥窒素又はアルゴン下
、不活性無水有機溶媒例えばＣ　Ｉ−　Ｃ　ａハロゲン
化アルカン、即ち塩化メチレン又はＣｚ〜Ｃ４環状又は
非環状エーテル即ちジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒド口フラン、ジオキサン中、脱水化剤例え
ばジシクロへキシルカルボジイミド存在下、構造が本明
細書で定義されたＮ−保護第ニアミノ酸“ＡＡ　−　Ｃ
ＯＯＨ″で、−４０〜６０℃に於で、Ｌｍが約９０〜９
８％の収率で十分生成する時間例えば１〜４時間、縮合
さ−せる．生成物ＬＩＩ［は、常法例えばシリカゲルを
使用し、ヘキサン／酢酸エチルで溶離するＨＰＬＣ　（
高圧液体クロマトグラフィー）で精製することができる
。

次にＬＩＩ［は、乾燥Ｎ！又はアルゴンの不活性雰囲気
下、無水不活性有機溶媒例えばＣ，〜Ｃ４ハロゲン化ア
ルカン又はＣ２〜Ｃ４環状又は非環状エーテル即ち塩化
メチレン中、グリオキシル酸と酢酸で、１０〜４０℃の
範囲の温度で、十分な時間例えば〃〜４時間、処理する
ことによりアセタール形からアルデヒドに変換して、９
０〜９５％のアルデヒドＬ■を生成し、常法例えばシリ
カを使用しヘキサン／酢酸エチルで溶離するＨＰＬＣに
より分離精製することができる。

アルデヒドＬＩＶは次に構造： （式中Ｒ２はＣ，〜Ｃ４直鎖又は有技鎖アルキル又はＣ
，〜Ｃ，アラルキルから選択される不均斉側鎖基であり
、八ロ例えばクロロ、Ｃ，〜Ｃ４アルコキシ例えばメト
キシで置換することができ、代表例はメチル、イソプロ
ビル、ｔ−ブチル、ベンジル、ｐ−メトキシベンジル等
を包含し、Ｒ３は接触水素添加により容易に除去し得る
ヒドロキシ保護基でベンジル又は置換ベンジルであり置
換基はハロ例えばクロロ、フルオロ、Ｃ，〜Ｃ４アルコ
キシ例えばメトキシ、０１〜Ｃ４アルキル例えばメチル
等であり、Ｒ，はｐ−メトキシベンジルであることが好
ましい） の置換アセトイミドｘｖで縮合される．ｘｖは当業界で
公知の方法で製造することができ、例えば、上記図式で
はＲｓＯＨはトルエン中２−ブロモ酢酸と室温で水素化
ナトリウムを用いて反応させてｘ■を生成し、エーテル
中塩化ビバロイルとトリエチルアミンで−７８℃に於で
処理してｘ■を得、次にＴＨＦ中（Ｓ）Ｒｇ置換オキサ
ゾリジノンＸＩＶとｎ−ブチルリチウムを用いて反応さ
せてＸＶを得る． アルデヒドＬＶのアセトイミドｘ■との縮合は、不活性
Ｎ！又はアルゴン雰囲気下、不活性無水溶媒例えばＣ．
〜Ｃ．芳香族炭化水素即ちベンゼン、トルエン、キシレ
ン等、アミンプロトン受容体例えばトリエチルアミン、
トリブチルアミン、ピリジン等及びジアルキルボロン塩
例えばジエチルボロン又はジブチルボロントリフレート
中、−４０〜−６０℃でイミドＬＶを７５〜８５％の収
率で十分生成する時間、例えば１〜４時間実施され常法
により分離、精製される． イミドＬＶは、次にアルカリ金属水酸化物例えば水酸化
ナトリウムを含む水混和性有機溶媒例えばＴＨＦ中、水
性過酸化水素で０〜５℃に於でカルボン酸ＬＶＩが９０
〜９５％の収率で十分生一成する時間例えば１〜４時間
処理し、ＨＰＬＣ常法により分離、精製される． カルボン酸レ■は、次にＰ−シリル化剤即ち本明細書で
定義した“Ｐ”保護基を入手し得る非保護３一水酸基に
入れるシリル化剤で処理され、これはＬＶＩをアミンプ
ロトン受容体例えば２，６ールチジンの存在下、不活性
無水有機溶媒例えば０１〜Ｃ４ハロゲン化アルカン例え
ば塩化メチレン中、Ｐ−シリル化剤例えばトリエチルシ
リルトリフレートで、３一保護ＬＶＩＡ構造が５０〜７
０％の収率で十分生成する時間Ｏ℃で例えばＶｚ〜２時
間０〜ｌＯ℃に於て処理することにより処理され、常法
により分離、精製される．この工程中、Ｎ−保護第ニア
ミノ酸ＡＡもまた次の工程の環化に先立ってＮ一保護基
の加水分解を行なう．ＬＶＩＡｏＦＫ型マクロライドＬ
ＶＩＩへの環化は、ＬＶＩＡを乾燥窒素又はアルゴン雰
囲気下不活性無水有機溶媒例えばＣ　Ｉ−　Ｃ　ａハロ
ゲン化アルカン例えば塩化メチレン中、環化剤例えばヨ
ウ化２−クロローＮ−メチルビリジウムで２０〜３０℃
−に於てＬＶＩＩが５０〜７０％の収率で十分生成する
時間例えば１〜２４時間処理することにより実施され、
常法により分離精製される． 次いでＬＶＩＩは、まず少量例えば１容量％のエステル
を含むＣＩ−Ｃ．ハロゲン化アルカン例えば塩化メチレ
ン中、Ｒ３を２．３−ジクロロ−５．６−ジシアノ−１
．４−ペンゾキノンで２０〜３０℃に於てＬＶＩＩＩを
含むアルコール混合液が十分生成する時間加水分解する
ことにより脱保護される．混合液は分離され、ＴＨＦ／
Ｈ！０中トリフルオ口酢酸で２０〜３０℃に於で１〜５
時間処理され、ジオールＬＩＸを８０〜９０％の収率で
生成され、常法により分離精製される。

次いでＬＩＸは、無水不活性溶媒例えばＣ．−Ｃ４ハロ
ゲン化アルカン例えば塩化メチレン及び第三アミン例え
ばトリエチルアミン中、塩化オキサリルとジメチルスル
ホキシドを用いてスウエルン条件下−８０〜−７０℃で
ジケ｝ＬＸを８０〜９０％の収率で十分生成する時間例
えば１〜５時間処理することにより、ジケトＬＸ大環に
酸化さ−れ、常法により分離精製される． ジケトＬＸは、不活性溶媒例えばアセト二トリル中５０
％水性ＨＦでＯ〜５℃に於てＬＸＩを７０〜９０％の収
率に十分置き換える時間例えば１〜１０時間処理するこ
とにより、ヘミアセタール形ＬＸＩに環化され、常法に
より分離精製される。

ＬＸＩＩは、ＬＸＩを乾燥窒素雰囲気下不活性溶媒例え
ば塩化メチレンとアミンプロトン受容体例えば２．６−
ルチジンの存在下又は溶媒とプロトン受容体の両方とし
て作用するビリジン中、２当量のＰ−シリル化剤例えば
トリエチルシリルトリフレートで０〜５℃に於てビスー
保護ＬＸＩＩが十分生成する時間例えば１〜４時間処理
することにより次に生成される． ＬＸＩＩは、次に不活性雰囲気下不活性無水溶媒例えば
塩化メチレン中アミン塩基例えばビリジンの存在下デス
ーマーチンペリオインダン（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｃｖ．　
　１　９　８　８年第５３巻、４４２２頁参照）で２０
〜３０℃に於てビスー保護ケトンＬＸＩＩＩが８０〜９
０％の収率で十分生成する時間例え〜ば〃〜３時間酸化
され、常法により分離精製される。

次いでＬＸＩＩＩは、脱保護条件例えばアセトニト・リ
ル中水性ＨＦで０〜５℃に於で１〜４時間処理して、Ｌ
ＸＩＶを８０〜９０％の収率で生成することにより、最
終生成物ＬＸＩＶ，ＦＫ型マクロライドに変換され、常
法により分離精製゛される。

以下の実施例は本発明を実施する説明であり、本発明の
範囲及び精神を制限するものとして解釈されるべきでは
ない。

スＪｏｌｔ上 ２−Ｐ−メトキシベンジルー酢酸フェニルアラニン　　
　オキサゾ　ジノンイミド、１５のＡ．ユ』」凶１遣 ｐ−メトキシベンジルアルコール（８３．１ｇ）をトル
エン７５−に溶解し、トルエン３０〇一中水素化ナトリ
ウム（６０％油性分散液５３ｇ１２．２０当Ｎ）の懸濁
液に３０分間にわたって滴下した（窒素雰囲気下）．添
加中内部温度が２４〜３５℃に上昇した。水素の発生が
終った後（約２０分）、２−ブロモ酢酸（トルエン４０
０一中）を窒素下４０℃以下の内部温度に保ちながら１
時間にわたって滴下した．２−ブロモ酢酸の添加はかな
り発熱し、外部冷却が必要である．４５分後、混合液を
トルエン４００ｄで希釈し、９５℃で２時間加熱した．
この混合液を２５℃に冷却し、水４００−を加えて急冷
し、層を分離した．水相をメチルーｔ−ブチルエーテル
２００−ずつで−２回抽出した．水層をＩＮ　ＨｔＳＯ
４　６　０ｍで酸性にし、酢酸エチル４　０　０ａｄず
つで３回抽出した。合わせた有機相を真空中で濃縮して
黄色固形物ｌ２を得た（ｓ＋ｐ４９〜５３℃、１０３ｇ
，収率８７％）．Ｂ．１３エ」ｊコ（社）１遣 ２−ｐ−メトキシベンジル酢酸１２（３．９２ｇ，０．
０２モル）をエーテル１００−に溶解し、窒素雰囲気下
で−７８℃に冷却した。トリエチルアミン（２．８６ｄ
、０．０２０５モル）を加え、次に塩化ピバロイル（２
．５２ｄ、０．０２０５＊ｆｆｉ）を加えた．混合液を
０℃で３０分間加温した後、０℃で２時間攪拌して混合
無水物１３を得た。次いでこの溶液を−７８℃に冷却し
た（溶液Ａ）．分液フラスコで（Ｓ）フェニルアラニン
誘導オキサゾリジノン１４（３．４５ｇ、０．０１９５
モル）をテトラヒドロフラン３０ｄに溶解し、窒素下で
−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中
１．３６Ｍ溶液１４．３ｄ）をカニューレで加え、次に
−７８℃で１５分間攪拌した（溶液Ｂ）●次いで溶液Ｂ
をカニューレで溶液Ａに−７８℃で加えた。得られた混
合液を−７８℃で１５分攪拌し、０℃で３０分間加温し
、次にＯ℃で１時間攪拌した。次いで水６０ｍを加え、
混合液を塩化　一メチレン５０１１ｌｌずつで３口抽出
した。合わせた有機抽出液を重炭酸ナトリウム飽和溶液
５０＋ｄと塩化ナトリウム飽和溶液５０１ｌｌ１で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した．真空中で濃縮し、シリ
カゲルでフラッシュクロマトグラフィー（３：１のヘキ
サン：酢酸エチルで溶離）処理して所望の酢酸ｐ一メト
キシベンジル誘導オキサゾリジノンイミド１　５　（５
．５．１　ｇ）を得た． 大胤曇１ （２Ｓ．３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ．７Ｒ．８Ｓ，ＩＯＲ）　−
　２　−　（　ｐ−メトキシベンジルオキシ）−３−ヒ
ドロキシ−４．１０−ジメチル−６，８−ジメトキシ−
７−・ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１１−トリイ
ソブロビルシリルオキシウンデカノエートフェニルアラ
ニン量一　オキサソ゛　ジノンイミ　、４ アセトアミド１５　（１００ｍｇ，０．２８１ミリモル
）を窒素下で塩化メチレン０，５−に溶解し、５０℃に
冷却した．トリエチルアミン（４１μ！、０．２９０ミ
リモル）を加え、次にジブチルボロントリフレート（６
２μｌ、０．　２　７　０ミリモル）を加えた．この混
合液を窒素下−５０℃で２．５時間攪拌し、塩化メチレ
ン１．Ｏ　ｄ中（２１？．４Ｓ．ＳＲ，６５．８１？）
−２．８−ジメチル−４，６−ジメトキシ−５−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−９−トリイソブロビルシリ
ルオキシウンデカナール（２を１２０■、０．　２　３
　５ミリモル）を加えた．得られた溶液を−５０℃で１
時間更に−３０℃で１６時間熟成した。混合液をθ℃に
温め、ｐＨ７のリン酸緩一街液Ｉｄを次にメタノール１
．　０　ｍ及びテトラヒド口フラン３．０−を加えた。

３０％過酸化水素水（１．ｏ一）を加え（温度が１４℃
に上昇した）、この溶液を０℃に冷却し、１時間攪拌し
た．この混合液を酢酸エチル１０Ｍｌずつで３回抽出し
た．有機相を合わせ、重炭酸ナトリウム飽和水溶液１０
ｄ、塩化ナトリウム飽和溶液１０Ｗ＃１で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮した．シリカゲルで
フラッシュクロマトグラフィー（３：１のヘキサン／酢
酸エチルで溶離）処理して、所望のＣ．８〜Ｃ．１８イ
ミド４を得た（１６５■、収率８１％）。

裏施■エ （２Ｓ．３Ｒ．４Ｒ．６Ｓ．７Ｒ，８Ｓ，ＩＯＲ）　−
　２　−　（　ｐ−メトキシベンジルオキシ）−３−｝
リエチルシリルオキシー６，８−ジメトキシ−７−ｔ−
プチルジメチル．７　１Ｊルオキシ−１１−トリイソブ
ロビルシリルオキシーウンー゛カン　６ オキサゾリジノン４　（０．３２３ｇ，０．３６４ミリ
モル）を水１．５３−を含むテトラヒドロフラン６．　
１　＋ｄに溶解し、この溶液を窒素雰囲気下で０℃に冷
却した．過酸化水素（０．３０１ｎ１、２．９１ミリモ
ル）を加え、次に水酸化リチウム（ＬｉＯＨ−ＨｚＯ、
３１．０■、０．７３ミリモル）を加えた．この混合液
をθ℃で２５分間攪拌し、亜硫酸ナトリウム飽和水溶液
１．５１１１を加えた．この混合液を０℃で更に１５分
攪拌し、真空中回転蒸発器によりテトラヒドロフランを
除去した．残留物を０℃でヘキサン１５一及び水３−と
攪拌し、次に０．５Ｍ重硫酸ナトリウム水溶液を添加し
てｐＨ４．５にした．層を分離し、水相をヘキサン１３
ｄずつで４回抽出した。

有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃
縮して酸６を２７６■油状物質として得た．この物質は
’Ｈ　ＮＭＩ？により均質であった．実笠■土 （２Ｓ，３Ｒ．４Ｒ．６Ｓ，７Ｒ．８Ｓ，ＩＯＲ）　−
　２　−　（ｐ−メ｝キシベンジルオキシ）−３−トリ
エチルシリルオ￥シ−４．１０−ジメチル−６．８−ジ
メトキシ−７ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１　１
−｝リイソプロビルシリルオキシウンデヵン酸誘導（Ｒ
）一〇−１−プチルビペコ１ネー｝−　　７：Ｆ７酸６
（２５６■、０．３５ミリモル）を窒素下で塩化メチレ
ン２−に溶解し、θ℃に冷却した．ルチジン（０．１５
５ｍ、１．３３ミリモル）とトリエチルシリルトリフレ
ー｝　（０．２　４　１　ｇ，　０．９　１ミゴｌ３ リモル）を連続して加え、混合液をｏ℃で１時間撹拌し
た．ヘキサン（４ｔｅ）と水（２ｍ）を加え層を分離し
た。水層をヘキサン４ｄずつで４一回抽出し、有機相を
合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で容量約ｌｍ
に濃縮した。この溶液を０．　５ＩＩｌＺ分の速度で２
０分間溶離するシリカゲル（４００メッシュ）によりク
ロマトグラフィー処理して、この物質をこの間新しいシ
リカゲルにさらした（この操作はトリエチルシリルエス
テル基の所望のカルボン酸部分への加水分解を触媒する
）。

次いでカラムをへ牛サン：酢酸エチル（２：１）２５０
ＩＩＩ１、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）１００ｄ及
びー・キサン：酢酸エチル（１：１、０．　５％酢酸を
含む）１００ｍを用い標準方法で溶離した。

カラムのリッチカットを濃縮して油状物質２５８一を得
た。この油状物質を無水塩化メチレン２．　０戚に溶解
し、（Ｒ）−０−ｔ−プチルピペコリネ−｝（１１３■
、０．６１ミリモル）、トリエチルアミン（１０８■、
１．０７ミリモル）及びヨウ化２−クロローＮ−メチル
ピリジニウム（１２５■、０．４９ミリモル）を加え、
混合液を窒素下２５℃で３時間攪拌した。ヘキサン（７
−）と水（３−）を加え層を分離した。水層をヘキサン
６−ず゜っで３回抽出し、有機相を合わせ、重炭酸ナト
リウム飽和溶液１−で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。真空中で濃縮して油状物質３２０■を得、シリカゲ
ル（１５．５ｇ／４００メッシュ、１２：１のヘキサン
：酢酸エチル２２０−で次に２：１のヘキサン：酢酸エ
チル１８０ｄで溶離する）によりフラッシュクロマトグ
ラフィー処理してアミド７を２６４■油状物質として得
た。この物質はＴＬＣ及び’Ｈ　ＮＭＲにより均質であ
った。

裏施億１ （２Ｓ．３Ｒ，４Ｒ，６Ｓ，７Ｒ，８Ｓ，１０１？）　
−２．　　３−ジヒドロキシ−４，ｔｏ−ジメチル−６
．８−ジメトキシー７−ｔ−プチルジメチルシリルオキ
シ−１１−トリイソプロビルシリルオキシーウンデヵン
酸誘導（Ｒ）−０−ｔ−プチルビペコ冨ネートアミド９
アミド７（２５ｗ、０．　０　２　５ミリモル）を塩化
メチレン０．　３−と水０．０１５ｍを含む溶液に溶解
した，ＤＤＱ　（２８■、０．１２ミリモル）を加え、
混合液を２８℃で１．５時間攪拌した。混合液をシリカ
ゲル（４．５ｇ／４００メンシュ、塩化メチレン６０一
次に３：ｌのヘキサン：酢酸エチル８ｏ一で溶離する）
によりフラッシュクロマトグラフィーで精製して、アル
コール８とジオール９の両方を含む油状物賞約１８■を
得た．この油状物質を水０．１２ｄを含むテトラヒドロ
フラン０．５−に溶解し、ジクロロ酢酸２５μｌを加え
た．この溶液を２５℃で６時間攪拌し、重炭酸ナトリウ
ム飽和水溶液２ｚＪｄを加えた．Ｍを分離し、水層を酢
酸エチル２−ずつで４回抽出した．有機相を合わせ、硫
酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮して油状物賞を得
た．この油状物賞をシリカゲル（４．５ｇ，４００メッ
シュ、４：１のヘキサン：酢酸エチル８０ｄ次にｌ：１
のヘキサン：酢酸エチル１００一で溶離する）によりフ
ラッシュクロマトグラフィーで精製してジオール９（１
５．１ｗ）を得た．この物質は’Ｈ　ＩＩＭＩ＋により
均質であった．災胤侃工旦 （４Ｒ，６Ｓ．７Ｒ，８Ｓ，ＩＯＲ）　　−２．　　３
−ジケトー４．ｌ〇一ジメチル−６．８−ジメトキシ−
７−ｔ−プチルジメチルシリルオキシ−１１−トリイソ
プロビルシリルオキシウンデカン＃誘導（Ｒ）−０−ｔ
−プチルビペコ　ネー　瞬　アミドｌ０塩化オキサリル
（０．０３０Ｍ！、０．　３　３　８　ミリ−Ｔ：ル）
を塩化メチレン０．　５　ｄに溶解し、窒素下−７８℃
に冷却した．ジメチルスルホキシド（０．０−３４一、
０．　４　８　３ミリモル）を加え、混合液を２０分間
撹拌した．塩化メチレン０．　５　ｄに溶解したジヒド
ロキシアミド９　（７５■、０．　０　９　６　６ミリ
モル）を酸化剤溶液に加え、混合液を−７８℃で３時間
攪拌した．トリエチルアミン（０．０９４ｄ、０．　６
　７　６ミリモル）を加え、混合液を−３０’Ｃに温め
、１時間攪拌した．混合液に０．　５　Ｍ重炭酸ナトリ
ウム１０Ｎ＆を加えて急冷し、混合液を酢酸エチル１０
−ずつで３回抽出した。酢酸エチル相を合わせ、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、真空中で濃縮し、シリカゲル（６：
ｌのヘキサン：酢酸エチルで溶離）によるクロマトグラ
フィーで精製して、８５％のジケトアミド１ｏを６４■
油状物質として得た．この化合物はＩＨ及び１３ｃ両Ｎ
ＭＲにより均質であった。

１隻■工 ２−オキソ〜２−（２’−ヒドロキシー３′−メチルー
５′−メトキシー６’−（１’−ヒドロキシル−２＃−
メチル−４＃−メトキシブタン−４＃一イル》−テトラ
ヒドロピラン−２′−イル）一酢酸誘導（Ｒ）−０−ｔ
−プチルピペコリネートアミド１１ 状物質として得た。この物質は’ＩＩ　ＮＭＨにより均
質であった。

ホスフィン３３のＩ＋′告 ム ｎ ジケトアミド１０（１３．０■、０．０１６８ミリモル
）を無水アセトニトリル１．０−に０℃で溶解し、４８
％水性フン化水素酸２滴を加えた。混合液を０℃で３時
間攪拌し、重炭酸ナトリウム飽和水溶液２−で急冷した
。混合液を酢酸エチル５Ｍｉずつで３回抽出した。有機
相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲル（２
：１のヘキサンー酢酸エチルで溶離する）によりクロマ
トグラフィー処理して、ヒドロキシアミド１１を６■を
油ｎ ツ ｎ Ｚ （２Ｒ，４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ，８Ｒ）　−　１−ピバロイ
ルオキシ−２．８−ジメチル−４−ヒドロキシ−５−ペ
ンジルオキシ−６−メトキシーｇ−ｔ−ブチルジメチル
シルオキシノ　ン、２２ 塩化ビバロイル（８７０μ１１．０５当ｍ＞を無水ピリ
ジン５〇一中（２Ｒ．４Ｓ，５Ｒ．６Ｓ．８Ｒ）−２．
　　８一ジメチル−４−ヒドロキシ−５−ペンジルオキ
シ−６−メトキシ−９−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シノナノール２１　（原料：アスキン、Ｄ．；ポランテ
、Ｒ．Ｐ．．　　リーマー、Ｒ．Ａ．．　ライアン、Ｋ
．ｉ．；　シンカイ、ｌ．；Ｔｅｔｒａ．Ｌｅｔｔ．　
１　９　８　８年、第２９巻、２７７頁）（３．０　７
　ｇ，　６．７　５ミリモル）の溶液をＯ″Ｃで加えた
。この溶液を２５℃に１時間温め、次に２５℃で１６時
間撹拌した。反応混合液に重炭酸ナトリウム飽和水溶液
１０ｍを加えて急冷した後、水７５ｌＩＩ．とジエチル
エーテル１５０ｄに分配した。水相を別のエーテル１０
０ｄずつで２回抽出した．有機相を合わせ水５０１１１
１！で１回塩化ナトリウム飽和溶液５０ｍで１回洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥した。真空中で濃縮して、２
２を３．６７ｇ粗油状物質として得た。油状物質を５：
１のヘキサン：酢酸エチルで溶離するシリカゲル１８０
ｇによるクロマトグラフィーで精製して、ピバロエート
２２を３．５２ｇ（収率９７％）を得た．この物質はＩ
Ｈ及び”Ｃ　ＮＭＲにより均質であった． 裏隻五ｌ旦 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ，８Ｒ）　−　１−ピバロイ
ルオキシ−２．８−ジメチル−４．６−ジメｌ・キシ−
５−ペンジルオキシ−９−ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシノナン、２３ ピバロエート２　２　　（３．５　２　ｇ，　６．５　
０ミリモル）をテトラヒドロフラン５０一に２５℃で溶
解し、ＮａＨ　　（鉱油中６０％分散）５２３■と無水
ヨウ化メチル（１０当量）４．０■を連続して加えた．
この溶液を２５℃で２４時間攪拌した。この混合液をジ
エチルエーテル１５０ｉｄと水５０ＷＩ１に分配した．
水相を別のエーテル１００ｄずつで２回抽出した．有機
相を合わせ、塩化ナトリウム飽和溶液１００ｄで洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥した．真空中で濃縮して２３
を３．　８　２　ｇ粗油状物質として得た．この物質を
ヘキサン：酢酸エチル（８：１）で溶離するシリカゲル
１９０ｇによるカラムクロマトグラフィーで精製して、
ジメトキシピバロエート２３を３．５８ｇ（９９％）得
た。この物質はｌＨ及び”Ｃ　ＮＭＲにより均質であっ
た。

１１貫ｉ旦 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ．８Ｒ）　−　１−ピバロイ
ルオキシ−２．８−ジメチル〜４．６−ジメトキシ−５
−ヒドロキシル−９−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
ノナン、２４ ベンジルエーテル２　３　（３．５　８　ｇ，　６．４
　８ミリモル）を酢酸エチル５０ｄに溶解し、２０％水
酸化パラジウム／炭素９５０ｍｇで処理した．水素ガス
を２５℃で１時間この溶液に通気した．この混合液をシ
ーライトに濾過し、真空中で濃縮してアルコール２４を
２．　９　８　ｇ油状物質として得た。この物質を次の
変換で直接使用した。

災隻班玉旦 ＜２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ．８Ｒ）　−　１−ピバロイ
ルオキシ−２．８−ジメチル−４，６−ジメトキシ−５
．９−ビスーｔ−プチルジメチルシｉルオキシノ　ン、
２５アルコール２　４　（２．９　８　ｇ，　６．４　
８ミリモル）を塩化メチレン５０−に２５℃で溶解し、
２．６−ルチジン（１．５１１Ｒ１、２．０当量）を加
えた。ｔ−プチルジメチルシリルトリフレート（２．２
３ｓｄ，１．５当量）を加え混合液を２５℃で１０〜１
５分間攪拌した。この溶液を重炭酸ナトリウム飽和水溶
液４０−に注ぎ、塩化メチレン２００ｄずつで２回抽出
した．合わせた有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、真
空中で濃縮してビスーｔ−プチルジメチルシリルエーテ
ル２５を４．０ｇ油状物質として得た．この物質はＩＨ
及び”Ｃ　ＮＭＲにより均質であり次の変換で直接使用
した。

裏旌且ｌ旦 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｓ．６Ｓ．８Ｒ）−２．　　８−ジメ
チル−４．６一ジメトキシ−５−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−９−ビバロイルオキシノナノール、２６ビ
スーｔ−プチルジメチルシリルオキシエーテル２５　（
３．６７ｇ，６．３６ミリモル）をテトラヒドロフラン
５４ｄ，水１８ｄ及びトリフルオロ酢酸０．　９　ｍか
らなる溶液に溶解した。この混合液を２５゜Ｃで５時間
撹拌した．この混合液を塩化メチレン２００ｄと重炭酸
ナトリウム飽和溶液１０〇一に分配した．水相を塩化メ
チレン２０Ｏｄずつで２回抽出した．有機層を合わせ、
硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で９ａ縮して油状物
質３．７５ｇを生成した．油状物質をヘキサン：酢酸エ
チル（４　：　１）で溶離するシリカゲル１９０ｇによ
るクロマトグラフィーで精製して第一アルコール２６を
２．６　７　５　ｇを得た。この物質は１Ｈ及び！３０
両ＮＭＨにより均質であった。

叉施皿エヱ （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ．８Ｒ）−２．　　８−ジメ
チル−４．６−ジメトキシ−５−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−９−ビバロイルオキシノ　　ール、２７塩
化オキサリル（２２７μｌ）を塩化メチレン５−に−７
０℃で溶解し、塩化メチレン５ｄ中ジメチルスルホキシ
ド（３０８μＮ，２．０当量）を加えた。この溶液を−
７０℃で１時間攪拌し、塩化メチレンｌＯＭｌ中アルコ
ール２６をカニューレより加えた．得られたスラリーを
−７０℃で１時間攪拌し、トリエチルアミン（１．５１
ｄ）を注射器より加えた，この混合液を−３０℃で１５
〜３０分間温めた。反応液に０．５Ｍ重炭酸ナトリウム
溶液２０−を加えて急冷した．この混合液を塩化メチレ
ン１５ｄずつで３回抽出し、合わせた有機相を水７５１
Ｉ１で１回逆洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した．真
空中で濃縮し、得られた油状物質を１０：１のヘキサン
／酢酸エチルで溶離するシリカゲル２５ｇによりクロマ
トグラフィー処理して所望のアルデヒド２７を９７１■
（収率９７％）を得た．この物質は１Ｈ及び”Ｃ　ＮＭ
Ｒにより均質であった． 実施■立旦 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ，８Ｒ）　−１−ピバロイル
オキシ−２．８−ジメチル−４．６−ジメトキシ−５−
ヒドロキシ−８−（１’．３’−ジチアン−２′−イル
）一ノ　ン、２８ アルデヒド２７（９７１■、２．１１ミリモル）を塩化
メチレン２５−に０℃で溶解し、プロパンー１．３−ジ
チオーノレ（３１８μｌ、１．５当量）を加えた。三フ
ッ化ボロンエーテレート（５１９μｌ、２．０当量）を
加え、混合液をθ℃で１時間攪拌した。反応混合液を塩
化メチレン７５−と重炭酸ナトリウム飽和溶液２５ｄに
分配した。水相を塩化メチレン７５ｍで１回抽出し、合
わせた有機相を重炭酸ナトリウム飽和溶液５０一で１回
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。真空中で濃縮し
、得られた油状物質を４：１のヘキサン／酢酸エチルで
溶離するシリカゲル２５ｇによりクロマトグラフィー処
理して、ジチアン２８を８９２■（収率９７％）油状物
質として得た．この物質はＮＭＲにより均質であった． ２隻Ｕ且 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ，６Ｓ．８Ｒ）　−　１−ビバロイ
ルオキシ−２．８−ジメチル−４．６−ジメトキシ−５
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−８−（１’，３’
ジチアン−２′−イル　ーノ　ン、２９アルコール２Ｂ
（８９２■、２．０５ミリモル）を塩化メチレン２５−
に２５℃で溶解し、２．６−ルチジン（０．４８ｄ、２
．００当量）を加えた。

ｔ−ブチルジメチルシリルトリフレー｝（０．７１一、
１．５０当量）を加え、混合液を２５℃で１０〜１５分
間攪拌した。この溶液を重炭酸ナトリウム飽和溶液４０
ｄに注ぎ入れ、塩化メチレン１０〇一ずつで２回抽出し
た。有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中
で濃縮してシリルエーテル２９を１．１ｇ油状物質とし
て得た。この物質を次の変換で直接使用した。

裏施炎旦上 （２Ｒ．４Ｓ．−５Ｒ．６Ｓ．８Ｒ）−２．　　８−ジ
メチル−４．６−ジメトキシ−５−ｔ−プチルジメチル
シリルオキシー（１’，３’−ジチアン−２′−イル）
−一ノナノール、３０ ピパレート２９（４６５．８■、０．８４ミリモル）を
無水テトラヒドロフラン２０Ｍ１に溶解し、Ｏ℃に冷却
した．水素化アルミニウムリチウム（３０．４■、ｏ．
　ｓ　ｏ　ｏミリモル）を加え、この溶液をＯ℃で１．
５時間撹拌した。反応混合液をジエチルエーテル５０１
ｄで希釈した．硫酸ナトリウム飽和水溶液５０ｄ次に酢
酸エチル５０一を加えた．水相を別に酢酸エチル１００
ｄずつで２回抽出し、有機相を合わせた。合わせた有機
層を塩化ナトリウム飽和溶液５０ｍで洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、真空中で濃縮してアルコール３０を
３９０■油状物質として生成した（質量回収率１０１％
）。

この物質は１Ｈと−’Ｃ　ＮＭＨにより均質であった，
２隻性ｌ丈 （ＩＲ”Ｓ”．３Ｒ．５Ｓ．６Ｒ，７Ｓ．９Ｒ）−２．
４．１０−　トリメチル−６．８−ジメトキシー７−ｔ
−プチルジメチルシリルオキシ−９−（１’．３’−ジ
チアン−２′一イル）一ノナンー１−イルジフェニルホ
スフィンオキシド、３３ アルコール３０（４５４■、０．９７ミリモル）を無水
ピリジン３．０−に溶解し−３０℃に冷却した。塩化ベ
ンゼンスルホニル（０．２　４　９ｍ、２．０当量）を
加え、混合液を窒素下−３０℃で１６時間攪拌した。こ
の反応混合液を酢酸エチル２５ｍとＩＮ塩酸２５−の混
合液に注ぎ入れた。相を分配し、有機層をＩＮＨＣ１２
０Ｍ１で１回及び塩化ナトリウム飽和水溶液２０ｄで洗
浄した。次に酢酸エチル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し
、真空中で油状物賞に濃縮した。この油状物質を５：ｌ
のヘキサン／酢酸エチルで溶離するシリカゲルによるカ
ラムクロマトグラフィーで精製してスルホン酸ベンゼン
５２８■を油状物質として得た。この物質はｌ｝ｌと”
Ｃ　ＮＭＲで均質であった。エチルジフェニルホスフィ
ンオキシド（４００■、１．７４ミリモル）を無水テト
ラヒド口フラン５ｄに窒素雰囲気下で溶解し−７８℃に
冷却した。ｎ　−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．　５　Ｍ溶
液１．１０ｄ、１．６５ミリモル》を加え、この混合液
を−７８℃で２０分間攪拌した．分液フラスコでスルホ
ン酸ベンゼン（５２８■、０．８７ミリモル）を無水テ
トラヒドロフラン４ｄに溶解し窒素下に置いた。次いで
ベンゼンスルホン酸塩溶液を−３０℃の温度に維持しな
がらリチオーホスフィンオキシドアニオン溶液に加えた
．この反応混合液を０℃に３０分間温め、反応混合液に
塩化アンモニウム飽和水溶液１５ｍを添加して急冷した
，この混合液を酢酸エチル２０Ｍ１で３回抽出し、有機
相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で油状物
質に濃縮した。この油状物質を３：ｌのヘキサン／酢酸
エチルで溶離するシリカゲルによるカラムクロマトグラ
フィーで精製して、所望のホスフィンオキシド３３を４
６７■（７９％）得た。この物質は′Ｈ及びｌ″Ｃ　Ｎ
ＭＲにより均質であった。

実施拠１ アノレー゛ヒド２の１゛告 圓 ３ｌ Ａ：　（２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ，６Ｓ．８Ｒ）−　１　−　
｝リイソブロビルシリルオキシ−２，８−ジメチル−４
，６−ジメトキシ−５−ｔ−プチルジメチルシリルオキ
シ−８−（１’．３’−ジチアン−２′−イル）一ノナ
ン、３ｌの アルコール３０（２．０ミリモル）を塩化メチレン２５
Ｍ１に２５℃で溶解し、２．６−ルチジン（０．４８ｄ
、２．０当Ｎ）を加えた。トリイソプロビノレシリルト
リフレート（０．７１Ｔｎ！、１、５０当量）を加え、
混合液を０℃で３０分間攪拌した。この溶液を重炭酸ナ
トリウム飽和水溶液４０ｄに注ぎ入れ、塩化メチレン１
００ＷＲ１ずつで２回抽出した。

有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃
縮してシリルエーテル３１を１．１ｇ油状物質として得
た。この物質はＮＭＲにより均質であった． Ｂ．　（２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ．６Ｓ，８Ｒ）−２．　　８
−ジメチル−４．６−ジメトキシ〜５−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−９−トリイソプロビルシリルオキシ
ーノール、２の Ｎ−クロロスクシンイミド（４６０■．、３．４ミリモ
ル）、硝酸銀（６６０■、３．８５ミリモル）及び２，
６−ルチジン（　１．　０　１Ｉ１、８．６ミリモル）
をメタノール４・２ｗ１に溶解し、窒素雰囲気下遮光し
て２５℃で３０分間攪拌した。ジチアン３１（０．８５
ミリモル）を加え、混合液を更に２５℃で１．５時間攪
拌した。混合液を０℃に冷却し、硫酸ナトリウム飽和水
溶液４０ｍ、重炭酸ナトリウム飽和水溶液４〇一及び塩
化ナトリウム鋤粕薄液４０−で処理した。水（４０＋ｄ
）を加え混合液を塩化メチレン５０−ずつで４回抽出し
た．有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中
で容量２０ａｄに濃縮した．グリオキシル酸（４２５■
、６．８ミリモル）及び酢酸（０．４０−、６．８ミリ
モル）を加え、混合液を４０℃で１時間攪拌した。

混合液を冷却し、重炭酸ナトリウム飽和水溶液５０−に
注ぎ入れ、塩化メチレン５０−ずつで２回抽出し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。この溶液を真空中で油状物質に
濃縮し、シリカゲル（１０：１のヘキサン：酢酸エチル
で溶離）によりクロマトグラフィー処理してアルデヒド
２を得た（収率９０％）。この物質はＮＭＲにより均質
であった． １１桝主 （２Ｒ，３Ｓ，５Ｓ．６Ｒ，７Ｓ，１　’　Ｒ．３’　
Ｒ．４　’　Ｒ）−　Ｅ　−　２　−（プロブー２′一
エンー１′−イル）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシー５−トリイソブロビルシリルオキシ−６．８−ジ
メチル−７−トリエチルシリルオキシ−（４′一トリイ
ソブロビルシリルオキシ−３′−メトキシシクロヘキシ
ーイル　ーノン−８−エ　ール、３５ メトキシメチルアミド３５ａ　（ミルス（ＭｉＩＩｓ）
　＋Ｓ．；デスモンド（Ｄｅｓｍｏｎｄ）　＋　Ｒ．；
　リーマー，Ｒ．Ａ．．ボランテ．Ｒ．Ｐ．．シンカイ
，Ｉ．．Ｔｅｔ．ＬｅＬｔ．　　１　９　８　８年、第
２９巻、２８１頁）（１．６３ｇ、１．６５ミリモル）
を窒素下無水テトラヒドロフラン１３．０−に溶解し、
−７８℃に冷却した．水素化ジイソプチルアルミニウム
（トルエン中１．５Ｍ溶液１．７６ｍ、２．６４ミリモ
ル）を加え、得られた溶液を−２３℃に４０分間温めた
．この混合液を更に１．３３時間撹拌し−１３℃に１５
分間温めた。この溶液を−７８℃に冷却し、ＬＭ酒石酸
水溶液（１４Ｗｌ）とヘキサン（２２ｍ）の激しく攪拌
した混合液にカニエーレにより移した．この混合液を２
５℃に温め４５分間攪拌した後相を分離した．水性部分
をジエチルエーテル２５−ずつで２回抽出した．有機相
を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で油状物質
に濃縮した。この油状物質をシリカゲル（８０：１のヘ
キサン：酢酸エチル１ｌと３０：１のヘキサン：酢酸エ
チル４０ＱＷＩ１で溶離）によりフラッシュクロマトグ
ラフィー処理して、アルデヒド３５を１．　４　６　ｇ
油状物質として得た（収率９５．５％）。この物質はＮ
ＭＲにより均質であった。

実詣■１ （ＩＲ．３Ｓ．４Ｒ，５Ｓ．７Ｓ．１１Ｒ．１２Ｓ．１
４Ｓ．１５Ｒ．１６Ｓ，１　’　Ｒ，３　’　Ｒ．４’
Ｒ）−Ｈ，Ｅ−１−　（１　’，　　３　’−ジチアン
−２′ーイル）　−１．７．９．１５．１７−ペンタメ
チル−３．５−ジメチルオキシー１２−ビスーｔ一ブチ
ルジメチルシリルオキシ−１１−（プロプー２′一エン
ー１′−イル）−１４−｝リイソ．プロビルシリルオキ
シーｌ６−トリエチルシリルオキシー１８−（４’−｝
リイソブロビルシリルオキシ−３′−メトキシシクロヘ
キシ−１′−イル）一オク　ー゛力−９　１７−ジェン
、３７Ａ．ＭｆＬ 酸化ホスフィン３３（９０３■、１．３３ミリモル）を
窒素下テトラメチルエチレンジアミン（０．８０３−、
５．３２ミリモル）を含む無水テトラヒドロフラン４．
４−に溶解し−７８℃に冷却した，　ｎ　−ＢｕＬｉ　
（ヘキサン中１．５６Ｍ溶液１．０２ｄ、１，５９ミリ
モル》を４分間注射器により滴下した。

この混合液を−７８℃で３０分間攪拌し−５０℃に温め
５分更に攪拌した。この溶液を−７８℃に再冷却し３０
分間熟成した。アルデヒド３５（１．４　８　ｇ，　１
．２　０当量）を無水テトラヒドロフラン５−に溶解し
、酸化ホスフィンアニオン溶液に１０分間溶液の温度を
−７８℃に維持しながら加えた．この混合液を−７８℃
で５分間攪拌し、塩化アンモニウム飽和水溶液２０−を
加えた．この混合液を酢酸エチル５０Ｍｌずつで３回抽
出した。

有機層を合わせ硫酸ナトリウムで乾燥した．真空中で濃
縮して油状物質を得、シリカゲル（８：１のヘキサン：
酢酸エチルで溶離）によるクロマトグラフィーで精製し
て所望のジアステレオマーヒドロキシ酸化ホスフィン３
６を油状物質として得た（６０９■、３０％）． Ｂ．ＪＩ１！ ヒドロキシー酢酸ホスフィン３６（６０９■、０．　３
　７　９ミリモル）を生成するＥ−オレフィンを無水テ
トラヒドロフラン６−に溶解し、窒素雰囲気下−２０℃
に冷却した。カリウムへキサメチルジシラザン（トルエ
ン中０．　５　Ｍ溶液１．１４ｄ、０．　５　６　９ミ
リモル）を加え、この混合液を−２０℃で２０分間、次
に０℃で１一時間攪拌した。塩化アンモニウム飽和水溶
液（３０ｄ）を加え、この混合液を酢酸エチル３０ｄず
つで３回抽出した。

合わせた酢酸エチル相を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空
中濃縮してオレフィン３７を４３５＋ｗ油状物質として
得た（収率８２％）。この物質は１Ｈ及び”Ｃ　ＮＭＨ
の両方により均質であった。

Ｈ　　ＮＭＲ　　δ　５．７Ｎ請．Ｈｍ）　　、ｓ．ｉ
ｓ（ｄ，Ｊ・８．８，Ｌｓ）　　、４．９９（ｏｂｓ　
ｄ，Ｈｚｏ）　　、４．９５（ｍ．Ｈｚ＋ｃ　）　　、
４．１９（ｄ．Ｊ＝３．４．ＨＩ（１）、４．０６（ｄ
，Ｊ・９．３．Ｈｔｉ）　、３．９１（ｄｄ，Ｊ・５．
９，１．５．Ｈ１４）、３．８４（ｂｒ　ｄｄ．　Ｊ＝
１０．３．３．９．ＨｚＪ）、？．５５（ｓ，Ｈｓｚ）
　　、３．４７（ｓ，ＯＣＩｈ）、３．４８（ｏｂｓ　
ｍ，Ｈｉｔ）　　、３．３９（Ｓ，ＯＣＲ３）、３．３
４（Ｓ，ＯＣＲ：ｌ）、３．２８（ｂｒ　ｄ，Ｊ＝９．
８，Ｈ＋＋）、３．１８（ｗ，Ｈ＋ｓ）　　、２．９９
（ｌｌ．Ｈ３１）　　、１．６Ｈｄ，Ｊ■１．０＋Ｃｚ
ｔａＨｓ）　　％　１．５５（ｂｒ　ｓ．ｃｔｖａＨｓ
）　　。

”Ｃ　ＮＭＲ（７５．４７ＭＨｚ）：　　δｃ　１３７
．７（Ｃｚｔｂ）　　、１３５．８，１３５．０（Ｃ！
？，ＣＩ！）、１３２．５（Ｃｚ＠）、１２７．９（Ｃ
．。）、１１５．４（Ｃｗｔｃ）　　、８４．６（Ｃｉ
＋）　　、８１．２（Ｃ＋ｓ）、８０．４（ＣＩ３）、
８０．３（ＣＨ）　　、７５．０（Ｃｓｚ）　　、７３
．６（Ｃｔａ）、７２．９（Ｃｚｚ）、７０．０（Ｃ！
４）　　、５９．０、５７．３２　、５７．２７（３　
Ｘ　ＯＣＨ３）　　、５４．７（ＣＩ。）　　、４７．
１（Ｃ＋ｓ）、４５．ＨＣｚ＋）、４１．２（Ｃｚｔ−
）　　、４０．４（Ｃｚｓ）　　、３９．０（ＣＩ．）
、３５．７、３５．５（ＣＢ，Ｃ＋。）、３５．４７（
Ｃ．，）、３５．　１　（Ｃ２９）、３４．７（Ｃ：＋
ｓ）　　、３４．３（Ｃｔｚ）、３ｌ．４、３０．９（
Ｃｚ・＋Ｃ４・）　　、３０．７（Ｃ３．）　　、２７
．３（ＣＩ？）　　、２６．５（Ｃ＋，）　　、２６．
０（２　Ｘ　ＳｉＣ（ＣＨｚ）３）、２０．２（ｃｔ，
．）、１８．７、１８．６、１８．２、１８．１、（２
Ｘ　Ｓｉ　（ＣＨＣＣＪ）　ｚ））　　、１８．５（Ｃ
＋＋．　）　　、１８．３（ＳｉＣ（ＣＨｓ）：＋）　
　、１６．６（ＣＩ９．）、１３．４、１２．７（２Ｘ
　Ｓｉ　（Ｃｌ（Ｃ｝１３）　ｚ）　３）、１１．６（
Ｃｔｔ−　）　　、９．０（Ｃｚｓ−）　　、７．０（
Ｓｉ　（ＣＨｚＣＨｓ）　３）、５．　０　（Ｓｔ　（
Ｃ｝ＩｚＣＨ３）　ｓ）、−３．６、−４．３、−４．
５、−４．６（２ＸＳｉ（ＣＨｉ）ｚｔ−Ｂｕ）　　。

直［ （ＩＲ．　３Ｓ．　４Ｒ，５５．７５，　ＩＩＲ．　１
２５．　１４Ｓ．　１５Ｒ．　１６Ｓ．　１　’　Ｒ．
　３　’　Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−１−　（１　’，　
　３　’−ジチアン−２′ーイル）−１．７．９，１５
．１７−ペンタメチル−３．５−ジメトキシー４，１２
−ビスーｔブチルジメチルシリルオキシ−１４−トリイ
ソプロビルシリルオキシ−１６−ヒドロキシ−１８一（
４’−｝リイソプロビルシリルオキシ−３′−メトキシ
シクロヘキシ−１−イル）一オクタデカ９．１７−ジエ
ン、３８ コ 田 ０．１０〜Ｃ．３４　（ＦＫ−５　０　６番号系）トリ
エチルシリルエーテル３７（６８０■、０．４９０ミリ
モル）をテトラヒドロフラン６．０艷に溶解し、水１．
　０　ｄとトリフルオロ酢酸０．１００１Ｒ１を加えた
。

この混合液を２５℃で１．　５時間攪拌し、重炭酸ナト
リウム飽和水溶液２．０−で希釈し、酢酸エチル１５ｉ
ｄずつで３回抽出した。酢酸エチル層を合わせ硫酸ナト
リウムで乾燥し真空中で濃縮した。残留油状物質をシリ
カゲル（ヘキサン：酢酸エチルをまず２０：１で８００
一次に１０：１で４５０一で溶離する）５１ｇによりク
ロマトグラフイー処理して所望の第ニアルコール３８を
５７８■得た（９２．６％）。この物質はｌ｝｛及び１
３Ｃ　ＮＭＨにより均質であった。

１隻■上土 （ＩＲ．３Ｓ．　４Ｒ．５Ｓ．７Ｓ．　ＩＩＲ．　１２
Ｓ，　１４Ｓ，　１５Ｒ．　１６Ｓ．　１　’　Ｒ．３
　’　Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ．Ｅ−　１　−　（１　’，　
　３　’−ジチアン−２′一イル）−１．７，９．１５
．１７−ペンタメチル−３．５−ジメトキシー４．１２
−ビスーｔ一プチルジメチルシリルオキシ−１１−（プ
ロプ−２′一エンー１′−イル）　−１４−ｔ−リイソ
ブ口ピルシリルオキシ−１６−（（Ｎ−ｔ−プチルカル
ボニルオキシーピペコリニル）一ヒドロキシ）−１８−
（４’−｝リイソブロビルシリルオキシ−３′−メトキ
シシク口ヘキシル）一オクタデカン−９　　１７−ジエ
ン、３９ アルコール３Ｂ（５７８■、０．　４　５　４ミリモル
）を窒素雰囲気下無水塩化メチレン５−に溶解し−７８
℃に冷却した．Ｎ　−　ｔ　−Ｂｏｃ　−Ｌ−ピペコリ
ン酸（４１７■、１．８１７ミリモル）、ジシクロへキ
シルカルボジイミド（３７５■、１．８１７ミリモル）
及び４−ジメチルアミノピリジン（１１■’，０．０９
１ミリモル）を加えた。この混合液を−７８゜Ｃで５分
間撹拌し、次に−３０℃に温め、撹拌せずに５時間、−
１５〜−２０℃で１６時間熟成した．固形分を濾過で除
去しヘキサン１０ｄで洗浄した．濾液を真空中で濃縮し
、得られた生成物をシリカゲル（８：ｌのヘキサン：酢
酸エチルで溶離）によるクロマトグラフイーで精製して
、所望のＮ−ｔ−ＢＯＣ−ビペコリネート３９（７５６
■、１１２％質量回収）を得た。この物質は次の変換で
使用した。

ス崖貫１叢 （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ，６Ｓ．８Ｓ．１２Ｒ．１３Ｓ．１
５Ｓ，１６Ｒ．１７Ｓ．１’　Ｒ．３’Ｒ，４’　Ｒ）
　−Ｅ．Ｅ−　１　．１，４．６−テトラメトキシ−２
．８，１０，１６．１８−ペンタメチルー５．１３−ビ
スーｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１２−（ブロプ
ー２′一エンー１′−イル）　−１　５−トリイソプロ
ビルシリルオキシ−１７−（Ｎ−ｔ−プチルオキシカル
ボニルービペコリノイル）一１９−（４’−｝リイソブ
ロビルシリルオキシ−３′−メトキシシクロヘキシ−１
′−イル）一ノー゛力−１０　１８−ジエン、４０ Ｎ−クロロスクシンイミド（２２９■、１．゛７１２ミ
リモル）、硝酸銀（３２７■、１．９２６ミリモル）及
び２．２−ルチジン（０．５０ｄ、４．２８１ミリモル
）を無水メタノール２１．２艷に溶解し、得られた懸濁
液を２５℃で２５分間遮光して窒素雰囲気下で攪拌した
．無水テトラヒドロフラン１０１ＩＩｌ中ジチアン３９
（６３５．１■、０．　４　２　８ミリモル》を加え、
混合液を更に２５℃で１．５時間攪拌した．この混合液
をＯ℃に冷却し、１０％水性重亜硫酸ナトリウム２０−
、重炭酸ナトリウム飽和水溶液２０ｄで処理した。水（
２５ｍ）を加え、この混合液を塩化メチレン２５＋ｄず
つで４回抽出した。有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで
乾燥し、真空中で−ａ縮し、シリカゲル（２０：１のヘ
キサン／酢酸エチルで溶離）３０ｇによりクロマトグラ
フィー処理して、ジメチルアセタール４０　（４８８■
、３９からの収率７５％）を得た．実施■土１ （２Ｒ．４Ｓ．５Ｒ，６Ｓ．ＢＳ．　１２Ｒ．　１３Ｓ
．　１５Ｓ，　１６Ｒ．　１７Ｓ．　１　’　Ｒ，３　
’　Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−４．６−ジメトキシー２．
　　８．１０．１６．１８−ペンタメチル−５，ｌ３−
ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシー１２−（ブロ
ブー２′一エンー１′−イル）−１５−｝リイソプーロ
ビルシリルオキシ−１７−（（Ｎ−ｔ−プチルオキシカ
ルボニルーピペコリノイル）−１９−（４′一トリイソ
ブロビルシリルオキシ−３′メトキシシクロヘキシル）
一ノナデカー１０．１８ージエナール、４１ ジメチルアセタール４０（４８８■、０．　３　３　９
ミリモル）を窒素雰囲気下で塩化メチレン８−に溶解し
、グリオキシル酸（３１２■、３．３９ミリモル）及び
酢酸（０．１９ｍｆｆｉ、３．３９ミリモル）を加えた
。得られた溶液を４０℃で１時間攪拌した。

この反応混合液を２５℃に冷却し、θ℃で重炭酸ナトリ
ウム飽和溶液２５−に注ぎ入れた．相を分離し水相を塩
化メチレン２５−ずつで２回抽出した。有機相を合わせ
硫酸ナトリウムで乾燥し真空中で濃縮した．得られた物
質をシリカゲル（３０ｇ、１２：１のヘキサン：酢酸エ
チルで溶離する）によるクロマトグラフィーで精製して
所望のアルデヒド４１（４２１■、収率８９％）を得た
。この物質はＮＭＲにより均質であった。

１隻■上土 （２Ｓ．　３Ｒ．　４Ｒ．６Ｓ．　７Ｒ，８Ｓ．　ＩＯ
Ｓ．　１４Ｒ．　１５Ｓ，　１７Ｓ．　１８Ｒ．　１９
Ｓ，１　’　Ｒ，３　’　Ｒ，４’Ｒ）　−Ｅ，Ｅ−２
−　（　ｐ−メトキシベンジルオキシ）−３−ヒドロキ
シー４．１０．１２，１８．２０−ペンタメチル−６，
８−ジメトキシ−７．１５−ビスーｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１４−（ブロプー２′一エンー１′−イ
ル）−１７−｝リイソブロビルシリルオキシ−１９−（
（Ｎ−ｔ−プチルオキシカルボニル）一ピペコリノイル
）−２１−　（４’−１リイソプロビルシリルオキシー
３′−メトキシシクロヘキシル）ー１２．２０−ジエン
酸誘導オキサゾリジン−２′一オンイミド、４ ｐ−メトキシベンジルアセトアミド１　５　　（３５５
■、０．　４　７　２ミリモル）を窒素雰囲気下−５０
℃で無水トルエン１−に溶解した．トリエチルアミン（
０．８　５ｄ．　０．６　０　９ミリモル）とジブチル
ボロントリフレート（０．１１４ｍｆ、０．　４　５　
６．ミリモル）を加え、この混合液を１．　５時間攪拌
した。トルエン１．０ｄ中アルデヒド４　１　　（４２
４　ｒｕｇ，　０．３０４ミリモル）を加え、この混合
液を−３０℃に温め１６時間熟成した．この反応液にＰ
Ｈ７．０のリン酸緩衝液０．　５１ｄ、メタノール１．
　Ｏ　ｌｌｄ及びテトラヒド口フラン２．０ｍを加えて
急冷した．この混合液を０゜Ｃで３０分間撹拌し３０％
過酸化水素水溶液０．　５　ｍを加えた．この混合液を
０℃で１時間撹拌し、塩化ナトリウム飽和溶液１０ｄを
加え、この混合液を酢酸エチル２０Ｉｄずつで３回抽出
した。

有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃
縮した。シリカゲル（３：１のヘキサン：酢酸エチルで
溶離）によりクロマトグラフィー処理して、所望のアル
ドール付加物４２を４６８■を得た（収率８８％）。ア
ルドール付加物はＮＭＲにより均質であった。

叉星拠１立 （２Ｓ．　３Ｒ．　６Ｓ．　７Ｒ．　８５，　１０５，
　１４Ｒ．　１５Ｓ．　１７５．　１８Ｒ，　１９Ｓ．
　１　’　Ｒ，３’　Ｒ．４’　Ｒ）一Ｅ，Ｅ−２−　
（４’−メトキシベンジルオキシ）−３−｝リエチルシ
リルオキシー９，１２．１８．２０−ペンタメチル−６
．８−ジメトキシ−７．１５−ビスーｔ−プチルジメチ
ルシリルオキシーエ４−（ブロプ〜２′一エンー１′−
イル）−１７−｝リイ、ソプロピルシリルオキシ−１９
−ピベコリノイル−２１−（４’−トリイソプロビルシ
リルオキシ−３′−メトキシシクロへキシル　−１２　
２０−ジエン　、４３アルコール４２　（１００ａｇ，
０．０５７ミリモル）をテトラヒドロフラン０．９６艷
に溶解し水０．２４ｄを加えた．この混合液を窒素雰囲
気下Ｏ℃に冷却し、過酸化水素（３０％水溶液０．０４
７ｄ、０．４６ミリモル）゜と水酸化リチウム（４．８
■、０．１１４ミリモル）を加えた。この混合液をθ℃
で１．５時間攪拌し、次に真空中で濃縮してテトラヒド
ロフランを除去した。ヘキサン（２．０ｄ）と水（０．
６一）を加え、この混合液をＯ℃に冷却した。０．５Ｍ
水性重硫酸ナトリウムでｐｔｔｔｏ〜４．５に調節した
。相を分離し水相をヘキサン３−ずつで４回抽出した．
合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で１
！縮して油状物賞９５．９■を得た。

この油状物質（０．０５７ミリモル）を窒素下で無水塩
化メチレン０．　９−に溶解し−１２℃に冷却した。２
．６−ルチジン（３７■、０．３４ミリモル、６当量）
次にトリエチノレシリノレトリフラート（０．０５８ｍ
、０．２６ミリモル、４．５当量）を加えた。この溶液
をＯ℃に２０分間温め、この混合液をＯ℃で１．２５時
間攪拌した。水（０．６ｄ）を加え、この混合液を３０
秒間激しく攪拌した。ヘキサン（２．０ｍ！）を加え相
を分離した。水相を別のヘキサン３ｄずつで４回抽出し
、有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチ
レンを含む１４ｇのシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーカラムに注ぎ、このカラムで６５分間熟成した．
このカラムを溶媒で周期的に溶離して、この物質を新し
いシリカゲルにさらした。カラムを塩化メチレン１２５
一次に１％メタノールを含む塩化メチレン１５０−、４
％メタノール／塩化メチレン１２０ｍ及び８％メタノー
ル／塩化メチレン２００ｄで完全に溶離してアミノ酸４
３を７２．２■を得た（収率７６％）．この物質はＮＭ
Ｒにより均質であった． ’Ｈ　ＮＭＲ：　　δ７．２Ｂ（ｍ．Ｈｚ・．ｈ，）　
、６．８３（ｍ．Ｈｚ・．，・）、５．６８（ｍ，Ｈｔ
＋，）　、５．５０（ｂｒ，活性）　　、５．４５（ｄ
．Ｊ＝９．８．Ｌｈ）、５．３９（ｄ．Ｊ＝８．８．Ｈ
ｔｓ）　、４．９５（ｍ＋Ｈｚ＋ｃ　）、４．７４（ｄ
．Ｊ＝１０．３，Ｈｚｏ）、４．６５、４．２４（２Ｘ
　ｄ，Ｊ＝１１．２，ＯＣＲ．＾ｒ）　、３．９３（ｔ
，Ｊ＝４．０．８＋ｏ）　、３．８８（ｍ．Ｈｚｎ）、
３．８１　（ｄ．　Ｊ＝４．０．　８ｇ）、３．７８（
ｓ．ＡｒＯｃＨｚ）、３．７６（ｂｒ　ｄ，Ｊ・６．８
，Ｈ＋ｔ）、３．６４（ｓ＋，Ｈｚ）、３．５５（ｍ．
Ｈ３ｔ）　、３．４４、３．３８、３．２９（３Ｘ　Ｏ
ＣＩ｛：Ｉ）　、３．２０（ｍ，Ｈｚｚ）　、３．１７
（ｏｂｓｃＬ｝Ｉｉ＊Ｊ　、３．０８（ｂｒ　ｔ＋ＪＪ
−５＋Ｌｓ）、３．０２（ｍ．Ｊｉ）、？．９７（ｍ．
ＩＩ＋ｔ）　　、２．７７（ｂｒ　　ＬＪ・ＩＬｌｌｉ
ａｘ　）　　、１．６５（ｂｒ　ｓ＋ｃｚ？Ｊ＊）　　
、１．５８（ｂｒ　Ｓ．ＣＩ９１１Ｈ３）　　。

１３Ｃ　ＮＭＲ：δＣ　１７５．０（ＣＩ）　　、１７
１．２（Ｃ．）　　、１５９．１（Ｃｔ・）　　、１３
７．６（ｃｚ＋ｂ）、１３６．４（Ｃｚｓ），１３６．
０　、１３０．６　、１３０．０（ＣＩ９，Ｃ■，Ｃ＋
）　　、１２９．９（Ｃｚ・．６，）　　、１２８．３
（Ｃ！０）、１１５．４（Ｃｚｓｃ）　　、１１３．５
（Ｃ１．　ｓ・）、８４．４（Ｃ３１）　　、８２．５
、８１．９、７６．５、７５．８、（Ｃ９，ＣＩｌｌ，
Ｃ＋４，Ｃｚｈ）、８１．１（Ｃ＋ｓ）　　、８０．４
（ＣＩ３）　　、７４．８（Ｃｓｚ）　　、７２．９（
Ｃｚ＊）　　、７２．２（ＱＣＨＪｒ）、６９．５（Ｃ
ｚ４）　　、５９．７（ＡｒＯＣＨｉ）、５７．５、５
６．８、５６．５（３ＸＯＣＲ３）、５５．　１　（Ｃ
ｔ）、４７．２（Ｃｔｓ）、４６．６（Ｃｇ＋）、４３
．６、４２．１（Ｃ６　、Ｃ＋６）．４０．４（Ｃ！＋
−）　　、３８．２（Ｃｚｓ）　　、３６．４（Ｃ！３
）　　、３５．８（Ｃｓ。，ｃ＋＋）　　、３５．１（
Ｃｚｗ）　　、３４．０（Ｃ３３）　　、３２．１（Ｃ
＋■）、３０．２（Ｃｔ４）、２８．４、２４．９、２
３．２（Ｃ＋．Ｃｎ，Ｃｓ）、２７．３（ＣＩ？）　　
、２６．０（ＳｉＣ（ＣＨｓ）ｚ）　　、２０．１（Ｃ
＋ｔ−）、１Ｂ．５４、１Ｂ．５０、１Ｂ．０９、１８
．０８（２ＸＳｉ　（ＣＨ（ＣＨ３）　ｚ）　３）、１
８．２（ＳｉＣ（ＣＨ３）　３）、１７．４、１６．５
（Ｃ＋＋−　．ＣＩ９−　）　　、１３．２、１２．６
（２Ｘ　Ｓｔ（ＣＨ（ＣＨｓ）ｚ）ｓ）、１２．２（（
．？．　）　　、８．６（Ｃｔｓａ）　　、７．０　　
、６．９（２ＸＳｉ（ＣＨｚＣＨ３）ｚ）、５．１　　
−　５．０（２Ｘ　Ｓｔ（ＣＨｚＣＩＩｓ）ｓ）　　、
−３．０、−４．２（Ｓｉ　（ＣＨ３）　ｔ）．大嵐且
上ｌ Ｃ．９−（ｐ一メトキシベンジルオキシ）　　−Ｃ．１
０−トリエチルシリルオキシ一〇，１４，　Ｃ．２２−
ビスーｔ一ブチルジメチルシリルオキシーＣ．２４．Ｃ
．３２−ビス（トリイソプロビルシリルオキシ）一へキ
サヒドローＦＫ−５０６、４４　　ＦＫ−５０６　　’
″ｌ系）ヨウ化Ｎ−メチル２−ピリジニウム（　１　３
．　４　ｍｇ、０．　０　５　２ミリモル）を窒素雰囲
気下塩化メチレン３０ｄに溶解しトリエチルアミン０．
０１０Ｗｉを加えた。トリエチルアミン０．０２０ｄを
含む塩化メチレン９．０一中アミノ酸４３（７０■、０
．　０　４　４ミリモル）を２５℃で１．５時間注射器
により加えた。この混合液を更に２５℃で１〜２時間攪
拌し、水２．　０　＋ｄを加え塩化メチレンを真空中で
除去した。

この混合液をヘキサン（６ｄずつで４回）で抽出し、百
分を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮し
て油状物質６５．５■を得た。この油状物質をシリカゲ
ル（３０：１のヘキサン／酢酸エチル１２５ｍ次に１５
：１のヘキサン／酢酸エチル１２０ｄで溶離する）によ
るフランシュクロマトグラフィーで精製して大環４４を
５３．２■得た（７７％）。この物質は１Ｈ及びＩ″Ｎ
ＭＲにより均質であった。

実隻桝土工 Ｃ．　９　，　Ｃ．１０−ジヒドロキシーＣ．１４，　
Ｃ．２２−ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシーＣ
．２４，Ｃ．３２ビス（トリイソプロビルシリルオキシ
ＰＫ　−　５０６、大環４４（１４８■、０．　０　９
　３ミリモル）を塩化メチレン０．　８　ｄと水０．０
４４−に溶解し、この混合液を２５℃で攪拌した。２．
３−ジクロロー５．６−ジシアノ−１，４−ペンゾキノ
ン（１０６■、０．４７ミリモル）を加え、得られた混
合液を２５℃で約４時間攪拌した。次いでこの粗反応混
合液をフラッシュクロマトグラフイーシリカゲル（塩化
メチレン１３０ｄ、１５：１のヘキサン：酢酸エチル２
５０−、６：１のヘキサン／酢酸エチル２　３　０　ｍ
ｌ及び３：１のヘキサン／酢酸エチル２００ｄでｔ容離
する）１３ｇによりクロマトグラフィー処理して、Ｃ．
９−ヒドロキシ−０．１０−トリエチルシリルオキシ化
合物４５（５３．３％）７３■及びＣ，　９−Ｃ．１０
−ジヒドロキシ大環４６を３１■得た．０．９−ヒドロ
キシーＣ．　１　０　−　｝リエチルシリルオキシ化合
物４５をテトラヒドロフラン１．５艷に溶解し、トリフ
ルオロ酢酸０．　０　５　０−を加えた。この混合液を
２５℃で３．５時間撹拌した。

この混合液を重炭酸ナトリウム飽和水溶液３−で希釈し
、酢酸エチル３１ｓ１ずつで４回抽出した。合わせた有
機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮し、シリ
カゲル（３：１のヘキサン／酢酸エチルで溶離）により
クロマトグラフィー処理してジオール４６を６１．２■
を得た。この物質を上記のクロマトグラフィーで得たジ
オールと合わせてジオール９１■を得た（Ｃ．　９　−
　ｐ−メトキシベンジルとＣ．１０−｝リエチルシリル
オキシ保護基を除くことに関する全収率７２％》。

４５に対する選択データ’Ｈ　ＮＭＲ（主回転異性体）
：６５．６７（ｍ．Ｈｚ＋ｂ）　、５．５３（ｄ．Ｊ・
１０．７．Ｈｘｉ）、５．４２（ｄ，Ｊ−８．８．’Ｈ
ｚｓ）、５．１０（ｂｒ　ｄ，Ｊ＝４．９．Ｈｔ）　、
４．９３（ｍ，？ｔ＋ｃ）　　、４．７２（ｄ，Ｊ■１
０．３，ｆｌｚｏ）、４．５１（ｂｒ　ｄ．Ｊ＝１２．
７．Ｈｔｈ．．）　　、４．２４（ｄ，Ｊ−９．３．Ｉ
ＩＩ。）　　、４．１５（ｄ，Ｊ・９．８．８９）、３
．９５（＋ｏ．ｔｌｚａ）　　、３．７０（ｄ．Ｊ＝８
．３．ＨＩ４）　　、３．５４（ｄ，Ｊ．９．８．１０
−０１１）　　、３．５１、３．３７、３．２５（３　
ｘ　ｓ．３ｘＯＣＲｓ）　　、３．２５（ｏｂｓ　　ｍ
，Ｈｈ−−　　）　　、１．６９（ｄ，Ｊ”ｌ．Ｏ．Ｃ
ｚ？ａｌ：＋）　　％　１．５８（ｂｒ　３１ＣＩ９１
１｝＋３）　　。

追加データｅ　ＮＯＥ差分光分析は５％ＮＯＥ　Ｈｑ〜
Ｈｔを示し環化が確かに証明された。

裏旌開上ｌ Ｃ．１４．Ｃ．２２−ビスーｔ−ブチルジメチルシリル
オキシーＣ．２４．Ｃ．３２−ビスートリイソプロビル
シ　ルオキシーＦＫ−５０６、４７塩化オキサリル（０
．００６１Ｎ１、０．０７ミリモル）を塩化メチレン０
．　５　ｄに溶解し窒素下で−７８℃に冷却した。ジメ
チルスルホキシド（０．００７１ｄ、０．　１　０　０
ミリモル）を加え、この混合液を２０分間攪拌した．塩
化メチレン０．５−に溶解したジヒドロキシ大環４６（
２７■、０．０１９９６ミリモル）を酸化剤溶液に加え
、この混合液を−７８℃で３時間攪拌した。トリエチル
アミン（０．０１９一、０．１４ミリモル）を加え、こ
の混合液を−３０℃に温め１時間攪拌した．この反応液
に０．５Ｍ重硫酸ナトリウム溶液１０−を加えて急冷し
、この混合液を酢酸エチル１０−ずつで３回抽出した。

酢酸エチル相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空
中で濃縮し、シリカゲル（６：ｌのヘキサン／酢酸エチ
ルで溶離する）によるクロマトグラフィーで精製した。

前述の操作を繰り返して所望のジケト化合物４７を１３
■得た。出発ジヒドロキシド化合物４６（１１■）もま
た回収した。ジケト大環４７はＩＨ及びｌ３Ｃ両ＮＭＲ
により均質であった。

４７に対する選択データ．’Ｈ　ＮＭＲ（主回転異性体
）？５．７０（ｏ＋．Ｈ■ｂ　）　　、５．４４（ｄ，
Ｊ・８．３．Ｈｚｓ）　　、５．２６（ｄ．Ｊ−９．８
，Ｈｚｉ）　　、５．２Ｈｂｒ　ｄ．Ｊ＝３．９．８ｚ
）　　、４．９４（ｍＪｔ＋ｃ　　）　　、　４．８７
（ｏｂｓ　　ｄ，Ｈｚｏ）　　、　３．８９＜ｍ．Ｈｔ
ａ＞、３．７４（ｄｄ．Ｊ＝５．４．３．４，Ｈ１４）
、３．５４（ＩＩ．８３ｇ）　　、３．４０、３．３７
、３．２０（３ｘ　ｓ，３　ｘ　ＯＣＲｓ）　　、３．
４０（ｏｂｓ　ｍ．Ｈ＋＋）　　、３．４−３．０（ｏ
ｂｓ　ｍ，ＣＪｚ）　　、２．９５（ｗ．Ｈｆｆ＋）　
　、１．５９（ｂｒｓ．Ｃ．雫．Ｈ３）　　　、　１．
１８（ｄ．Ｊ−６．８，Ｃｌｌ．　　Ｈ３）　　　、　
０．８６（ｄ，Ｊ・６．８．ｃ＋ｔ■ｌ、０．８５（ｄ
，Ｊ・６．４．Ｃ■，■，）。

１３Ｃ　ＮＭＲ　（７５．４７０　ＭＨｚ　，　｝リカ
ルボニル部分の主回転異性体：δｃ　１９９．２（Ｃ＋
ｏ），１８５．９（Ｃ＊），１６５．５（Ｃｍ）ジケト
ー大環４７（９．３■、０．　０　０　９　７ミリモル
）・を無水アセトニトリル１．０Ｍ１に０℃で溶解し、
４８％フン化水素酸２滴を加えた．この混合液を０℃で
６．５時間攪拌しこの反応混合液を重炭酸ナトリウム飽
和水溶液２１Ｉ１で急冷した．この混合液を酢酸エチル
５Ｍｌずつで３回抽出した。有機相を合わせ、硫酸ナト
リウムで乾燥し、真空中で濃縮して１：２のヘキサン／
酢酸エチルで溶離する４ｎシリカゲルによりクロマトグ
ラフィー処理してテトラオール４８を４．６■油状物質
として得た（収率６０％）。この物質は’｝Ｉ　ＮＭＲ
により均質であった。

主アミド回転異性体に対するデータを報告する（対プロ
トンの大きな非等価物によって証明される６−ＣＨＩへ
のアミドカルボニルシン；回転異性体比８　５／１　５
）。

’｝ＩＮＭＲ：δ５．７５（Ｈｔ＋ｂ　．ｓ）　、５．
５４（ｂｒ　ｄ，Ｊ＝２．４，Ｈ．）、５．３０（ｄ，
Ｊ＝２．０．１０−０１１）　、５．０４（ｏｂｓ　ｄ
．Ｈｚｓ）、４．９７（ｍ，Ｈｔｔｃ）　、４．９２（
ｏｂｓ　ｄ．Ｈｚｏ）　、４．４２（ｏｂｓｂｒ　ｄ．
Ｈｂ−ｑ　）　、４．３８（ｔ，ＪＰ３．９、Ｈｚ）　
、３．９３（ｍ，Ｌ４）、？．８５（ａ．Ｈｚｔ）　　
、３．４２（Ｓ，ＯＣＲ３）、３．４０（ｏｂｓ　ｌＩ
ｌ．８３ｇ）、３．３８（ｓ．ＯｃＨｓ）、３．３０（
Ｓ，ＯＣＲ！）、３．２８（ｂｒ　ｓ．ＯＨ）　　、３
．０３（ｍ．Ｈ＋＋）　　、２．９６（ｔｄ，Ｊ＝１３
．２．２．９）　　、２．８７（ｂｒｓ．ＯＲ）　　、
　２．６８（ｍ，Ｈｚ＋）　　、　２．６７（ｂｒ　　
ｓ，ＯＨ）　　、２．４４（ｌｍ，Ｌ＋）　　、１．６
６（ｂｒ　ｓ．ｃｔｑ−Ｈｓ）、１．６０（ｂｒ　ｓ，
Ｃ＋＊−Ｈｚ）　　、１．０２（ｄ，Ｊ＝６．８．Ｃ＋
ｔ−Ｈｚ）　　、０．９１（ｄ，Ｊ＝６．８．ＣＩＩａ
ｌＬｓ）　　、０．８２（ｄ．Ｊ＝７．３．ｃ！Ｓ．Ｈ
ｓ）。

プロトンＩ｛１３、Ｈｌ４及びＨＩｓは実質的に３．　
４　ｐｐｍに於てＣＤ（，ｊ！ｓ中で縮退した。Ｃ．Ｄ
．中プロトン１−Ｄ及び２　−Ｄ　ＮＭＲは次の選択デ
ータを提供する（２５０．１３　ＭＨｚ，　Ｃｂ、Ｄ６
、δ＝７．１２）：δ３．７３（ｄ，Ｊ＝９．８，Ｌ４
）　、３．６０（ｂｒ　ｄ，ＪＪ．８，Ｈ＋ｓ）、３．
４４（ｏｂｓ　ｌｌ＋Ｈｔ！）。

”Ｃ　ＮＭＲ　（６２．９　ＭＨｚ）：　δｃ　１９Ｂ
．６（Ｃ９）、１６９．１（Ｃ．）、１６５．７（ＣＩ
）　、１３６．８（Ｃ■ｂ）　、１３６．３（Ｃ＋ｑ）
、１３２．７（Ｃｗｔ）、１２８．３（Ｃｚｓ）、１２
５．４（Ｃｚ。）、１１５．９（Ｃｗｔｃ）　、９８．
６（Ｃ＋ｏ）　、８４．３（Ｃ，＋）、７６．１、７４
．２、７３．７（ＣＩ３．ＣＩ４．ＣＩ％）　、７５．
８（Ｃｚ６）、７４．９（Ｃｔｚ）、７４．０Ｃｚ４）
　、７３．６（Ｃ３ｚ）　、５７．０（Ｃ！）、５６．
６、５６．４、５６．３（３　Ｘ　ＯＣＨ３）、４９．
１（ＣＩ８）　、４３．３（Ｃｚｔ）、３９．２（ｃｇ
ｓ）　　、 ３４．７（Ｃｚ＋−　） ３２．９（ＣＩ＆）　　、 ２７．６（Ｃ＋ｔ）　　、 ２１．６（Ｃ＋．−　） １４．６（Ｃｔ？．） 亥！ＬＬ！− Ｃ．２４，Ｃ．３２ −５０６、 −ビスーＴ　Ｅ　Ｓ−Ｃ．２２−ジヒドロＰＫ？９．０
（Ｃ．）、３７．８（ＣＢ）　　、３５．０、、（Ｃ，
。）　　、３４．９、３４．８（Ｃ＋＋．Ｃｇｗ）　　
、３２．６（Ｃ＋ｚ）　　、３１．３（Ｃｓｓ）、３０
．８（Ｃ３４）、２７．０（Ｃ．）、２４．３（Ｃｓ）
、２１．７（Ｃ４）、、１６．０（Ｃ＋ｖ−　）　　、
１５．７（Ｃ＋＋−　）　　、、１０．４（Ｃ■．）。

ジヒドロ一ＦＫ−５０６、４８（１０．１■、０．０１
２５ミリモル）を窒素下Ｏ℃で無水ピリジン０．　５−
に溶解し、塩化トリエチルシリル（０．００５３ｄ、０
．０３１ミリモル）を加えた．この混合液をθ℃で１２
時間攪拌し、混合液に重硫酸ナトリウム飽和水溶液５−
を加えて急冷した。この混合液を酢酸エチル５−ずつで
３回抽出し、有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し
、真空中で濃縮した。残留油状物質をシリカゲル（３：
１のヘキサン／酢酸エチルでｍ　Ｎ）によりクロマトグ
ラフィー処理して、ビスーＴ　Ｅ　Ｓ−Ｃ．２２−ジヒ
ドローＦＫ−５０６、４９を９．０■得た。この物質は
ＮＭＲにより均質であった。

災止拠１上 Ｃ．２４．Ｃ．３２−ビスートリエチルシリルオキシＦ
Ｋ−５０６、５０ ＦＫ−５０６（ｌ） ジヒドロ化合物４９（１．５■、０．００１３ミリモル
）を窒素雰囲気下塩化メチレン０．６−に溶解した。デ
スーマーチンベリオジナン（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．第
４８巻４１５５頁１９８３年）を加え、この混合液を２
５℃で４５分間攪拌した。この反応混合液をシリカゲル
（ヘキサン：塩化メチレン：アセトニトリノレ／６０：
３６：４でを容離）によりクロマトグラフィー処理して
２４．Ｃ．３２−ビスーＴＥＳ−ＦＫ−５　０　６、５
０を得た（収率６０％）。

犬覇韮』」一 ビスーＴＢＳ−ＦＫ−５　０　６、５０（５３■、０．
　０　４　８ミリモル）を２５℃でアセトニトリル１一
に溶解し、４８％水性フン化水素酸４滴を加えた．この
混合液を５分間攪拌し、重炭酸ナトリウム水溶液１−を
加えて急冷した。この溶液を酢酸エチル５ｄずつで５回
抽出した。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、
真空中で澄縮し、シリカゲル（６ｇ，２：１の塩化メチ
レン：アセトニトリル１５０−と１：１の塩化メチレン
：アセトニトリル１００ｄで溶離）によりクロマトグラ
フィー処理してＦＫ−５０６（１）２６■を得た．この
物質はＮＭＲにより均質であった． 大環４６（９．０■）をアセトニトリル／濃水性ＨＦ／
水の８　５／１　５／５混合液０．　５　ｍに溶解した
．室温で１２時間攪拌した後、重炭酸ナトリウム飽和水
２ｄを加えた．この混合液を酢酸エチル（５−ずつで３
回）で抽出した。有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過、濃縮、クロマトグラフィー処理（９：１の
ＣｌｈＣＩｔ／メタノール）してヘキサノール５ｌを５
．１■生成した．１ｍ （２Ｒ．４Ｓ．ＳＲ．６Ｓ，ＢＳ．　１２Ｒ．　１３Ｓ
．　１５Ｓ．　１６Ｒ．　１７Ｓ．　１　’　Ｒ．３’
Ｒ．４’Ｒ）−Ｅ，　Ｅ−２．　　８．　１０．１６．
１８−ペンタメチル−１．１，４．６−テトラメトキシ
−５．１３−ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシー
１２−（ブロプー２′一エンー１′−イル）−１５−ト
リイソブロビルシリルオキシ−１７−ヒドロキシ−１９
−（４’−トリイソプロビルシリルオキシ−３′−メト
キシシクロヘキシル）一ノー゛カン−　０　　８−ジエ
ン、５２ Ｎ−クロロスクシンイミド（４６０■、３．４ミリモル
）、硝酸銀（０．５０■、３．９ミリモル）及び２．６
−ルチジン（　１．　０　ｍ、８．４ミリモル）を無水
メタノール４２−と混合し、得られた懸濁液を２５℃で
２５分間窒素下で遮光して攪拌した．無水テトラヒドロ
フラン２〇一中ジチアン３８（０．８ミリモル）を加え
、この混合液を更に２５℃で１．５時間攪拌した．この
混合液をθ℃に冷却し、１０％重炭酸ナトリウム水溶液
４０１ｍｌで処理した．水（５０ｄ）を加えこの混合液
を塩化メチレン５０１Ｒ１ずつで４回抽出した。有機相
を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮し、
シリカゲル（２０：１のヘキサン：酢酸エチルで溶Ｈ）
５０ｇによりクロマトグラフィー処理してジメチルアセ
タール５２を得た（７　３　５＊、７５％），災隻１工 （２Ｒ．４Ｓ，５Ｒ，６Ｓ．ＢＳ．　１２Ｒ．　１３Ｓ
．　１６Ｒ．　１７Ｓ，１　’　Ｒ，３　’　Ｒ．４’
Ｒ）−Ｅ，　　Ｅ−２．　　８，　１０．１６．１８−
ペンタメチル−１．　　１，　　４．　　６−テトラー
メトキシ−５．１３−ビスー．ｔ−プチルジメチルシリ
ルオキシ−２−（プロプー２′一エンー１′−イル）−
１５−トリイソブロビルシリルオキシー１７−ヒドロキ
シ−１９−（４’一トリイソブロビルシリルオキシ−３
′−メトキシシクロヘキシル）一ノナデカン−１０　　
１８−ジエン、５３ アルコール５２（６２９．６■、０．　５　０　５ミリ
モル）を窒素下で無水塩化メチレン３．３−に溶解し一
５０℃に冷却した．ｐＪ−ｔ−Ｂｏｃ−メチルグリシン
（３８２■、２．０２ミリモル）、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド（４１７■、２．０２ミリモル）及び４−
ジメチルアミノピリジン（４１７■、０．２当量）を加
えた．この混合液を−５０℃で１０分間攪拌し、次に−
２０℃に温め、攪拌せずに１６時間熟成した．この混合
液を濾過し固形分をヘキサン１０Ｍ１で洗浄した．合わ
せた鱒液を真空中で濃縮し、得られた生成物をシリカゲ
ル（６：ｌのヘキサン：酢酸エチルで溶離）によるクロ
マトグラフィーで精製して、所望のＮ−ｔ−Ｂｏｃ一グ
リシン誘導体５３を得た（６９７■、収率９８．７％）
．この物質は次の変換で使用した。

実施１工 （２Ｒ．４Ｓ．ＳＲ，６Ｓ．　８Ｓ，　１２Ｒ，　１３
Ｓ．　１５５．　１６Ｒ．　１７Ｓ，　１　’　Ｒ，３
’Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−４．６−ジメトキシー２．８
，１０．１６．１８−ペンタメチル−５．１３−ビスー
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１２−（ブロプー２
′一エンーｌ′−イル）−１５−トリイソプロビルシリ
ルオキシ−１７−ｉＮ−ｔ−プチルオキシカルボニルー
Ｎ−メチルーグリシノイル）−１９−　（４’−｝リイ
ソプロビルシリルオキシ−３′−メトキシシクロヘキシ
ル）一ノナデカー１０．１８−ジエナール、ジメチルア
セタール５３（６８１ｍｇ、０．　４　８　７ミリモル
）を窒素雰囲気下塩化メチレン２１ｍ！に溶解し、グリ
オキシル酸１水和物（４　４　８Ｎ、４．８７ミ’Ｊモ
７ｔｚ）　ト酢ｅＩｔ（２７９μｋ　１０．０当量）を
加えた．得られた溶液を４０℃で２．５時間攪拌した．
この混合液を２５℃に冷却し、重炭酸飽和溶液２５−に
０℃で注ぎ入れた。層を分離し、水相を塩化メチレン２
５１ｎｌずつで２回抽出した。

有機相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃
縮した．得られた物質をヘキサン：酢酸エチル（７　：
　１）で溶離するシリカゲル５０ｇによるカラムクロマ
トグラフィーで精製して所望のアルデヒド５４を得た（
６５３■、９９．２％）．この物質はＮＭＮにより均質
であった． 裏旌■又ユ （２Ｓ．３Ｒ，　４Ｒ．６Ｓ．７Ｒ，８Ｓ．　１０Ｓ．
　１４Ｒ，　１５Ｓ，　１７５．　１８Ｒ．　１９Ｓ，
１’Ｒ．３’Ｒ．４’Ｒ）−Ｅ．Ｅ−２−　（ｐ−メト
キシベンジルオキシ）−３−ヒドロキシー４，１０．１
２．１８．２０−ペンタメチル−６．８−ジメトキシ−
７．１５−ビスーｔ−プチルージメチルシリルオキシ−
１４−”（プロブー２′一エンー１′−イル）−１７−
１−リイソブロビルシリルオキシ−１９−（（Ｎ−ｔ−
プチルオキシカルボニルーＮ−メチルグリシノイル’）
−２１−　（４’−｝リイソプロビルシリルオキシ−３
′−メトキシシクロヘキシル）−１２．２０−ジエン酸
誘導体オキサゾ１ジン−２′一オンイミド、５５ ｐ−メトキシベンジルアセトイミド１５　（４８８．５
■、１．３７ミリモル）を窒素下−５０℃で無水トルエ
ン６．　３　ｍｌに溶解した．トリエチルアミン（０．
２５５ｍｊ、４．０当量）とジフ゛チノレボロントリフ
レート（０．３３２ｄ、２．９当量）を加え、この混合
液を１．５時間攪拌した．トルエンｌ，Ｑ＋＋＋ｆｆｉ
中アルデヒド５４（６１１■、０．４５１ミリモル）を
加え、この混合液を−５０℃で１．０時間攬拌した．こ
の混合液を−３０℃に温め、更に１．５時間撹拌した，
　Ｌｊ！ｃ分析（３：１のヘキサン：酢酸エチル）は、
この反応がこの時間で完結したことを示した。この反応
混合液に重炭酸ナトリウム飽和溶液８．０−を加えて急
冷した後、重炭酸ナトリウム飽和水溶液４０ｄと酢酸エ
チル７５Ｗｌに分配した．層を分離し水相を酢酸エチル
７５−ずつで２回抽出した．この合わせた有機層を塩化
ナトリウム飽和溶液２０ｄで洗浄し硫酸ナトリウムで乾
燥した。

真空中で？ａ縮して粗油状物ｆｌ−４１ｇを得た。

この生成物をヘキサン：酢酸エチル（３　：　１）で溶
離するシリ゜カゲル７０ｇによるカラムクロマトグラフ
ィーで精製してイミド５５（６０２■、７８％）を得た
。この物質はＩＨ及び”Ｃ　ＮＭＲにより均質であった
。微量分析二計算値Ｃ　＝６６．０７６、Ｈ＝９．７９
、Ｎ　＝　１．６４／実測値Ｃ　＝６５．３８　、Ｈ　
＝９．５４、Ｎ　＝　１．５６ 災隻桝主主 （２Ｓ，　３Ｒ．　６Ｓ．７Ｒ．８Ｓ，　ＩＯＳ．　１
４Ｒ．　１５Ｓ，　１７Ｓ，　１８Ｒ，　１９Ｓ．　１
　’　Ｒ，３’Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−２−　（４　’
−メトキシベンジルオキシ）−３−ヒドロキジ−４．１
０．１２．１８．２０−ペンタメチル−６．８−ジメト
キシ−７．１５−ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオヰ
シーｌ４−（ブロプー２′一エンー１′−イル）−１７
−トリイソブロビルシリルオキシ−１９−（（Ｎ−ｔ−
プチルオキシカルボニルーＮ−メチルグリシノイル）−
２　１−　（４’　−｝リイソブロビルシリルオキシ−
３１−メトキシシクロへキシル　−１２　２０−ジエン
　、５６ アルコール５５（５４３■、０．３１８ミリモル）をテ
トラヒドロフラン６．　０　ｍｌと水１．３５−に溶解
しＯ℃に冷却した。３０％過酸化水素水溶液（０．２６
一、８．　０当量）と水酸化リチウム１水和物（２６．
９■、０．６４１ミリモル）を加えた．この混合液を０
℃で１．５時間攪拌した後、真空中で濃縮してテトラヒ
ドロフランを除去した。この反応液にｌθ％重硫酸ナト
リウム水溶液７．　３　ｍＮを加えてＯ℃に急冷した。

この混合液をヘキサン２０ｄで希釈し、０．　５　Ｎ重
硫酸ナトリウム溶液でｐＨ３．０〜３．５に調節した。

この混合液をヘキサン５０＋ｄずつで３回抽出し、合わ
せた有機層を水２０ｄで洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥し
た。真空中で濃縮して所望のカルボン酸５６を４６４■
（　９　４．　３％）を得た。

夫豊■又エ （２Ｓ．　３Ｒ．　６Ｓ，　７Ｒ．　８Ｓ．　１０５．
　１４Ｒ．　１５Ｓ，　１７Ｓ，　１８Ｒ．　１９５．
　１　’　Ｒ，３’Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−２−　（４
　’一メトキシベンジルオキシ）−３−｝リエチルシリ
ルオキシー４，１０，１２．１８．２０−ペンタメチル
−６，８ージメトキシ−７，１５−ビスーｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−１４−（ブロプー２′一エンー１
′−イル）−１７−トリイソプロピルシリルオキシー１
９−（（Ｎ−メチルグリシノイル）＝２１−（４’−１
−リイソプロビルシリルオキシ−３′−メトキシシクロ
ヘキシル）−１２．２０一ジエン　、５６Ａ ＃５６（５６５ｇ、０．３６５ミＩＪ−ｉ−ル）を０℃
で塩化メチレン７．０艷に溶解し２．６−ルチジン（０
．２５５ｄ、６．０当量）を加えた．トリエチルシリル
トリフレート（０．３７２．ｄ、４．５当！）を加え、
この混合液を０℃で３０分間攪拌した．この反応混合液
を蒸留水５−で希釈し、ヘキサン２５−ずつで３回抽出
した．ヘキサン部分を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し
、真空中で濃縮した（浴温を１５℃又はこれ以下に維持
した）．次いで濃縮物を塩化メチレンに溶解し、シリカ
ゲル８　３．　５　ｇを含むカラムを通過させた．カラ
ムは塩化メチレン７０（ｌｄ，１％メタノール／塩化メ
チレン９３０ｍ、４％メタノール／塩化メチレン７０〇
一及び８％メタノール／塩化メチレン１０００ｄで溶離
した．このカラムのリッチカットを合わせ、濃縮してア
ミノ酸５６Ａ３３０■を得た（　５　７．　９％）． 実施班エエ Ｃ．９−（ｐ一メトキシベンジルオキシ）　一Ｇ．　１
　０一トリエチルシリルオキシーＣ．１４，Ｃ．２２−
ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシーＣ．２４．６
．３２−ビス−（トリイソプロビルシリルオキシ）一へ
キサヒドローＦＫ−５０６　　（ＦＫ−５０６番ヨウ化
２−クロロ一Ｎ−メチルビリジニウム（　６　２．　８
■、１．２当量）を窒素雰囲気下塩化メチレン１５０−
に溶解しトリエチルアミン０．　０　５　３一を加えた
。トリエチルアミン０．０８８ｄを含む無水塩化メチレ
ン１５＋ｄ中アミノ酸５　６　Ａ　（３３０■、０．　
２　１　．１ミリモル）を２５℃で１．５時間注射器に
より加えた。この混合液を２５℃で１３時間攪拌し、次
に水２０−で希釈した。層を分離し水層を塩化メチレン
２５Ｗｒｌずつで２回抽出した。有機部分を合わせ、硫
酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮して油状物質３８
０■を得た．粗油状物質をシリカゲル（３８ｇ，１５：
１のヘキサン／酢酸エチルで溶離）によるカラムクロマ
トグラフィーで精製した．リッチカットを合わせ、濃縮
して所望の大環５７を得た（１９１■、収率５８．６％
）． １隻皿主上 Ｃ．　９　．Ｃ．１０−ジヒドロキシーＣ．１４．Ｃ．
２２−ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシーＣ．２
４，　Ｃ．３２−ビスートリイソプロビルシリルオキシ
ーＦＫ−大環５７（１８２■、０．　１　１　８ミリモ
ル）を水０．１８−を含む塩化メチレン３艷に溶解し、
この混合液を２５℃で攪拌した．２．３−ジクロロ−５
．６−ジシアノ−１．４−ペンゾキノン（１３４■、０
．５９ミリモル）を加え、この混合液を２５℃で５時間
攪拌した．次いでこの粗混合液をシリカゲル（４００メ
ッシュ、塩化メチレン２００−、ｌ５：１のヘキサン／
酢酸エチル３２０−、６：１のヘキサン／酢酸エチル２
８０−で溶離する）４２ｇによりクロマトグラフィー処
理した。リンチカットを合わせ、真空中で濃縮してヒド
ロキシトリエチルシリルオキシ大環５８を１３２■油状
物賞として更にジオール５９（９．３ｇ，６％）を得た
。このアルコールの混合液を水０．　６−とトリフルオ
ロ酢ｆａ０．０８６ｄを含むテトラヒド口フラン５．３
艷に溶解した。次いでこの混合液を２５℃で３．５時間
攪拌した。この混合液を重炭酸ナ｝　ＩＪウム飽和溶液
１０−で希釈し、酢酸エチル２５ｍｆずつで３回抽出し
た。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中
でｔｓｗｉシ、シリカゲル（６：１のヘキサン：酢酸エ
チルで溶離）によりクロマトグラフィー処理してジオー
ル５９を１０７■（収率８８％）を得た． 大隻■ｌ主 Ｃ．１４，Ｃ．２２−ビスーｔ−ブチルジメチルシリル
オキシーＣ．２４，　Ｃ．３２−ビスートリイソプロビ
ルシリルオキシーＦＫ−５０６　　　　６０ 塩化オキサリル（０．０９５ｍｆｆｉ、１２当量）を塩
化メチレン１．０−に溶解し、窒素下で−７８℃に冷却
した．ジメチルスルホキシド（０．１２９ｄ、２０当量
）を加え、この混合液を２０分間撹拌した。塩化メチレ
ン２．０ｍに溶解したジヒドロキシ大環５９（１１８．
９■、０．０９１ミリモル）を酸化剤溶液に加え、この
混合液を−７８℃で３時間撹拌した．トリエチルアミン
（０．６３７ｍ、５０当量）を加え、この混合液を−３
０℃に温め１時間撹拌した．この反応液に０．５Ｎｊｌ
ｉ硫酸ナトリウム溶液１５ｍを加えて急冷し、この混合
液を酢酸エチル２５Ｍｉずつで３回抽出した。この酢酸
エチル相を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で
濃縮し、シリカゲル（８：１のヘキサン／酢酸エチル７
０ｍ、６：１のヘキサン／酢酸エチル７０ｍで溶離する
）によるクロマトグラフィーで精製して、所望のジケト
大環６０を油状物質（６７．９■）とモノ酸化生成物３
９．５■を得た。モノ酸化生成物を上記反応条件に再び
委ねて更に所望のジケトン６０を３２■（全収率８５％
）得た．ジケト大環６０を１｝｛及び”ＣＭＮＭＲより
均質であった。

叉施桝主主 Ｃ．２　　−ジヒドロ一ＦＫ−５０６　　　　　６１ク
ロマトグラフィーで精製して化合物６ｌを４５．３■得
た（８０％）。

叉施■エエ Ｃ，２４．Ｃ．３２−ビスートリエチルシリルオキシー
ＦＫジケトー大環６０をアセトニトリル５１Ｒ１に０℃
で溶解し、５０％水性フフ化水素酸５滴を加えた．この
混合液をＯ℃で８時間攪拌した後、重炭酸ナトリウム飽
和溶液１２献で希釈した。この混合液を酢酸エチル２０
Ｍｌずつで４回抽出し、有機層を合わせ、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、真空中で油状物賞に濃縮した（７０■）。

この油状物質をシリカゲル（１０ｇ，１：２のヘキサン
／酢酸エチル１００ｗＩ１次に酢酸エチル１００−で溶
離）による動 類｛以体６　１　（４５．ｌｑ，　０．０　５　９ミリ
モノレ）を窒素雰囲気下Ｏ℃で無水ビリジン１．５　Ｍ
＆に溶解し塩化トリエチルシリル（０．０２１ｄ、２．
　１当量）を加えた。この混合液を０℃で１２時間攪拌
し次に重硫酸ナトリウム飽和溶液５−で希釈した。この
混合液を酢酸エチル５−ずつで３回抽出し、有機相を合
わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空中で濃縮した．残
留油状物質をシリカゲル（５：１のヘキサン／酢酸エチ
ル６０ｄ、４：１のヘキサン／酢酸エチル５０ｄ、３：
１のヘキサン／酢酸エチル８０−で溶Ｍ）によりクロマ
トグラフィー処理して、とスートリエチルシリルオキシ
化合物６２を得た（２０■）． １施■１工 Ｃ．２４．Ｃ．３２−ビスートリエチルシリルオキシー
ＦＫ−５０６サルコシン　　　６３ 位 口 ０．２２アルコール６２（２０■、０．０２０ミリモル
）を窒素下でＣＤＣ　ｌ　３１．　Ｏ　ｍに溶解し、ピ
リジン（０．００５ｄ，３当量）次にデスーマーチンペ
リオインダン（１４．５■、１．７当量）を加えた．こ
の反応混合液を２５℃で４５分間熟成した。

ｔ　ｊ！　ｃ　　（２／１のヘキサン：酢酸エチル）及
びＮＭＲ両分析はこの時に出発物質が存在しないことを
示した。この混合液を塩化メチレン５−と飽和硫酸ナト
リウムＩＯ−に分配し、真空中で濃縮して粗油状物質２
５．５■を得た。この油状物質をシリカゲル（５ｇ、３
：ｌのヘキサン／酢酸エチルで溶離）によるクロマトグ
ラフイーで精製して所望のビスートリエチルシリルケト
ン６３を１６．５■（８２．７％）得た。

この物質は′Ｈ及び′３Ｃ両ＮＭＲにより均質であった
。

ス１］（Ｌ影 ＦＫ−５　０　６サルコシン　　　６４シリル誘導体６
３（１６．３■）をア七トニトリル２．０−に溶解し０
℃に冷却した。５０％水性フフ化水素酸１滴を加え、こ
の混合液をθ℃で１時間熟成した．この混合液を重炭酸
ナトリウム飽和水溶液５Ｎ！で希釈し、酢酸エチル２・
Ｏｄずつで５回抽出した．有機相を合わせ、塩化ナトリ
ウム飽和溶液ｌＯ−で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、真空中で濃縮して粗生成物１４．２■を得た．この物
質をシリカゲル（５ｇ、１：２のヘキサン／酢酸エチル
５〇一次に酢酸エチル５０−で溶離）によるクロマトグ
ラフィーで精製してＦＫ−５　０　６サルコシン類似体
６４を１１■（収率８７．２％）を得た。

”Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｊ！　ｓ　、７５．５ＭＨｚ　
、ｌｌ■／　ｄ１主回転異性体） δ２１２．６　、１９１．７　、１６６．５　、１６６
．３　、１３９．７、１３５．４　、１３１．１　，　
１２９．７　、１２３．０　、１１６．６　、９８．５
、８４．１，　７７．５、７７．１、７４．０、７３．
５、７１．１、６９．２、５７．７、５６．５、５６．
２、５２．４、４９．４、４８．５、４４．８、４０．
５、３６．９、３５．０、３４．９、３４．８、３４．
７、３３．４、３２．３、３１．Ｌ　３０．５、２６．
３、２０．０、１６．０、１５．８、１４．３、９．４
。

ＩＲ（ＣＨＣ　ｌ　ｓ）　　λｗａｘ　３６００、１７
５０、１７３５、１７００、１６４０Ｃｊ＋１一富 （ｆｆ）　Ｄ　＝　　１３２．５゜、Ｃ＝０．１０９４
、ＣＨｚＣ　ｌ　ｚスｌ韮』」一 （２Ｒ．　４Ｓ．５Ｒ，６Ｓ．８Ｓ，　１２Ｒ．　１３
Ｓ，　１５Ｓ．　１６Ｒ．　１７Ｓ．　１　’　Ｒ，３
’Ｒ，４’Ｒ）−Ｅ，　Ｅ−２．　　８．　　１０．　
　１６．　　１８−ペンタメチル−１．１，４．６−テ
トラメトキシ−５，１３−ビスーｔ−プチルジメチルシ
リルオキシー１２−（ブロプー２′一エンー１′−イル
）−１５−｝リイソプロビルシリルオキシ−１７−（（
Ｎ−ｔ−ブチルカルボイルオキシープロリノイル）−１
９−（３’−メトキシ−４′一トリイソプロビルシリル
オキシシクロヘキシル）一ノ　ー゛カン−１０　１８−
ジエン、６６アルコール５　２　（１．０　７　ｇ，　
０．８　７ミリモル）を無水塩化メチレンｌ７一中ｐＪ
−ｔ　−ｂｏｃ　−Ｌ　−プロリン（７５１■）とジシ
クロへキシルカルポジイミド（７４０■）１４−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノビリジン（２４■）で実施例２５で言
及した操作に従いアシル化してエステル６６を１．　１
　６　５ｇ（収率９４％）を得た．この物質は’Ｈ及び
１３ＣＮＭＨにより均質であり、Ｃ　−　１．　１　６
　ｇ／１００戚に於ける塩化メチレン中の旋光度〔α〕
Ｄ！ｓ＝−　４　２．　７　３゜であった． 叉鳳■ユエ （２Ｒ，　４Ｓ．　５Ｒ．　６Ｓ，　８Ｓ．　１２Ｒ，
　１３Ｒ．　１５Ｓ．　１６Ｒ．　１７Ｓ．　１　’　
Ｒ．３’　Ｒ．４’　Ｒ）−Ｅ，　　Ｅ−４．　　６−
ジメトキシー２，８，１０，１６．１８−ペンタメチル
−５．１３一ビスーむーブチルジメチルシリルオキシ−
１２−（ブロプー２′一エンー１′−イル）−１５−ト
リイソプロビルシリルオキシ−１７−（（Ｎ−Ｌ−プチ
ルカルボイルオキシーし−プロリノイル）−１９−（３
’−メトキシ−４′一トリイソブロピルシリルオキシシ
クロヘキシル）一ノナデカン−１０　　１８−ジエナー
ル、６７ リルオキシ−１４−（プロプー２′一エンー１′−イル
）−１７−｝リイソブロビルシリルオキシ−１９−（（
Ｎ−ｔ−ブチルカルボイルオキシーし−プロリノイルオ
キシ）−２１−（３’−メトキシ−４′一トリイソプロ
ビルシリルオキシシク口ヘキシル）−１２．２０−ジェ
ン酸誘導オキサソ慣ジン−２′一オンイミド、６８ ジメチルアセタール６　６　（１．１．６　５　ｇ，　
０．８　２ミリモル）を実施例２６で記載した操作によ
りアルデヒド６７に変換した（収ｉｔ１．１３ｇ，９９
％）。

この物質はＩ｝ｌ及びＩ″Ｃｒ［ｊＮＭＲにより均質で
あった。

実？ （２Ｓ，　３Ｒ，　４Ｒ，　６Ｓ，　７Ｒ，　８Ｓ，　
ＩＯＳ．　１４Ｒ．　１５Ｓ．　１７Ｓ．　１８Ｒ．　
１９Ｓ，１’Ｒ．３’Ｒ．４’Ｒ）−Ｅ．Ｅ−２−　（
ｐ−メトキシベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−４．
１０．１２，１８．２０−ペンタメチル−６，８−ジメ
トキシ−７．１５−ビスーｔ−プチルジメチルシアルデ
ヒド６７（９１８．６■）を実施例２７の操作に従いア
セトアミド１５（７１０■、３．０当量）ｎ−ジブチル
ボロントリフレート（０．４８３一、２．９当量）及び
トリエチルアミン（４．０当量）でイミド６８に変換し
た．シリカゲルによるクロマトグラフィー処理後の収量
はイミド６８が１．０４ｇ（８７．８％）であった．こ
の物質は１Ｈ及び”Ｃ　ＮＭＲにより均質であった． １施■王立 （２Ｓ．　３Ｒ．６Ｓ．　７Ｒ．　ＢＳ．　ＩＯＳ，　
１４Ｒ．　１５Ｓ．　１７Ｓ．　１８Ｒ．　１９Ｓ．　
１　’　Ｒ，３’Ｒ．４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−２−　（４　
’一メトキシベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−４　
．　１０，　１２．　１８．２０−ペンタメチル−６．
８−ジメトキシ−７．１５−ビスーｔ−プチルジメチル
シリルオキシーｌ４−（プロプー２′一エンー１′−イ
ル）−１７−１リイソプロビルシリルオキシ−１９−（
Ｎ−ｔ−プチルカルボイルオキシーし−プロリノイルオ
キシ）−２１−（３’−メトキシ−４′一トリイソプロ
ビルシリルオキシシク口ヘキシル）−１２　　２０−ジ
エン　、６９ イミド６８（１．１９１ｇ）を実施例２８に記載したプ
ロトコールに従い加水分解して粗酸６９を１．０８１ｇ
（定量収量）得た。この物質はＮＭＲにより均質であっ
た。

１隻■土工 （２Ｓ．３Ｒ．６Ｓ．７Ｒ．８Ｓ，ＩＯＳ，１４Ｒ，１
５Ｓ，１７Ｓ，１８Ｒ，１９Ｓ，１　’　Ｒ，３’Ｒ，
４’Ｒ）−Ｅ，Ｅ−２−　（４　’−メトキシベンジル
オキシ）−３−トリエチルシリルオキシー４．１０，１
２，１８．２０−ペンタメチル−６．８ージメトキシ−
７．１５−ビスーｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１
４−（プロプー２′一エン−１′−イル）−１７−トリ
イソプロビルシリルオキシ−１９−（Ｌ−プロリノイル
オキシ）−２１−（３’−メトキシ−４′一トリイソプ
ロビルシリルオキシシクロヘキシル）−１２．２０−ジ
エン　、７０ 得た。

１隻■土ｌ Ｃ．９−（ｐ一メトキシベンジルオキシ）　−Ｃ．１０
−トリエチルシリルオキシーＣ．１４，Ｃ．２２−ビス
ーｔ−ブチルジメチルシリルオキシーＣ．２４．Ｃ．３
２−ビスートリイソブロビルシリルオキシーへキサヒド
ローＦＫ−５２５　　ＦＫ−　　”　　　７１ヒドロキ
シ酸６９（２００ｍｇ）を実施例２９に記載したプロト
コールに従い塩化メチレン中トリエチルシリルトリフレ
ート（５．５当量）と２．６一ルチジン（６当ｍ＞でシ
リル化してトリエチルシリルオキシ酸Ｔｏ（１５４■、
収率７６％）をアミノ酸７０（１８６．５■）を実施例
３０で記載したプロトコールにより塩化メチレン中ヨウ
化２−クロロ一Ｎ−メチルビリジニウム（２．０当ｆｔ
）とトリエチルアミン（５当量）で環化して、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、大環７
１（１６５■）を得た。大環７１は１［｛及び”Ｃ　Ｎ
ＭＲにより確認した。

１隻貫王主 Ｃ．９，Ｃ．１０−ジヒドロキシーＣ．１４、，Ｃ．２
２−ビスーｔ一プチルジメチルシリルオキシ一０．２４
．０．３２−ビスー（トリイソブロビルシリルオキシ”
）−ＦＫ−５２５、７２ ７１のｃ．ｇｐ−メトキシベンジルオキシ及び０．１０
−｝リエチルシリルオキシ保護基（５２６■、０．　３
　３　５ミリモル）を実施例３１で記載したプロトコー
ルに従って除去してジオール７２を収率８０％（３５８
■）で得た．微量分析ＣｑｘＨＩａ＋　ＮｔｇＳｉ＋に
対する計算値： Ｃ．　６５．５６７：　Ｈ．　１０．６２７：　Ｎ，　
１．０４７．実測値：　Ｃ　＝６５．６７　、Ｈ　＝１
０．４３　、Ｎ　＝１．０５旋光度（α〕。＝５６．５
゜、Ｃ−１．７３塩化メチレン中 宜ＪｉｉＪＬ虹土 Ｃ．９．Ｃ．１０−ジケトーＣ．１４．Ｃ．２２−ビス
ーｔ−ブチルジメチルシリルオキシーＣ．２４．Ｃ．３
２−ビス−（トリイソブロビルシリルオキシ）−ＦＫ−
５２５、ジオール７２（２３０■）を実施例３２で記載
した掻作に従い塩化メチレン中塩化オキサリル（１２当
量）、ジメチルスルホキシド（２０当量）及びトリエチ
ルアミン（５０当量）で酸化してジケトン７３を１７６
ｍｇ得た（収率約７７％）。

１隻Ｎ土工 ０．２２−ジヒドローＦＫ−５　２　５、７４７３（１
４５■）を実施例３３のプロトコールによりアセトニト
リル中フッ化水素で完全に脱シリル化してジヒドローＦ
Ｋ−５２５を得た（６６■、７７％）．この物質はＩＨ
及び富’Ｃ　ＮＭＲにより均質であった。旋光度〔α）
　ＤＣ−−２９．９５゜Ｃ−０．６６１クロロホルム中
、ＩＲ　３６００　，　３５５０〜３２００、１７４５
、ｌ７３５及び１６３０ｃｍ−’亥崖■土工 Ｃ．２４，Ｃ．３２−ビスートリエチルシリルオキシー
ジヒドローＦＫ−５２５、７５ ’７４（８．９■）を実施例３４のプロトコールにより
ピリジン中塩化トリエチルシリル（２．１当量）で処理
してビスーシリル化合物７５（１０．２■）を得た．こ
の物質はＩＨ及び”Ｃ　ＮＭＲにより確認した． スＪＩＩＬ虹１ Ｃ．２４，Ｃ．３２−ビスートリエチルシリルオキシー
ＦＫ−５　２　５、７６ ７５（３．７■）を実施例３５で記載したプロトコール
により３当量のビリジンを含む塩化メチレン（０．５１
ｌＩ１）中デスーマーチンペリオインダン（３．９■、
１．５当量）で酸化してビスー保護ＦＫ−５２５、７６
（３．６■、定量収量）を得た。

実隻貫｛Ｉ ＦＫ−　５　２　５、７７ ３２．９、　　３２．６、３１．１，　３０．６、２８
．４、２５．７、２５．４、１８．７、　　１６．１、
１５．６、ｌ４．０、９．６　。

（α）　”＝　−　９　８．　５、Ｃ＝０．１　９　５
、ＣＨＣＪ，。

スｍ虹ｌ ビスーシリルーＦＫ−５　２　５、７６（３２■）を実
施例３６の操作に従って脱シリル化してシリカゲルクロ
マトグラフィー処理後ＦＫ−５２５、？？（８９％、２
２．２■収量）を得た。ＮＭＲ．ＩＲ　（ＣＩＩＣ　Ｉ
Ｉ　ｓ）　：　　λａ＋ａｘ　３６００、３５００−３
２００（ｖｂ）　、１７４５、１７３５、１６９５、１
６３０ｃ■−１”Ｃ　ＮＭＲ　（ＣＤ（Ｊ　３　、３２
■／ｍ、主回転異性体のみ７５．５　ＭＨｚ）：　　δ
２１３．１　、１Ｂ？．９　、１６Ｂ．８　、１６２．
５、１４０．４　、１３５．４　、１３２．１　、１２
９．８　、１２２．１　，　１１６．６、９９．０、８
４．１、７８．４、７６．５、７３．６、７３．５、７
１．２、６９．０、５９．９、５７．７、５６．５、５
６．２、５３．２、４８．８、４８．５、４４．０、４
ｌ．０、３６．１，　３５．４、３４．８、３４．７、
２４−３２−ＰＫ−５０６−ビス−（トリイソプロピル
シリル）一エー−ル７８ 篩乾燥ｃｏ，ｃｌ，　１　２　５一中Ｆ　Ｋ　−　５　
０　６　（１０．２ｇ，１２．６８ミリモル）のＯ℃溶
液に２，６−ルチジン（７．４ｔｔ、６３．５ミリモル
）とＴＩＰＳＯＴｆ（１４．：Ｍ、５３．２ミリモル）
を加えた。０℃で？．５時間攪拌した後、黄色溶液を２
５℃に温め、１６時間熟成した。次にこの混合液をθ℃
に冷却し、メタノール（１．５５ｉｄ、３８．２ミリモ
ル）を滴下し得られた溶液を１５分間熟成した。この混
合液を飽和水性ＮａＨＣＯｓ　（５００　ｄ）とＣＨ＊
Ｃｊ！ｚ（２００ｄ）で分配し、層を分離した。水相を
ＣＩ．Ｃ　ｌ　，（２　０　０＋＋ｄずつで２回）で再
び抽出した。合わせたＣＨｔＣ　ｌ　２相を水洗（２０
０ａ＋ｆ）Ｌ、ＭｇＳＯａで乾燥し、真空中で濃縮して
黄色粘稠油状物質２０ｇを生成した。溶離剤としてヘキ
サン／酢酸エチル（５　：　１）を用いるシリカゲル（
３２５ｇ、２３０〜４００メッシュ）によりクロマトグ
ラフイー処理して、２を１４．０４ｇ（９９％）無色の
発泡体として生成し、’Ｈ，　”Ｃ　ＮＭＲ　，　ＩＲ
及びＭＳにより確認した。分析ＣｂＪ＋ｏＪＯ＋■Ｓｉ
２に対する計算値二Ｃ．　６６．６８５；　Ｈ，　９．
８３８；　Ｎ．　１．２５。

実測値：Ｃ，　６６．８８；　Ｈ．　９．７１；　Ｎ，
　１．２５。

尖施■エエ 篩乾燥ベンゼン３００ｄと篩乾燥メタノール１００ｄ中
２４．３２−ＰＫ−５０６−ビス−（トリイソプロとル
シリル）エーテル７　８　　（２３．１ｇ，２０．７ミ
リモル）の２５℃溶液にＰｂ　（ＯＡｃ）　ａ（９．６
　７　ｇ，　２　１．８ミリモル）を加え、得られた混
合液を２５℃で４時間熟成した。次いでこの混合液を飽
和水性ＮａＨＣＯ３（　８　０　０　ｍ）に入れ急冷し
、酢酸エチル（３　５　０ａｄずつで３回）で抽出した
。

合わせた酢酸エチル相を水洗（３５０ｄ）Ｌ、ＨｇＳＯ
ａで乾燥し、真空中で濃縮して白色ゴム状発泡体２　２
．　９　ｇを生成した．この発泡体を２５℃でメタノー
ル（３００ｄ）に溶解し真空中で濃縮し？いかなる残留
酢酸エチルも除去した．次にこの発泡体を２５゜Ｃで篩
乾燥メタノール（３５０ｄ）で再溶解し、無水ＫｚＣＯ
ｓ　　（　１　４　５■）を加えた。

２時間後更にＫｚＣＯｓ　　（　４　３■）を加えた。

２５℃で全反応時間５時間後、この溶液を固体のＫｚＣ
Ｏｓから傾瀉し真空中で濃縮して黄色ゴム状物質２３．
４ｇを生成した。溶離剤としてＣＩ．Ｃｆｆｉ■／アセ
トン（２０：１）次にＣＩ．Ｃｆ．／アセトン（１５：
１）を用いシリカゲル（１１５０ｇ、２３０〜４００メ
ッシュ）により処理して、バレロラクトン８０を２．５
２ｇ（１０．６％）無色の発泡体として、所望のメチル
エステル７９を１６．８ｇ（６９％）無色の発泡体とし
て生成した． 叉隻桝ｌ土 Ｃ．１４ＴＢＳ−エー−ル８１ 乾燥ｃＨｚｃ　ｌ　ｚ　２　１　０一中ヒドロキシーエ
ステル７９　（１６．８ｇ，１４．２５ミリモル）のＯ
℃溶液に２，６−ルチジン（　３．　３　ａｄ、２８．
３ミリモル）次にｔｅｒｔ−プチルジメチルシリルトリ
フレート（　４．　９　ｄ，　２　１．．３ミリモル）
を加え、この溶液を０℃で２時間攪拌した後、２５℃に
温めた．２５℃で１時間後更にｔｅｒ　ｔ−プチルジメ
チルシリルトリフレート（０．３　５ｌＩ＃ｌ，　１．
５　２ミリモル）をこの２５℃溶液に加えた。更に１．
５時間熟成した後、この溶液をθ℃に冷却し、篩乾燥メ
タノール（０．５８一、１４．３ミリモル）を加え、こ
の混合液を０℃で１５分間熟成した。この混合液を飽和
゛水性ＮａＨＣＯｓ　（１０００ｍ）で分配し、ＣＨｔ
ＣＩｌｚ　　（３　０　０ｘｄずつで３回）で抽出した
．合わせたＣＨｔＣ　ｌ　ｔ層を水洗（３００ｄで１回
）し、ＭｇＳ，Ｏｎで乾燥し、真空中で濃縮して黄褐色
の油状物質２１．４ｇを生成し、溶離剤としてヘキサン
／酢酸エチル（５　：　１）を用いるシリカゲル（１．
０７０ｇ，２３０〜４００メッシュ）によるクロマトグ
ラフィーで精製した．ＴＢＳエーテル８　１　　（１　
４．４　ｇ，　７　８．３％）を白色ゴム状発泡体とし
て分離し、十分なｔＨ及びｌ３Ｃ　ＮＭＲ　，　ＩＲ及
び質量スペクトルデータを得た。

分析Ｃ，。Ｈ＋ｘＪＯ＋ａＳｉｓに対する計算値：Ｃ．
　６５．０２；　Ｈ．　１０．０５５：　Ｎ．　１．０
８。

実測値：　Ｃ．　６５．１８：　Ｈ．　１０．０６；　
Ｎ．　１．０９。

ス蓋■立叢 篩乾燥ＴＨ　Ｆ　（３７５　ｙｄ’）中メチルエステル
８１（１　３．３　ｇＳ１　０．２　８ミリモル）の０
℃溶液に水素化アルミニウムリチウム（１．１８ｇ，３
１．１ミリそル）を数回に分けて加え、灰色懸濁液をＯ
℃で３時間熟成した。ジエチルエーテル（３００ｄ）を
加え、次に水を注意深く起泡が停止するまで滴下した（
数ｍ）。次にこの混合液を飽和Ｎａ．ＳＯ．（４００ｄ
）で分配し、酢酸エチル（４　０　０Ｗｄずつで３回）
抽出した。合わせた酢酸エチル層を食塩水（４００ｉｄ
）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、真空中で１縮して褐
色がかったゴム状発泡体１１．８ｇを生成した。粗発泡
体をヘキサン／酢酸エチル（３　：　１）で溶離するシ
リカゲル（５　８　０　ｇ，２３０〜４００メッシュ）
によるクロマトグラフィーで精製してトリオール８２を
５．９ｇ（６５．６％）、各々Ｃ．２２−Ｒ／Ｓエピマ
ーの分離できない２．５〜１混合液として生成した。

分析Ｃ．。ＨＩ！。ＳｉｓＯ，に対する計算値：Ｃ．　
６７．３６；　Ｈ．　１１．３０５。

実測値：Ｃ，　６７．３９；　｝！，　１１．３８。

１隻■エエ ？．２２アルコール８３（ＲＳ 篩乾燥ビリジン（３３ｉｄ）中トリオール８２（Ｒ／Ｓ
）（２．３　３　ｇ，　２．１　８ミリモル）の−１０
℃溶液にＴＨＳＩＪ　（０．７　４　０ｄ、４．４０ミ
リモル）を５分間にわたって加えた．−１０℃で１．７
５時間熟成した後、更にＴＢＳＣＩ（０．０　９　２ｄ
、０．５５ミリモル）を加えた．更に１時間熟成した後
、無水メタノール（０．０８８−、２．１７ミリモル）
を加え、この混合液をーｌＯ℃で０．２５時間熟成した
．この混合液を飽和水性ＮａＨＣＯｓ　（　１　０　０
　ｍｌ＞で分配し、Ｃｔｌ！（Ｊ！　　（１　０　０−
ずつで３回）で抽出した．合わせたｃｏｃｌｚ層を飽和
水性Ｎａｌ｛ＣＯＢ　（１００一）で洗浄し、ＭｇＳＯ
４で乾燥し、真空中で濃縮して黄褐色の粘稠油状物質３
．７ｇを生成した。粗混合液を壇離剤としてヘキサン／
酢酸エチル（１８：１〜１５：１）を用いるシリカゲル
（１７５ｇ，２３０〜４００メッシュ）によるクロマト
グラフィーで精製して、Ｃ．２２アルコール８３　　（
Ｒ／Ｓ）２．７’２６ｇ　（９６．３％）を無色の発泡
体として生成した．分析Ｃ７■Ｈ＋４ｓＯｑＳｉｓに対
する計算値：Ｃ．　　６６．６０５；　　Ｈ．　　１１
．４９　．実測値：　Ｃ，　６６．８２：　ＩＩ．　１
１．７７。

ス＆ 篩乾燥ｃｎｚｃｔ，　１　０　０一中Ｃ．２２アルコー
ル８３（Ｒ／Ｓ）（４．　５　５　ｇ、３．５０ミリモ
ル）のＯ℃溶液に２，６−ルチジン（１．２０ｄ、１０
．３．ミリモル）次にｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
トリフレー｝（１．６０ｄ、６．９７ミリモル）を加え
た．０．５時間後この混合液を２５℃にし１４時間熟成
した。

この混合液を０℃に冷却し無水メタノール（２１５ｄ、
５．３０ミリモル）を加えこの混合液を０．５時間熟成
した．この混合液を５０％飽和水性ＮａＨＣＯ．（１２
５ｗｄ）で分配し、ＣＬＣｊ！ｚ　　（１２５−ずつで
３回）抽出した．合わせたＣＨｔＣ　Ｉ！２層を水（ｌ
２５一）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中
で濃縮して黄褐色の油状物質５．３ｇを生成した．この
粗混合液をヘキサン／酢酸エチル（１　５　：　１）で
溶離するシリカゲル（２　６　０　ｇ、２３０〜４００
メッシュ）によるクロマトグラフィーで精製して、Ｃ．
２２ＴＢＳエーテル８４を４．８６ｇ（９８％）ゴム状
白色発泡体として生成した。

分析ＣｙＪ＋ｉｚＯｇＳｉ６に対する計算値：ｃ，　６
６．３２　：　Ｌ　１１．５６。

実測値：　Ｃ．　６５．９３　．　Ｈ，　１１．７７。

失施貫】エ Ｒ　　　　　Ｓ−ＣＯ　　−　ルコール８ＴＨＦ／５５
ｍ中ビスーＴＥＳエーテル８４（Ｒ／Ｓ）（４．　８　
５　ｇ，　３．　４　３ミリモル）の溶液に水１５．５
−と酢酸３０−を１０分間にわたって加えた．混合液を
４０℃に加熱し１２時間熟成し次に５０℃で２．５時間
熟成した．この混合液を０℃に冷却し、Ｈｚ０４５０ｉ
ｄ中ＮａＨＣＯｓ　７　２　ｇの溶液／懸濁液にゆっく
り注ぎ入れた．次いでこの混合液を酢酸エチル（４　５
　０ｄずつで３回）で抽出し、合わせた酢酸エチル層を
飽和水性ＮａＨＣＯｓ　（　１　１　５ｄ）、食塩水（
１１５ｍ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。真
空中で揮発分を除去して黄褐色のゴム状物ｔ５．０１ｇ
を生成し、シリカゲルクロマトグラフィー（６７５ｇ，
２３０〜４００メッシュ）で精製した。ヘキサン／酢酸
エチル（８　：　１）〜（２　：　１）で勾配溶離して
純粋な極性の小さい２　２　（Ｓ）　−Ｃ．１　０第一
アルコール８５　（Ｓ）７４２■（　１　６．　６％）
、混合画分３０５■（６．８％）及び２２　（Ｒ）　−
Ｃ．１　０第一アルコール８５　（Ｒ）２．３１５ｇ　
（５２％）を生成し、これらは１Ｈ及びＩコＣ　ＮＭＲ
　，　ＩＲ及びＭＳデータが構造と一致した．分析Ｃｙ
ｚＨｔ４ｓＯｖＳｉｓに対する計算値：Ｃ．　６６．６
０５；　Ｈ．　１１．４８９。

実測値：Ｃ．　６６．４７　．　Ｈ．　１１．７３。

去旅１−エ 篩乾燥ＣＩｈＣ１ｚ　１　０ｙｄｌ中塩化オキサリル（
１４８μｉｌ．７０ミリモル）の−７８℃溶液にＣＯ，
Ｃ　ｌ　，４ｄ中ジメチルスルホキシド（２００μ！、
２．８２ミリモル）の溶液を５分間にわたって加え、得
られた混合液を−７８℃で０．５時間熟成した。Ｃｌｈ
Ｃｌｚ１〇一中第一アルコール８　５　（Ｒ）（１．０
　６　ｇ，０．８１６ミリモル）の溶液を−７８℃のク
ロロスルホニウム塩溶液に加え、次にＣＨｔＣ　ｌ　＊
　５　ｍｌに一度に加えた。得られた白色スラリーを−
７８℃で１．５時間熟成し、次にトリエチルアミン（９
８３μｌ、７．０５ミリモル）を加えこの溶液を−４０
℃に温め−４０℃で１時間熟成した。水性ＮａｌｌＳＯ
ｍ（０．５Ｍ，７　５ｄ）を−４０℃で加えこの混合液
をヘキサン（１００−ずつで４回）抽出した．合わせた
ヘキサン層を水洗（５０−で１回）し、ＭｇＳＯ４で乾
燥し、真空中で濃縮して粗物質１．０５ｇを生成し、シ
リカゲル（９０ｇ、２３０〜４００メッシュ）によりク
ロマトグラフィー処理した．ヘキサン／酢酸エチル（１
　５　：　１）で溶離してアルデヒド８６を９７７■（
　９　５．　８％）白色発泡体として得た．アルデヒド
８６はその構造に一致した１Ｈ及び”Ｃ　ＮＭＲ　，　
ＴＲ及びＭＳデータを得た．ｚ隻Ｍエ工 篩乾燥ＴＨＦ　１　０　５ｉｄ中アルデヒド８６（２．
０７ｇ，１．６０ミリモル）の０℃の溶液にメタノール
（１５５ｍ）、｝リメチルオルトホルメート（３．１３
一、２８．６ミリモル）及びビリジニウムｐ−｝ルエン
スルホネート（５５５■、２．２ミリモル）を加え、こ
の混合液を１８℃に温めた。２時間後ピリジウムｐ一ト
ルエンスルホネート４４４■を加え、この混合液を２５
℃に温めた．２５℃で３時間後ピリジン（　４．　９　
ｍ、６０．５ミリモル）を水浴で冷却しながら加え、こ
の混合液を飽和水性ＮａＨＣＯｚ２５０−へ注ぎ入れｃ
Ｈｔｃｉｚ　　（２００−ずつで３？）で抽出した。合
わせたＣＨ．Ｃ　ｆ　，層を５０％水性ＮａＨＣＯｓ　
（　１　２　０　ｍ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、
真空中で濃縮した．得られた粗油状物質をヘキサン／酢
酸エチル（（１５：１）、１．６ｚ；　　（８：１）　
、８５Ｌｄ；　　（３　：　１）　、フラッシュ）で溶
離するＳｉＯ■（２３０〜４００メッシュ）２００ｇに
よりクロマトグラフィー処理して、ジメチルアセタール
８７を１．６　３　７　ｇ　（８　３．５％）無色の油
状物質として生成し、その構造と一致したｔＨ及び′３
Ｃ　ＮＭＲ．．ＩＲ及びＭＳを示した。分析Ｃ＆ＩＨＩ
３１０１。Ｓｉａに対する計算値：Ｃ，　６６．５０１
；　Ｈ．　１１．３２５。

実測値：　Ｃ，　６６．４３　；　Ｈ．　１１．６８。

夫扇■エエ Ｎ−ＢＯＣプロ１ンエスール８８ −５０℃に於て乾燥ＣＨｇＣ１ｇ　６ｄ中Ｃ．２６アル
コール８７（３８８．５■、０．３１６ミリモル）の溶
液に固形のＮ−Ｂｏｃ−　（Ｌ）一プロリン（２７３■
、１．２７ミリモル）次に１．３−ジシクロへキシルカ
ルボジイミド（ＤＣＣ，２６２■、１．２７ミリモル）
とＮ．Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ，　７．
　８■、０．０６４ミリモル）を加え、得られた溶液を
−５０℃で１．５時間熟成した。この混合液を−１９℃
に温め、３０時間熟成し、次にＮ　−Ｂｏｃ　−　（Ｌ
）　一プロリン（１　３　６■）　、ＤＣＣＩ３１■及
びＤＭＡＰ　４■を加え、このスラリーを再び２４時間
熟成した．次いでこのスラリーを２５℃に温め濾過して
ｐｐｔを除去し、濾過ケーキをヘキサン／酢酸エチル（
６　：　１）で洗浄した。真空中で揮発分を除去して粗
油状物質９７０■を生成し、シリカゲルクロマトグラフ
ィー（９　５　ｇ，２３０〜４００メンシュ）で精製し
た。ヘキサン：酢酸エチル（３　：　Ｉ）で溶離してＮ
　−　ＢＯＣブロリンエステル８８を４　３　５．　８
■（９６．７％）を得た。このエステル８８はその構造
と一致した１Ｈ及び”Ｃ　ＮｌｉＲ　，　ＩＲ及びＭＳ
データを示した。分析ＣｙＪ＋　ｓｓｓｉ４０１　３Ｎ
に対する計算値：Ｃ．　６５．７２６：　Ｈ．　１０．
８１９；　Ｎ．　０．９８３。

実測値：Ｃ，　６５．８９；　Ｈ，　ｔｔ．ｉｏ；　Ｎ
．　１．００．アセタール８６を生成するＦＫ−５　０
　６について上述した分解操作はＦＫ−５２５、ＦＫ−
５２３、ＦＫ−５　２　０および以下の弐ＢＢで示され
る対応する８６のアセタール類似体を生成するＦＫ−５
０６のプロビル誘導体（アリル基の代わり）について行
なうことができ、これらは次にＮ−ｔＢｏｃ第ニアミノ
酸と反応させ上述した方法によりＦＫマクロライド構造
に再生させることができる。

（式中Ｐ／Ｐ’　／Ｐ”は［■又はトリヒドロカルボシ
リルとして独立して定義され、該ヒドロカルボシリル基
はＣ，〜Ｃ４直鎖又は有枝鎖アルキル、フェニル又はベ
ンジルから独立して選択され例えばＰはｐｉ　／ｐｔの
存在下で選択的に除去され、Ｒはアリル、プロビル、エ
チル又はメチルから選択され、Ｒ，はメチル又はエチル
である）手続補正書 （１）別紙の通り 明細ｉｌｌ通を提出致します． 平成２年３月８日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）不活性雰囲気下水酸基を持たない無水不活性
   有機溶媒中アルデヒドIIを水酸基保護酢酸塩エノレート
   等価物IIIと−１００〜０℃の温度で付加生成物IVが十
   分生成する時間接触させ； （ｂ）工程（ａ）で得た生成物IVの２−水酸基を脱保護
   してＶを生成させ； （ｃ）工程（ｂ）で得た水酸基脱保護生成物Ｖを不活性
   雰囲気下水酸基を持たない無水不活性溶媒中塩化オキサ
   リルとジメチルスルホキシドの両方の存在下−７８〜０
   ℃で処理し次にトリエチルアミンで２，３−ジケトカル
   ボキシレート化合物 I が十分生成される時間処理する
   ： という工程を包含している構造 I のトリカルボニル化
   合物の合成方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは置換された又は置換されない直鎖又は有枝鎖
   Ｃ＿１〜Ｃ＿４＿０アルキル（置換基はＯＨＣ＿１〜Ｃ
   ＿４アルコキシ、Ｃ＿６〜Ｃ＿８フェノキシ、ＳＨ、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿４アルキルチオ、Ｃ＿６〜Ｃ＿■アリールチ
   オ、ＮＨ＿２、Ｎ（Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル）＿２、Ｆ
   Ｋ−５０６のＣ＿１＿１〜Ｃ＿３＿４炭素骨格であるこ
   とができる）であり；Ｐ＾３は直鎖又は有枝鎖Ｃ＿１〜
   Ｃ＿１＿０アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿０アリール又は
   ベンジル（ハロ又はＣ＿１〜Ｃ＿４アルコキシで置換す
   ることができる）、トリヒドロカルボシリル（該ヒドロ
   カルボシリル基はＣ＿１〜Ｃ＿４直鎖又は有枝鎖アルキ
   ル、フェニル又はベンジルから独立して選択される）で
   あり；ＸはＮＲ＿１Ｒ＿２、ＯＲ＿１、▲数式、化学式
   、表等があります▼ピペコリン酸又はエステル｛Ｒ＿１
   ／Ｒ＿２／Ｒ＿３はＣ＿１〜Ｃ＿４直鎖又は有枝鎖アル
   キル、ベンジル、フェニル （ハロ又はＣ＿１〜Ｃ＿４アルコキシで置換することが
   できる）から独立して選択される｝であり；カチオンＭ
   はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓ
   ｎ及びＢ（アルキル）＿２（アルキルはＣ＿１〜Ｃ＿４
   直鎖又は有枝鎖である）である。〕２、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｐ＾２は請求項２の通り独立して定義され、Ｒは
   Ｈ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル又は有枝鎖アルキル
   である）の化合物。 ３、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ｔＢｕはｔ−ブチルであり、ＴＩＰＳはトリイソ
   プロピルシリルである） の請求項２記載の化合物。 ４、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｐ／Ｐ＾１／Ｐ＾２／Ｐ＾３は上記請求項１４の通り
   定義される）の化合物。 ５、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の請求項４記載の化合物。 ６、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｐ＾１／Ｐ＾２は上記請求項２の通り独立して定義さ
   れる） の化合物。 ７、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の請求項６記載の化合物。 ８、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 ９、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 １０、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 １１、構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 １２、（ａ）ＬII｛Ｐ＾１／Ｐ＾２はＨ又はトリヒドロ
   カルボシリル（該ヒドロカルボシリル基はＣ＿１〜Ｃ＿
   ４直鎖又は有枝鎖アルキル、フェニル又はベンジルから
   独立して選択され例えばＰ＾１はＰ＾２の存在下で選択
   的に除去することができる）として独立して定義されＲ
   はアリル、プロピル、エチル又はメチルから選択され、
   Ｒ＿１はメチル又はエチルである｝を下記構造のＮ−保
   護第二アミノ酸ＡＡ−ＣＯＯＨ： ￥非環式第二アミノ酸￥： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛Ｒａ＝Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、アリール又は置
   換アルキル；Ｒｂ＝Ｈ、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、
   アリール又は置換アルキル；及びＲｃ＝Ｈ、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿１＿０アルキル、アリール又は置換アルキル、該置換
   基はハロ、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコキシを含み、該非環式
   アミノ酸はアラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン
   、フェニルアラニン、チロシン、ジョードチロシン、チ
   ロキシン、セリン、トレオニン、メチオニン、システイ
   ン、シスチン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン
   、アルギニン、その公知の合成変異体及びサルコシンの
   Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−ベンジル、Ｎ−フェニル
   置換Ｌ−及びＤ−形（及びラセミ化合物）を包含する｝
   ； ￥環状第二アミノ酸￥： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛Ｒｄ＝Ｈ、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、アリール又
   は有枝鎖アルキル（α又はβ配置にあることができる）
   ；Ｒｅ及びＲｆはＮＨと結合した炭素含有鎖であり、飽
   和、不飽和又は一部不飽和であることができ、１種以上
   のＯ、Ｓ又はＮヘテロ原子を含むことができ、環置換さ
   れることができる４〜１０員環炭素−窒素環を形成し、
   該環状アミノ酸はプロリン、ヒドロキシプロリン、Ｎ−
   メチルトリプトファン、Ｎ−メチルヒスチジン、２−ピ
   ペコリン酸、その公知の合成変異体のＬ−、Ｄ−及びラ
   セミ形を包含し、該置換基はハロ及びＣ＿１〜Ｃ＿４ア
   ルコキシを包含する｝と接触させ、該接触は窒素雰囲気
   下不活性無水溶媒中ジシクロヘキシルカルボジイミドと
   第三アミンプロトン受容体の存在下−４０〜−６０℃で ＬIIIが十分生成する時間行ない； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｂ）構造ＬIIIを不活性雰囲気下無水不活性有機溶媒
   中グリオキシル酸及び酢酸と１０〜 ４０℃でアルデヒドＬIVが十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｃ）アルデヒドＬIVを不活性雰囲気下無水不活性溶媒
   中置換アセトイミドＸＶ、有機アミンプロトン受容体及
   びジアルキルボロン塩と−４０〜−６０℃でイミドＬＶ
   が十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｄ）イミドＬＶを、アルカリ金属水酸化物を含む水混
   和性水性有機溶媒中水性過酸化水素と０〜５℃でカルボ
   ン酸ＬVIが十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｅ）カルボン酸ＬVIを、アミンプロトン受容体を含む
   無水不活性有機溶媒中Ｐ−シリル化剤と０〜１０℃で保
   護アミノ酸ＬVIＡが十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｆ）ＬVIＡを、不活性雰囲気下第三アミンを含む無水
   不活性有機溶媒中環化剤と２０〜３０℃でＡＡの第二ア
   ミンが遊離カルボン酸と縮合して十分ＬVIIを生成させ
   る時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｇ）ＬVIIを無水不活性有機溶媒中２，３−ジクロロ
   −５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンと２０〜３
   ０℃でＬVIIIが十分生成する時間接触させた後、得られ
   た混合液をトリフルオロ酢酸／Ｈ＿２Ｏと２０〜３０℃
   でジオールＬIXが十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｈ）ジオールＬIXを不活性雰囲気下無水不活性有機溶
   媒中塩化オキサリル、ジメチルスルホキシド、トリエチ
   ルアミンと−７０〜−８０℃でジケトＬＸが十分生成す
   る時間接触させ；▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉ）ジケトＬＸを不活性有機溶媒中水性ＨＦと０〜１
   ０℃でＣ−２２ジヒドロ類似体ＬＸ I が十分生成する
   時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｊ）化合物ＬＸ I を不活性雰囲気下無水有機溶媒中
   アミンプロトン受容体の存在下Ｐ−シリル化剤と０〜５
   ℃でビス−Ｐ−シリル化化合物ＬＸIIが十分生成する時
   間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｋ）ＬＸIIを窒素下無水有機溶媒と第三アミン中ペリ
   オインダンと２０〜３０℃でケトンＬＸIIIが十分生成
   する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｌ）ＬＸIIIを不活性有機溶媒中水性ＨＦと０〜５℃
   でＦＫ−５０６型マクロライドＬＸIVが十分生成する時
   間接触させる； ▲数式、化学式、表等があります▼ という工程を包含している方法。 １３、（ａ）不活性雰囲気下無水塩化メチレン中シンク
   ロヘキシルカルボジイミドと４−ジメチルアミノピリジ
   ンの存在下で、アルコール５２をＮ−ｔ−Ｂｏｃ−サル
   コシンと−５０℃でＮ−ｔ−Ｂｏｃサルコシン生成物５
   ３が十分生成する時間接触させ； （ｂ）化合物５３を不活性雰囲気下無水塩化メチレン中
   グリオキシル酸及び酢酸と１０〜４０℃でアルデヒド５
   ４が十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｃ）アルデヒド５４を不活性雰囲気下無水トルエン中
   ｐ−メトキシベンジルアセトイミド１５、トリエチルア
   ミン及びジブチルボロントリフレートと−５０℃でイミ
   ド５５が十分生成する時間接触させ； （ｄ）イミド５５を、水酸化リチウムを含むＴＨＦ／Ｈ
   ＿２Ｏ中水性過酸化水素と０℃でカルボン酸５６が十分
   生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｅ）カルボン酸５６を、２，６−ルチジンを含む塩化
   メチレン中トリエチルシリルトリフレートと０〜１０℃
   で保護アミノ酸５６Ａが十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｆ）５６Ａを、不活性雰囲気下トリエチルアミンを含
   む無水塩化メチレン溶媒中ヨウ化２−クロロ−Ｎ−メチ
   ルピリジニウムと２０〜３０℃で完全に保護された５７
   が十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｇ）塩化メチレン中５７を２，３−ジクロロ−５，６
   −ジシアノ−１，４−ベンゾキノンと２０〜３０℃で５
   ８が十分生成する時間接触させた後、ＴＨＦ中得られた
   混合液をトリフルオロ酢酸／Ｈ＿２Ｏと２０〜３０℃で
   ジオール５９が十分生成する時間接触させ；▲数式、化
   学式、表等があります▼ （ｈ）ジオール５９を不活性雰囲気下塩化メチレン中塩
   化オキサリル、ジメチルスルホキシド、トリエチルアミ
   ンと無水塩化メチレン中−７０〜−８０℃でジケト６０
   が十分生成する時間接触させ； （ｉ）ジケト６０をアセトニトリル中水性ＨＦと０〜１
   ０℃でＦＫ−５０６のＣ−２２ジヒドロサルコシン類似
   体が十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｊ）化合物６１を不活性雰囲気下無水ピリジン中塩化
   トリエチルシリルとビス−トリエチルシリルオキシ化合
   物６２が十分生成する時間接触させ； ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｋ）６２を窒素下ＣＨ＿２Ｃｌ＿２／ピリジン中ペリ
   オインダンと２０〜３０℃でトリエチルシリルケトン６
   ３が十分生成する時間接触させ；▲数式、化学式、表等
   があります▼ （ｌ）６３をアセトニトリル水性ＨＦと０〜５℃でサル
   コシンＦＫ−５０６類似体６４が十分生成する時間接触
   させる； ▲数式、化学式、表等があります▼ という工程を包含している方法。